JPH06104364A - Lead frame, method of molding semiconductor chip using the same, and mold for molding - Google Patents
Lead frame, method of molding semiconductor chip using the same, and mold for moldingInfo
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- JPH06104364A JPH06104364A JP4252941A JP25294192A JPH06104364A JP H06104364 A JPH06104364 A JP H06104364A JP 4252941 A JP4252941 A JP 4252941A JP 25294192 A JP25294192 A JP 25294192A JP H06104364 A JPH06104364 A JP H06104364A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】樹脂封止型半導体装置のモールド樹脂の流れを
均一に流れるようにすること。
【構成】従来のリードフレームの各インナーリード5間
にダミーリード6を形成し、各ダミーリード6を上側ま
たは下側に、或いは上側及び下側に交互に折り曲げて、
モールド用金型17を用いてモールド樹脂18を注入
し、ICチップ8を樹脂封止した場合に、インナーリー
ド5部を流れるモールド樹脂18に前記ダミーリードで
抵抗を与え、そのモールド樹脂18の速さと、ICチッ
プ8上及びダイパッド3下を流れるモールド樹脂18の
速さとをほぼを等しくなるようにした。
【効果】インナーリードを流れるモールド樹脂の回り込
みによるボイドの発生を防止することができる。
(57) [Summary] (Correction) [Purpose] To make the flow of the molding resin of the resin-sealed semiconductor device uniform. [Constitution] A dummy lead 6 is formed between each inner lead 5 of a conventional lead frame, and each dummy lead 6 is bent upward or downward, or alternately bent upward and downward,
When the molding resin 18 is injected using the molding die 17 and the IC chip 8 is resin-sealed, a resistance is given to the molding resin 18 flowing through the inner leads 5 by the dummy leads, and the speed of the molding resin 18 is increased. And the speed of the molding resin 18 flowing over the IC chip 8 and under the die pad 3 are made substantially equal. [Effect] It is possible to prevent the generation of voids due to the wraparound of the mold resin flowing through the inner leads.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体チップを樹脂
モールドするに当たって、封止樹脂がモールド金型内に
おいて好ましい状態で流動できるリードフレーム、及び
これを用いた半導体チップのモールド方法、そしてその
モールド用金型に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame which allows a sealing resin to flow in a preferable state in a molding die when molding a semiconductor chip with a resin, a method of molding a semiconductor chip using the same, and a molding method therefor. It is related to the mold.
【0002】[0002]
【従来の技術】図9乃至図11を用いて従来技術のリー
ドフレーム、及びこれを用いた半導体チップのモールド
方法を説明する。図9は従来技術のリードフレームを示
した平面図であり、図10は従来技術の樹脂封止型半導
体装置の断面側面図であり、そして図11は図9に示し
たリードフレームを用いて半導体チップを樹脂でトラン
スファーモールドした場合の状態を示した平面図であ
る。2. Description of the Related Art A conventional lead frame and a semiconductor chip molding method using the same will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a plan view showing a conventional lead frame, FIG. 10 is a cross-sectional side view of a conventional resin-sealed semiconductor device, and FIG. 11 is a semiconductor using the lead frame shown in FIG. FIG. 6 is a plan view showing a state in which a chip is transfer-molded with resin.
【0003】図9に示した従来技術のリードフレームL
dは、並行に離間して延在する2本のフレーム枠29
と、両フレーム枠29と吊りリード30によって連結さ
れたダイパッド31と、先端部が前記ダイパッド31の
周辺部に近接し、所定の間隔幅でダイパッド31を囲む
ように設けられ、そしてタイバー32に支持された複数
のインナーリード33などから構成されていて、この図
9はその一単位だけを示した。符号30aの部分は下方
に折り曲げられた部分で、従って前記ダイパッド31は
ディプレスされた状態になっている。A conventional lead frame L shown in FIG.
d is two frame frames 29 that are spaced apart and extend in parallel.
A die pad 31 connected by both frame frames 29 and suspension leads 30; a tip portion of the die pad 31 which is close to the peripheral portion of the die pad 31 and surrounds the die pad 31 with a predetermined gap width; 9 is shown as a single unit. A portion 30a is a portion bent downward, and therefore the die pad 31 is in a depressed state.
