JPH06102207A - Ｘ線あるいは中性子に作用する鏡を具えるデバイス - Google Patents
Ｘ線あるいは中性子に作用する鏡を具えるデバイスInfo
- Publication number
- JPH06102207A JPH06102207A JP4256612A JP25661292A JPH06102207A JP H06102207 A JPH06102207 A JP H06102207A JP 4256612 A JP4256612 A JP 4256612A JP 25661292 A JP25661292 A JP 25661292A JP H06102207 A JPH06102207 A JP H06102207A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- multilayer structure
- layer
- substrate
- reflective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
- G21K1/062—Devices having a multilayer structure
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/061—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements characterised by a multilayer structure
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/064—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements having a curved surface
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/068—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements specially adapted for particle beams
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 コリメーションスリットから発出する発散ビ
ームの最大量をブラグの法則により決定されたブラグ角
で受取る鏡を備えることを目的とする。 【構成】 所与の波長領域λのＸ線あるいは中性子に作
用する鏡を具えるデバイスであって、該鏡が凹面を持つ
基板と、上記の波長領域で反射し、かつ基板の上記の凹
面上に配設されている周期ｄを有する周期的多重層構造
とを具えるものにおいて、鏡の基板は、その面が好適な
劈開面であり、かつ鏡が管の一部分の形状をとるように
湾曲されている雲母の薄板により形成され、多重層構造
はそのように形成された凹空間に備えられ、鏡の曲率半
径は鏡が一定ブラグ角θで発散ビームの各放射線を受取
りかつ反射するようになっており、ブラグ角θはｋが一
定である場合に２ｄsin θ＝ｋλである多重層構造の周
期ｄと波長λの関数として選ばれる。
ームの最大量をブラグの法則により決定されたブラグ角
で受取る鏡を備えることを目的とする。 【構成】 所与の波長領域λのＸ線あるいは中性子に作
用する鏡を具えるデバイスであって、該鏡が凹面を持つ
基板と、上記の波長領域で反射し、かつ基板の上記の凹
面上に配設されている周期ｄを有する周期的多重層構造
とを具えるものにおいて、鏡の基板は、その面が好適な
劈開面であり、かつ鏡が管の一部分の形状をとるように
湾曲されている雲母の薄板により形成され、多重層構造
はそのように形成された凹空間に備えられ、鏡の曲率半
径は鏡が一定ブラグ角θで発散ビームの各放射線を受取
りかつ反射するようになっており、ブラグ角θはｋが一
定である場合に２ｄsin θ＝ｋλである多重層構造の周
期ｄと波長λの関数として選ばれる。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、所与の波長領域λのＸ線あるい
は中性子に作用する鏡を具えるデバイスに関連し、該鏡
は凹面を持つ基板と、上記の波長領域で反射し、かつ基
板の上記の凹面上に配設されている周期ｄを有する周期
的多重層構造とを具えている。本発明はまた蛍光分光
計、Ｘ線回折計、あるいは例えば、シンクロトロンの光
学系の実現に使用される。
は中性子に作用する鏡を具えるデバイスに関連し、該鏡
は凹面を持つ基板と、上記の波長領域で反射し、かつ基
板の上記の凹面上に配設されている周期ｄを有する周期
的多重層構造とを具えている。本発明はまた蛍光分光
計、Ｘ線回折計、あるいは例えば、シンクロトロンの光
学系の実現に使用される。
【０００２】
【背景技術】Ｘ線を反射する凹面鏡は1982年８月26日の
米国特許明細書第6/411,767 号から既知である。既知の
鏡の意図された適用はマイクロリソグラフィーである。
引用文書で提案されたデバイスはＸ線を反射しかつ準正
規入射光で動作するよう意図された準球形光学系を本質
的に備える技術的問題の解決を狙っている。
米国特許明細書第6/411,767 号から既知である。既知の
鏡の意図された適用はマイクロリソグラフィーである。
引用文書で提案されたデバイスはＸ線を反射しかつ準正
規入射光で動作するよう意図された準球形光学系を本質
的に備える技術的問題の解決を狙っている。
【０００３】既知の鏡は約4.5nm の波長のＸ線を反射す
る多重層構造を具えている。この構造は152 層により形
成され、それは約0.76nmの厚さのタングステンのような
重材料と、約1.5nm の厚さを有する炭素のようなスペー
シング材料の交互層である。層の厚さは、鏡が単色性で
あり、従ってフィルタの付加を回避するように選ばれて
いる。反射多重層構造は約76mmの直径と、約380 μｍの
厚さを有する平坦な円形シリコン基板上にまず実現され
る。
る多重層構造を具えている。この構造は152 層により形
成され、それは約0.76nmの厚さのタングステンのような
重材料と、約1.5nm の厚さを有する炭素のようなスペー
シング材料の交互層である。層の厚さは、鏡が単色性で
あり、従ってフィルタの付加を回避するように選ばれて
いる。反射多重層構造は約76mmの直径と、約380 μｍの
厚さを有する平坦な円形シリコン基板上にまず実現され
る。
【０００４】高品質な層を得るために、シリコン面はで
きる限り平滑である。従って、約0.3nm 以下の粗さは多
重層構造の形成前に研磨することにより得られる。引き
続いて、凹形状を与えるように平坦な鏡はマウントが備
えらていれる。このマウントは有用な鏡の光学フィール
ドをフリーのまま残すために、その中心から所与の距離
で基板を鏡の側面で支持する第１環状ベアリングと、基
板の周辺を鏡の反対面に押圧する第２環状ベアリングと
を具えている。このマウントはまた上記の圧力を制御す
るマイクロメータを具えている。このようにシリコン基
板に及ぼされた圧力の影響の下で、平坦な鏡は以前に実
現された多重層構造を著しく乱すことなく、約１ｍの曲
率半径を持つ凹形態を得ている。
きる限り平滑である。従って、約0.3nm 以下の粗さは多
