JPH06101962A - 超臨界ガスの液化方法及び装置 - Google Patents
超臨界ガスの液化方法及び装置Info
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Abstract
低沸点成分を除去して低沸点成分をほとんど含まない高
純度の液化ガスを得ることができる超臨界ガスの液化方
法及び装置を提供する。 【構成】 高圧の超臨界ガスを第1熱交換器11で臨界
温度より低い温度まで冷却し、第1減圧弁21で等エン
タルピー膨張させて気液分離器31で気液分離した後、
分離した液化ガスを第2熱交換器12及びリボイラー4
2で更に冷却し、第2減圧弁22で等エンタルピー膨張
させて精留塔41に導入し、該精留塔41の頂部から低
沸点成分ガスを排出するとともに、該精留塔41の下部
から製品液化ガスを導出する。
Description
及び装置に関し、詳しくは超臨界ガスを液化して製品と
して採取する際に、該ガス中に含まれる低沸点不純物を
分離して、より高純度の製品液化ガスを採取する方法及
び装置に関する。
して様々な方式が知られている。例えば、特開昭61−
105086号公報に記載されている永久ガスの液化方
法では、圧縮機で圧縮し、熱交換器で低温にまで冷却し
た超臨界ガスを、少なくとも3個の減圧弁で連続して等
エンタルピー膨張させ、その結果生じるフラッシュガス
と液体(液化ガス)とを、各減圧弁の後段に設けた気液
分離器で分離し、最終の気液分離器で分離した液体を除
く他の液体を、すぐ次の減圧弁で膨張する流体とし、気
液分離器で分離したフラッシュガスを前記熱交換器に導
入して前記超臨界ガスの冷却源として用いるとともに、
該ガスを前記圧縮機に戻して再度液化サイクルを循環さ
せるようにしている。
ような構成のガス液化方式では、気液分離器で分離した
フラッシュガスを全て圧縮機に戻して循環させているた
め、原料として装置内に導入されたガスの全てを液化す
ることはできるが、該ガス中に含まれる微量の低沸点成
分不純物もそのまま液化されるため、製品となる液化ガ
スは、原料ガスと同純度のものであった。
ス、例えば窒素ガスは、極めて高純度であることが要求
されている。このような窒素ガスは、一般に空気液化分
離装置により製造されるが、この空気液化分離装置で
は、その精留過程で、窒素よりも高沸点の酸素やアルゴ
ン等は十分に除去できるものの、水素等の低沸点成分
は、そのほとんどが製品窒素ガス中に含まれている。こ
のため、半導体産業向けの窒素ガスを製造する空気液化
分離装置では、該窒素ガス中の低沸点不純物である水素
を除去するための様々な工夫が成されている。
ては、原料空気量や製品窒素ガス量が多いため、水素を
触媒反応により除去するにしても大量の触媒が必要であ
り、その寿命も数年であることから、経済的な問題が生
じる。
該ガス中に含まれる低沸点成分を除去して低沸点成分を
ほとんど含まない高純度の液化ガスを得ることができる
超臨界ガスの液化方法及び装置を提供することを目的と
している。
ため、本発明の超臨界ガスの液化方法は、第1の構成と
して、高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より低い温度
まで冷却した後、等エンタルピー膨張させて精留塔の頂
部に導入し、該精留塔で低沸点成分ガスを精留分離して
低沸点成分ガスを排出するとともに、該精留塔の下部か
ら製品液化ガスを導出することを特徴としている。
ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却した後、そ
の一部を分岐し、等エンタルピー膨張させて前記超臨界
ガスの冷却源として用い、残部の超臨界ガスを更に低温
に冷却した後、等エンタルピー膨張させて精留塔の頂部
に導入し、該精留塔で低沸点成分ガスを精留分離して低
沸点成分ガスを排出するとともに、該精留塔の下部から
製品液化ガスを導出することを特徴としている。
の超臨界ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却し
て等エンタルピー膨張させた後、気液分離して分離した
ガスを前記超臨界ガスの冷却源として用い、分離した液
化ガスを更に低温に冷却した後、等エンタルピー膨張さ
せて精留塔の頂部に導入し、該精留塔で低沸点成分ガス
を精留分離して低沸点成分ガスを排出するとともに、該
精留塔の下部から製品液化ガスを導出することを特徴と
している。
第1の構成として、高圧の超臨界ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導
出した低温の超臨界ガスを等エンタルピー膨張させる減
圧弁と、該減圧弁で減圧した液化ガスが還流液として導
入される精留塔と、該精留塔の頂部から低沸点成分ガス
を排出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液化ガ
スを導出する液化ガス採取経路とを備えたことを特徴と
している。
ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却する熱交換
