JPH06105227B2 - 外観検査装置 - Google Patents
外観検査装置Info
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- JPH06105227B2 JPH06105227B2 JP4097188A JP4097188A JPH06105227B2 JP H06105227 B2 JPH06105227 B2 JP H06105227B2 JP 4097188 A JP4097188 A JP 4097188A JP 4097188 A JP4097188 A JP 4097188A JP H06105227 B2 JPH06105227 B2 JP H06105227B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/93—Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、表面に２方向でマークが等間隔に配列されて
いる平板状の検査対象物の表面の欠点を検出する外観検
査装置に関するものである。
いる平板状の検査対象物の表面の欠点を検出する外観検
査装置に関するものである。
［従来の技術］ 従来より平板状の検査対象物の表面の欠点を検出する外
観検査装置としては、パターン認識を用いた画像処理に
よって欠点とそうでない部分とを識別するようにしたも
のがある。
観検査装置としては、パターン認識を用いた画像処理に
よって欠点とそうでない部分とを識別するようにしたも
のがある。
［発明が解決しようとする課題］ パターン認識を用いた画像処理による外観検査装置で
は、表面状態を検査することが必要な検査対象物の面積
に応じて処理時間が長くなり、製造ライン上などで外観
検査を行なうためにはミニコン程度の非常に高速なコン
ピュータが必要となって、検査に要するコストが膨大な
ものとなってしまう。とくに、検査対象物の表面にマー
クが付けられている場合には、マークであるか欠点であ
るかを識別することが必要になり、パターン認識等の画
像処理法では、検査が困難である。
は、表面状態を検査することが必要な検査対象物の面積
に応じて処理時間が長くなり、製造ライン上などで外観
検査を行なうためにはミニコン程度の非常に高速なコン
ピュータが必要となって、検査に要するコストが膨大な
ものとなってしまう。とくに、検査対象物の表面にマー
クが付けられている場合には、マークであるか欠点であ
るかを識別することが必要になり、パターン認識等の画
像処理法では、検査が困難である。
本発明は上述の問題点を解決することを目的とするもの
であり、マークと欠点とを統計的な処理を用いて分離す
ることにより、比較的低速の演算装置でも短時間で欠点
の検出ができるようにした外観検査装置を提供しようと
するものである。
であり、マークと欠点とを統計的な処理を用いて分離す
ることにより、比較的低速の演算装置でも短時間で欠点
の検出ができるようにした外観検査装置を提供しようと
するものである。
［課題を解決するための手段］ 本発明では、上記目的を達成するために、検査対象物の
表面の画像における画素の濃度が所定の範囲内に存在し
ないときに欠点と判定する第１の判定手段と、画像にお
ける画素の濃度の微分値が所定の範囲内に存在するかど
うかを判定して２値化画像を作成し、この所定の範囲を
越える微分値を有する画素をオン画素として、マークの
両方の配列方向についてそれぞれオン画素のヒストグラ
ムを求めるとともに、各方向のヒストグラムについてピ
ークとなる部位の間隔および幅の平均値をそれぞれ各方
向の基準間隔および基準幅として求め、いずれか一方向
のヒストグラムのピークのうち基準間隔に略一致する間
隔で並ぶ部位に基準幅の幅を有する帯状のマークエリア
を形成するとともに、マークエリアの幅内で他方向のヒ
ストグラムを求め、このヒストグラムがピークとなる部
位の間隔が基準間隔に略一致する部位に基準幅を有する
マスクを形成し、マスクが存在する部分以外のオン画素
を欠点と判定する第２の判定手段とを具備している。
表面の画像における画素の濃度が所定の範囲内に存在し
ないときに欠点と判定する第１の判定手段と、画像にお
ける画素の濃度の微分値が所定の範囲内に存在するかど
うかを判定して２値化画像を作成し、この所定の範囲を
越える微分値を有する画素をオン画素として、マークの
両方の配列方向についてそれぞれオン画素のヒストグラ
ムを求めるとともに、各方向のヒストグラムについてピ