重層構造の形成前に研磨することにより得られる。引き
続いて、凹形状を与えるように平坦な鏡はマウントが備
えらていれる。このマウントは有用な鏡の光学フィール
ドをフリーのまま残すために、その中心から所与の距離
で基板を鏡の側面で支持する第１環状ベアリングと、基
板の周辺を鏡の反対面に押圧する第２環状ベアリングと
を具えている。このマウントはまた上記の圧力を制御す
るマイクロメータを具えている。このようにシリコン基
板に及ぼされた圧力の影響の下で、平坦な鏡は以前に実
現された多重層構造を著しく乱すことなく、約１ｍの曲
率半径を持つ凹形態を得ている。
【０００５】このように形成された凹形鏡は完全に球形
な光学系を形成しないが、それにもかかわらず回転光学
系であり、かつ例えば法線に対して約１°の入射角を囲
む放射線のようにほぼ垂直に入射するＸ線の反射が可能
である。
な光学系を形成しないが、それにもかかわらず回転光学
系であり、かつ例えば法線に対して約１°の入射角を囲
む放射線のようにほぼ垂直に入射するＸ線の反射が可能
である。
【０００６】引用文献によると、最大反射率は使用され
たＸ線源の波長で正確に中心になく、従って、4.5nm の
波長の入射光の６％のみが反射された。
たＸ線源の波長で正確に中心になく、従って、4.5nm の
波長の入射光の６％のみが反射された。
【０００７】従って、引用文献は蛍光分光計あるいはＸ
線回折計用の鏡の実現が試みられる場合に生起する他の
いくつかの問題をいかにして克服するかを教えない。
線回折計用の鏡の実現が試みられる場合に生起する他の
いくつかの問題をいかにして克服するかを教えない。
【０００８】まず第１に、これらの装置はシリコンを含
む材料を含めて半導体材料を特徴付けるよう主として使
用され、かつその場合、シリコン鏡の寄生蛍光スペクト
ルあるいは回折ピークはこの特徴付けの結果を乱すこと
になる。
む材料を含めて半導体材料を特徴付けるよう主として使
用され、かつその場合、シリコン鏡の寄生蛍光スペクト
ルあるいは回折ピークはこの特徴付けの結果を乱すこと
になる。
【０００９】従って研究された試料と同じ性質の基板材
料の使用は回避されなければならない。
料の使用は回避されなければならない。
【００１０】第２に、意図されたＸ線あるいは中性子の
適用に対して、ブラグの法則２ｄ＝sin θ＝ｋλが適用
される。
適用に対して、ブラグの法則２ｄ＝sin θ＝ｋλが適用
される。
【００１１】この関係は次のように解釈される。すなわ
ち、Ｘ線あるいは中性子用の鏡は、厚さｄを有し、かつ
所与の波長λの反射多重層構造を形成するために堆積さ
れる２層システムにより、当業者に既知の従前の技術に
合わせて実現される。
ち、Ｘ線あるいは中性子用の鏡は、厚さｄを有し、かつ
所与の波長λの反射多重層構造を形成するために堆積さ
れる２層システムにより、当業者に既知の従前の技術に
合わせて実現される。
【００１２】角度θはブラグ角であり、すなわち、それ
は屈みに入射する明るいビームの軸、および鏡の表面に
より囲まれている角度である。
は屈みに入射する明るいビームの軸、および鏡の表面に
より囲まれている角度である。
【００１３】Ｘ線あるいは中性子デバイスにおいて、ソ
ースはλが決められかつ固定されるように最初に選ばれ
る。他方、鏡はまたデバイスに実現されかつマウントさ
れ、従って２層システムの厚さｄは固定され、かつ前以
て決定される。
ースはλが決められかつ固定されるように最初に選ばれ
る。他方、鏡はまたデバイスに実現されかつマウントさ
れ、従って２層システムの厚さｄは固定され、かつ前以
て決定される。
【００１４】それ故、所与のデバイスに含まれ、かつ所
与の波長で作用する所与の鏡は、例えばｋ＝１で与えら
れたｋを持つブラグピークの幅に依存する近似を持つ所
与のブラグ角以外のビームの受取りを許容しない。ブラ
グピークの幅は非常に小さく、従って、ブラグ角はブラ
グ関係式により与えられた中心値の周りでむしろ厳密に
制限される。
与の波長で作用する所与の鏡は、例えばｋ＝１で与えら
れたｋを持つブラグピークの幅に依存する近似を持つ所
与のブラグ角以外のビームの受取りを許容しない。ブラ
グピークの幅は非常に小さく、従って、ブラグ角はブラ
グ関係式により与えられた中心値の周りでむしろ厳密に
制限される。
【００１５】このことは、ブラグ関係式により決定され
た角度θからずっと偏移しているブラグ角で鏡に入射す
る任意の放射線が反射されず、従って鏡の反射率は入射
ビームがさらに拡散するにつれて小さくなることを意味
している。
た角度θからずっと偏移しているブラグ角で鏡に入射す
る任意の放射線が反射されず、従って鏡の反射率は入射
ビームがさらに拡散するにつれて小さくなることを意味
している。
【００１６】従って、上述のＸ線あるいは中性子デバイ
スは鏡にぶつかるビームに対して少なくとも１つのコリ
メーションスリットを具えている。このように、鏡に到
着するビームは必然的に発散する。従って、放射線の非
常に大きな部分は、例えば鏡が平坦である場合のように
ブラグ角で鏡に到着しない。その結果、そのような平坦
鏡の反射率は意図された適用に使用する場合に小さい。
スは鏡にぶつかるビームに対して少なくとも１つのコリ
メーションスリットを具えている。このように、鏡に到
着するビームは必然的に発散する。従って、放射線の非
常に大きな部分は、例えば鏡が平坦である場合のように
ブラグ角で鏡に到着しない。その結果、そのような平坦
鏡の反射率は意図された適用に使用する場合に小さい。
【００１７】従って、解決すべき技術的問題は、その形
態がコリメーションスリットから発出する発散ビームの
放射線の最大量をブラグの法則により決定されたブラグ
角で受取るよう特に適応されている鏡を備えることであ
る。換言すれば、２つの垂直方向で異なる方向に発散す
るビームのすべての放射線あるいはその大部分は、鏡の
最大反射率を達成するために課せられたブラグ角度で鏡
に到着しなければならない。
態がコリメーションスリットから発出する発散ビームの
放射線の最大量をブラグの法則により決定されたブラグ
角で受取るよう特に適応されている鏡を備えることであ
る。換言すれば、２つの垂直方向で異なる方向に発散す
るビームのすべての放射線あるいはその大部分は、鏡の
最大反射率を達成するために課せられたブラグ角度で鏡
に到着しなければならない。
【００１８】この技術的問題を解決するために、回転構
造を有する従前の鏡は平坦な鏡よりも適切ではない、と
いうのは、スリットによりコリメートされたビームが回
転対称を有していないからである。さらに、既知の鏡は
１ｍの非常に大きい曲率半径以上で形成できない。
造を有する従前の鏡は平坦な鏡よりも適切ではない、と
いうのは、スリットによりコリメートされたビームが回
転対称を有していないからである。さらに、既知の鏡は
１ｍの非常に大きい曲率半径以上で形成できない。
【００１９】この技術的問題を解決するために、非常に
特殊な形態が与えられる多重層鏡、すなわちシリコン基
板を具える既知の鏡以上に歪み得る鏡を所与の特定の方
向で利用可能である必要があることは明らかであろう。
特殊な形態が与えられる多重層鏡、すなわちシリコン基
板を具える既知の鏡以上に歪み得る鏡を所与の特定の方
向で利用可能である必要があることは明らかであろう。