器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界ガスの一部を
分岐して減圧弁で等エンタルピー膨張させて前記熱交換
器に導入する経路と、前記熱交換器導出後の超臨界ガス
の残部を更に低温に冷却する冷却手段と、該冷却手段で
冷却した低温の超臨界ガスを等エンタルピー膨張させる
減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化ガスが還流液として
導入される精留塔と、該精留塔の頂部から低沸点成分ガ
スを排出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液化
ガスを導出する液化ガス採取経路とを備えたことを特徴
としている。
の超臨界ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却す
る熱交換器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界ガス
を等エンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁導出後
の気液混相流を気液分離する気液分離器と、該気液分離
器で分離したガスを前記熱交換器に超臨界ガスの冷却源
として導入する冷却経路と、前記気液分離器で分離した
液化ガスを更に低温に冷却する冷却手段と、該冷却手段
で冷却した低温の超臨界ガスを等エンタルピー膨張させ
る減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化ガスが還流液とし
て導入される精留塔と、該精留塔の頂部から低沸点成分
ガスを排出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液
化ガスを導出する液化ガス採取経路とを備えたことを特
徴としている。
た精留塔における精留操作により、液化すべきガス中に
含まれている低沸点成分不純物を分離でき、該低沸点成
分不純物を排出することにより、低沸点成分をほとんど
含まない高純度の液化ガスを得ることができる。
て、さらに詳細に説明する。まず、図1乃至図3は、そ
れぞれ本発明方法及び本発明装置の前記第3の構成に対
応する実施例を示すものであり、図1は前記方法及び装
置の第3の構成における基本的な構成を示している。
2,13と4個の減圧弁21,22,23,24と、気
液分離器31及び精留塔41とを組合わせて構成したも
ので、まず、高圧の超臨界ガスは、管1から第1熱交換
器11に導入され、冷却源となる後述の戻り流体によ
り、該超臨界ガスの臨界温度より低い温度まで冷却され
る。冷却された超臨界ガスは、第1減圧弁21で等エン
タルピー膨張して気液混相流となり気液分離器31に導
入される。
ガスは、管2に導出されて前記第1熱交換器11に戻り
流体として導入され、前記高圧の超臨界ガスの冷却源と
なる。一方、気液分離器31内の液体は、管3に導出さ
れて第2熱交換器12で後述の戻り流体により更に冷却
される。
た液体は、精留塔41の底部に設けられたリボイラー4
2に導入され、該精留塔底部の液体を加熱気化するとと
もに、自身は更に冷却されて管5に導出され、第2減圧
弁22で等エンタルピー膨張した後、精留塔41の頂部
に還流液として導入される。
化した上昇ガスと、前記第2減圧弁22を経て導入され
る還流液とで精留が行われ、該精留により低沸点成分が
精留塔頂部に分離し、管6に導出されて前記第2熱交換
器12及び第1熱交換器11で寒冷を回収された後、系
外に排出される。
成分をほとんど含まない液体(製品液化ガス)が分離し
て管7に導出される。この管7の液体は、第3熱交換器
13に導入されて更に冷却された後、管8に導出され
る。管8の液体の一部は、管9に分岐して第3減圧弁2
3で等エンタルピー膨張した後、戻り流体として前記第
3熱交換器13,第2熱交換器12,第1熱交換器11
の冷却源となる。そして、管6の残りの液体は、第4減
圧弁24で等エンタルピー膨張した後、製品液化ガスと
して採取される。
経て導出されたガスは、再び圧縮機に戻されて前記経路
を循環する。一方、精留塔頂部から管6に導出された低
沸点成分を多く含むガスは、製品液化ガスの純度に応じ
てその導出量が調節され、通常は、全量が系外に排出さ
れるが、その導出量及び低沸点成分の含有量に応じて、
その一部を圧縮機に戻して循環させるようにしてもよ
い。
縮した超臨界ガスを臨界温度以下まで冷却した後、等エ
ンタルピー膨張させて気液分離を行い、分離した液体
(液化ガス)を更に冷却し、等エンタルピー膨張させて
精留塔に導入し、精留することにより、原料ガス中に含
まれている低沸点成分不純物を精留塔の頂部に分離する
ことができる。したがって、精留塔頂部の低沸点成分不
純物を系外に排出して精留塔底部から製品液化ガスを抜
出すことにより、原料ガスに比べて低沸点成分含有量が
少ない極めて高純度の液化ガスが得られる。
は、必要に応じて複数基を直列に設けて一つの熱交換器