ークとなる部位の間隔および幅の平均値をそれぞれ各方
向の基準間隔および基準幅として求め、いずれか一方向
のヒストグラムのピークのうち基準間隔に略一致する間
隔で並ぶ部位に基準幅の幅を有する帯状のマークエリア
を形成するとともに、マークエリアの幅内で他方向のヒ
ストグラムを求め、このヒストグラムがピークとなる部
位の間隔が基準間隔に略一致する部位に基準幅を有する
マスクを形成し、マスクが存在する部分以外のオン画素
を欠点と判定する第２の判定手段とを具備している。
［作用］ 上記構成によれば、画素の濃度のレベル判定で大きな欠
点を識別した後、小さな欠点についてはヒストグラムを
使った統計的な処理によってマークと欠点との識別を行
なうことができるのであり、パターン認識等の画像処理
に比較して短時間の処理が可能となるのである。
点を識別した後、小さな欠点についてはヒストグラムを
使った統計的な処理によってマークと欠点との識別を行
なうことができるのであり、パターン認識等の画像処理
に比較して短時間の処理が可能となるのである。
［実施例］ 第１図に示すように、基本的には、検査対象となる基板
１を照明する光源10と、基板１の表面の明暗に対応した
映像信号を出力する視覚センサと11、視覚センサより出
力される映像信号に基づいて基板１上の傷や汚れ等の欠
点を検出する処理回路12と、処理回路12により検出され
た欠点を所定の形式で出力する出力装置としてのディス
プレイ13やプリンタ14とを備えている。光源は、一対の
直管状の蛍光ランプ15を略平行に配置して下面開口した
カバー16を被嵌したものであり、カバー16の下方に配置
された基板１に光を照射するとともに、カバー16の上面
に蛍光ランプ15と略平行に形成されたスリット17を通し
て基板１での反射光を上方に取り出すようになってい
る。光源10の上方に取り出された基板１での反射光は、
5000画素程度のCCDカメラよりなる視覚センサ11にフィ
ルタ18を介して入射する。基板１には、全面に亘ってＮ
という文字が等間隔に印刷されてマーク２が形成されて
おり、このマーク２と基板１とが明確に識別されるよう
に視覚センサ11にフィルタ18が設けられているのであ
る。マーク２は、スリット17の長手方向（Ｘ方向）と、
その方向に直交する方向（Ｙ方向）とにおいて、それぞ
れ等間隔に形成されている。光源10の照射範囲および視
覚センサ11の検知エリアは、上記スリット17の長手方向
に略直交する方向に移動して基板１を全面に亘って走査
するように設定されている。
１を照明する光源10と、基板１の表面の明暗に対応した
映像信号を出力する視覚センサと11、視覚センサより出
力される映像信号に基づいて基板１上の傷や汚れ等の欠
点を検出する処理回路12と、処理回路12により検出され
た欠点を所定の形式で出力する出力装置としてのディス
プレイ13やプリンタ14とを備えている。光源は、一対の
直管状の蛍光ランプ15を略平行に配置して下面開口した
カバー16を被嵌したものであり、カバー16の下方に配置
された基板１に光を照射するとともに、カバー16の上面
に蛍光ランプ15と略平行に形成されたスリット17を通し
て基板１での反射光を上方に取り出すようになってい
る。光源10の上方に取り出された基板１での反射光は、
5000画素程度のCCDカメラよりなる視覚センサ11にフィ
ルタ18を介して入射する。基板１には、全面に亘ってＮ
という文字が等間隔に印刷されてマーク２が形成されて
おり、このマーク２と基板１とが明確に識別されるよう
に視覚センサ11にフィルタ18が設けられているのであ
る。マーク２は、スリット17の長手方向（Ｘ方向）と、
その方向に直交する方向（Ｙ方向）とにおいて、それぞ
れ等間隔に形成されている。光源10の照射範囲および視
覚センサ11の検知エリアは、上記スリット17の長手方向
に略直交する方向に移動して基板１を全面に亘って走査
するように設定されている。
処理回路12は、第２図に示すように構成されている。す
なわち、視覚センサ11からの映像信号を取り込んで後述
する微分処理等を行った後にデジタル信号に変換する画
像取り込み部21と、上記デジタル信号を記憶するフレー
ムメモリ22と、フレームメモリ22の内容に後述する処理
を施す演算処理部23と、演算処理部22による処理結果を
ディスプレイ13に表示できるように信号変換する画像出
力部24とを備え、これらがバス25を介して接続されてい
る。
なわち、視覚センサ11からの映像信号を取り込んで後述
する微分処理等を行った後にデジタル信号に変換する画