【００２０】第３に、現状の技術から既に知られている
ように基板は高品質な面を有していることが絶対的に必
要である。実際に、一様な多重層構造の究極の構成は、
基板の任意の欠陥が層の数の増大とともに伝搬できない
ように基板が十分平滑である場合にのみ実現できる。し
かし、引用文献によると、基板の表面の小さい粗さは念
入りな研磨操作の結果であり、それは熟練した人間を要
求するために工業的観点から時間が掛かりかつ高価な操
作である。従って、上述の技術的問題の解決を可能とす
る鏡を実現するために、既知の基板に比べて粗さが少な
くならびに費用が掛からない基板を探すことが望まし
い。
ように基板は高品質な面を有していることが絶対的に必
要である。実際に、一様な多重層構造の究極の構成は、
基板の任意の欠陥が層の数の増大とともに伝搬できない
ように基板が十分平滑である場合にのみ実現できる。し
かし、引用文献によると、基板の表面の小さい粗さは念
入りな研磨操作の結果であり、それは熟練した人間を要
求するために工業的観点から時間が掛かりかつ高価な操
作である。従って、上述の技術的問題の解決を可能とす
る鏡を実現するために、既知の基板に比べて粗さが少な
くならびに費用が掛からない基板を探すことが望まし
い。
【００２１】さらに、多重層システムは非平坦基板上に
実現できない。従って、基板は多重層構造の形成の後で
凹にされなければならない。
実現できない。従って、基板は多重層構造の形成の後で
凹にされなければならない。
【００２２】
【発明の開示】これらの目的は請求項１の導入部で規定
されたデバイスにより達成され、かつ鏡の基板は、その
面が好適な劈開面（cleavage plane）であり、かつ鏡が
管の一部分の形状をとるように湾曲されている雲母の薄
板により形成され、多重層構造はそのように形成された
凹空間に備えられ、鏡の曲率半径は鏡が一定ブラグ角θ
で発散ビームの各放射線を受取りかつ反射するようにな
っており、ブラグ角θはブラグの法則を満足するため
に、ｋが一定である場合に２ｄsin θ＝ｋλであるよう
に多重層構造の周期ｄと波長λの関数として選ばれてい
ることを特徴としている。
されたデバイスにより達成され、かつ鏡の基板は、その
面が好適な劈開面（cleavage plane）であり、かつ鏡が
管の一部分の形状をとるように湾曲されている雲母の薄
板により形成され、多重層構造はそのように形成された
凹空間に備えられ、鏡の曲率半径は鏡が一定ブラグ角θ
で発散ビームの各放射線を受取りかつ反射するようにな
っており、ブラグ角θはブラグの法則を満足するため
に、ｋが一定である場合に２ｄsin θ＝ｋλであるよう
に多重層構造の周期ｄと波長λの関数として選ばれてい
ることを特徴としている。
【００２３】本発明により達成された利点は、基板に雲
母の薄板を使用することからなり、非常に柔軟な材料は
利用可能であり、それは管の一部分の形に湾曲するのに
特に適している。管の半径は５cmほど小さくでき、かつ
雲母の柔軟性のために無限の範囲の別の値から選ぶこと
ができる
母の薄板を使用することからなり、非常に柔軟な材料は
利用可能であり、それは管の一部分の形に湾曲するのに
特に適している。管の半径は５cmほど小さくでき、かつ
雲母の柔軟性のために無限の範囲の別の値から選ぶこと
ができる
【００２４】本発明により達成された他の利点は、高価
な研磨操作を必要とすること無しに、雲母の劈開面が特
に平滑であり、かつ反射構造の層の受入れに適している
ということからなっている。
な研磨操作を必要とすること無しに、雲母の劈開面が特
に平滑であり、かつ反射構造の層の受入れに適している
ということからなっている。
【００２５】このように、雲母の薄板上に形成された多
重層構造を適当に曲げることにより、Ｘ線あるいは中性
子ビームの所与の方向の入射点で、その点の雲母の薄板
の接線が上記の放射線とブラグ角θを囲み、関係式２ｄ
sin θ＝ｋλが満足でき、ここで周期ｄとソースの波長
λが予め決定されているような曲率であることでそれは
達成できる。最大反射率を達成する問題はこのようにし
て解決される。
重層構造を適当に曲げることにより、Ｘ線あるいは中性
子ビームの所与の方向の入射点で、その点の雲母の薄板
の接線が上記の放射線とブラグ角θを囲み、関係式２ｄ
sin θ＝ｋλが満足でき、ここで周期ｄとソースの波長
λが予め決定されているような曲率であることでそれは
達成できる。最大反射率を達成する問題はこのようにし
て解決される。
【００２６】本発明の適当な実施例は、鏡が円筒の側面
の一部分の形をした管の一部分の形状をとる場合に得ら
れる。
の一部分の形をした管の一部分の形状をとる場合に得ら
れる。
【００２７】しかし、もしスリットが発散ビームを伝達
するなら、放射線は２つの垂直方向で別々に発散しよ
う。
するなら、放射線は２つの垂直方向で別々に発散しよ
う。
【００２８】従って、本発明の改良された実施例は、鏡
が円環体の側面の一部分の形をした管の一部分の形状を
とる場合に得られる。
が円環体の側面の一部分の形をした管の一部分の形状を
とる場合に得られる。
【００２９】本発明の他の改良された実施例は、鏡が楕
円体の側面の一部分の形をした管の一部分のような形状
をとる場合に得られる。
円体の側面の一部分の形をした管の一部分のような形状
をとる場合に得られる。
【００３０】１つの実施例において、反射多重層構造は
多重層構造の周期を構成する厚さｄを有する２層システ
ムあるいは３層システムの重畳により形成され、各シス
テムは少なくとも１つの反射材料の層と所与の波長λの
領域のスペーシング材料の１つの層とを具えている。
多重層構造の周期を構成する厚さｄを有する２層システ
ムあるいは３層システムの重畳により形成され、各シス
テムは少なくとも１つの反射材料の層と所与の波長λの
領域のスペーシング材料の１つの層とを具えている。
【００３１】Ｘ線に使用するために、反射多重層構造は
反射材料として役立つ１層のニッケルと、スペーシング
材料として役立つ１層の炭素により形成された２層シス
テムの重畳により形成されることが好ましいであろう。
反射材料として役立つ１層のニッケルと、スペーシング
材料として役立つ１層の炭素により形成された２層シス
テムの重畳により形成されることが好ましいであろう。
【００３２】中性子に適用するために、反射多重層構造
は反射材料として役立つ１層のニッケルと、スペーシン
グ材料として役立つ１層のチタンにより形成された２層
システムの重畳により形成されることが好ましいであろ
う。
は反射材料として役立つ１層のニッケルと、スペーシン
グ材料として役立つ１層のチタンにより形成された２層
システムの重畳により形成されることが好ましいであろ
う。
【００３３】各場合において、反射材料の層は1.5nm 程
度の厚さを有することが好ましく、かつスペーシング材
料は３nm程度の厚さを有することが好ましい。多重層構
造のすべての２層システムは相互に同一であり、かつそ
のような約50のシステムが備えられるか、あるいは50個
より多くの多数のシステムさえ備えられている。
度の厚さを有することが好ましく、かつスペーシング材
料は３nm程度の厚さを有することが好ましい。多重層構
造のすべての２層システムは相互に同一であり、かつそ
のような約50のシステムが備えられるか、あるいは50個