としてもよい。また、熱交換器による冷却工程、減圧弁
による等エンタルピー膨張工程及び気液分離器による気
液分離工程は、必要に応じてこれらの機器を複数組設
け、冷却工程,膨張工程,気液分離工程を2回以上繰返
すようにしてもよく、気液分離を行わずに一部を等エン
タルピー膨張させて冷却源として用いるようにすること
もできる。
で分離した液体を第2熱交換器12で冷却した後、リボ
イラー42に導入したが、該リボイラー42で十分に冷
却できる場合は、第2熱交換器12での冷却を省略する
ことができる。また、リボイラー42に別の加熱媒体を
用いる場合には、第2熱交換器12で冷却した後、リボ
イラー42に導入することなく、そのまま第2減圧弁2
2で膨張させて精留塔41に導入するようにしてもよ
い。
で、前記第3の構成における具体的な装置構成の一例を
示すものである。以下、窒素ガスを液化する手順に従っ
て本実施例を説明する。なお、前記図1に示した第1実
施例と同一要素のものには同一符号を付して、その詳細
な説明は省略する。
する管51から、40℃,1.1ata,20,000
Nm3 /hの原料窒素ガス(水素含有量20ppm)が
導入され、多段圧縮機71で40℃,38.0ataま
で圧縮される。この多段圧縮機71の各段には、後述す
る管52,53a,54からの各段の吸入圧力まで減圧
された窒素ガスが導入され、原料窒素ガスと共に圧縮さ
れる。このとき原料窒素ガスの圧力が多段圧縮機71の
中間段の吸入圧力程度の場合には、原料窒素ガスを、そ
の圧力に見合った段から導入することができる。
素ガスは、管55から管56と管57とに分岐し、それ
ぞれ膨張タービン72,73に直結した昇圧ブロワー7
4,75に導入され、臨界圧以上に昇圧される。一方の
昇圧ブロワー74で昇圧した窒素ガスは、アフタークー
ラー76で冷却されて40℃,61ataの超臨界圧窒
素ガスとなり管58に導出され、他方の昇圧ブロワー7
5で昇圧した窒素ガスは、アフタークーラー77で冷却
されて40℃,55ataの超臨界圧窒素ガスとなり管
59に導出される。
ックス80に導入され、第1熱交換器11で冷却され
る。この超臨界圧窒素ガスは、途中で一部が管60に分
岐する以外は臨界温度以下まで冷却され、−165℃,
61ataの超臨界窒素ガスとなる。
れた超臨界窒素ガスは、第1減圧弁21で9.5ata
まで等エンタルピー膨張して気液混合流体となった後、
気液分離器31に導入されてフラッシュガスと液とに分
離する。気液分離器31で分離した液化窒素は、管62
から第2熱交換器12に導入され、−171℃まで冷却
されて管63に導出され、さらにリボイラー42で−1
76℃まで冷却される。リボイラー42から管64に導
出された液化窒素は、第2減圧弁22で6.0ataま
で等エンタルピー膨張した後、精留塔41に導入され
る。この精留塔41では、低沸点成分を含む窒素ガスが
塔頂部に分離し、高純度液化窒素が塔底部に分離する。
素は、管65に導出され、第3熱交換器13で−190
℃まで冷却される。この−190℃,6.0ataの高
純度液化窒素は、その一部が管66から第3減圧弁23
に分岐し、残部が第4減圧弁24で減圧され、−190
℃,2ata,18000Nm3 /hの製品液化窒素
(水素含有量1ppb以下)が管67から取出される。
フタークーラー77を経た40℃,55ataの超臨界
圧窒素ガスは、管59によりコールドボックス80内に
導入され、第1熱交換器11で−100℃まで冷却され
た後、膨張タービン73で9.5ataまで等エントロ
ピー膨張し、また、前記管58から管60に分岐した超
臨界圧窒素ガスは、膨張タービン72で9.5ataま
で等エントロピー膨張する。両膨張タービン72,73
で9.5ataに膨張した窒素ガスは、それぞれ管6
8,69を通って、前記気液分離器31で分離したフラ
ッシュガスの戻り流路に、それぞれの温度に見合った位
置で合流し、前記管52から多段圧縮機71の圧力の等
しい吸入段に戻される。
分を含む窒素ガス2000Nm3 /hは、前記第2熱交
換器12,第1熱交換器11に冷却源となる戻り流体と
して順次導入され、前記管53から弁81を経て系外に
放出される。
は、第3減圧弁23で1.1ataまで等エンタルピー
膨脹した後、前記第3熱交換器13,第2熱交換器12
及び第1熱交換器11に冷却源となる戻り流体として順
次導入され、前記管54から多段圧縮機71の圧力の等
しい吸入段に戻される。
ン72,73、該膨張タービン72,73の昇圧ブロワ
ー74,75及び精留塔41を組み合わせることによ
り、原料窒素ガスを精製しながら効率よく液化できる。
は、通常は全量が弁81を経て放出されるが、その一部
を、弁82,管53aを介して多段圧縮機71の圧力の
等しい吸入段に戻すこともでき、前記多段圧縮機や膨張
タービン,昇圧ブロワー等からのリークガスとして放出
される窒素ガスに同伴される低沸点成分の量が、系内に
低沸点成分が濃縮蓄積されることを防止できる量なら
ば、全量を多段圧縮機71の圧力の等しい吸入段に戻す
ことができる。
料窒素ガス(水素含有量20ppm)を液化する操作条
