JPH06105602B2 - 材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置 - Google Patents
材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置Info
- Publication number
- JPH06105602B2 JPH06105602B2 JP4311832A JP31183292A JPH06105602B2 JP H06105602 B2 JPH06105602 B2 JP H06105602B2 JP 4311832 A JP4311832 A JP 4311832A JP 31183292 A JP31183292 A JP 31183292A JP H06105602 B2 JPH06105602 B2 JP H06105602B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- rotation
- column
- material sample
- particle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 36
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 5
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/024—Moving components not otherwise provided for
- H01J2237/0245—Moving whole optical system relatively to object
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は材料試料を粒子−光学的
に検査して処理する装置に関わり、斯かる装置は粒子線
を生成する粒子−光学的コラムと、材料試料を受入れ該
材料試料を少なくとも互いに直交するｘ軸及びｙ軸方向
に変位させることが可能であり更に上記粒子−光学コラ
ムと上記材料試料との間で少なくとも１つの軸線周りに
相対的な回転運動がなし得るように構成されたテーブル
装置と、を有する。
に検査して処理する装置に関わり、斯かる装置は粒子線
を生成する粒子−光学的コラムと、材料試料を受入れ該
材料試料を少なくとも互いに直交するｘ軸及びｙ軸方向
に変位させることが可能であり更に上記粒子−光学コラ
ムと上記材料試料との間で少なくとも１つの軸線周りに
相対的な回転運動がなし得るように構成されたテーブル
装置と、を有する。
【０００２】
【従来の技術】半導体産業の分野では、ウエハや他の材
料試料は走査型電子顕微鏡、イオン線プローブ及びイオ
ン線修復装置を使用して幾つかの観点より検査され処理
される。斯かる目的のため、材料試料を５つの軸（直線
変位に対する３つの軸と２つの回転軸）方向に数μｍの
単位にて正確な位置に配置することが可能なテーブル装
置が必要となる。
料試料は走査型電子顕微鏡、イオン線プローブ及びイオ
ン線修復装置を使用して幾つかの観点より検査され処理
される。斯かる目的のため、材料試料を５つの軸（直線
変位に対する３つの軸と２つの回転軸）方向に数μｍの
単位にて正確な位置に配置することが可能なテーブル装
置が必要となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】材料試料の寸法が大き
くなると、テーブル装置とそれに付属する真空室の価格
が、例えば材料の曲げを補償するために、より高くな
る。従って、従来のテーブル装置及び真空室装置は材料
試料の寸法が大きくなるとそれに比例する以上により高
価になる。
くなると、テーブル装置とそれに付属する真空室の価格
が、例えば材料の曲げを補償するために、より高くな
る。従って、従来のテーブル装置及び真空室装置は材料
試料の寸法が大きくなるとそれに比例する以上により高
価になる。
【０００４】従って、本発明の目的は上記の如く材料試
料を粒子−光学的に検査して処理する装置を創造するこ
とにあり、斯かる装置は所要の程度にて材料試料を正確
な位置に配置することができ、且つ実質的により簡単な
構造を有することを特徴としている。
料を粒子−光学的に検査して処理する装置を創造するこ
とにあり、斯かる装置は所要の程度にて材料試料を正確
な位置に配置することができ、且つ実質的により簡単な
構造を有することを特徴としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】斯かる目的は本発明の以
下の特徴によって達成される。コラム及びテーブル装置
は第１の回転軸線周りに互いに相対的に回転可能であ
り、第１の回転軸線はｘ軸及びｙ軸によって形成される
平面の垂線に対して最大４５°の傾斜角を囲み且つ上記
材料試料上の検査され処理される位置を通る。
下の特徴によって達成される。コラム及びテーブル装置
