JPH0610679B2 - 触媒活性試験装置 - Google Patents
触媒活性試験装置Info
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- JPH0610679B2 JPH0610679B2 JP59165427A JP16542784A JPH0610679B2 JP H0610679 B2 JPH0610679 B2 JP H0610679B2 JP 59165427 A JP59165427 A JP 59165427A JP 16542784 A JP16542784 A JP 16542784A JP H0610679 B2 JPH0610679 B2 JP H0610679B2
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- reactor
- flow rate
- reaction
- pressure
- temperature
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、触媒の反応評価を予め設定したスケジュール
に従って自動的に行う触媒活性試験装置に関する。
に従って自動的に行う触媒活性試験装置に関する。
[背景技術とその問題点] 触媒の開発研究では、反応評価工程は、必要不可欠なも
のである。反応評価装置は、触媒充填量で分類すると、
小型のものから順に大型になるに従い、マイクロリアク
ター、ベンチプラント、パイロットプラントと称する。
実験質規模で反応評価、いわゆる一次スクーリングを行
なうマイクロリアクターでは、多数の試作触媒を効率的
に評価しなければならない。
のである。反応評価装置は、触媒充填量で分類すると、
小型のものから順に大型になるに従い、マイクロリアク
ター、ベンチプラント、パイロットプラントと称する。
実験質規模で反応評価、いわゆる一次スクーリングを行
なうマイクロリアクターでは、多数の試作触媒を効率的
に評価しなければならない。
従来、このような小型装置の自動化は、温度のプログラ
ウ制御と自動ガスサンプリング程度にとどまっており、
操作条件の変更やデータ処理等、これ以外の操作は全て
手動で行われてきた。従って、触媒の開発研究にあたっ
ては、反応評価に最も多くの労力が費やされているのが
実情である。
ウ制御と自動ガスサンプリング程度にとどまっており、
操作条件の変更やデータ処理等、これ以外の操作は全て
手動で行われてきた。従って、触媒の開発研究にあたっ
ては、反応評価に最も多くの労力が費やされているのが
実情である。
[発明の目的] ここに、本発明の目的は、上述した点に鑑み、触媒の反
応評価において、触媒の充填、リークテスト、抜出しを
除く全ての操作、例えば前処理、ガス切換え、反応、分
析、計算、レポート作成等を自動化でき、触媒の反応評
価を能率的かつ高精度に行え、しかも、経済的な触媒活
性試験装置を提供することにある。
応評価において、触媒の充填、リークテスト、抜出しを
除く全ての操作、例えば前処理、ガス切換え、反応、分
析、計算、レポート作成等を自動化でき、触媒の反応評
価を能率的かつ高精度に行え、しかも、経済的な触媒活
性試験装置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段および作用] そのため、本発明では、複数の反応系を有する複数の反
応装置と、この各反応装置に対応して設けられそれぞれ
対応する反応装置によって生成された反応生成物を分析
する複数の分析装置と、これらの対応する反応装置と分
析装置との間にそれぞれ設けられ反応装置のいずれかの
反応系からの反応生成物を分析装置へ選択的に切り換え
注入させる切換手段と、前記各反応装置に対応して設け
られそれぞれ対応する反応装置を予め設定されたタイム
スケジュールに従って運転させると同時に、サンプリン
グ時の反応装置の運転状態データをファイルする一方、
その運転状態データと反応装置に対応する分析装置から
転送されてくる分析結果とを送信する複数台の子機と、
この各子機へ動作指令を与える一方、子機から送信され
た運転状態データおよび分析結果を受信し、それらと予
め入力されたデータとから物質収支の計算を行う親機
と、からなり、前記各反応系は、内部に試験触媒を充填
した反応器、この反応器内に供給される原料を複数種の
原料の中から選択する原料選択バルブ、この原料選択バ
ルブによって選択された原料の圧力、流量をそれぞれ調
整する調整バルブおよび前記反応器の温度を変化させる
加熱器を備え、前記各分析装置は、対応する反応装置に
近接して設置された恒温槽と、この恒温槽内に設けられ
前記切換手段によって選択されたいずれか一方の反応系
からの反応生成物を分析器へ自動注入させるサンプリン
グ装置とを含む、ことを特徴としている。
応装置と、この各反応装置に対応して設けられそれぞれ
対応する反応装置によって生成された反応生成物を分析
する複数の分析装置と、これらの対応する反応装置と分
析装置との間にそれぞれ設けられ反応装置のいずれかの
反応系からの反応生成物を分析装置へ選択的に切り換え
注入させる切換手段と、前記各反応装置に対応して設け
られそれぞれ対応する反応装置を予め設定されたタイム
スケジュールに従って運転させると同時に、サンプリン
グ時の反応装置の運転状態データをファイルする一方、
その運転状態データと反応装置に対応する分析装置から