像取り込み部21と、上記デジタル信号を記憶するフレー
ムメモリ22と、フレームメモリ22の内容に後述する処理
を施す演算処理部23と、演算処理部22による処理結果を
ディスプレイ13に表示できるように信号変換する画像出
力部24とを備え、これらがバス25を介して接続されてい
る。
画像取り込み部では、まずＸ方向について視覚センサ11
からの映像信号の信号レベルが判定される。すなわち、
第３図（ｂ）に示すように、２レベルのしきい値T1，T2
が設定されており、映像信号の信号レベルが両しきい値
T1，T2内に収まっているときには正常と判定され、いず
れか一方のしきい値T1，T2から外れると欠点があると判
定される。また、スリット17の長手方向における位置は
視覚センサ11の画素の位置から判定でき、スリット17の
長手方向に直交する方向における位置は光源10の現在位
置から知ることができるから、基板１上での欠点の位置
が特定されることになる。このようにして、比較的大き
な欠点については、ここまでの処理で検出できる。
からの映像信号の信号レベルが判定される。すなわち、
第３図（ｂ）に示すように、２レベルのしきい値T1，T2
が設定されており、映像信号の信号レベルが両しきい値
T1，T2内に収まっているときには正常と判定され、いず
れか一方のしきい値T1，T2から外れると欠点があると判
定される。また、スリット17の長手方向における位置は
視覚センサ11の画素の位置から判定でき、スリット17の
長手方向に直交する方向における位置は光源10の現在位
置から知ることができるから、基板１上での欠点の位置
が特定されることになる。このようにして、比較的大き
な欠点については、ここまでの処理で検出できる。
次に、比較的小さな欠点については、以下のようにして
検出される。まず、映像信号の信号レベルについて微分
が行なわれる。マーク２について微分値を求めると、１
個のマーク２に対して正負にほぼ等しく振れる波形が得
られるのが普通であるが、傷等の欠点では正負の振れ幅
が異なることになる。そこで、第３図（ｃ）に示すよう
に、２レベルのしきい値T3，T4を設けて微分値の判定を
行なうようにし、両しきい値T3，T4の外側から内側かに
より２値化を行なってフレームメモリ22に展開する。以
下では、上のしきい値T3以上のものと、下のしきい値T4
以下のものとをオン画素といい、それ以外の画素はオフ
画素という。こうして、基板１の全面について２値化画
像を作成する。ところで、微分値を２値化した２値化画
像を得るのは、周知のように微分処理を行なえば画像が
尖鋭化されるからであって、視覚センサ11より取り込ん
だ濃淡画像において基板１の色、照度むら、視覚センサ
11に設けたレンズの収差などにより生じる濃度むらを微
分処理によってかなり除去することができるからであ
る。すなわち、濃淡画像を２値化するとすれば、濃度変
化の緩やかな箇所でもしきい値に対してマークと同じ側
に属する濃度を有した箇所は、２値化画像でもマークと
同じ側に属することになり、このような箇所は雑音成分
であるから、場合によっては誤認の原因になる。これに
対して、微分後に２値化すれば、濃度むらの影響を受け
にくく、誤認の発生が低減されるのである。ここで、マ
ーク２は、Ｘ方向およびＹ方向においては一直線上に周
期的に並んでおり、各マーク２の大きさが等しいという
点に着目する。すなわち、マーク２の周期性に基づいて
マーク２か欠点かの識別をするのである。このため、演
算処理部23では、第４図に示すような処理が行なわれ
る。まず、２値化画像についてＸ方向とＹ方向とのオン
画素のヒストグラム（度数分布曲線）を作成する。各方
向についてヒストグラムの平均値を求めれば、この平均
値を越える部分にはマーク２が並んでいる可能性がかな
り高いものとなるから、これをマーク候補とする。基板
に欠点がまったくないときには、隣接するマーク候補の
中心間の距離は一定になるから、各マーク候補の中心位
置を求めるとともに、隣接するマーク候補の中心位置の
間隔を求め、さらにその平均値を求めてマーク候補の間
隔の基準値とする。また、マーク候補の幅の平均値を求
めてマーク候補の幅の基準値とする。Ｘ方向とＹ方向と
について、それぞれ間隔と幅との基準値を求めるから、
合計４個の基準値を求めることができるのである。
検出される。まず、映像信号の信号レベルについて微分
が行なわれる。マーク２について微分値を求めると、１
個のマーク２に対して正負にほぼ等しく振れる波形が得
られるのが普通であるが、傷等の欠点では正負の振れ幅