より多くの多数のシステムさえ備えられている。
【００３４】１つの実施例において、層は鏡の全面にわ
たって一様な厚さを有し、かつ多重層構造にわたって同
じ厚さを有している。
たって一様な厚さを有し、かつ多重層構造にわたって同
じ厚さを有している。
【００３５】改良された実施例において、層はそれらが
備えられている鏡の領域の関数としてゆっくりと変化す
る厚さを有し、上記の厚さの変化は上記の領域に入射す
る放射線のブラグ角θの変化を上記の領域で補償し、従
ってブラグの法則は鏡のすべての領域で満足される。
備えられている鏡の領域の関数としてゆっくりと変化す
る厚さを有し、上記の厚さの変化は上記の領域に入射す
る放射線のブラグ角θの変化を上記の領域で補償し、従
ってブラグの法則は鏡のすべての領域で満足される。
【００３６】
【実施例】添付図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。図１は平坦多重層鏡の断面図である。この鏡はその
表面101 と102 が好適な劈開面に沿う雲母のブロックの
劈開により得られる雲母の薄板により形成される基板10
0 を具えている。例えば、本発明を遂行する雲母の適当
な薄板はメタフィックス（METAFIX ）、モントディディ
デール（Montdidier）（80500 フランス）、参照CLSS
「スクラッチレス（scratchless ）から得ることができ
る。
る。図１は平坦多重層鏡の断面図である。この鏡はその
表面101 と102 が好適な劈開面に沿う雲母のブロックの
劈開により得られる雲母の薄板により形成される基板10
0 を具えている。例えば、本発明を遂行する雲母の適当
な薄板はメタフィックス（METAFIX ）、モントディディ
デール（Montdidier）（80500 フランス）、参照CLSS
「スクラッチレス（scratchless ）から得ることができ
る。
【００３７】好適な厚さは20から50μｍである。好適な
寸法は、劈開面に平行に測定して、50×50mmから150 ×
150mm の範囲にある。
寸法は、劈開面に平行に測定して、50×50mmから150 ×
150mm の範囲にある。
【００３８】10μｍと200 μｍの間の厚さは雲母を劈開
することにより得られ、かつ劈開面に平行な寸法は同じ
厚さで変化でき、かつまた厚さの関数として変化でき
る。
することにより得られ、かつ劈開面に平行な寸法は同じ
厚さで変化でき、かつまた厚さの関数として変化でき
る。
【００３９】この鏡はまた、例えば表面101 上で雲母基
板の劈開面の１つに備えられ、周期ｄを有しかつＸ線あ
るいは中性子を反射する周期的多重層構造を具えてい
る。
板の劈開面の１つに備えられ、周期ｄを有しかつＸ線あ
るいは中性子を反射する周期的多重層構造を具えてい
る。
【００４０】多重層構造10は、厚さｄを有しかつ例えば
反射材料の層Ａとスペーシング材料の層Ｂにより形成さ
れる２層システムＡ，Ｂの重畳により形成されている。
これらの材料はお互いにできる限り異なっている光学的
係数を有するように選ばれ、材料は使用された波長の放
射に対して透明である。
反射材料の層Ａとスペーシング材料の層Ｂにより形成さ
れる２層システムＡ，Ｂの重畳により形成されている。
これらの材料はお互いにできる限り異なっている光学的
係数を有するように選ばれ、材料は使用された波長の放
射に対して透明である。
【００４１】例えば、波長4.5nm のＸ線に多重層鏡を使
用する際、各２層システムは反射材料として役立つニツ
ケルの層Ａと、スペーシング材料として役立つ炭素の層
Ｂとの組み合わせにより形成されることが好ましい。
用する際、各２層システムは反射材料として役立つニツ
ケルの層Ａと、スペーシング材料として役立つ炭素の層
Ｂとの組み合わせにより形成されることが好ましい。
【００４２】たの実施例において、１nm程度の波長の中
性子に多重層鏡を使用する際、各２層システムは反射材
料として役立つニツケルの層Ａと、スペーシング材料と
して役立つチタンの層Ｂとの組み合わせにより形成され
ることが好ましい。
性子に多重層鏡を使用する際、各２層システムは反射材
料として役立つニツケルの層Ａと、スペーシング材料と
して役立つチタンの層Ｂとの組み合わせにより形成され
ることが好ましい。
【００４３】双方の場合に、反射材料の層Ａは1.5nm 程
度の厚さを有することが好ましく、かつスペーシング材
料の層Ｂは３nm程度の厚さを有することが好ましい。こ
のように、周期ｄあるいは２層システムの厚さは4,5nm
となろう。
度の厚さを有することが好ましく、かつスペーシング材
料の層Ｂは３nm程度の厚さを有することが好ましい。こ
のように、周期ｄあるいは２層システムの厚さは4,5nm
となろう。
【００４４】所与の多重層構造において、すべての重畳
された２層システムは選ばれた波長に対してできる限り
高い反射率を得るようできる限り同一にされよう。
された２層システムは選ばれた波長に対してできる限り
高い反射率を得るようできる限り同一にされよう。
【００４５】まず、タイプＢのスペーシング層は基板に
接触して実現され、上記の層はバッファ層として役立つ
ことが好ましい。２層Ａ，Ｂの堆積は反射材料の層Ａで
始まり、スペーシング材料の層Ｂで終わるであろう。
接触して実現され、上記の層はバッファ層として役立つ
ことが好ましい。２層Ａ，Ｂの堆積は反射材料の層Ａで
始まり、スペーシング材料の層Ｂで終わるであろう。
【００４６】鏡に対して50％程度の適当な反射率を得る
ために、約50個の２層システムの堆積が望ましいであろ
う。堆積10の２層システムの数が大きくなるにつれて反
射率は増大する。
ために、約50個の２層システムの堆積が望ましいであろ
う。堆積10の２層システムの数が大きくなるにつれて反
射率は増大する。
【００４７】雲母が基板100 に選ばれる場合、好適な劈
開面の表面条件は非常に平滑なことである。表面の粗さ
は0.3nm から0.4nm 程度である。しかし、従前の技術の
デバイスに対して、この表面条件は非常に容易に得るこ
とができる。というのは、それは念入りな研磨操作から
生じるのではなく、劈開により自動的に簡単に得られる
からである。
開面の表面条件は非常に平滑なことである。表面の粗さ
は0.3nm から0.4nm 程度である。しかし、従前の技術の
デバイスに対して、この表面条件は非常に容易に得るこ
とができる。というのは、それは念入りな研磨操作から
生じるのではなく、劈開により自動的に簡単に得られる
からである。
【００４８】多重層構造の層Ａ，Ｂは、例えば超真空に
おける無線周波ダイオード粉砕（RFdiode pulverizatio
n）により実現できる。雲母上の多重層析出層の品質は
シリコン上に析出された層の品質ほど良好であるという
実験が立証されている。
おける無線周波ダイオード粉砕（RFdiode pulverizatio
n）により実現できる。雲母上の多重層析出層の品質は
シリコン上に析出された層の品質ほど良好であるという
実験が立証されている。
【００４９】実施例で使用された雲母基板は単斜晶系
（monoclinic system ）で結晶する天然白雲母（natura
l muscovite ）であった。この結晶は完全、柔軟かつ弾
性的な劈開を提供する。単結晶の対称面は劈開に垂直に