転送されてくる分析結果とを送信する複数台の子機と、
この各子機へ動作指令を与える一方、子機から送信され
た運転状態データおよび分析結果を受信し、それらと予
め入力されたデータとから物質収支の計算を行う親機
と、からなり、前記各反応系は、内部に試験触媒を充填
した反応器、この反応器内に供給される原料を複数種の
原料の中から選択する原料選択バルブ、この原料選択バ
ルブによって選択された原料の圧力、流量をそれぞれ調
整する調整バルブおよび前記反応器の温度を変化させる
加熱器を備え、前記各分析装置は、対応する反応装置に
近接して設置された恒温槽と、この恒温槽内に設けられ
前記切換手段によって選択されたいずれか一方の反応系
からの反応生成物を分析器へ自動注入させるサンプリン
グ装置とを含む、ことを特徴としている。
[実施例] 第1図は本実施例の触媒活性試験装置を示している。同
システムは、コンピュータからなる1台の親機1と、こ
の親機1にそれぞれ通信線10を介して互いに情報交換
可能に接続されたマイクロコンピュータ等からなる6台
の子機11〜16と、この各子機11〜16によってそ
れぞれ運転が制御される反応装置21〜26と、この各
反応装置21〜26で生成された反応生成物を分析しそ
の分析結果を前記子機11〜16へ転送する分析装置3
1〜36とから構成されている。
システムは、コンピュータからなる1台の親機1と、こ
の親機1にそれぞれ通信線10を介して互いに情報交換
可能に接続されたマイクロコンピュータ等からなる6台
の子機11〜16と、この各子機11〜16によってそ
れぞれ運転が制御される反応装置21〜26と、この各
反応装置21〜26で生成された反応生成物を分析しそ
の分析結果を前記子機11〜16へ転送する分析装置3
1〜36とから構成されている。
前記親機1は、触媒活性試験を行うために予め作成した
タイムスケジュール(反応装置21〜26において使用
する原料の選択、選択された原料の流量、圧力および温
度等の設定値の変更時間、サンプリング時間等が設定さ
れている。)を例えばアドレス番号によって指定するい
ずれかの子機11〜16へ転送し、かつその実験の開始
や停止の指令を送る機能を備えている。また、いずれか
の子機11〜16から転送されてきた分析結果および運
転条件と予め入力されたデータ、例えば触媒重量、体積
および原料組成等から物質収支の計算を行い、これらの
結果をフロッピーディスク2へファイリングする。同時
に、実験中の運転状態を一定時間間隔でフロッピーディ
スク2へファイリングする。フロッピーディスク2にフ
ァイリングされた運転状態は、任意時にグリーンモニタ
3に表示でき、かつプリンタ6でプリントアウトさせる
ことができる。更に、運転状態の経時データは、カラー
モニタ4にグラフ表示させることができ、かつ任意の縮
尺でXYプロッタ5に作図できるようになっている。
タイムスケジュール(反応装置21〜26において使用
する原料の選択、選択された原料の流量、圧力および温
度等の設定値の変更時間、サンプリング時間等が設定さ
れている。)を例えばアドレス番号によって指定するい
ずれかの子機11〜16へ転送し、かつその実験の開始
や停止の指令を送る機能を備えている。また、いずれか
の子機11〜16から転送されてきた分析結果および運
転条件と予め入力されたデータ、例えば触媒重量、体積
および原料組成等から物質収支の計算を行い、これらの
結果をフロッピーディスク2へファイリングする。同時
に、実験中の運転状態を一定時間間隔でフロッピーディ
スク2へファイリングする。フロッピーディスク2にフ
ァイリングされた運転状態は、任意時にグリーンモニタ
3に表示でき、かつプリンタ6でプリントアウトさせる
ことができる。更に、運転状態の経時データは、カラー
モニタ4にグラフ表示させることができ、かつ任意の縮
尺でXYプロッタ5に作図できるようになっている。
前記各子機11〜16は、前記親機1から送信されてき
たタイムスケジュールを受信した後、親機1からの実験
開始コマンドを受信した際、対応する反応装置21〜2
6をタイムスケジュールに従って運転させる。一方、タ
イムスケジュールに基づくサンプリング時の運転状態、
例えば反応装置21〜26における温度、圧力、流量を
ファイルしておき、前記分析装置31〜36から分析結
果が転送されてきた際、その分析結果と運転状態とを一
緒にして前記親機1へ送信するようになっている。
たタイムスケジュールを受信した後、親機1からの実験
開始コマンドを受信した際、対応する反応装置21〜2
6をタイムスケジュールに従って運転させる。一方、タ
イムスケジュールに基づくサンプリング時の運転状態、
例えば反応装置21〜26における温度、圧力、流量を
ファイルしておき、前記分析装置31〜36から分析結
果が転送されてきた際、その分析結果と運転状態とを一
緒にして前記親機1へ送信するようになっている。
前記各反応装置21〜26は、例えば第2図(同図では
反応装置21のみを示しているが、他の反応装置22〜
26についても同様である。)に示す如く、前記子機1
1〜16からの切換え信号により切換えられる切換手段
を構成する切換コック40を介して前記分析装置31〜
36へ選択的に接続される2つの反応系A,Bを備えて
いる。各反応系A,Bには、内部に試験触媒を充填させ
た反応器41がそれぞれ設けられている。反応器41に
は、その外周に反応器41内の温度Tに基づき前記子機
11からの信号により加熱される加熱器としての電気ヒ