件において、精留塔41からの放出ガス量を2000N
m3/hとした場合、該放出ガス中に含まれる水素は約
200ppmとなる。また、放出ガスの半量、1000
Nm3 /hを循環した場合の放出ガス1000Nm3/
hに含まれる水素は約400ppmる。さらに、多段圧
縮機等からのリーク量が200Nm3 /hあり、精留塔
41からのガス2000Nm3 /hを全量循環させた場
合は、リークガス中の水素は約0.2%になる。
留段数や精留条件を適当に設定することにより、製品液
化窒素中への水素の混入を防止することが可能であり、
原料窒素ガスに比べて高純度の液化窒素を得ることがで
き、該液化窒素を気化させることにより、高純度の窒素
ガスが得られる。
第3実施例を示すもので、超臨界ガスを冷却する冷却源
に液化天然ガスの寒冷を利用した装置構成を示すもので
ある。
力に圧縮した超臨界ガスを冷却する第1熱交換器11に
液化天然ガスの流路91を設け、該流路91に、管92
からの液化天然ガスを弁93を介して導入し、該液化天
然ガスを熱交換により気化して管94に導出するととも
に、管55から第1熱交換器11に導入された窒素ガス
を所定温度に冷却して管61に導出するようにしてい
る。
ことによって、前記図2に示した装置における膨張ター
ビンや昇圧ブロワーを省略することができ、装置構成を
簡略化することができる。
置における膨張タービン周辺以外を同様に構成している
ので、図2と同一要素のものには同一符号を付して、そ
の詳細な説明は省略する。
置をさらに簡略化した第1の構成の一実施例を示すもの
である。本実施例装置は、2基の熱交換器101,10
2と、3個の減圧弁111,112,113と、精留塔
121とを組み合わせたもので、高圧の超臨界ガスは、
管131から第1熱交換器101に導入され、戻りガス
により冷却された後、精留塔121の底部に設けられた
リボイラー122で更に冷却される。超臨界温度に冷却
されたガスは、第1減圧弁111で等エンタルピー膨張
した後、精留塔121の頂部に還流液として導入され
る。
ー122で気化した上昇ガスと、第1減圧弁111を経
て導入される還流液とで精留が行われ、該精留により低
沸点成分が精留塔頂部に分離し、管132に導出されて
第1熱交換器101で寒冷回収された後、系外に排出さ
れる。
ど含まない液体(製品液化ガス)は、管133に導出さ
れ、第2熱交換器102で更に冷却された後、その一部
は、第2減圧弁112で等エンタルピー膨張して前記第
2熱交換器102,第1熱交換器101を経て回収され
る。また、残部の液化ガスは、第3減圧弁113で等エ
ンタルピー膨張した後、製品液化ガスとして採取され
る。
置の他の簡略化した構成である第2の構成の一実施例を
示すものである。本実施例装置は、3基の熱交換器15
1,152,153と、4個の減圧弁161,162,
163,164と、精留塔171とを組み合わせたもの
で、高圧の超臨界ガスは、管181から第1熱交換器1
51に導入されて戻りガスにより冷却され、その一部が
第1減圧弁161に分岐して等エンタルピー膨張した
後、第1熱交換器151に寒冷源として導入される。残
部の超臨界ガスは、第2熱交換器152で冷却され、更
に精留塔171の底部に設けられたリボイラー172で
冷却された後、第2減圧弁162で等エンタルピー膨張
して精留塔171の頂部に導入される。
塔頂部に分離した低沸点成分は、管182に導出され,
第2熱交換器152,第1熱交換器151を経て系外に
排出される。また、精留塔底部の低沸点成分をほとんど
含まない液化ガスは、管183に導出されて第3熱交換
器153で更に冷却され、その一部は、第3減圧弁16
3で等エンタルピー膨張した後、前記各熱交換器15
3,152,151を経て回収される。また、残部の液
化ガスは、第4減圧弁164で等エンタルピー膨張した
後、製品液化ガスとして採取される。
中に精留塔を設けて低沸点成分を分離することにより、
低沸点成分を含まない超高純度の液化ガスを得ることが
できる。
超臨界状態を作り出すことのできる様々な種類のガスを
対象にでき、各減圧弁における減圧度や該減圧弁への分
岐量は、対象とするガスの種類や量、多段圧縮機の各段
の吸入圧力等により適宜設定でき、これらの条件に応じ
て各流路の温度,圧力,流量も必然的に変わってくる。
スの液化方法及び装置は、低沸点不純物を含む原料ガス
を液化するに際して、該液化工程に精留塔による精留操
作を加えて低沸点成分を分離するようにしたので、低沸
点成分を含まない高純度の液化ガスを得ることができ
る。
に付設される窒素ガス液化設備に適用することにより、
半導体産業向けとして好適な、水素をほとんど含まない
超高純度窒素を容易に製造することができる。
Claims (6)
- 【請求項1】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却した後、等エンタルピー膨張させて精
留塔の頂部に導入し、該精留塔で低沸点成分ガスを精留
分離して低沸点成分ガスを排出するとともに、該精留塔
の下部から製品液化ガスを導出することを特徴とする超