は第１の回転軸線周りに互いに相対的に回転可能であ
り、第１の回転軸線はｘ軸及びｙ軸によって形成される
平面の垂線に対して最大４５°の傾斜角を囲み且つ上記
材料試料上の検査され処理される位置を通る。
【０００６】コラムは更に、その光軸が上記第１の回転
軸線と上記傾斜角を形成し且つ上記材料試料上の検査さ
れ処理される位置を通るように配置されている。
軸線と上記傾斜角を形成し且つ上記材料試料上の検査さ
れ処理される位置を通るように配置されている。
【０００７】
【作用】既知の構造では、全ての位置決め可能性（３つ
の直線方向軸と２つの回転軸に対して）はそれに対応し
た構造のテーブル装置によって提供されていたが、本発
明では位置決め装置は分割されている。好ましい変形例
ではｘ軸、ｙ軸及びｚ軸方向の変位はテーブル装置によ
って生成され、傾斜及び回転運動は粒子−光学コラムに
よって生成される。
の直線方向軸と２つの回転軸に対して）はそれに対応し
た構造のテーブル装置によって提供されていたが、本発
明では位置決め装置は分割されている。好ましい変形例
ではｘ軸、ｙ軸及びｚ軸方向の変位はテーブル装置によ
って生成され、傾斜及び回転運動は粒子−光学コラムに
よって生成される。
【０００８】こうして、実質的に構造がより簡単なテー
ブル装置が生成され、しかもかなり低価格の構造によっ
て必要な安定性が得られる。更に、本発明では位置決め
装置が分割されているため、テーブル装置のための真空
室は特に小さな寸法に維持することができる。
ブル装置が生成され、しかもかなり低価格の構造によっ
て必要な安定性が得られる。更に、本発明では位置決め
装置が分割されているため、テーブル装置のための真空
室は特に小さな寸法に維持することができる。
【０００９】本発明の装置は比較的簡単なテーブル装置
の代替とする目的に特に適していることも利点である。
の代替とする目的に特に適していることも利点である。
【００１０】本発明の装置の有利な構造は特許請求の範
囲に記載された従属項の構成に示され、以下の実施例の
説明に関連して明らかにされよう。
囲に記載された従属項の構成に示され、以下の実施例の
説明に関連して明らかにされよう。
【００１１】
【実施例】図１には走査型電子顕微鏡がきわめて概略的
に示されており、斯かる走査型電子顕微鏡は検査される
べき材料試料（ウエハ）を受入れるテーブル装置１を含
み、斯かるテーブル装置は互いに直交する３軸（ｘ軸、
ｙ軸及びｚ軸）方向に材料試料を変位させることができ
る。
に示されており、斯かる走査型電子顕微鏡は検査される
べき材料試料（ウエハ）を受入れるテーブル装置１を含
み、斯かるテーブル装置は互いに直交する３軸（ｘ軸、
ｙ軸及びｚ軸）方向に材料試料を変位させることができ
る。
【００１２】走査型電子顕微鏡のコラム２は基板３の上
にて特定の角度にて傾斜されており、一方基板３は回転
円板４に対してそれと同一の角度にて傾斜している。基
板３はコラム２と共に第１の回転軸線５周りに回転する
ことができる。回転円板４が第２の回転軸線５周りに回
転することによって、基板３はコラム２と共に回転する
ことができる。
にて特定の角度にて傾斜されており、一方基板３は回転
円板４に対してそれと同一の角度にて傾斜している。基
板３はコラム２と共に第１の回転軸線５周りに回転する
ことができる。回転円板４が第２の回転軸線５周りに回
転することによって、基板３はコラム２と共に回転する
ことができる。
【００１３】基板３が第１の回転軸線５周りに回転する
ことによって、走査型電子顕微鏡のコラム２が材料試料
を見る角度が変化する。回転円板４の回転運動によって
も、傾斜したコラム２の材料試料に対する回転運動が増
大するが、それについては図２〜図８を参照して後に詳
細に説明する。
ことによって、走査型電子顕微鏡のコラム２が材料試料
を見る角度が変化する。回転円板４の回転運動によって
も、傾斜したコラム２の材料試料に対する回転運動が増
大するが、それについては図２〜図８を参照して後に詳
細に説明する。
【００１４】先ず第一に、コラム２の傾斜の数学的関係
を図２〜図５を参照して説明する。コラム２は傾斜角α
周りに傾斜することができると仮定し、最大傾斜角を符
号α max にて示す。斯かる目的のため、コラム２は基板
３上にて、コラム２の光軸７が第１の回転軸５を傾斜角
αmax ／２にて囲むように、配置されている。更に、コ
ラム２は、コラム２の光軸７が材料試料の検査され処理
される位置（ｘ軸とｙ軸を通る面、即ち、対物面８の点
Ｐ）を通るように、配置されている。基板３は斯かる対
物面８に対して同一の傾斜角αmax ／２にて傾斜されて
いる。
を図２〜図５を参照して説明する。コラム２は傾斜角α
周りに傾斜することができると仮定し、最大傾斜角を符
号α max にて示す。斯かる目的のため、コラム２は基板
３上にて、コラム２の光軸７が第１の回転軸５を傾斜角
αmax ／２にて囲むように、配置されている。更に、コ
ラム２は、コラム２の光軸７が材料試料の検査され処理