ータ42が設けられているとともに、その入口側に原料
供給ライン43を介してそれぞれ異なる種類の原料ガス
を導入する4本の原料導入ライン441〜444が、出
口側に一端が前記切換コック40に連結された生成物抜
出ライン45の他端がそれぞれ連結されている。前記各
原料導入ライン441〜444には、前記子機11から
の選択信号により選択的に開閉される原料選択バルブと
しての電磁バルブ461〜464がそれぞれ設けられて
いる。また、原料供給ライン43の途中には、圧力セン
サ47を有する調圧バルブ48と、流量計49を有する
流量調節バルブ50とがそれぞれ挿入されている。ここ
で、圧力センサ47によって検出された圧力データP1
および流量計49によって検出された流量データFが前
記子機11へフィードバックされると、子機11は、フ
ィードバックされた圧力データP1および流量データF
が予め設定された圧力および流量と等しいか否かを判断
し、その差に対応した信号を前記調圧バルブ48および
流量調節バルブ50へ与え、それらを制御するようにな
っている。また、前記生成物抜出ライン45の途中に
は、前記流量調節バルブ50と反応器41の入口側との
間に圧力センサ51を有する背圧バルブ52が挿入され
ている。圧力センサ51で検出された圧力データP2が
子機11〜16へ入力されると、前記圧力センサ47で
検出された圧力P1と圧力センサ51で検出された圧力
P2との差圧P1−P2が予め設定された圧力になるよ
うに、調圧バルブ48および背圧バルブ52が制御され
るようになっている。
反応装置21のみを示しているが、他の反応装置22〜
26についても同様である。)に示す如く、前記子機1
1〜16からの切換え信号により切換えられる切換手段
を構成する切換コック40を介して前記分析装置31〜
36へ選択的に接続される2つの反応系A,Bを備えて
いる。各反応系A,Bには、内部に試験触媒を充填させ
た反応器41がそれぞれ設けられている。反応器41に
は、その外周に反応器41内の温度Tに基づき前記子機
11からの信号により加熱される加熱器としての電気ヒ
ータ42が設けられているとともに、その入口側に原料
供給ライン43を介してそれぞれ異なる種類の原料ガス
を導入する4本の原料導入ライン441〜444が、出
口側に一端が前記切換コック40に連結された生成物抜
出ライン45の他端がそれぞれ連結されている。前記各
原料導入ライン441〜444には、前記子機11から
の選択信号により選択的に開閉される原料選択バルブと
しての電磁バルブ461〜464がそれぞれ設けられて
いる。また、原料供給ライン43の途中には、圧力セン
サ47を有する調圧バルブ48と、流量計49を有する
流量調節バルブ50とがそれぞれ挿入されている。ここ
で、圧力センサ47によって検出された圧力データP1
および流量計49によって検出された流量データFが前
記子機11へフィードバックされると、子機11は、フ
ィードバックされた圧力データP1および流量データF
が予め設定された圧力および流量と等しいか否かを判断
し、その差に対応した信号を前記調圧バルブ48および
流量調節バルブ50へ与え、それらを制御するようにな
っている。また、前記生成物抜出ライン45の途中に
は、前記流量調節バルブ50と反応器41の入口側との
間に圧力センサ51を有する背圧バルブ52が挿入され
ている。圧力センサ51で検出された圧力データP2が
子機11〜16へ入力されると、前記圧力センサ47で
検出された圧力P1と圧力センサ51で検出された圧力
P2との差圧P1−P2が予め設定された圧力になるよ
うに、調圧バルブ48および背圧バルブ52が制御され
るようになっている。
前記各分析装置31〜36は、分析器としての2つのガ
スクロマトグラフ621,622と、前記子機11から
の切換え信号により作動され前記切換コック40を通っ
て取出されたいずれか一方の反応器41からの反応生成
物を前記ガスクロマトグラフ621,622へ自動注入
する2つのサンプリングコックからなるサンプリング装
置61と、前記ガスクロマトグラフ621,622の分
析結果を処理するインテグレータ63とから構成されて
いる。サンプリング装置61は、各反応装置21〜26
に近接して設置された恒温槽(図示省略)内に設けられ
ている。インデクレータ63は、前記ガスクロマトグラ
フ621,622の波形データを処理する波形処理装置
64と、この波形処理装置64で処理された結果をマル
チ計算して反応生成物の組成を求めそれを記憶する波形
記憶装置65とから構成されている。波形記憶装置65
に記憶された分析結果は、分析終了後、信号線66を通
じて前記子機11へ転送されるようになっている。
スクロマトグラフ621,622と、前記子機11から
の切換え信号により作動され前記切換コック40を通っ
て取出されたいずれか一方の反応器41からの反応生成
物を前記ガスクロマトグラフ621,622へ自動注入
する2つのサンプリングコックからなるサンプリング装
置61と、前記ガスクロマトグラフ621,622の分
析結果を処理するインテグレータ63とから構成されて
いる。サンプリング装置61は、各反応装置21〜26
に近接して設置された恒温槽(図示省略)内に設けられ
ている。インデクレータ63は、前記ガスクロマトグラ
フ621,622の波形データを処理する波形処理装置
64と、この波形処理装置64で処理された結果をマル
チ計算して反応生成物の組成を求めそれを記憶する波形