延在する。しかし、その化学的多様性が非常に大きい同
等に使用可能であるが、密接な結晶関係を有する非常に
多数の雲母が存在する。
（monoclinic system ）で結晶する天然白雲母（natura
l muscovite ）であった。この結晶は完全、柔軟かつ弾
性的な劈開を提供する。単結晶の対称面は劈開に垂直に
延在する。しかし、その化学的多様性が非常に大きい同
等に使用可能であるが、密接な結晶関係を有する非常に
多数の雲母が存在する。
【００５０】実際には、化学的組成、結晶パラメータ、
対称群、および密度が１つの雲母から他の雲母にわたっ
て変化できるが、しかし結晶動因（crystalline motiv
e）が酸素原子の数とフッ素の数が０＋Ｆ＝12なるよう
に常に具えられている。すべての雲母の化学的組成は次
の一般式 ＸＹ2-3 (SiAl)4 Ｏ10(OH ，Ｆ)2 により表現され、ここでＸは一般にはＫであり、まれに
はNaあるいはCaであり、かつＹはAlもしくはMgもしくは
Feである。一方では、FeとTiはSiとAlで置き換えること
もできる。
対称群、および密度が１つの雲母から他の雲母にわたっ
て変化できるが、しかし結晶動因（crystalline motiv
e）が酸素原子の数とフッ素の数が０＋Ｆ＝12なるよう
に常に具えられている。すべての雲母の化学的組成は次
の一般式 ＸＹ2-3 (SiAl)4 Ｏ10(OH ，Ｆ)2 により表現され、ここでＸは一般にはＫであり、まれに
はNaあるいはCaであり、かつＹはAlもしくはMgもしくは
Feである。一方では、FeとTiはSiとAlで置き換えること
もできる。
【００５１】天然単斜晶白雲母の場合、結晶パラメータ
は、β＝95°30′で ａ＝0.519nm ｂ＝0.904nm ｃ＝2.008nm である。
は、β＝95°30′で ａ＝0.519nm ｂ＝0.904nm ｃ＝2.008nm である。
【００５２】劈開面はａに垂直な（ｃ sinβ, ｂ）によ
って決定される。密度は2.80程度であり、従ってメッシ
ュは２つの基本薄板を含み、そこで白雲母２Ｍという名
前である。白雲母は最も共通な複八面体（dioctahedra
l）雲母（すなわちイオンＹの数が２である）。それは
温度700 °まて安定であり、その後でそれは脱水（dehy
drate ）となり始める。
って決定される。密度は2.80程度であり、従ってメッシ
ュは２つの基本薄板を含み、そこで白雲母２Ｍという名
前である。白雲母は最も共通な複八面体（dioctahedra
l）雲母（すなわちイオンＹの数が２である）。それは
温度700 °まて安定であり、その後でそれは脱水（dehy
drate ）となり始める。
【００５３】他の通常の雲母もまた（例えばメタフィッ
クス［METZFIX ］からの）商用的に利用可能である。す
なわちトリオクタヘドラルトリシリコン（trioctahedra
l trisilicon）である金雲母（phlogopite）あり、それ
は温度1050°Ｃまで安定であり、それを越えると脱水し
始める。
クス［METZFIX ］からの）商用的に利用可能である。す
なわちトリオクタヘドラルトリシリコン（trioctahedra
l trisilicon）である金雲母（phlogopite）あり、それ
は温度1050°Ｃまで安定であり、それを越えると脱水し
始める。
【００５４】反射多重層構造10の基板100 は、本発明が
解決を提供しようとする技術的問題の種々の態様を解決
するために雲母から作成されるよう選ばれている。
解決を提供しようとする技術的問題の種々の態様を解決
するために雲母から作成されるよう選ばれている。
【００５５】まず第１に、半導体材料III-ＶあるいはII
−VIの特徴付けに最もしばしば使用される蛍光分光計あ
るいはＸ線回折計の光学系の実現に対して、雲母は寄生
蛍光スペクトルあるいは擾乱屈折ピークを生成しない。
−VIの特徴付けに最もしばしば使用される蛍光分光計あ
るいはＸ線回折計の光学系の実現に対して、雲母は寄生
蛍光スペクトルあるいは擾乱屈折ピークを生成しない。
【００５６】さらに、上記の装置ならびに例えばシンク
ロトロンの実現に対して、光は使用された波長領域で反
射する鏡により反射される前にコリメーションスリット
を横断する。解像度毎のスリット（slit per definitio
n ）はその横方向寸法を越える長手方向寸法を有してい
る。
ロトロンの実現に対して、光は使用された波長領域で反
射する鏡により反射される前にコリメーションスリット
を横断する。解像度毎のスリット（slit per definitio
n ）はその横方向寸法を越える長手方向寸法を有してい
る。
【００５７】図２、図３ａおよび図３ｂは前述のＸ線あ
るいは中性子デバイスの反射光学系の実現に解決法を提
供する鏡の形態の３つの実例を示している。一般的に言
うと、雲母基板上の鏡は管の一部分に従って湾曲してい
る。
るいは中性子デバイスの反射光学系の実現に解決法を提
供する鏡の形態の３つの実例を示している。一般的に言
うと、雲母基板上の鏡は管の一部分に従って湾曲してい
る。
【００５８】図２を参照すると、管の一部分の形をした
鏡は長軸ＸＸ′を有する円筒の一部分の形状を有してい
る。基板100 は円筒の外面に一致し、かつ反射部分10は
このように形成された凹空間に位置し、すなわち円筒の
内部に対面している。
鏡は長軸ＸＸ′を有する円筒の一部分の形状を有してい
る。基板100 は円筒の外面に一致し、かつ反射部分10は
このように形成された凹空間に位置し、すなわち円筒の
内部に対面している。
【００５９】上述の雲母の柔軟かつ弾性的な薄板により
形成された基板の場合に、軸ＸＸ′は劈開面の任意の方
向に平行に延在でき、換言すれば50×50mmあるいは150
×150mm の薄板の任意の方向に平行に延在でき、これは
縁部に平行な方向ならびに対角線に平行な方向であろ
う。一般的に言って、方向ＸＸ′はは商用的に得られた
雲母の四角薄板の縁部に平行に延在するようしばしば選
ばれよう。
形成された基板の場合に、軸ＸＸ′は劈開面の任意の方
向に平行に延在でき、換言すれば50×50mmあるいは150
×150mm の薄板の任意の方向に平行に延在でき、これは
縁部に平行な方向ならびに対角線に平行な方向であろ
う。一般的に言って、方向ＸＸ′はは商用的に得られた
雲母の四角薄板の縁部に平行に延在するようしばしば選
ばれよう。
【００６０】上述の雲母の薄板を使用すると、実験室の
テストでは50mm程小さい曲率半径が得られ、すなわちシ
リコン基板の場合より20倍も小さい曲率半径が得られ
る。このように、一方向に強く収束する鏡が得られる。
工業的適用では、雲母のこれらの薄板は50mmと500mm の
間の曲率半径が通常得られ、そしてしばしば100mm 程度
であり、雲母の四角薄板の側面の寸法Ｌは70mmと120mm
の間にある。
テストでは50mm程小さい曲率半径が得られ、すなわちシ
リコン基板の場合より20倍も小さい曲率半径が得られ
る。このように、一方向に強く収束する鏡が得られる。
工業的適用では、雲母のこれらの薄板は50mmと500mm の
間の曲率半径が通常得られ、そしてしばしば100mm 程度
であり、雲母の四角薄板の側面の寸法Ｌは70mmと120mm
の間にある。