が異なることになる。そこで、第３図（ｃ）に示すよう
に、２レベルのしきい値T3，T4を設けて微分値の判定を
行なうようにし、両しきい値T3，T4の外側から内側かに
より２値化を行なってフレームメモリ22に展開する。以
下では、上のしきい値T3以上のものと、下のしきい値T4
以下のものとをオン画素といい、それ以外の画素はオフ
画素という。こうして、基板１の全面について２値化画
像を作成する。ところで、微分値を２値化した２値化画
像を得るのは、周知のように微分処理を行なえば画像が
尖鋭化されるからであって、視覚センサ11より取り込ん
だ濃淡画像において基板１の色、照度むら、視覚センサ
11に設けたレンズの収差などにより生じる濃度むらを微
分処理によってかなり除去することができるからであ
る。すなわち、濃淡画像を２値化するとすれば、濃度変
化の緩やかな箇所でもしきい値に対してマークと同じ側
に属する濃度を有した箇所は、２値化画像でもマークと
同じ側に属することになり、このような箇所は雑音成分
であるから、場合によっては誤認の原因になる。これに
対して、微分後に２値化すれば、濃度むらの影響を受け
にくく、誤認の発生が低減されるのである。ここで、マ
ーク２は、Ｘ方向およびＹ方向においては一直線上に周
期的に並んでおり、各マーク２の大きさが等しいという
点に着目する。すなわち、マーク２の周期性に基づいて
マーク２か欠点かの識別をするのである。このため、演
算処理部23では、第４図に示すような処理が行なわれ
る。まず、２値化画像についてＸ方向とＹ方向とのオン
画素のヒストグラム（度数分布曲線）を作成する。各方
向についてヒストグラムの平均値を求めれば、この平均
値を越える部分にはマーク２が並んでいる可能性がかな
り高いものとなるから、これをマーク候補とする。基板
に欠点がまったくないときには、隣接するマーク候補の
中心間の距離は一定になるから、各マーク候補の中心位
置を求めるとともに、隣接するマーク候補の中心位置の
間隔を求め、さらにその平均値を求めてマーク候補の間
隔の基準値とする。また、マーク候補の幅の平均値を求
めてマーク候補の幅の基準値とする。Ｘ方向とＹ方向と
について、それぞれ間隔と幅との基準値を求めるから、
合計４個の基準値を求めることができるのである。
ここで、先に求めたＹ方向のヒストグラムHYのうち、平
均値AYを越える部分にはマークが並んでいる可能性が高
いから、先に求めたＹ方向のマーク候補をマークエリア
候補とする。次に、マークエリア候補の中心位置の間隔
を求め、マークエリア候補のうちで、先に求めたＹ方向
の間隔の基準値にほぼ合致する間隔（若干のばらつきは
許容範囲として認められる）で並んでいるもののみを抽
出し、先に求めたＹ方向の幅の基準値に相当する幅を有
した帯状のマークエリアＡを設定する（第５図（ａ）参
照）。つまり、すべてのマーク２は、こうして求めた帯
状のマークエリアＡ内に存在するはずであり、また、隣
接するマークエリアＡ間にオン画素があれば、欠点と判
定することができるのである。こうしてマークエリアＡ
が決定されたら、マークエリアＡ上に存在するオン画素
についてのみＸ方向のヒストグラムHXを作成する。ここ
で、比較的小さい欠点を検出するしきい値として予め設
定されているしきい値TLを用いて、ヒストグラムがこの
しきい値TLを越えると、マークが並んでいると判断す
る。つまり、この段階では、欠点となり得ない部分は当
然ながらマークにもなり得ず、欠点となり得る部分はマ
ークとなる可能性があるから、このしきい値TLを用いれ
ば、欠点とマークとを漏れなく検出できるのである。こ
うして、ヒストグラムのうち上記しきい値を越えるもの
を検出してマークエリア候補とし、マークエリア候補の
中心位置の間隔を求め、マークエリア候補のうちで先に
求めたＸ方向の間隔の基準値にほぼ合致する間隔で並ん
でいるもののみを抽出し、先に求めたＸ方向の幅の基準
値に相当する幅を有した帯状のマークエリアを設定す
る。これで、Ｘ方向とＹ方向とのマークエリアが求まる
から、その交差部分にマークが存在すると判断し、その
部分にマスク３をかける。こうすれば、マークに対応し
て形成されたすべてのオン画素には、マスク３がかけら
れることになるから、マスク以外の部分に存在している
オン画素をすべて欠点と判定することができるのであ
る。
均値AYを越える部分にはマークが並んでいる可能性が高
いから、先に求めたＹ方向のマーク候補をマークエリア
候補とする。次に、マークエリア候補の中心位置の間隔