記憶装置65とから構成されている。波形記憶装置65
に記憶された分析結果は、分析終了後、信号線66を通
じて前記子機11へ転送されるようになっている。
次に、本実施例の作用を説明する。まず、親機1におい
て、触媒活性試験を自動で行うためのタイムスケジュー
ルを各反応装置21〜26について作成する。タイムス
ケジュールの作成にあたっては、例えば第3図に示す如
く、各反応装置21〜26の温度T、流量F、圧力P、
使用する原料ガスに対応した電磁バルブ461〜464
のオン、オフ、切換コック40のオン、オフ、サンプリ
ング装置61のオン、オフおよび切換コック40の切換
え等をそれぞれ経過時間に対応して設定する。このよう
にして設定されたタイムスケジュールは、通信線10を
通じて各子機11〜16へそれぞれ転送される。
て、触媒活性試験を自動で行うためのタイムスケジュー
ルを各反応装置21〜26について作成する。タイムス
ケジュールの作成にあたっては、例えば第3図に示す如
く、各反応装置21〜26の温度T、流量F、圧力P、
使用する原料ガスに対応した電磁バルブ461〜464
のオン、オフ、切換コック40のオン、オフ、サンプリ
ング装置61のオン、オフおよび切換コック40の切換
え等をそれぞれ経過時間に対応して設定する。このよう
にして設定されたタイムスケジュールは、通信線10を
通じて各子機11〜16へそれぞれ転送される。
各子機11〜16においては、第4図のフローチャート
に示す如く、前記親機1から送信されたタイムスケジュ
ールを受信し、それを予め設定されたファイリングエリ
アへ格納した後、親機1から実験開始コマンドが送信さ
れたか否かを監視する。ここで、親機1からの実験開始
コマンドを受信すると、続いて実験終了時刻に達したか
否かを判断し、実験終了時刻に達していないことを条件
として次のステップへ進み、ファイリングエリアへ記憶
されたタイムスケジュールに従って反応装置21〜26
の温度T、圧力P、流量Fを制御する。つまり、反応器
41の温度がタイムスケジュールの温度データTに一致
するように電気ヒータ42を、圧力センサ51の圧力P
2がタイムスケジュールの圧力データPに一致するよう
に背圧バルブ52を、流量計49の値がタイムスケジュ
ールの流量データFと一致するように流量調整バルブ5
0を、それぞれ制御する。同時に、経過時間をカウント
する。
に示す如く、前記親機1から送信されたタイムスケジュ
ールを受信し、それを予め設定されたファイリングエリ
アへ格納した後、親機1から実験開始コマンドが送信さ
れたか否かを監視する。ここで、親機1からの実験開始
コマンドを受信すると、続いて実験終了時刻に達したか
否かを判断し、実験終了時刻に達していないことを条件
として次のステップへ進み、ファイリングエリアへ記憶
されたタイムスケジュールに従って反応装置21〜26
の温度T、圧力P、流量Fを制御する。つまり、反応器
41の温度がタイムスケジュールの温度データTに一致
するように電気ヒータ42を、圧力センサ51の圧力P
2がタイムスケジュールの圧力データPに一致するよう
に背圧バルブ52を、流量計49の値がタイムスケジュ
ールの流量データFと一致するように流量調整バルブ5
0を、それぞれ制御する。同時に、経過時間をカウント
する。
この後、最適制御モードでないことを条件として、つま
りタイムスケジュールモードであることを条件として次
のステップへ進み、反応装置21〜26の温度T、圧力
P、流量Fが経過時間に対応する値になっていか否かを
判断する。ここで、温度T、圧力P、流量Fが経過時間
に対応する値になっていない場合には、経過時間に対応
する温度T、圧力P、流量Fになる制御信号を電気ヒー
タ42、背圧バルブ52、流量調節バルブ50へ与え、
前記実験終了時刻の判断へ戻る。一方、温度T、圧力
P、流量Fが経過時間に対応する値になっている場合に
は、続いてサンプリング時刻に達したか否かを判断す
る。サンプリング時刻に達していない場合には、実験終
了時刻の判断へ戻るが、サンプリング時刻に達している
場合には、サンプリング装置61を切換えサンプリング
を行う。すると、切換コック40を通じていずれか一方
の反応器41からの反応生成物がガスクロマトグラフ6
21,622へ自動注入され、このガスクロマトグラフ
621,622において反応生成物の分析が行われる。
ガスクロマトグラフ621,622で分析された波形デ
ータはインテグレータ63で処理された後記憶される。
りタイムスケジュールモードであることを条件として次
のステップへ進み、反応装置21〜26の温度T、圧力
P、流量Fが経過時間に対応する値になっていか否かを
判断する。ここで、温度T、圧力P、流量Fが経過時間
に対応する値になっていない場合には、経過時間に対応
する温度T、圧力P、流量Fになる制御信号を電気ヒー
タ42、背圧バルブ52、流量調節バルブ50へ与え、
前記実験終了時刻の判断へ戻る。一方、温度T、圧力
P、流量Fが経過時間に対応する値になっている場合に
は、続いてサンプリング時刻に達したか否かを判断す
る。サンプリング時刻に達していない場合には、実験終
了時刻の判断へ戻るが、サンプリング時刻に達している
場合には、サンプリング装置61を切換えサンプリング
を行う。すると、切換コック40を通じていずれか一方
の反応器41からの反応生成物がガスクロマトグラフ6
21,622へ自動注入され、このガスクロマトグラフ