【００６１】基板の湾曲の条件はブラグの法則に従って
いる。というのは、軟Ｘ線の波長領域では、例えばλ≒
4,5nm での適用に対しては１nm≦λ≦30nm、あるいは冷
中性子では、例えばλ≒１nmでの適用に対しては0.1nm
≦λ≦１nmである。
いる。というのは、軟Ｘ線の波長領域では、例えばλ≒
4,5nm での適用に対しては１nm≦λ≦30nm、あるいは冷
中性子では、例えばλ≒１nmでの適用に対しては0.1nm
≦λ≦１nmである。
【００６２】上記の実施例に対して、反射鏡は図１に示
された周期ｄを有する周期的多重層構造により形成され
る。これらの周期的構造を使用すると、反射率はブラグ
の法則 ２ｄsin θ＝ｋλ に従うピークの形をした最大値を示し、ここでλはＸ線
あるいは中性子ソースにより固定された波長であり、ｄ
は鏡の製造の間に固定された周期であり、θはブラグの
角度、すなわち鏡の平面に対する、あるいはもしも鏡が
湾曲しているなら入射点における鏡の接線に対する入射
ビームの放射線によって囲まれた角度であり、ｋは１に
等しく選ばれた反射次数（order of reflection ）であ
る。
された周期ｄを有する周期的多重層構造により形成され
る。これらの周期的構造を使用すると、反射率はブラグ
の法則 ２ｄsin θ＝ｋλ に従うピークの形をした最大値を示し、ここでλはＸ線
あるいは中性子ソースにより固定された波長であり、ｄ
は鏡の製造の間に固定された周期であり、θはブラグの
角度、すなわち鏡の平面に対する、あるいはもしも鏡が
湾曲しているなら入射点における鏡の接線に対する入射
ビームの放射線によって囲まれた角度であり、ｋは１に
等しく選ばれた反射次数（order of reflection ）であ
る。
【００６３】鏡に入射しかつ例えばスリットから発生す
るビームが発散するから、ブラグ角θはもし鏡が平坦な
らビームの１つの放射線かあるいはビームの別の放射線
が考慮されるかどうかに依存して変化しよう。
るビームが発散するから、ブラグ角θはもし鏡が平坦な
らビームの１つの放射線かあるいはビームの別の放射線
が考慮されるかどうかに依存して変化しよう。
【００６４】他方、ソースと鏡のパラメータｄとλが前
以て固定されるから、鏡の最大反射率を得るために、ビ
ームのすべての放射線に対して、あるいはその最大値に
対してブラグの法則を満足するようブラグ角θが同じで
あることが強制される。
以て固定されるから、鏡の最大反射率を得るために、ビ
ームのすべての放射線に対して、あるいはその最大値に
対してブラグの法則を満足するようブラグ角θが同じで
あることが強制される。
【００６５】従って、本発明によると、発散ビームの放
射線の大部分がブラグの法則を満足するのに必要とされ
るブラグ角θで鏡に到達するよう鏡の基板は湾曲され
る。反射率はこのようにして最大である。
射線の大部分がブラグの法則を満足するのに必要とされ
るブラグ角θで鏡に到達するよう鏡の基板は湾曲され
る。反射率はこのようにして最大である。
【００６６】従って、管の一部分の形をした鏡の真っす
ぐな断面は、円形の一部分、楕円の一部分、あるいは入
射放射線が上記のブラグの法則により規定された角度θ
を有することを保証するのに適している任意の曲線であ
ろう。
ぐな断面は、円形の一部分、楕円の一部分、あるいは入
射放射線が上記のブラグの法則により規定された角度θ
を有することを保証するのに適している任意の曲線であ
ろう。
【００６７】上述のスリットから発出する発散ビームが
横方向よりも長手方向でさらに発散するため、θの変化
を補正するために円環体の一部分の形状をしている反射
鏡から構成できる（図３ｂを見よ）。
横方向よりも長手方向でさらに発散するため、θの変化
を補正するために円環体の一部分の形状をしている反射
鏡から構成できる（図３ｂを見よ）。
【００６８】その場合、多重層構造の基板として使用さ
れた雲母の薄板は２方向に湾曲される。曲率半径の１つ
は上に示されたように100mm 程度と非常に小さく、第２
曲率半径は例えば約１ｍとずっと大きい。
れた雲母の薄板は２方向に湾曲される。曲率半径の１つ
は上に示されたように100mm 程度と非常に小さく、第２
曲率半径は例えば約１ｍとずっと大きい。
【００６９】図３ａを参照すると、楕円体の一部分の形
状をした反射鏡もまた使用することができる。
状をした反射鏡もまた使用することができる。
【００７０】雲母は非常に柔軟な材料であり、管の一部
分の形をした形状を得るための第１曲率は非常に実現が
容易である。反射構造100 の形成の後で、接着、吸引あ
るいは機構技術の当業者に既知の他の手段によって基板
10を固定することで十分である。
分の形をした形状を得るための第１曲率は非常に実現が
容易である。反射構造100 の形成の後で、接着、吸引あ
るいは機構技術の当業者に既知の他の手段によって基板
10を固定することで十分である。
【００７１】しかし、雲母は引っ張りに所与の抵抗を示
す材料であり、図３ａおよび図３ｂの楕円形状あるいは
環状形状を実現するためには他の曲率半径を得るのはさ
らに困難である。本発明によると、スリットから出るビ
ームに対して、これらの他の曲率半径が大きいという理
由でこのことは問題ではない。
す材料であり、図３ａおよび図３ｂの楕円形状あるいは
環状形状を実現するためには他の曲率半径を得るのはさ
らに困難である。本発明によると、スリットから出るビ
ームに対して、これらの他の曲率半径が大きいという理
由でこのことは問題ではない。
【００７２】さらに、周期的構造100 を形成する層が15
0 °Ｃと300 °Ｃとの間の温度範囲の熱的処理により改
善されることに注意すべきである。その温度で、雲母は
劣化せず、かつ図３ａと図３ｂに示された他の曲率半径
を得るよう冷状態よりもさらに容易にそれ自身を適応さ
せる。
0 °Ｃと300 °Ｃとの間の温度範囲の熱的処理により改
善されることに注意すべきである。その温度で、雲母は
劣化せず、かつ図３ａと図３ｂに示された他の曲率半径
を得るよう冷状態よりもさらに容易にそれ自身を適応さ
せる。
【００７３】しかし、雲母があまり柔軟でない方向でビ
ームの発散を補償する他の方法もまた遂行できる。
ームの発散を補償する他の方法もまた遂行できる。
【００７４】この方法は平均値θの周りでビームの発散
±Δθの先行計算を必要とし、かつブラグ法則の適用に
より、ブラグの法則を満足するために変動±Δθの補償
を可能にする、層の周期ｄの変動±Δθの計算を必要と
する。
±Δθの先行計算を必要とし、かつブラグ法則の適用に
より、ブラグの法則を満足するために変動±Δθの補償
を可能にする、層の周期ｄの変動±Δθの計算を必要と
する。
【００７５】このように、その周期ｄが鏡の所与の領域
でゆっくり変化する反射多重層構造を有する鏡が得られ
る。例えば、周期がｄである領域の両側で、鏡は周期が
ゆつくりとｄ＋Δｄとｄ−Δｄになる２つの領域を有す
るであろう。
でゆっくり変化する反射多重層構造を有する鏡が得られ
る。例えば、周期がｄである領域の両側で、鏡は周期が
ゆつくりとｄ＋Δｄとｄ−Δｄになる２つの領域を有す
るであろう。
【００７６】周期ｄの領域で、鏡の反射率はブラグ角が
θの場合に最大になり、そして周期ｄ±Δｄの領域で鏡
の反射率はブラグ角が（ビームの発散から）θ±Δθの
場合に最大である。