される位置（ｘ軸とｙ軸を通る面、即ち、対物面８の点
Ｐ）を通るように、配置されている。基板３は斯かる対
物面８に対して同一の傾斜角αmax ／２にて傾斜されて
いる。
【００１５】斯くしてコラム２とテーブル装置１（図２
には図示されていない。）は第１の回転軸線５周りに互
いに相対的に回転することができる。対物面８の垂線に
対して、斯かる第１の回転軸線５は傾斜角αmax ／２に
て囲む。基板３が第１の回転軸線５周りに回転すると、
コラム２は転回運動する。斯かる場合、コラム２の光軸
７は円錐面を描く。斯かる円錐の頂点の位置は第１の回
転軸線５に基づく距離ａを選択することによって移動す
る。円錐の頂点の位置は真正中心作動点を郭定し、斯く
して装置の作動距離を郭定する。対物面８は円錐の頂点
を通る必要がある。
には図示されていない。）は第１の回転軸線５周りに互
いに相対的に回転することができる。対物面８の垂線に
対して、斯かる第１の回転軸線５は傾斜角αmax ／２に
て囲む。基板３が第１の回転軸線５周りに回転すると、
コラム２は転回運動する。斯かる場合、コラム２の光軸
７は円錐面を描く。斯かる円錐の頂点の位置は第１の回
転軸線５に基づく距離ａを選択することによって移動す
る。円錐の頂点の位置は真正中心作動点を郭定し、斯く
して装置の作動距離を郭定する。対物面８は円錐の頂点
を通る必要がある。
【００１６】次に、図３〜図５を参照して、光軸７の傾
斜角αと第１の回転軸線５周りの回転角δとの間の関係
を説明する。
斜角αと第１の回転軸線５周りの回転角δとの間の関係
を説明する。
【００１７】図３は光軸が第１の回転軸線５周りに傾斜
運動する間の光軸の開始位置７’、最終位置７”及び中
間位置７を示す。中間位置７では、光軸の傾斜角は符号
αにて表され、回転角は符号δにて表される。
運動する間の光軸の開始位置７’、最終位置７”及び中
間位置７を示す。中間位置７では、光軸の傾斜角は符号
αにて表され、回転角は符号δにて表される。
【００１８】関数α（δ）を求めるために、傾斜角を円
錐の頂点上に垂直に配置し（図４参照）、円錐の底面を
上方より見ると都合よい。図４に示す符号を使用して、
次の関係式が得られる。
錐の頂点上に垂直に配置し（図４参照）、円錐の底面を
上方より見ると都合よい。図４に示す符号を使用して、
次の関係式が得られる。
【００１９】
【数１】ｓｉｎ（αmax ／２）＝ｒ／ｍ Ｌ2 ＝２ｍ2 （１−ｃｏｓα） Ｌ2 ＝２ｒ2 （１−ｃｏｓδ）
【００２０】斯かる３式より次の数２の式が求められ
る。
る。
【００２１】
【数２】 α＝２ａｒｃｓｉｎ｛ｓｉｎ（αmax ／２）×ｓｉｎ（δ／２）｝
【００２２】図５は斯かる関数の経路を示し、原理とし
て、回転角δが小さいと光軸７の傾斜角は開始位置より
実質的に半径方向に移動されることが、グラフより明ら
かである。一方、回転角δが１８０°に近づくと、光軸
は最大傾斜方向に変位し、即ち、接線方向に運動し、光
軸の傾斜角は顕著には変化せず、従って関数は略水平と
なる。
て、回転角δが小さいと光軸７の傾斜角は開始位置より
実質的に半径方向に移動されることが、グラフより明ら
かである。一方、回転角δが１８０°に近づくと、光軸
は最大傾斜方向に変位し、即ち、接線方向に運動し、光
軸の傾斜角は顕著には変化せず、従って関数は略水平と
なる。
【００２３】上述の如き、コラム２の第１の回転軸線５
周りの転回運動は、コラム２を第２の回転軸線６周りに
付加的に回転させることによって、補正されることがで
きる。
周りの転回運動は、コラム２を第２の回転軸線６周りに
付加的に回転させることによって、補正されることがで
きる。
【００２４】図６〜図７は斯かるコラム２の付加的な第
２の回転軸線６周りの回転を概略的に示す。
２の回転軸線６周りの回転を概略的に示す。
【００２５】この方法の目的は、傾斜運動（第１の回転
軸線５周りの回転運動）の間でも、コラム２の光軸７を
常に斜線が付された平面（即ち、ｘ−ｙ軸面に垂直な平
面）内に保持することである。そのためには、装置全体
が光軸の開始位置周りに、即ち、第２の回転軸線６周り
に、回転することが必要である。斯かる第２の回転軸線
６は図１に示されており、開始位置にてコラム２の光軸
７に一致する（α＝０）。
軸線５周りの回転運動）の間でも、コラム２の光軸７を
常に斜線が付された平面（即ち、ｘ−ｙ軸面に垂直な平
面）内に保持することである。そのためには、装置全体
が光軸の開始位置周りに、即ち、第２の回転軸線６周り
に、回転することが必要である。斯かる第２の回転軸線
６は図１に示されており、開始位置にてコラム２の光軸
７に一致する（α＝０）。
【００２６】図７はコラム２がどのように回転する必要
があるかを示す。
があるかを示す。
【００２７】
【数３】２β＝１８０°−δ
【００２８】従って、
【００２９】
【数４】β＝９０°−δ／２
【００３０】こうして、転回運動を等化するために、本
発明によれば制御装置が備えられており、斯かる制御装
置によって、コラム２とテーブル装置１との間の第１の