621,622において反応生成物の分析が行われる。
ガスクロマトグラフ621,622で分析された波形デ
ータはインテグレータ63で処理された後記憶される。
このようにして実験終了時刻に達するまでタイムスケジ
ュールに従って温度T、流量F、圧力Pが順次変更され
るとともに、所定時間間隔毎にサンプリングされ、その
サンプリング時の運転状態データと反応生成物の分析結
果とが親機1へ送信される。
ュールに従って温度T、流量F、圧力Pが順次変更され
るとともに、所定時間間隔毎にサンプリングされ、その
サンプリング時の運転状態データと反応生成物の分析結
果とが親機1へ送信される。
すると、親機1では、子機11〜16から転送されてき
た分析結果および運転条件と予め入力されたデータ、例
えば触媒重量、体積および原料組成等から物質収支の計
算を行い、これらの結果をフロッピーディスク2へファ
イリングする。フロッピーディスク2にファイリングさ
れた運転状態は、任意時にグリーンモニタ3に表示で
き、かつプリンタ6でプリントアウトさせることができ
る。また、カラーモニタ4にグラフ表示させることがで
き、かつ任意の縮尺でXYプロッタ5に作図させること
ができる。
た分析結果および運転条件と予め入力されたデータ、例
えば触媒重量、体積および原料組成等から物質収支の計
算を行い、これらの結果をフロッピーディスク2へファ
イリングする。フロッピーディスク2にファイリングさ
れた運転状態は、任意時にグリーンモニタ3に表示で
き、かつプリンタ6でプリントアウトさせることができ
る。また、カラーモニタ4にグラフ表示させることがで
き、かつ任意の縮尺でXYプロッタ5に作図させること
ができる。
一方、最適制御モードの場合には、第5図のフローチャ
ートに従って行なわれる。まず、初期値をタイムスケジ
ュール中で読込んだ後、設定値変更後1時間経過したこ
とを条件としてサンプリングを行う。サンプリング操作
は前述の操作と同様にサンプリング装置61を所定時間
開放し、いずれか一方の反応器41で生成された反応生
成物をガスクロマトグラフ621,622へ自動注入
し、このガスクロマトグラフ621,622において反
応生成物の分析を行う。続いて、この分析結果から特定
ピークの濃度検出を行う。濃度は、ピーク面積とファク
タとの積で表すことができる。なお、ファクタは予め実
験開始前に標準ガスにより検量した値を用いる。なお、
生成ガスの分析に複数種のガスクロマトグラフを用いる
場合には、それぞれの分析結果を親機1へ送信し、それ
らの分析結果から生成ガス組成を求めるはしわたし計算
を行なうことができる。
ートに従って行なわれる。まず、初期値をタイムスケジ
ュール中で読込んだ後、設定値変更後1時間経過したこ
とを条件としてサンプリングを行う。サンプリング操作
は前述の操作と同様にサンプリング装置61を所定時間
開放し、いずれか一方の反応器41で生成された反応生
成物をガスクロマトグラフ621,622へ自動注入
し、このガスクロマトグラフ621,622において反
応生成物の分析を行う。続いて、この分析結果から特定
ピークの濃度検出を行う。濃度は、ピーク面積とファク
タとの積で表すことができる。なお、ファクタは予め実
験開始前に標準ガスにより検量した値を用いる。なお、
生成ガスの分析に複数種のガスクロマトグラフを用いる
場合には、それぞれの分析結果を親機1へ送信し、それ
らの分析結果から生成ガス組成を求めるはしわたし計算
を行なうことができる。
次に、原料ガスおよび生成物モル数から選択率を算出
し、その結果をファイリングした後、実験が終了か否か
を判断する。この終了の判定条件としては、選択率がM
axに達したこと、温度Tが設定範囲を越えたこと、ま
たは転化率が設定範囲を越えたことを条件として終了と
みなし、第6図のフローチャートに示す処理へ移行す
る。一方、この終了条件に達しない前の状態では、前の
データが1つ以下のとき温度Tをプラス5℃、前のデー
タが2つ以上でかつ低下傾向なら温度Tをマイナス5
℃、前のデータが2つ以上でかつ増加傾向なら温度Tを
プラス5℃、それぞれ変化させた後、設定値変更後1時
間経過したか否かの判断へ戻る。このようにして、収集
したデータの数およびデータの変化方向に応じて温度T
をそれぞれ所定温度幅変化させ、その変更後1時間経過
したことを条件としてサンプリングを行い、これを終了
条件に達するまで行うことにより、触媒の反応評価試験
を行うことができる。
し、その結果をファイリングした後、実験が終了か否か
を判断する。この終了の判定条件としては、選択率がM
axに達したこと、温度Tが設定範囲を越えたこと、ま
たは転化率が設定範囲を越えたことを条件として終了と
みなし、第6図のフローチャートに示す処理へ移行す
る。一方、この終了条件に達しない前の状態では、前の
データが1つ以下のとき温度Tをプラス5℃、前のデー
タが2つ以上でかつ低下傾向なら温度Tをマイナス5
℃、前のデータが2つ以上でかつ増加傾向なら温度Tを
プラス5℃、それぞれ変化させた後、設定値変更後1時
間経過したか否かの判断へ戻る。このようにして、収集
したデータの数およびデータの変化方向に応じて温度T
をそれぞれ所定温度幅変化させ、その変更後1時間経過
したことを条件としてサンプリングを行い、これを終了
条件に達するまで行うことにより、触媒の反応評価試験
を行うことができる。
一方、第6図のフローチャートでは、まず温度Tを10
℃/minで降温させ、かつ圧力Pを10kg/cm2/minで