θの場合に最大になり、そして周期ｄ±Δｄの領域で鏡
の反射率はブラグ角が（ビームの発散から）θ±Δθの
場合に最大である。
【００７７】図４はいかにしてスリットＧからの発散ビ
ーム（Ｍ1 Ｇ′，Ｍ2 Ｇ′）、この場合に横方向から見
て円筒の一部分である基板100 上の多重層10の曲率のた
めにブラグ角θで反射されるかを例示している。反射さ
れたビームは（Ｍ1 Ｇ′，Ｍ 2 Ｇ′）である。曲率半径
はＯＭ0 である。セクションの平面は図２のＹ′Ｙ，
Ｚ′Ｚである。スリットＧの映像はＧ′で得られる。
ーム（Ｍ1 Ｇ′，Ｍ2 Ｇ′）、この場合に横方向から見
て円筒の一部分である基板100 上の多重層10の曲率のた
めにブラグ角θで反射されるかを例示している。反射さ
れたビームは（Ｍ1 Ｇ′，Ｍ 2 Ｇ′）である。曲率半径
はＯＭ0 である。セクションの平面は図２のＹ′Ｙ，
Ｚ′Ｚである。スリットＧの映像はＧ′で得られる。
【００７８】これらの状況の下で、コリメーションスリ
ットＧがＸ線ソースにより対物Ｆ1Ｆ2 の照明から生じ
る発散ビームを供給する場合、対物Ｆ1 Ｆ2 の特徴付け
に関連する情報は反射されたビームの通路に、Ｇ′に配
設された第２スリットを通過した後で検出器を配設する
ことにより得ることができる。
ットＧがＸ線ソースにより対物Ｆ1Ｆ2 の照明から生じ
る発散ビームを供給する場合、対物Ｆ1 Ｆ2 の特徴付け
に関連する情報は反射されたビームの通路に、Ｇ′に配
設された第２スリットを通過した後で検出器を配設する
ことにより得ることができる。
【図１】図１はその平坦条件における多重層鏡構造の断
面図である。
面図である。
【図２】図２は長軸ＸＸ′を有する凹円筒形状のＸ線あ
るいは中性子用の鏡の透視図である。
るいは中性子用の鏡の透視図である。
【図３】図３はＸＸ′に平行に延在する主軸とＹＹ′に
平行に延在する副軸を持つ楕円凹形状を有するＸ線ある
いは中性子用の鏡の透視図である。
平行に延在する副軸を持つ楕円凹形状を有するＸ線ある
いは中性子用の鏡の透視図である。
【図４】図４はスリットから発出する発散ビームを反射
する多重層凹面鏡を含む光学デバイスの平面（ＺＺ′，
ＹＹ′）に平行に取られた断面図である。
する多重層凹面鏡を含む光学デバイスの平面（ＺＺ′，
ＹＹ′）に平行に取られた断面図である。
【符号の説明】 10 多重層構造あるいは堆積あるいは反射部分 100 基板 101 表面 102 表面
Claims (12)
- 【請求項１】 所与の波長領域λのＸ線あるいは中性子
に作用する鏡を具えるデバイスであって、該鏡が凹面を
持つ基板と、上記の波長領域で反射し、かつ基板の上記
の凹面上に配設されている周期ｄを有する周期的多重層
構造とを具えるものにおいて、 鏡の基板は、その面が好適な劈開面であり、かつ鏡が管
の一部分の形状をとるように湾曲されている雲母の薄板
により形成され、多重層構造はそのように形成された凹
空間に備えられ、鏡の曲率半径は鏡が一定ブラグ角θで
発散ビームの各放射線を受取りかつ反射するようになっ
ており、ブラグ角θはブラグの法則を満足するために、
ｋが一定である場合に２ｄsin θ＝ｋλであるように多
重層構造の周期ｄと波長λの関数として選ばれることを
特徴とするデバイス。 - 【請求項２】 鏡が円筒の側面の一部分の形をした管の
一部分の形状をとることを特徴とする請求項１に記載の
デバイス。 - 【請求項３】 円筒がまっすぐであり、かつ円形あるい
は楕円形のベースを有することを特徴とする請求項２に
記載のデバイス。 - 【請求項４】 鏡が円環体の側面の一部分の形をした管
の一部分の形状をとることを特徴とする請求項１に記載
のデバイス。 - 【請求項５】 鏡が楕円体の側面の一部分の形をした管
の一部分の形状をとることを特徴とする請求項１に記載
のデバイス。 - 【請求項６】 反射多重層構造が、多重層構造の周期を
構成する厚さｄを有する２層システムあるいは３層シス
テムの重畳により形成され、各システムは所与の波長λ
の領域で、反射材料の少なくとも１つの層Ａとスペーシ
ング材料の層Ｂを具えることを特徴とする請求項１から
５のいずれか１つに記載のデバイス。 - 【請求項７】 １ないし30nmの間の軟Ｘ線の領域で反射
多重層構造を形成するために、該システムが２層システ
ムであり、かつ反射材料としてのニッケルとスペーシン
グ材料としての炭素からなることを特徴とする請求項６
に記載のデバイス。 - 【請求項８】 0.1 と１nmの間の冷中性子の領域で反射
多重層構造を形成するために、該システムが２層システ
ムであり、かつ反射材料としてのニッケルとスペーシン
グ材料としてのチタンからなることを特徴とする請求項
６に記載のデバイス。 - 【請求項９】 反射多重層構造を形成するために、２層
システムあるいは３層システムが一様な厚さを有し、か
つ反射構造にわたって同じ厚さｄを有することを特徴と
する請求項６から８のいずれか１つに記載のデバイス。 - 【請求項１０】 反射構造を形成するために、ブラグの
法則が鏡のすべての領域で満足されるために、鏡の所与
の領域の厚さｄの変動による鏡の上記の領域に入射する
放射線のブラグ角θの変動を補償するように、２層シス
テムあるいは３層システムが一様でない厚さｄを有する
ことを特徴とする請求項６から８のいずれか１つに記載
のデバイス。 - 【請求項１１】 発散Ｘ線あるいは中性子ビームがコリ
メーションスリットを介して鏡に印加されることを特徴
とする請求項１から１０のいずれか１つに記載のデバイ
スの使用法。 - 【請求項１２】 まず雲母の基板が雲母のブロックの好
適な劈開面に沿う劈開により形成され、その後でＸ線あ
るいは中性子を反射する周期的多重層構造が１つの劈開
面上に形成され、その後で層を備える基板は、鏡が管の
一部分の形状をとるように湾曲され、多重層構造はこの
ように形成された凹空間に備えられ、鏡の曲率半径は、
発散入射ビームの場合に一定ブラグ角で作用するように
選ばれる、少なくともそのような作用を具える請求項１
から１０のいずれか１つに記載のデバイスを構成する方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9111827A FR2681720A1 (fr) | 1991-09-25 | 1991-09-25 | Dispositif incluant un miroir fonctionnant dans le domaine des rayons x ou des neutrons. |
| FR9111827 | 1991-09-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06102207A true JPH06102207A (ja) | 1994-04-15 |
Family
ID=9417299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4256612A Pending JPH06102207A (ja) | 1991-09-25 | 1992-09-25 | Ｘ線あるいは中性子に作用する鏡を具えるデバイス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0534535A1 (ja) |