回転軸線５周りの相対的回転とコラム２とテーブル装置
１との間の第２の回転軸線６周りの相対的回転とが式、
β＝９０°−δ／２を充たすように制御され、それによ
ってコラム２の光軸と第２の回転軸線６との間に形成さ
れる傾斜角αが変化したときコラム２の光軸がｘ−ｙ軸
面に垂直に立つ平面内にて移動する。
発明によれば制御装置が備えられており、斯かる制御装
置によって、コラム２とテーブル装置１との間の第１の
回転軸線５周りの相対的回転とコラム２とテーブル装置
１との間の第２の回転軸線６周りの相対的回転とが式、
β＝９０°−δ／２を充たすように制御され、それによ
ってコラム２の光軸と第２の回転軸線６との間に形成さ
れる傾斜角αが変化したときコラム２の光軸がｘ−ｙ軸
面に垂直に立つ平面内にて移動する。
【００３１】図８を参照して次に説明する走査回転運動
の等化もまた好都合である。
の等化もまた好都合である。
【００３２】電子顕微鏡のコラムが傾斜運動する間（即
ち、第１の回転軸線５周りに回転運動するする間）、コ
ラムは同時に自身の軸線周りに回転する。粒子線を互い
に直交して立つ２つ軸線に沿って偏向させる装置が、光
軸に対して固定的に配向されており、したがって、斯か
る装置は光軸と共に回転し、モニタ上の像が回転する。
反対方向に走査回転させることによって、これは都合良
く補償される。
ち、第１の回転軸線５周りに回転運動するする間）、コ
ラムは同時に自身の軸線周りに回転する。粒子線を互い
に直交して立つ２つ軸線に沿って偏向させる装置が、光
軸に対して固定的に配向されており、したがって、斯か
る装置は光軸と共に回転し、モニタ上の像が回転する。
反対方向に走査回転させることによって、これは都合良
く補償される。
【００３３】図８はコラムが開始位置Ａから出て終了位
置Ｂに入るまで、−第１の回転軸線５を基礎として−角
度δ周りに回転したとき及び−第２の回転軸線６を基礎
として−等価転回のために角度β周りに回転したとき、
走査装置がどのように運動するかを、示す。
置Ｂに入るまで、−第１の回転軸線５を基礎として−角
度δ周りに回転したとき及び−第２の回転軸線６を基礎
として−等価転回のために角度β周りに回転したとき、
走査装置がどのように運動するかを、示す。
【００３４】考察によって明らかなように、走査装置の
ｙ軸は常に傾斜方向に対して角度β＝９０°−δ／２に
て囲んでいる。斯くして、もし、走査装置の整合性が一
定に保持されることができるなら、コラム２とテーブル
装置１が第２の回転軸線６周りに（回転角βにて）相対
的に回転した場合、走査装置は斯かる回転運動に対する
反作用として角度９０°−βだけ逆転運動される必要が
ある。
ｙ軸は常に傾斜方向に対して角度β＝９０°−δ／２に
て囲んでいる。斯くして、もし、走査装置の整合性が一
定に保持されることができるなら、コラム２とテーブル
装置１が第２の回転軸線６周りに（回転角βにて）相対
的に回転した場合、走査装置は斯かる回転運動に対する
反作用として角度９０°−βだけ逆転運動される必要が
ある。
【００３５】第１の実施例についての上述の説明におい
て、テーブル装置１は互いに直交する３つの軸線、即ち
ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸に沿って運動することが可能であ
り、一方、コラム２は２つの回転軸線５、６周りに回転
することが可能であると仮定した。
て、テーブル装置１は互いに直交する３つの軸線、即ち
ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸に沿って運動することが可能であ
り、一方、コラム２は２つの回転軸線５、６周りに回転
することが可能であると仮定した。
【００３６】しかしながら、本発明の範囲内にて他の態
様にて相対的運動が可能である。例えば、コラム２は１
つの回転軸線周りのみに回転可能でありテーブル装置１
は他の１つの回転軸線周りに回転可能であるよう構成す
ることもできる。更に、２つの回転軸線周りの回転運動
をテーブル装置１の回転運動に帰着させることも考えら
れる。最後に、ｚ軸方向の直線変位をコラム２によって
実行するすることも本発明の範囲内にて可能である。
様にて相対的運動が可能である。例えば、コラム２は１
つの回転軸線周りのみに回転可能でありテーブル装置１
は他の１つの回転軸線周りに回転可能であるよう構成す
ることもできる。更に、２つの回転軸線周りの回転運動
をテーブル装置１の回転運動に帰着させることも考えら
れる。最後に、ｚ軸方向の直線変位をコラム２によって
実行するすることも本発明の範囲内にて可能である。
【００３７】
【発明の効果】本発明によれば、材料試料を粒子−光学
的に検査して処理する装置において、材料試料を正確な
位置に配置することができ且つ実質的により簡単な構造
とすることができる利点がある。
的に検査して処理する装置において、材料試料を正確な
位置に配置することができ且つ実質的により簡単な構造
とすることができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の装置の例を概略的に示す図である。
【図２】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
【図４】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
【図５】本発明の装置において光軸の傾斜角と回転角と
の関係を示す図である。
の関係を示す図である。
【図６】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
【図７】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
【図８】本発明の装置のコラムの相対的運動を示す図で
ある。
ある。
１ テーブル装置 ２ コラム ３ 基板 ４ 回転円板 ５ 第１の回転軸線 ６ 第２の回転軸線 ７ （中間位置に於ける）光軸 ７’開始位置（に於ける光軸） ７”終了位置（に於ける光軸） ８ 対物面
Claims (5)
- 【請求項１】 材料試料を粒子−光学的に検査して処理
する装置において、 粒子線を生成する粒子−光学的コラムと、材料試料を受
入れ該材料試料を少なくとも互いに直交するｘ軸及びｙ
軸方向に変位させることが可能であり更に上記粒子−光
学コラムと上記材料試料との間で少なくとも１つの軸線
周りに相対的な回転運動がなし得るように構成されたテ
ーブル装置とを有し、 上記コラム及びテーブル装置は第１の回転軸線周りに互
いに相対的に回転可能であり、上記第１の回転軸線は上
記ｘ軸及びｙ軸方向によって形成される平面の垂線に対
して最大４５°の傾斜角を囲み且つ上記材料試料上の検
査され処理される位置を通り、 上記コラムは更に、その光軸が上記第１の回転軸線と上
記傾斜角を形成し且つ上記材料試料上の検査され処理さ
れる位置を通るように配置されていることを特徴とする
材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の材料試料を粒子−光学的
に検査して処理する装置において、 上記コラム及びテーブル装置は更に第２の回転軸線周り
に互いに相対的に回転可能であり、上記第２の回転軸線
は上記ｘ軸及びｙ軸によって形成される平面に垂直であ
り且つ上記材料試料上の検査され処理される位置を通る
ように構成されていることを特徴とする材料試料を粒子
−光学的に検査して処理する装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の材料試料を粒子−光学的
に検査して処理する装置において、 上記コラム及びテーブル装置は上記ｘ軸及びｙ軸によっ
て形成される平面に垂直なｚ軸の方向に互いに相対的に
移動可能であることを特徴とする材料試料を粒子−光学
的に検査して処理する装置。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載の材料試料を粒子−
光学的に検査して処理する装置において、 上記コラムと上記テーブル装置との間の上記第１の回転
軸線周りの相対的回転と上記コラムと上記テーブル装置
との間の上記第２の回転軸線周りの相対的回転とが次の
式、 β＝９０°−δ／２ 但し、β：上記第２の回転軸線周りの回転角、 δ：上記第１の回転軸線周りの回転角 を充たすように制御する制御装置が配置され、それによ
って上記コラムの光軸と上記第２の回転軸線との間に形
成された傾斜角αが変化したとき上記コラムの光軸が上
記ｘ−ｙ軸面に垂直に立つ平面内にて移動するように構
成されたことを特徴とする材料試料を粒子−光学的に検
査して処理する装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の材料試料を粒子−光学的
に検査して処理する装置において、 上記粒子線を互いに直角に立つ上記ｘ軸及びｙ軸に沿っ
て偏向させる偏向装置と、 上記コラムと上記テーブル装置との間で上記第２の回転
軸線周りの回転角βの相対的回転があると、上記粒子線
の偏向軸である上記ｘ軸及びｙ軸を上記回転角βの相対
的回転と反対方向に回転角９０°−βにて逆回転させる
制御装置と、が設けられた材料試料を粒子−光学的に検
査して処理する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4140710:5 | 1991-12-10 | ||
| DE4140710A DE4140710A1 (de) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | Positioniersystem |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05225937A JPH05225937A (ja) | 1993-09-03 |
| JPH06105602B2 true JPH06105602B2 (ja) | 1994-12-21 |