を求め、マークエリア候補のうちで、先に求めたＹ方向
の間隔の基準値にほぼ合致する間隔（若干のばらつきは
許容範囲として認められる）で並んでいるもののみを抽
出し、先に求めたＹ方向の幅の基準値に相当する幅を有
した帯状のマークエリアＡを設定する（第５図（ａ）参
照）。つまり、すべてのマーク２は、こうして求めた帯
状のマークエリアＡ内に存在するはずであり、また、隣
接するマークエリアＡ間にオン画素があれば、欠点と判
定することができるのである。こうしてマークエリアＡ
が決定されたら、マークエリアＡ上に存在するオン画素
についてのみＸ方向のヒストグラムHXを作成する。ここ
で、比較的小さい欠点を検出するしきい値として予め設
定されているしきい値TLを用いて、ヒストグラムがこの
しきい値TLを越えると、マークが並んでいると判断す
る。つまり、この段階では、欠点となり得ない部分は当
然ながらマークにもなり得ず、欠点となり得る部分はマ
ークとなる可能性があるから、このしきい値TLを用いれ
ば、欠点とマークとを漏れなく検出できるのである。こ
うして、ヒストグラムのうち上記しきい値を越えるもの
を検出してマークエリア候補とし、マークエリア候補の
中心位置の間隔を求め、マークエリア候補のうちで先に
求めたＸ方向の間隔の基準値にほぼ合致する間隔で並ん
でいるもののみを抽出し、先に求めたＸ方向の幅の基準
値に相当する幅を有した帯状のマークエリアを設定す
る。これで、Ｘ方向とＹ方向とのマークエリアが求まる
から、その交差部分にマークが存在すると判断し、その
部分にマスク３をかける。こうすれば、マークに対応し
て形成されたすべてのオン画素には、マスク３がかけら
れることになるから、マスク以外の部分に存在している
オン画素をすべて欠点と判定することができるのであ
る。
また上記各しきい値T1〜T4，TLや、視覚センサ11の絞
り、フィルタ18等を交換すれば、各種検査対象に合うよ
うに調節することができるのである。
り、フィルタ18等を交換すれば、各種検査対象に合うよ
うに調節することができるのである。
上記実施例ではフレームメモリは１個になっているが、
フレームメモリを２個設けるようにし、一方が画像を取
り込んでいる間に、他方の画像の検査を行なうようにす
れば、約２倍に高速化することができる。
フレームメモリを２個設けるようにし、一方が画像を取
り込んでいる間に、他方の画像の検査を行なうようにす
れば、約２倍に高速化することができる。
［発明の効果］ 本発明は上述のように、検査対象物の表面の画像におけ
る画素の濃度が所定の範囲内に存在しないときに欠点と
判定する第１の判定手段と、画像における画素の濃度の
微分値が所定の範囲内に存在するかどうかを判定して２
値化画像を作成し、この所定の範囲を越える微分値を有
する画素をオン画素として、マークの両方の配列方向に
ついてそれぞれオン画素のヒストグラムを求めるととも
に、各方向のヒストグラムについてピークとなる部位の
間隔および幅の平均値をそれぞれ各方向の基準間隔およ
び基準幅として求め、いずれか一方向のヒストグラムの
ピークのうち基準間隔に略一致する間隔で並ぶ部位に基
準幅の幅を有する帯状のマークエリアを形成するととも
に、マークエリアの幅内で他方向のヒストグラムを求
め、このヒストグラムがピークとなる部位の間隔が基準
間隔に略一致する部位に基準幅を有するマスクを形成
し、マスクが存在する部分以外のオン画素を欠点と判定
する第２の判定手段とを具備しているので、明暗のレベ
ル判定で大きな欠点を識別した後、小さな欠点について
はヒストグラムを使った統計的な処理によってマークと
欠点との識別を行なうことができるのであり、パターン
認識等の画像処理に比較して短時間の処理が可能となる
利点がある。
る画素の濃度が所定の範囲内に存在しないときに欠点と
判定する第１の判定手段と、画像における画素の濃度の
微分値が所定の範囲内に存在するかどうかを判定して２
値化画像を作成し、この所定の範囲を越える微分値を有
する画素をオン画素として、マークの両方の配列方向に
ついてそれぞれオン画素のヒストグラムを求めるととも
に、各方向のヒストグラムについてピークとなる部位の
間隔および幅の平均値をそれぞれ各方向の基準間隔およ
び基準幅として求め、いずれか一方向のヒストグラムの
ピークのうち基準間隔に略一致する間隔で並ぶ部位に基
準幅の幅を有する帯状のマークエリアを形成するととも
に、マークエリアの幅内で他方向のヒストグラムを求
め、このヒストグラムがピークとなる部位の間隔が基準
間隔に略一致する部位に基準幅を有するマスクを形成