| JP (1) | JPH06102207A (ja) |
| FR (1) | FR2681720A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19844300C2 (de) * | 1998-09-17 | 2002-07-18 | Hahn Meitner Inst Berlin Gmbh | Neutronenoptisches Bauelement |
| US6421417B1 (en) * | 1999-08-02 | 2002-07-16 | Osmic, Inc. | Multilayer optics with adjustable working wavelength |
| EP1397813B1 (fr) * | 2001-06-01 | 2008-06-04 | Xenocs | Composant optique hybride pour applications rayons x, et procede associe |
| CN112837841A (zh) * | 2021-01-22 | 2021-05-25 | 散裂中子源科学中心 | 单能中子选择器狭缝包及其中子选择结构 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2688094A (en) * | 1952-05-09 | 1954-08-31 | California Inst Res Found | Point-focusing X-ray monochromator for low angle x-ray diffraction |
| JPS5744840A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-13 | Jeol Ltd | X-ray spectroscopic crystal |
| US4675889A (en) * | 1985-07-08 | 1987-06-23 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | Multiple wavelength X-ray dispersive devices and method of making the devices |
| US4958363A (en) * | 1986-08-15 | 1990-09-18 | Nelson Robert S | Apparatus for narrow bandwidth and multiple energy x-ray imaging |
-
1991
- 1991-09-25 FR FR9111827A patent/FR2681720A1/fr active Pending
-
1992
- 1992-09-16 EP EP92202839A patent/EP0534535A1/fr not_active Withdrawn
- 1992-09-25 JP JP4256612A patent/JPH06102207A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0534535A1 (fr) | 1993-03-31 |
| FR2681720A1 (fr) | 1993-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2962487B2 (ja) | Ｘ線〜紫外線域のミラー装置 | |
| US4322130A (en) | Phase shifting mirror | |
| CN100449690C (zh) | 多层膜反射镜、多层膜反射镜的制造方法及曝光系统 | |
| CN1332399C (zh) | 用于x射线应用的光学装置 | |
| EP1464061B1 (en) | Protective layer for multilayers exposed to hard x-rays | |
| US7321127B2 (en) | Optical reflector element, its method of fabrication, and an optical instrument implementing such elements | |
| EP2317521B1 (en) | X-ray reflecting apparatus using an x-ray reflecting mirror, | |
| JP2003506732A (ja) | 調節可能な使用波長を有する多層光学素子 | |
| JPS6098399A (ja) | ポイントソースｘ線集束装置 | |
| US11073766B2 (en) | Reflective optical element and optical system for EUV lithography having proportions of substances which differ across a surface | |
| US5239566A (en) | Multi-layered mirror | |
| JPH0727198B2 (ja) | 多層膜反射型マスク | |
| JPH06102207A (ja) | Ｘ線あるいは中性子に作用する鏡を具えるデバイス | |
| US5619382A (en) | Reflection type imaging optical system | |
| Soong et al. | Conical thin foil x-ray mirror fabrication via surface replication | |
| US7242746B2 (en) | Method for manufacturing a reflector for X-ray radiation | |
| US20130114795A1 (en) | X-ray waveguide, method for manufacturing x-ray waveguide, and method for controlling x-ray waveguide | |
| US6728037B2 (en) | Multilayer-coated reflective mirrors for X-ray optical systems, and methods for producing same | |
| JP2001027699A (ja) | 多層膜反射鏡および反射光学系 | |
| US5745286A (en) | Forming aspheric optics by controlled deposition | |
| JP2014112532A (ja) | ダブル多層膜モノクロメータ | |
| JPS63106703A (ja) | 光学素子 | |
| JPH05142396A (ja) | Ｘ線反射鏡、ｘ線結像装置及びｘ線集光装置 | |
| US20220097327A1 (en) | Method of printing and implementing refractive x-ray optical components | |
| JPH03152426A (ja) | 分光器 |