Family
ID=6446722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4311832A Expired - Fee Related JPH06105602B2 (ja) | 1991-12-10 | 1992-11-20 | 材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5329125A (ja) |
| EP (1) | EP0546305B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06105602B2 (ja) |
| DE (2) | DE4140710A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2712519B1 (fr) * | 1993-11-17 | 1996-02-02 | Framatome Sa | Dispositif de soudage par faisceau d'électrons adaptable à des pièces de géométrie variable. |
| US5734164A (en) * | 1996-11-26 | 1998-03-31 | Amray, Inc. | Charged particle apparatus having a canted column |
| US6744268B2 (en) | 1998-08-27 | 2004-06-01 | The Micromanipulator Company, Inc. | High resolution analytical probe station |
| US6198299B1 (en) | 1998-08-27 | 2001-03-06 | The Micromanipulator Company, Inc. | High Resolution analytical probe station |
| US6353222B1 (en) | 1998-09-03 | 2002-03-05 | Applied Materials, Inc. | Determining defect depth and contour information in wafer structures using multiple SEM images |
| US6740889B1 (en) * | 1998-09-28 | 2004-05-25 | Applied Materials, Inc. | Charged particle beam microscope with minicolumn |
| JP4178741B2 (ja) * | 2000-11-02 | 2008-11-12 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置および試料作製装置 |
| DE60144508D1 (de) * | 2000-11-06 | 2011-06-09 | Hitachi Ltd | Verfahren zur Herstellung von Proben |
| US7223974B2 (en) * | 2002-05-22 | 2007-05-29 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Charged particle beam column and method for directing a charged particle beam |
| US7034297B2 (en) | 2003-03-05 | 2006-04-25 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Method and system for use in the monitoring of samples with a charged particle beam |
| US7847267B2 (en) * | 2003-07-30 | 2010-12-07 | Applied Materials Israel, Ltd. | Scanning electron microscope having multiple detectors and a method for multiple detector based imaging |
| JP4895569B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2012-03-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 帯電制御装置及び帯電制御装置を備えた計測装置 |