降圧させた後、温度Tが100℃以下でかつ圧力Pが1
0kg/cm2G以下であるか否かを判断する。温度Tが1
00℃以下でなく、かつ圧力Pが10kg/cm2G以下で
ない場合には、前述の処理を繰返えすが、温度Tが10
0℃以下でかつ圧力Pが10kg/cm2G以下の場合に
は、流量Fを0/hrとする。つまり、電磁バルブ4
61〜464を閉とする。最後に、プリンタ6よりエン
ドメッセージをプリントアウトした後、終了とする。
℃/minで降温させ、かつ圧力Pを10kg/cm2/minで
降圧させた後、温度Tが100℃以下でかつ圧力Pが1
0kg/cm2G以下であるか否かを判断する。温度Tが1
00℃以下でなく、かつ圧力Pが10kg/cm2G以下で
ない場合には、前述の処理を繰返えすが、温度Tが10
0℃以下でかつ圧力Pが10kg/cm2G以下の場合に
は、流量Fを0/hrとする。つまり、電磁バルブ4
61〜464を閉とする。最後に、プリンタ6よりエン
ドメッセージをプリントアウトした後、終了とする。
なお、本装置では、上記第4図から第6図に示す処理の
ほか、第7図に示す警報処理が行われるようになってい
る。この警報処理は、温度T、圧力P、流量Fを常時監
視し、これらの値が予め設定された値を越えたとき、そ
れらの値に応じて所定の警報処理が行われるようになっ
ている。具体的には、温度T、圧力P、流量Fが予め設
定された上限値を越えたとき、アラームを出力し、これ
らの値が上限値を越えたことを警報するようになってい
る。また、温度T、圧力P、流量Fが予め設定された下
限値を越えたとき、アラームを出力し、これらの値が下
限値を越えたことを警報するようになっている。更に、
温度T、圧力P、流量Fが前記上限値よりも高い最上限
値を越えたとき、アラームを出力した後、温度T、圧力
P、流量Fの制御出力を5分間で0にするように制御す
るようになっている。これにより、装置全体の安全が図
られている。
ほか、第7図に示す警報処理が行われるようになってい
る。この警報処理は、温度T、圧力P、流量Fを常時監
視し、これらの値が予め設定された値を越えたとき、そ
れらの値に応じて所定の警報処理が行われるようになっ
ている。具体的には、温度T、圧力P、流量Fが予め設
定された上限値を越えたとき、アラームを出力し、これ
らの値が上限値を越えたことを警報するようになってい
る。また、温度T、圧力P、流量Fが予め設定された下
限値を越えたとき、アラームを出力し、これらの値が下
限値を越えたことを警報するようになっている。更に、
温度T、圧力P、流量Fが前記上限値よりも高い最上限
値を越えたとき、アラームを出力した後、温度T、圧力
P、流量Fの制御出力を5分間で0にするように制御す
るようになっている。これにより、装置全体の安全が図
られている。
従って、本実施例によれば、予め作成したタイムスケジ
ュールに従って触媒の活性試験を自動的に行うようにし
たので、予めタイムスケジュールを作成しておけば、タ
イムスケジュールに従って触媒の活性試験が忠実に実行
されるため、反応評価試験を効率的に処理でき、その結
果著しい省力化を達成することができる。
ュールに従って触媒の活性試験を自動的に行うようにし
たので、予めタイムスケジュールを作成しておけば、タ
イムスケジュールに従って触媒の活性試験が忠実に実行
されるため、反応評価試験を効率的に処理でき、その結
果著しい省力化を達成することができる。
また、タイムスケジュールを作成しない場合でも、自動
モードに切換えれば、収集したデータの数およびデータ
の変化傾向に応じて条件を順次変更し、この各変化後に
おけるサンプリングを行うようにしたので、予めタイム
スケジュールを作成しなくても触媒の活性試験を自動的
に行うことができ、その結果著しい省力化を達成するこ
とができる。
モードに切換えれば、収集したデータの数およびデータ
の変化傾向に応じて条件を順次変更し、この各変化後に
おけるサンプリングを行うようにしたので、予めタイム
スケジュールを作成しなくても触媒の活性試験を自動的
に行うことができ、その結果著しい省力化を達成するこ
とができる。
また、このシステムでは、触媒の充填、リークテスト、
抜出しを除く全ての操作、つまり前処理、ガス切換え、
反応、分析、計算、レポート作成等が全て自動化できる
ので、省力化に大きな効果を上げることができる。
抜出しを除く全ての操作、つまり前処理、ガス切換え、
反応、分析、計算、レポート作成等が全て自動化できる
ので、省力化に大きな効果を上げることができる。
また、温度T、圧力P、流量Fの値を常時監視し、その
温度T、圧力P、流量Fが予め設定された値を越えたと
き、アラーム出力を出し、その旨を警報するとともに、
最上限値を越えたとき、装置の運転を停止させるように
しので、安全を図ることができる。
温度T、圧力P、流量Fが予め設定された値を越えたと
き、アラーム出力を出し、その旨を警報するとともに、
最上限値を越えたとき、装置の運転を停止させるように
しので、安全を図ることができる。
また、2つの反応系A,Bを有する各反応装置21〜2
6に対して、子機11〜16、生成ガスのサンプリング
装置61および分析装置31〜36が共有であるため、
設備投資が少なくなるだけでなく、複数の触媒活性を比
較する際の実験精度を向上させることができる。
6に対して、子機11〜16、生成ガスのサンプリング
装置61および分析装置31〜36が共有であるため、
設備投資が少なくなるだけでなく、複数の触媒活性を比
較する際の実験精度を向上させることができる。
また、上記実施例において、各反応装置21〜26に近
接して恒温槽を設置し、この恒温槽内にサンプリングコ
ック等のサンプリング装置61を設け、このサンプリン
グ装置61により生成ガスのサンプリングを行なうよう
にしたので、反応装置と恒温槽とが近接するので、サン
プリング装置61を反応装置21〜26へ接近させるこ
とができ、その結果分析装置31〜36までの生成ガス
ラインの低圧部の割合いが多くなり、分析装置31〜3
6へのレスポンスを向上させることができる。このこと
は、反応装置21〜26の触媒充填量が少量(例えば1
〜10ml)で活性評価を可能ならしめる。しかも、複数
の反応装置21〜26に対してサンプリング装置61を
共用させることでサンプリング条件を合せることが可能
となり、各反応装置21〜26に充填された触媒の活性
がより厳密に比較できる利点がある。
接して恒温槽を設置し、この恒温槽内にサンプリングコ
ック等のサンプリング装置61を設け、このサンプリン
グ装置61により生成ガスのサンプリングを行なうよう
にしたので、反応装置と恒温槽とが近接するので、サン
プリング装置61を反応装置21〜26へ接近させるこ
とができ、その結果分析装置31〜36までの生成ガス
ラインの低圧部の割合いが多くなり、分析装置31〜3
6へのレスポンスを向上させることができる。このこと
は、反応装置21〜26の触媒充填量が少量(例えば1
〜10ml)で活性評価を可能ならしめる。しかも、複数
の反応装置21〜26に対してサンプリング装置61を
共用させることでサンプリング条件を合せることが可能
となり、各反応装置21〜26に充填された触媒の活性
がより厳密に比較できる利点がある。
なお、上記実施例では、第5図に示す最適制御の処理に
おいて、終了条件になったとき、つまり選択率がMax
に達したとき、或いは温度Tまたは転化率が設定範囲を
越えたとき、第6図に示すシャットダウンの処理へ移行
するようにしたが、これらのうちのいずれかの要素が終
了条件になったとき、例えば選択率がMaxに達したと
き第4図に示すメインルーチンへ戻るようにしてもよ
い。
おいて、終了条件になったとき、つまり選択率がMax
に達したとき、或いは温度Tまたは転化率が設定範囲を
越えたとき、第6図に示すシャットダウンの処理へ移行
するようにしたが、これらのうちのいずれかの要素が終
了条件になったとき、例えば選択率がMaxに達したと
き第4図に示すメインルーチンへ戻るようにしてもよ
い。
また、ガス流量と制御をサーマルフローメータを用いて
行ない、かつ子機11〜16において、予めガスの種類
に応じて設定された流量ファクタを基に真のガス流量を
計算するようにすれば、実験中にガスの種類を切替えて
も1台のガス流量計で連続的に真のガス流量を求めるこ
とができる。
行ない、かつ子機11〜16において、予めガスの種類
に応じて設定された流量ファクタを基に真のガス流量を
計算するようにすれば、実験中にガスの種類を切替えて
も1台のガス流量計で連続的に真のガス流量を求めるこ
とができる。
また、上記実施例では、原料としてガスを対象とした
が、液体原料を用いる化学反応にも適用することが可能
である。
が、液体原料を用いる化学反応にも適用することが可能
である。
また、親機1と子機11〜16とのデータ通信には、光
モデムおよび光ファイバーを用いてもよい。
モデムおよび光ファイバーを用いてもよい。
[発明の効果] 以上の通り、本発明によれば、触媒の充填、リークテス
ト、抜出しを除く全ての操作、つまり前処理、ガス切換
え、反応、分析計算、レポート作成等の処理を全て自動
化でき、触媒の反応評価を能率的かつ高精度に行え、し
かも、経済的な触媒活性試験装置を提供できる。
ト、抜出しを除く全ての操作、つまり前処理、ガス切換
え、反応、分析計算、レポート作成等の処理を全て自動
化でき、触媒の反応評価を能率的かつ高精度に行え、し
かも、経済的な触媒活性試験装置を提供できる。
図は本発明の一実施例を示すもので、第1図は本装置の
全体を示すブロック図、第2図は反応装置と分析装置と
子機との関係を示すブロック図、第3図はタイムスケジ
ュールの一例を示す図、第4図〜第7図はフローチャー
トである。 1……親機、11,12,13,14,15,16……
子機、21,22,23,24,25,26……反応装
置、31,32,33,34,35,36……分析装
置、40……切換コック(切換手段)、461〜464
……電磁バルブ、48……調圧バルブ、50……流量調
節バルブ、52……背圧バルブ、A,B……反応系。
全体を示すブロック図、第2図は反応装置と分析装置と
子機との関係を示すブロック図、第3図はタイムスケジ
ュールの一例を示す図、第4図〜第7図はフローチャー
トである。 1……親機、11,12,13,14,15,16……
子機、21,22,23,24,25,26……反応装
置、31,32,33,34,35,36……分析装
置、40……切換コック(切換手段)、461〜464
……電磁バルブ、48……調圧バルブ、50……流量調
節バルブ、52……背圧バルブ、A,B……反応系。
Claims (4)
- 【請求項1】複数の反応系を有する複数の反応装置と、
この各反応装置に対応して設けられそれぞれ対応する反
応装置によって生成された反応生成物を分析する複数の
分析装置と、 これらの対応する反応装置と分析装置との間にそれぞれ