【0004】このような構成のリードフレームLdは、
金属板、例えば、厚さ0.1乃至0.3mmの42%N
i−Feアロイの金属帯板を打ち抜くか、エッチングし
て製作されている。The lead frame Ld having such a structure is
Metal plate, eg, 42% N with a thickness of 0.1 to 0.3 mm
It is manufactured by stamping or etching a metal strip of i-Fe alloy.
【0005】図10に示した樹脂封止型半導体装置Sb
は、前記リードフレームLdのダイパッド31の上に半
導体チップ34をダイボンディングし、その半導体チッ
プ34の表面のボンディングパッド(図示していない)
と前記インナーリード33の先端部とをワイヤ35で結
線し、このような半導体チップ34、ワイヤ35、イン
ナーリード33の先端部などを含めてトランスファーモ
ールド法により樹脂36で封止する。The resin-sealed semiconductor device Sb shown in FIG.
Is a die-bonding of the semiconductor chip 34 on the die pad 31 of the lead frame Ld, and a bonding pad (not shown) on the surface of the semiconductor chip 34.
And the tip of the inner lead 33 are connected by a wire 35, and the semiconductor chip 34, the wire 35, the tip of the inner lead 33 and the like are sealed with a resin 36 by a transfer molding method.
【0006】この樹脂モールドを行う時、モールド樹脂
の流動を均一化するために、半導体チップ34上の樹脂
肉厚37とダイパッド31下の樹脂肉厚38とが等しく
なるように設計することが多い。When this resin molding is performed, in order to make the flow of the molding resin uniform, the resin thickness 37 on the semiconductor chip 34 and the resin thickness 38 under the die pad 31 are often designed to be equal. .
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来技術のリードフレームLd及びこれを用いた半導体装
置の構造では、図9に示したように、半導体チップ34
上の樹脂肉厚37やダイパッド31下の樹脂肉厚38に
比べてインナーリード33の上下の樹脂肉厚39、40
が厚いため、モールド樹脂36を矢印Yの方向から注入
する際、図11Aに示したように、流動抵抗が少ないイ
ンナーリード33部を流れるモールド樹脂の流れが先行
し、半導体チップ34上及びダイパッド31下にボイド
(気泡)41が残り、所謂ボイド不良が発生するという
問題がある。この発明は、このようなボイド41の発生
を促すような樹脂の流動を防止する構造のリードフレー
ム及び半導体チップのモールド方法などの提供を目的と
したものである。However, in the structure of such a conventional lead frame Ld and the semiconductor device using the same, as shown in FIG. 9, the semiconductor chip 34 is used.
Compared with the resin thickness 37 above and the resin thickness 38 below the die pad 31, resin thicknesses 39, 40 above and below the inner lead 33
11A, when the mold resin 36 is injected from the direction of the arrow Y, as shown in FIG. 11A, the flow of the mold resin flowing through the inner lead 33 portion having a small flow resistance precedes, so that the semiconductor chip 34 and the die pad 31 are exposed. There is a problem that voids (air bubbles) 41 remain below and so-called void defects occur. It is an object of the present invention to provide a lead frame having a structure that prevents the flow of resin that promotes the generation of such voids 41, a method of molding a semiconductor chip, and the like.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】そのため、この発明のリ
ードフレームは、半導体チップを載置するダイパッドの
周辺部に、その周辺部に沿って、先端部が所定の間隔幅
で配列され、タイバーに支持された複数のリードが取り
囲んだリードフレームにおいて、前記リードの先端部間
に先端部が在り、他端が前記タイバーに保持されたダミ
ーリードが配列され、それらの各ダミーリードに溝を形
成し、それらのダミーリードをモールド用金型に挟ん
で、前記溝部分で折り曲げ、モールド樹脂を注入するよ
うにした。Therefore, in the lead frame of the present invention, the tip portions are arranged at a predetermined interval width along the peripheral portion of the die pad on which the semiconductor chip is mounted and the tie bar is provided. In a lead frame surrounded by a plurality of supported leads, a tip portion is present between the tip portions of the leads, and the other end is arranged with dummy leads held by the tie bar, and a groove is formed in each of the dummy leads. The dummy leads were sandwiched between molding dies, bent at the groove portions, and the molding resin was injected.