| JP5059297B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2012-10-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線式観察装置 |
| US20070090288A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Dror Shemesh | Method and system for enhancing resolution of a scanning electron microscope |
| JP2007164992A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Sii Nanotechnology Inc | 複合荷電粒子ビーム装置 |
| US8981294B2 (en) | 2008-07-03 | 2015-03-17 | B-Nano Ltd. | Scanning electron microscope, an interface and a method for observing an object within a non-vacuum environment |
| WO2010035265A1 (en) * | 2008-09-28 | 2010-04-01 | B-Nano Ltd. | A vacuumed device and a scanning electron microscope |
| KR20150120476A (ko) | 2013-02-20 | 2015-10-27 | 비-나노 리미티드 | 주사 전자 현미경 |
| DE102014019562B4 (de) * | 2014-12-23 | 2026-01-15 | Global Beam Technologies Ag | Teilchenstrahlbearbeitungsvorrichtung |
| JP7308710B2 (ja) * | 2019-09-25 | 2023-07-14 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 集束イオンビーム装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1226228B (de) * | 1959-07-24 | 1966-10-06 | Max Planck Gesellschaft | Bewegbarer Praeparattisch fuer einen Korpus-kularstrahlapparat, insbesondere Elektronen-mikroskop oder Elektronenbeugungsgeraet |
| DE1789019B1 (de) * | 1968-09-23 | 1972-04-27 | Siemens Ag | Verfahren zur erzeugung eines stereobildes mittels der elektronenstrahlmikroskopie |
| DE2542360C2 (de) * | 1975-09-19 | 1977-11-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Korpuskularstrahlgerät mit einem Goniometer |
| FR2499314A1 (fr) * | 1981-02-04 | 1982-08-06 | Centre Nat Rech Scient | Ensemble de microscope electronique a balayage a fonctionnement in situ |
| JPS57132657A (en) | 1981-02-06 | 1982-08-17 | Akashi Seisakusho Co Ltd | Inclined moving body tube type scanning electron microscope and its similar apparatus |
| US4627009A (en) * | 1983-05-24 | 1986-12-02 | Nanometrics Inc. | Microscope stage assembly and control system |
| JP2582552B2 (ja) * | 1986-05-29 | 1997-02-19 | 三菱電機株式会社 | イオン注入装置 |
| DE3802598C1 (ja) * | 1988-01-29 | 1989-04-13 | Karl Heinz 3057 Neustadt De Stellmann | |
| US5229607A (en) * | 1990-04-19 | 1993-07-20 | Hitachi, Ltd. | Combination apparatus having a scanning electron microscope therein |