臨界ガスの液化方法。 - 【請求項2】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却した後、その一部を分岐し、等エンタ
ルピー膨張させて前記超臨界ガスの冷却源として用い、
残部の超臨界ガスを更に低温に冷却した後、等エンタル
ピー膨張させて精留塔の頂部に導入し、該精留塔で低沸
点成分ガスを精留分離して低沸点成分ガスを排出すると
ともに、該精留塔の下部から製品液化ガスを導出するこ
とを特徴とする超臨界ガスの液化方法。 - 【請求項3】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却して等エンタルピー膨張させた後、気
液分離して分離したガスを前記超臨界ガスの冷却源とし
て用い、分離した液化ガスを更に低温に冷却した後、等
エンタルピー膨張させて精留塔の頂部に導入し、該精留
塔で低沸点成分ガスを精留分離して低沸点成分ガスを排
出するとともに、該精留塔の下部から製品液化ガスを導
出することを特徴とする超臨界ガスの液化方法。 - 【請求項4】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導出し
た低温の超臨界ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁
と、該減圧弁で減圧した液化ガスが還流液として導入さ
れる精留塔と、該精留塔の頂部から低沸点成分ガスを排
出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液化ガスを
導出する液化ガス採取経路とを備えたことを特徴とする
超臨界ガスの液化装置。 - 【請求項5】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導出し
た低温の超臨界ガスの一部を分岐して減圧弁で等エンタ
ルピー膨張させて前記熱交換器に導入する経路と、前記
熱交換器導出後の超臨界ガスの残部を更に低温に冷却す
る冷却手段と、該冷却手段で冷却した低温の超臨界ガス
を等エンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧
した液化ガスが還流液として導入される精留塔と、該精
留塔の頂部から低沸点成分ガスを排出する排出経路と、
該精留塔の下部から製品液化ガスを導出する液化ガス採
取経路とを備えたことを特徴とする超臨界ガスの液化装
置。 - 【請求項6】 高圧の超臨界ガスを、その臨界温度より
低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導出し
た低温の超臨界ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁
と、該減圧弁導出後の気液混相流を気液分離する気液分
離器と、該気液分離器で分離したガスを前記熱交換器に
超臨界ガスの冷却源として導入する冷却経路と、前記気
液分離器で分離した液化ガスを更に低温に冷却する冷却
手段と、該冷却手段で冷却した低温の超臨界ガスを等エ
ンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液
化ガスが還流液として導入される精留塔と、該精留塔の
頂部から低沸点成分ガスを排出する排出経路と、該精留
塔の下部から製品液化ガスを導出する液化ガス採取経路
とを備えたことを特徴とする超臨界ガスの液化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24836692A JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24836692A JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06101962A true JPH06101962A (ja) | 1994-04-12 |
| JP3326536B2 JP3326536B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=17177035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24836692A Expired - Fee Related JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3326536B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-09-17 JP JP24836692A patent/JP3326536B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN106885713B (zh) * | 2017-03-20 | 2019-06-11 | 上海锐宇流体系统有限公司 | 高压易闪蒸混合液体取样装置 |
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