【0009】[0009]
【作用】従って、インナーリードの上下の樹脂流路にダ
ミーリードが存在するため、その部分に流動抵抗が形成
されたことになり、モールド樹脂が注入されると、その
部分で流動抵抗を受けて樹脂の流れの速さが抑えられ、
元々流れの遅い半導体チップ上及びダイパッド下の樹脂
とほぼ同等の速さにすることができる。Therefore, since the dummy leads exist in the resin flow paths above and below the inner lead, a flow resistance is formed in that portion, and when the mold resin is injected, the flow resistance is received in that portion. The speed of resin flow is suppressed,
The speed can be almost the same as that of the resin on the semiconductor chip and under the die pad, which originally flow slowly.
【0010】[0010]
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を用いて説明
する。図1乃至図8を用いて、この発明のリードフレー
ム、これを用いた半導体チップのモールド方法及びモー
ルド用金型を説明する。図1はこの発明のリードフレー
ムの第1の実施例を示し、同図Aはその平面図、同図B
は同図AのAーA線上におけるダミーリードの断面図、
同図Cは同図AのBーB線上におけるダミーリードの断
面図であり、図2は図1のリードフレームに半導体チッ
プを固定し、樹脂モールドするためにモールド用金型に
装着した状態を示す断面側面図であり、図3は図2の状
態でモールド樹脂を注入した状態を示し、同図Aはモー
ルドの途中の状態を示す平面図、同図Bはモールドが完
了した状態を示す平面図であり、図4はこの発明のリー
ドフレームの第2の実施例を示し、同図Aはその平面
図、同図Bは同図AのAーA線上におけるダミーリード
の断面図であり、図5は図4のリードフレームに半導体
チップを固定し、樹脂モールドするためにモールド用金
型に装着した状態を示す断面側面図であり、図6はこの
発明のリードフレームの第3の実施例を示し、同図Aは
その平面図、同図Bは同図AのAーA線上におけるダミ
ーリードの断面図であり、図7は図6のリードフレーム
に半導体チップを固定し、樹脂モールドするためにモー
ルド用金型に装着した状態を示す断面側面図であり、そ
して図8はこの発明の一つであるモールド用金型の一部
断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 8, a lead frame of the present invention, a method of molding a semiconductor chip using the same, and a molding die will be described. 1 shows a first embodiment of a lead frame of the present invention, FIG. 1A is a plan view thereof, and FIG.
Is a sectional view of the dummy lead taken along the line AA of FIG.
FIG. 2C is a cross-sectional view of the dummy lead taken along the line BB in FIG. 1A, and FIG. 2 shows a state in which the semiconductor chip is fixed to the lead frame in FIG. 1 and mounted on a molding die for resin molding. FIG. 3 is a sectional side view showing FIG. 3, FIG. 3 shows a state where mold resin is injected in the state of FIG. 2, FIG. 3A is a plan view showing a state in the middle of molding, and FIG. FIG. 4 is a view showing a second embodiment of the lead frame of the present invention, FIG. 4A is a plan view thereof, and FIG. 4B is a sectional view of the dummy lead taken along the line AA of FIG. 5 is a sectional side view showing a state in which a semiconductor chip is fixed to the lead frame of FIG. 4 and mounted on a molding die for resin molding, and FIG. 6 is a third embodiment of the lead frame of the present invention. FIG. A shows a plan view of FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view of the dummy lead taken along the line AA in FIG. 7A, and FIG. 7 is a cross-sectional side view showing a state in which the semiconductor chip is fixed to the lead frame of FIG. 6 and mounted on a molding die for resin molding. FIG. 8 is a partial sectional view of the mold for molding which is one of the present invention.
【0011】図1に示したリードフレームLaはSOP
型半導体装置に用いられるものであって、同図Aに示し
たように、並行に離間して延在する2本のフレーム枠1
と、両フレーム枠1と吊りリード2によって連結された
ダイパッド3と、先端部が前記ダイパッド3の周辺部に
近接し、所定の間隔幅でダイパッド3を囲むように設け
られ、そしてタイバー4に支持された複数のインナーリ
ード5などから構成されていて、この図1はその一単位
だけを示した。符号2aの部分は下方に折り曲げられた
部分で、従って前記ダイパッド3はディプレスされた状
態になっている。The lead frame La shown in FIG. 1 is an SOP.
Which is used in a semiconductor device of the type, and as shown in FIG.
A die pad 3 connected by both frame frames 1 and suspension leads 2; a tip portion thereof is provided in the vicinity of the peripheral portion of the die pad 3 so as to surround the die pad 3 with a predetermined gap width, and is supported by a tie bar 4; It is composed of a plurality of inner leads 5 and the like, and FIG. 1 shows only one unit. A portion 2a is a portion bent downward, and therefore the die pad 3 is in a depressed state.
【0012】そしてこの発明においては、前記各インナ
ーリード5の先端部間に、先端部が在り、他端が前記タ
イバー4に保持されたダミーリード6A及び6Bを交互
に配列した。前記ダミーリード6Aには、同図Bに示し
たように、そのダミーリード6Aの表面に凹型の溝7
(以下、単に「溝7」と記す)を形成し、また前記ダミ
ーリード6Bの裏面に溝7を形成した。このような構成
のリードフレームLaは、厚さ0.125mmの42%
Ni−Feアロイを打ち抜いて製作した。In the present invention, the dummy leads 6A and 6B, which have a tip portion between the tip portions of the inner leads 5 and the other end of which is held by the tie bar 4, are arranged alternately. As shown in FIG. 2B, the dummy lead 6A has a concave groove 7 on the surface of the dummy lead 6A.
(Hereinafter, simply referred to as “groove 7”) was formed, and groove 7 was formed on the back surface of the dummy lead 6B. The lead frame La having such a structure has a thickness of 0.125 mm and is 42%.
It was manufactured by punching out a Ni-Fe alloy.
【0013】このようなリードフレームLaの前記ダイ
パッド3にICチップ8を載置し、その表面に形成され
た複数の電極パッドと各インナーリード5の先端部とを
ワイヤで接続し(図を簡単に表すために図示を省略し
た)、図2に示したように、前記各ダミーリード6Aの
溝7が上金型9の衝合面10とキャビティ11とが突き
合わさる縁12に位置するように、そして前記各ダミー
リード6Bの溝7が下金型13の衝合面14とキャビテ
ィ15とが突き合わさる縁16に位置するように、リー
ドフレームLaを上金型9と下金型13とからなるモー
ルド用金型17に配置し、締結する。The IC chip 8 is placed on the die pad 3 of the lead frame La, and a plurality of electrode pads formed on the surface of the IC chip 8 are connected to the tips of the inner leads 5 by wires (see the figure for simplicity. 2 is omitted), as shown in FIG. 2, so that the groove 7 of each dummy lead 6A is located at the edge 12 where the abutting surface 10 of the upper die 9 and the cavity 11 abut. Then, the lead frame La is separated from the upper mold 9 and the lower mold 13 so that the groove 7 of each dummy lead 6B is located at the edge 16 where the abutting surface 14 of the lower mold 13 and the cavity 15 meet. It is placed in the molding die 17 and is fastened.
【0014】このようにリードフレームLaをモールド
用金型17に配置して締め付けると、そのモールド用金
型17の締結力で前記溝7を中心にしてダミーリード6
A及び6Bの先端部は折れ曲がる。即ち、ダミーリード
6Aの先端部は上金型9の方へ、ダミーリード6Bの先
端部は下金型13の方へ曲がる。これは上下金型9、1
3の締結力によりダミーリードの溝7が形成された面の
金属面より溝7が形成されていない面の金属面がより大
きく伸長するからである。When the lead frame La is placed in the molding die 17 and tightened as described above, the dummy lead 6 is centered on the groove 7 by the fastening force of the molding die 17.
The tips of A and 6B are bent. That is, the tip of the dummy lead 6A is bent toward the upper mold 9, and the tip of the dummy lead 6B is bent toward the lower mold 13. This is the upper and lower molds 9,1
This is because the fastening force of No. 3 causes the metal surface of the surface where the groove 7 is not formed to expand more than the metal surface of the surface of the dummy lead where the groove 7 is formed.
【0015】前記厚さの42%Ni−Feアロイを用い
て締結した場合、ダミーリードの先端部の曲げ高さHは
約0.15mmであった。なお、この場合のモールド用
金型17の各キャビティ11、15の底面間の距離、即
ち、半導体装置の全樹脂肉厚Tは1mmとした。When the 42% Ni--Fe alloy having the above thickness was used for fastening, the bending height H of the tip of the dummy lead was about 0.15 mm. In this case, the distance between the bottom surfaces of the cavities 11 and 15 of the molding die 17, that is, the total resin thickness T of the semiconductor device was set to 1 mm.
【0016】このようにリードフレームLaをモールド
用金型17で締めつけた状態で、図3Aに示したよう
に、モールド樹脂18を矢印Yの方向から注入すると、
両側方の各インナーリード5部を流れるモールド樹脂1
8が折れ曲がった両ダミーリード6A、6Bによる抵抗
を受け、元々抵抗の大きいICチップ8上及びダイパッ
ド3下のモールド樹脂18の流れとほぼ同等の速さにな
るので、ボイドの残らない樹脂封止型半導体装置Sを製
造することができる(図3B)。When the molding resin 18 is injected from the direction of the arrow Y as shown in FIG. 3A with the lead frame La clamped by the molding die 17 as described above,
Mold resin 1 flowing through each inner lead 5 on both sides
8 receives the resistance due to the bent dummy leads 6A and 6B, and the speed is almost the same as the flow of the mold resin 18 on the IC chip 8 and under the die pad 3 which originally has a large resistance, so that the void-free resin sealing The type semiconductor device S can be manufactured (FIG. 3B).
【0017】図4にこの発明の第2の実施例を示した。
このリードフレームLbは溝7が上面のみに形成された
ダミーリード6Aだけで構成されていて、図5に示した
ようなモールド用金型17Aに載置し、このモールド用
金型17で締め付けると、ダミーリード6Aの先端部は
全て上側に折れ曲がる。なお、このリードフレームLb
の他の構造はリードフレームLaと同様である。このよ
うなリードフレームLbは、インナーリード5上の樹脂
肉厚Taがインナーリード5下の樹脂肉厚Tbよりも厚
い構造の樹脂封止型半導体装置を製造する場合に用いる
と有用である。FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention.
The lead frame Lb is composed only of the dummy leads 6A having the groove 7 formed only on the upper surface, and is mounted on the molding die 17A as shown in FIG. All the tips of the dummy leads 6A are bent upward. The lead frame Lb
The other structure is similar to that of the lead frame La. Such a lead frame Lb is useful when a resin-sealed semiconductor device having a structure in which the resin wall thickness Ta on the inner lead 5 is thicker than the resin wall thickness Tb under the inner lead 5 is manufactured.
【0018】図6にこの発明の第3の実施例を示した。
このリードフレームLcは溝7が下面のみに形成された
ダミーリード6Bだけで構成されていて、図7に示した
ようなモールド用金型17Bに載置し、このモールド用
金型17Bで締め付けると、ダミーリード6Bの先端部
は全て下側に折れ曲がる。なお、このリードフレームL
cの他の構造もリードフレームLaと同様である。この
ようなリードフレームLcは、インナーリード5下の樹
脂肉厚Tbがインナーリード5上の樹脂肉厚Taよりも
厚い構造の樹脂封止型半導体装置を製造する場合に用い
ると有用である。FIG. 6 shows a third embodiment of the present invention.
The lead frame Lc is composed only of the dummy leads 6B having the groove 7 formed only on the lower surface, and is mounted on the molding die 17B as shown in FIG. 7 and tightened by the molding die 17B. All the tips of the dummy leads 6B are bent downward. The lead frame L
The other structure of c is the same as that of the lead frame La. Such a lead frame Lc is useful when a resin-sealed semiconductor device having a structure in which the resin thickness Tb under the inner lead 5 is thicker than the resin thickness Ta on the inner lead 5 is manufactured.
【0019】前記の各実施例ではダミーリードをモール
ド用金型の締結力で折り曲げる場合を挙げた。しかし、
ダミーリードの先端部をより大きく折り曲げる必要が在
る場合、例えば、図2における曲げ高さHを0.2mm
程に折り曲げたい場合には、もはやモールド用金型の締
結力では曲げることが困難になる。このように大きく折
り曲げる必要がある場合には、図8に示したように、ダ
ミーリード6Aを上側に折り曲げる場合は、下金型13
の衝合面14の縁16に、前記ダミーリード6Aの溝7
に対応して微小突起19を形成し、このようなモールド
用金型17AでリードフレームLbを挟み、締め付ける
ことにより、全てのダミーリード6Aを上側に確実に比
較的大きく折り曲げることができる。In each of the above-mentioned embodiments, the case where the dummy lead is bent by the fastening force of the molding die is given. But,
When it is necessary to bend the tip portion of the dummy lead more largely, for example, the bending height H in FIG. 2 is 0.2 mm.
When it is desired to fold it to a certain extent, it is no longer possible to bend it with the fastening force of the molding die. When it is necessary to bend the dummy lead 6A in such a manner as shown in FIG. 8, when the dummy lead 6A is bent to the upper side, the lower mold 13 is used.
At the edge 16 of the abutting surface 14 of the groove 7 of the dummy lead 6A.
By forming the minute protrusions 19 corresponding to the above, and sandwiching and clamping the lead frame Lb with such a molding die 17A, all the dummy leads 6A can be surely bent relatively upward to a relatively large extent.
【0020】ダミーリード6Bを全て下側に比較的大き
く折り曲げる必要がある場合には、前記微小突起19を
上金型9の衝合面10の縁16に形成して折り曲げれば
よく、またダミーリード6Aお6Bをそれぞれ交互に上
側及び下側に比較的大きく折り曲げる必要がある場合に
は、上下の金型の衝合面の縁にそれぞれ各ダミーリード
の溝7に対応して微小突起19を形成して折り曲げれば
よい。このような微小突起19の高さLは0.01〜
0.05mm程度が望ましく、またこの程度で十分であ
る。When it is necessary to bend all of the dummy leads 6B downward relatively relatively, it is sufficient to form the minute projections 19 on the edge 16 of the abutting surface 10 of the upper die 9 and bend them. When it is necessary to alternately bend the leads 6A and 6B to the upper side and the lower side by a relatively large amount, the minute protrusions 19 are formed on the edges of the abutting surfaces of the upper and lower molds in correspondence with the grooves 7 of the dummy leads. It can be formed and bent. The height L of such minute protrusions 19 is 0.01 to
About 0.05 mm is desirable, and this degree is sufficient.
【0021】ダミーリードの折り曲げが、第1の実施例
で説明したような比較的僅かな折り曲げ量で済む場合で
も、積極的に、かつ確実に折り曲げたい場合には、前記
のような微小突起19を設けた上金型及びまたは下金型
を用いて行えばよい。Even if the bending of the dummy lead is performed with a relatively small amount of bending as described in the first embodiment, if it is desired to positively and surely bend the minute lead 19 as described above. It may be performed using an upper mold and / or a lower mold provided with.
【0022】前記各実施例の溝7は凹型の溝で表した
が、この溝は凹型の溝でなくてもよく、V型の溝でもよ
い。凹型の溝はハーフエッチングで形成することがで
き、V型の溝はVノッチ加工で形成することができる。
従って、この発明のリードフレームは、従来のリードフ
レームの製造工程を何ら変更することなく製造すること
ができる。Although the groove 7 in each of the above-described embodiments is expressed as a concave groove, this groove may not be a concave groove but may be a V-shaped groove. The concave groove can be formed by half etching, and the V-shaped groove can be formed by V notch processing.
Therefore, the lead frame of the present invention can be manufactured without changing the manufacturing process of the conventional lead frame.
【0023】また、ダミーリードはモールド用金型で締
結されるまでインナーリードと同一平面上にあるため、
ダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程、その
間の搬送工程は従来のリードフレームを取り扱う技術で
対応することができる。Since the dummy lead is on the same plane as the inner lead until it is fastened by the molding die,
The die bonding process, the wire bonding process, and the transfer process therebetween can be handled by the conventional technique for handling a lead frame.
【0024】前記実施例では、SOP型半導体装置用リ
ードフレームを例示して説明したが、SOP型半導体装
置用リードフレームに限定されるものではなく、QFP
型半導体装置に用いるリードフレームにも適用できるこ
とは言うまでもない。Although the SOP type semiconductor device lead frame has been described as an example in the above embodiment, the present invention is not limited to the SOP type semiconductor device lead frame, and it is not limited to the QFP type lead frame.