し、マスクが存在する部分以外のオン画素を欠点と判定
する第２の判定手段とを具備しているので、明暗のレベ
ル判定で大きな欠点を識別した後、小さな欠点について
はヒストグラムを使った統計的な処理によってマークと
欠点との識別を行なうことができるのであり、パターン
認識等の画像処理に比較して短時間の処理が可能となる
利点がある。
第１図は本発明の概略構成図、第２図は同上に用いる処
理回路のブロック図、第３図ないし第５図は同上の動作
説明図である。 １…基板、２…マーク、３…マスク、11…視覚センサ、
HX，HY…ヒストグラム、T1〜T4…しきい値。
理回路のブロック図、第３図ないし第５図は同上の動作
説明図である。 １…基板、２…マーク、３…マスク、11…視覚センサ、
HX，HY…ヒストグラム、T1〜T4…しきい値。
Claims (1)
- 【請求項１】表面の一方向において等間隔かつその方向
に交差する方向において等間隔にマークが配列されてい
る平板状の検査対象物について、視覚センサから取り込
んだ検査対象物の表面の画像に基づいてマークを囲む領
域にマスクを形成し、検査対象物の表面の傷や汚れ等の
欠点とマークとを識別する外観検査装置であって、上記
画像における画素の濃度が所定の範囲内に存在しないと
きに欠点と判定する第１の判定手段と、上記画像におけ
る画素の濃度の微分値が所定の範囲内に存在するかどう
かを判定して２値化画像を作成し、この所定の範囲を越
える微分値を有する画素をオン画素として、マークの両
方の配列方向についてそれぞれオン画素のヒストグラム
を求めるとともに、各方向のヒストグラムについてピー
クとなる部位の間隔および幅の平均値をそれぞれ各方向
の基準間隔および基準幅として求め、いずれか一方向の
ヒストグラムのピークのうち基準間隔に略一致する間隔
で並ぶ部位に基準幅の幅を有する帯状のマークエリアを
形成するとともに、マークエリアの幅内で他方向のヒス
トグラムを求め、このヒストグラムがピークとなる部位
の間隔が基準間隔に略一致する部位に基準幅を有するマ
スクを形成し、マスクが存在する部分以外のオン画素を
欠点と判定する第２の判定手段とを具備して成ることを
特徴とする外観検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4097188A JPH06105227B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 外観検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4097188A JPH06105227B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 外観検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01214742A JPH01214742A (ja) | 1989-08-29 |
| JPH06105227B2 true JPH06105227B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=12595342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4097188A Expired - Fee Related JPH06105227B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 外観検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06105227B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115436386A (zh) * | 2022-09-26 | 2022-12-06 | 苏州安洁科技股份有限公司 | 一种检测外观溢胶的装置 |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP4097188A patent/JPH06105227B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01214742A (ja) | 1989-08-29 |
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