設けられ反応装置のいずれかの反応系からの反応生成物
を分析装置へ選択的に切り換え注入させる切換手段と、 前記各反応装置に対応して設けられそれぞれ対応する反
応装置を予め設定されたタイムスケジュールに従って運
転させると同時に、サンプリング時の反応装置の運転状
態データをファイルする一方、その運転状態データと反
応装置に対応する分析装置から転送されてくる分析結果
とを送信する複数台の子機と、 この各子機へ動作指令を与える一方、子機から送信され
た運転状態データおよび分析結果を受信し、それらと予
め入力されたデータとから物質収支の計算を行う親機
と、からなり、 前記各反応系は、内部に試験触媒を充填した反応器、こ
の反応器内に供給される原料を複数種の原料の中から選
択する原料選択バルブ、この原料選択バルブによって選
択された原料の圧力、流量をそれぞれ調整する調整バル
ブおよび前記反応器の温度を変化させる加熱器を備え、 前記各分析装置は、対応する反応装置に近接して設置さ
れた恒温槽と、この恒温槽内に設けられ前記切換手段に
よって選択されたいずれか一方の反応系からの反応生成
物を分析器へ自動注入させるサンプリング装置とを含
む、 ことを特徴とする触媒活性試験装置。 - 【請求項2】特許請求の範囲第1項記載の触媒活性試験
装置において、前記子機は、前記反応装置における圧
力、流量および温度を監視し、これらの圧力、流量およ
び温度の少なくとも1つが予め設定された上限値または
下限値を越えたとき、アラームを出力する機能を備えて
いることを特徴とする触媒活性試験装置。 - 【請求項3】特許請求の範囲第2項記載の触媒活性試験
装置において、前記子機は、前記反応装置における圧
力、流量および温度を監視し、これらの圧力、流量およ
び温度の少なくとも1つが予め設定され前記上限値より
高い最上限値を越えたとき、アラームを出力するととも
に、反応装置の運転を停止させる機能を備えていること
を特徴とする触媒活性試験装置。 - 【請求項4】特許請求の範囲第1項記載の触媒活性試験
装置において、前記原料としてガスを用いる場合、その
ガス流量の測定と制御をサーマルフローメータで行う
際、前記子機は、予め、ガスの種類に応じて設定された
流量ファクタを基に真のガス流量を計算するように構成
されていることを特徴とする触媒活性試験装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59165427A JPH0610679B2 (ja) | 1984-08-07 | 1984-08-07 | 触媒活性試験装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59165427A JPH0610679B2 (ja) | 1984-08-07 | 1984-08-07 | 触媒活性試験装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6144357A JPS6144357A (ja) | 1986-03-04 |
| JPH0610679B2 true JPH0610679B2 (ja) | 1994-02-09 |
Family
ID=15812215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59165427A Expired - Lifetime JPH0610679B2 (ja) | 1984-08-07 | 1984-08-07 | 触媒活性試験装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610679B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292054A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-22 | Jgc Corp | 自動反応分析装置 |
| JPH0718858B2 (ja) * | 1986-03-26 | 1995-03-06 | 日製ソフトウエア株式会社 | 触媒自動試験装置 |
| JP2595063B2 (ja) * | 1988-09-16 | 1997-03-26 | 株式会社日立製作所 | 自動分析装置 |
| JP2597932B2 (ja) * | 1991-10-30 | 1997-04-09 | 日揮株式会社 | 触媒試験装置の自動運転方法 |
| JP2930019B2 (ja) * | 1996-07-18 | 1999-08-03 | 株式会社日立製作所 | 自動分析装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59120239A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-11 | Osaka Gas Co Ltd | 触媒試験装置 |
-
1984
- 1984-08-07 JP JP59165427A patent/JPH0610679B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6144357A (ja) | 1986-03-04 |
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