It goes without saying that the present invention can also be applied to a lead frame used in a type semiconductor device.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上、説明したように、この発明のリー
ドフレーム及びこれを用いた半導体装置の製造方法によ
れば、ダミーリードを形成し、これらのダミーリードの
先端部を折り曲げて、インナーリード部を流れるモール
ド樹脂に抵抗を与えるようにしたので、その部分を流れ
るモールド樹脂の速さと半導体チップ上及びダイパッド
下を流れるモールド樹脂との速さが殆ど等しくなり、ボ
イド(気泡)の発生を防止することができる。また、従
来のリードフレームの製造工程を何ら変更することなく
この発明のリードフレームを製造することができる。更
にまた、ダミーリードはモールド用金型で締結されるま
でインナーリードと同一平面上にあるため、ダイボンデ
ィング工程、ワイヤボンディング工程、その間の搬送工
程などは従来のリードフレームを取り扱う技術で対応す
ることができるなど、優れた効果が得られる。As described above, according to the lead frame of the present invention and the method of manufacturing a semiconductor device using the same, dummy leads are formed, and the tips of these dummy leads are bent to form the inner leads. Since resistance is given to the mold resin flowing in the part, the speed of the mold resin flowing in that part becomes almost equal to the speed of the mold resin flowing in the semiconductor chip and under the die pad, preventing the occurrence of voids (air bubbles). can do. Further, the lead frame of the present invention can be manufactured without changing the manufacturing process of the conventional lead frame. Furthermore, since the dummy lead is on the same plane as the inner lead until it is fastened with the molding die, the conventional lead frame handling technology must be used for the die bonding process, wire bonding process, and transfer process between them. It is possible to obtain excellent effects.
【図1】この発明のリードフレームの第1の実施例を示
し、同図Aはその平面図、同図Bは同図AのAーA線上
におけるダミーリードの断面図、同図Cは同図AのBー
B線上におけるダミーリードの断面図である。1 shows a first embodiment of a lead frame of the present invention, FIG. 1A is a plan view thereof, FIG. 1B is a sectional view of a dummy lead taken along the line AA in FIG. 1A, and FIG. FIG. 4B is a cross-sectional view of the dummy lead on the line BB of FIG.
【図2】図1のリードフレームに半導体チップを固定
し、樹脂モールドするためにモールド用金型に装着した
状態を示す断面側面図である。FIG. 2 is a sectional side view showing a state in which a semiconductor chip is fixed to the lead frame of FIG. 1 and mounted on a molding die for resin molding.
【図3】図2の状態でモールド樹脂を注入した状態を示
し、同図Aはモールドの途中の状態を示す平面図、同図
Bはモールドが完了した状態を示す平面図である。3 is a plan view showing a state where a molding resin is injected in the state of FIG. 2, FIG. A is a plan view showing a state in the middle of molding, and FIG. 3B is a plan view showing a state in which molding is completed.
【図4】この発明のリードフレームの第2の実施例を示
し、同図Aはその平面図、同図Bは同図AのAーA線上
におけるダミーリードの断面図である。FIG. 4 shows a second embodiment of the lead frame of the present invention, FIG. 4A is a plan view thereof, and FIG. 4B is a sectional view of the dummy lead taken along the line AA of FIG.
【図5】図4のリードフレームに半導体チップを固定
し、樹脂モールドするためにモールド用金型に装着した
状態を示す断面側面図である。5 is a cross-sectional side view showing a state in which a semiconductor chip is fixed to the lead frame of FIG. 4 and mounted on a molding die for resin molding.
【図6】この発明のリードフレームの第3の実施例を示
し、同図Aはその平面図、同図Bは同図AのAーA線上
におけるダミーリードの断面図である。FIG. 6 shows a third embodiment of the lead frame of the present invention, FIG. 6A is a plan view thereof, and FIG. 6B is a sectional view of the dummy lead taken along the line AA of FIG.
【図7】図6のリードフレームに半導体チップを固定
し、樹脂モールドするためにモールド用金型に装着した
状態を示す断面側面図である。7 is a cross-sectional side view showing a state in which a semiconductor chip is fixed to the lead frame of FIG. 6 and is mounted on a molding die for resin molding.
【図8】この発明の一つであるモールド用金型の一部断
面図である。FIG. 8 is a partial cross-sectional view of a molding die that is one of the present invention.
【図9】従来技術のリードフレームを示した平面図であ
る。FIG. 9 is a plan view showing a conventional lead frame.
【図10】従来技術の樹脂封止型半導体装置の断面側面
図である。FIG. 10 is a cross-sectional side view of a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図11】図9に示したリードフレームを用いて半導体
チップを樹脂でトランスファーモールドした場合の状態
を示した平面図である。11 is a plan view showing a state where a semiconductor chip is transfer-molded with resin using the lead frame shown in FIG. 9.
La リードフレーム Lb リードフレーム Lc リードフレーム S 樹脂封止型半導体装置 1 フレーム枠 2 吊りリード 3 ダイパッド 4 タイバー 5 インナーリード 6 ダミーリード 6A ダミーリード 6B ダミーリード 7 溝 8 ICチップ 9 上金型 10 衝合面 11 キャビティ 12 縁 13 下金型 13A 下金型 14 衝合面 15 キャビティ 16 縁 17 モールド用金型 17A モールド用金型 18 モールド樹脂 19 微小突起 La lead frame Lb lead frame Lc lead frame S resin-sealed semiconductor device 1 frame frame 2 suspension lead 3 die pad 4 tie bar 5 inner lead 6 dummy lead 6A dummy lead 6B dummy lead 7 groove 8 IC chip 9 upper die 10 collision Surface 11 Cavity 12 Edge 13 Lower mold 13A Lower mold 14 Abutting surface 15 Cavity 16 Edge 17 Mold for mold 17A Mold for mold 18 Mold resin 19 Minute protrusion
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/28 A 8617−4M // B29L 31:34 4F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 23/28 A 8617-4M // B29L 31:34 4F
Claims (3)
部を、その周辺部に沿って、先端部が所定の間隔幅で配
列され、タイバーに支持された複数のリードが取り囲ん
だリードフレームにおいて、前記リードの先端部間に先
端部が在り、他端が前記タイバーに保持されたダミーリ
ードが配列され、それらの各ダミーリードに溝を形成し
たことを特徴とするリードフレーム。1. A lead frame, in which a peripheral portion of a die pad on which a semiconductor chip is mounted is surrounded by a plurality of leads supported by tie bars, the distal end portions being arranged at a predetermined interval width along the peripheral portion. A lead frame in which a tip portion is present between the tip portions of the leads, dummy leads having the other end held by the tie bar are arranged, and grooves are formed in each of the dummy leads.
イパッドに半導体チップを固定し、この半導体チップな
どを上下金型からなるモールド金型を用いてモールドす
るに当たり、このようなリードフレームを前記上下金型
で挟着し、前記各ダミーリードを前記溝が形成された部
分で折り曲げ、樹脂流路に抵抗を持たせた状態で樹脂を
注入し、前記半導体チップなどをトランスファーモール
ドすることを特徴とする半導体チップのモールド方法。2. The lead frame according to claim 1, wherein a semiconductor chip is fixed to the die pad of the lead frame, and the semiconductor chip and the like are molded by using a mold including upper and lower molds. It is sandwiched by upper and lower molds, each dummy lead is bent at the portion where the groove is formed, resin is injected in a state where the resin flow path has resistance, and the semiconductor chip or the like is transfer molded. And a method of molding a semiconductor chip.
金型からなるトランスファーモールド用金型において、
前記上金型または下金型の押切り面のモールドライン近
傍に所定の間隔幅で微小突起を形成したことを特徴とす
るトランスファーモールド用金型。3. A transfer mold comprising upper and lower molds each having a cavity,
A mold for transfer molding, characterized in that minute protrusions are formed with a predetermined interval width in the vicinity of the mold line on the pressing surface of the upper mold or the lower mold.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252941A JPH06104364A (en) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | Lead frame, method of molding semiconductor chip using the same, and mold for molding |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252941A JPH06104364A (en) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | Lead frame, method of molding semiconductor chip using the same, and mold for molding |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06104364A true JPH06104364A (en) | 1994-04-15 |
Family
ID=17244291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4252941A Pending JPH06104364A (en) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | Lead frame, method of molding semiconductor chip using the same, and mold for molding |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06104364A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5920768A (en) * | 1996-12-19 | 1999-07-06 | Denso Corporation | Manufacturing method for a resin sealed semiconductor device |
| JP2002231873A (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-16 | Sony Corp | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| KR100370842B1 (en) * | 1995-12-30 | 2003-06-19 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | Chip size package |
| US6861735B2 (en) | 1997-06-27 | 2005-03-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Resin molded type semiconductor device and a method of manufacturing the same |
| US6900524B1 (en) | 1997-06-27 | 2005-05-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Resin molded semiconductor device on a lead frame and method of manufacturing the same |
| JP2018157134A (en) * | 2017-03-21 | 2018-10-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device |
| JP2019087555A (en) * | 2017-11-01 | 2019-06-06 | トヨタ自動車株式会社 | Method for manufacturing semiconductor device |
-
1992
- 1992-09-22 JP JP4252941A patent/JPH06104364A/en active Pending
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