-
1991
- 1991-12-10 DE DE4140710A patent/DE4140710A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-10-29 EP EP92118559A patent/EP0546305B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-10-29 DE DE59200325T patent/DE59200325D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-10 US US07/974,267 patent/US5329125A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-20 JP JP4311832A patent/JPH06105602B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05225937A (ja) | 1993-09-03 |
| DE59200325D1 (de) | 1994-09-01 |
| EP0546305B1 (de) | 1994-07-27 |
| DE4140710A1 (de) | 1993-06-17 |
| US5329125A (en) | 1994-07-12 |
| EP0546305A1 (de) | 1993-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06105602B2 (ja) | 材料試料を粒子−光学的に検査して処理する装置 | |
| US5081353A (en) | Combined scanning electron and scanning tunnelling microscope apparatus and method | |
| US6023060A (en) | T-shaped electron-beam microcolumn as a general purpose scanning electron microscope | |
| CN113607755A (zh) | 一种晶圆的自动检测装置 | |
| EP0579524B1 (en) | Focused ion beam implantation apparatus | |
| JP4413746B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| KR20150087809A (ko) | 하전 입자 빔 장치 및 시료 관찰 방법 | |
| US5149967A (en) | Charged-particle beam apparatus | |
| JPH09236755A (ja) | 顕微鏡の試料ステージの位置補正方法および試料ステージ | |
| KR102641280B1 (ko) | 기판에 대한 임계 치수 측정을 위한 방법, 및 기판 상의 전자 디바이스를 검사하고 절단하기 위한 장치 | |
| KR101455944B1 (ko) | 주사 전자 현미경 | |
| JP2003168383A (ja) | 走査電子顕微鏡装置 | |
| JP2810216B2 (ja) | パターン検査方法及びその装置 | |
| KR102180087B1 (ko) | 스마트 자동화 샘플 스테이지 | |
| Noyan et al. | A cost-effective method for minimizing the sphere-of-confusion error of x-ray microdiffractometers | |
| JPH01232647A (ja) | 走査型電子顕微鏡装置 | |
| JPH09283073A (ja) | イオンビーム照射装置 | |
| JPH04106853A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP5286094B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2004516631A (ja) | 特に半導体ウェーハ用の粒子光学検査装置 | |
| CN106891331B (zh) | 用于操纵对象以进行成像的系统和方法 | |
| JPH11219680A (ja) | 集束イオンビーム加工方法 | |
| JP2845994B2 (ja) | 荷電粒子ビームの照射位置ずれ補正方法及び荷電粒子ビーム装置 | |
| KR20230012795A (ko) | 대구경 다이렉트 드라이브 모터가 구비된 엑스레이 검사 장치 | |
| JPS6336925Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |