JPH06107828A - フッ素フイルムの表面改質方法 - Google Patents
フッ素フイルムの表面改質方法Info
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- JPH06107828A JPH06107828A JP6311192A JP6311192A JPH06107828A JP H06107828 A JPH06107828 A JP H06107828A JP 6311192 A JP6311192 A JP 6311192A JP 6311192 A JP6311192 A JP 6311192A JP H06107828 A JPH06107828 A JP H06107828A
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- film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 接着性に優れたフッ素フイルムを提供する、
表面改質方法を提供する。 【構成】 処理室の前後にエアーシール部を持つエアー
・ツー・エアー方式の処理装置を用い、該処理室内で高
圧印加電極とフッ素フィルムを支持する対向電極との間
に高圧を印加することにより得られる放電によってフッ
素フイルムの表面を改質するに際し、前記放電を、Ｈ
ｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１
種の希ガスを７０モル％以上と、ＣＯ2 と、化学式Ｃn
Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水素のうち
の少なくとも１種とを含み、かつ酸素濃度が５００ｐｐ
ｍ以下のガス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏｒｒの圧
力下で行なう。 【効果】 実用上十分な接着力を持つフッ素フイルムが
得られる。
表面改質方法を提供する。 【構成】 処理室の前後にエアーシール部を持つエアー
・ツー・エアー方式の処理装置を用い、該処理室内で高
圧印加電極とフッ素フィルムを支持する対向電極との間
に高圧を印加することにより得られる放電によってフッ
素フイルムの表面を改質するに際し、前記放電を、Ｈ
ｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１
種の希ガスを７０モル％以上と、ＣＯ2 と、化学式Ｃn
Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水素のうち
の少なくとも１種とを含み、かつ酸素濃度が５００ｐｐ
ｍ以下のガス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏｒｒの圧
力下で行なう。 【効果】 実用上十分な接着力を持つフッ素フイルムが
得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフッ素フイルムの表面改
質方法に関するものである。
質方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】今日、フッ素フイルムは、耐蝕材料、ラ
イニング材料、絶縁材料、電線被覆材料など様々な分野
で利用されてきているが、その接着性の悪さが問題にな
っている。このためコロナ放電処理、プラズマ処理、化
学エッチング処理、サンドブラスト処理など様々な表面
改質方法が検討されている。特にコロナ放電処理、プラ
ズマ処理というドライプロセスは、洗浄工程などが必要
でなく、有効な表面改質方法である。
イニング材料、絶縁材料、電線被覆材料など様々な分野
で利用されてきているが、その接着性の悪さが問題にな
っている。このためコロナ放電処理、プラズマ処理、化
学エッチング処理、サンドブラスト処理など様々な表面
改質方法が検討されている。特にコロナ放電処理、プラ
ズマ処理というドライプロセスは、洗浄工程などが必要
でなく、有効な表面改質方法である。
【０００３】さて、フッ素フイルムに対しては、いくつ
かの表面改質方法が提案されている。
かの表面改質方法が提案されている。
【０００４】米国特許第3,296,011 には、グリシジルメ
タクリレート、ヘキサンなどの有機化合物を含むガス中
でコロナ放電処理する方法が提案され、また特公昭49-1
2900にはアセトン蒸気中でコロナ放電処理する方法が開
示されている。
タクリレート、ヘキサンなどの有機化合物を含むガス中
でコロナ放電処理する方法が提案され、また特公昭49-1
2900にはアセトン蒸気中でコロナ放電処理する方法が開
示されている。
【０００５】一方、特開平1-146930には、１〜１０００
ＴｏｒｒのＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜８）を１モル％以上含
むガス雰囲気中で、低温プラズマ処理する方法が提案さ
れている。
ＴｏｒｒのＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜８）を１モル％以上含
むガス雰囲気中で、低温プラズマ処理する方法が提案さ
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、コロナ放電処
理による方法では、フッ素フイルムの表面が改質され、
接着性が向上するが、以下の欠点がある。
理による方法では、フッ素フイルムの表面が改質され、
接着性が向上するが、以下の欠点がある。
【０００７】経時変化による接着力低下が大きく、特に
高温高湿下や、紫外線照射に際して劣化が激しい。
高温高湿下や、紫外線照射に際して劣化が激しい。
【０００８】フッ素フイルムについては、片面のみを改
質し、もう一方はフッ素フイルムそのものの特性を生か
しておきたいという要求が大きい。しかしこれらの処理
では、処理面の裏面がまばらに処理されるという、いわ
ゆる裏写り現象がしばしば生じる。
質し、もう一方はフッ素フイルムそのものの特性を生か
しておきたいという要求が大きい。しかしこれらの処理
では、処理面の裏面がまばらに処理されるという、いわ
ゆる裏写り現象がしばしば生じる。
【０００９】表面処理によって、フッ素の融点以下での
熱融着性が発現するが、その温度がまだ高く、実用的で
ない。例えば、４フッ化エチレンー６フッ化プロピレン
共重合体では２４０℃程度で熱融着するが、実際には２
２０℃以下での使用が望まれている。
熱融着性が発現するが、その温度がまだ高く、実用的で
ない。例えば、４フッ化エチレンー６フッ化プロピレン
共重合体では２４０℃程度で熱融着するが、実際には２
２０℃以下での使用が望まれている。
【００１０】一方、特開平1-146930の方法によれば、経
時変化が少なく、裏写りがなく、また２００℃以下での
熱融着性、その他の接着性が得られる。特に１００Ｔｏ
ｒｒ以上のガス雰囲気での処理は、排気系、強固なエア
ーシール機構も不要であり、処理室の前後にエアーシー
ル機構を設けてフイルムを大気中から処理室、そしてま
た大気中へと導く、いわゆるエアー・ツー・エアー機構
のついた装置での処理も可能となる方法である。しか
し、エアー・ツー・エアー方式の処理装置で処理を行う
と、同じガス組成でも処理効果が得られたり得られなか
ったりと効果が安定しないことが判明した。
時変化が少なく、裏写りがなく、また２００℃以下での
熱融着性、その他の接着性が得られる。特に１００Ｔｏ
ｒｒ以上のガス雰囲気での処理は、排気系、強固なエア
ーシール機構も不要であり、処理室の前後にエアーシー
ル機構を設けてフイルムを大気中から処理室、そしてま
た大気中へと導く、いわゆるエアー・ツー・エアー機構
のついた装置での処理も可能となる方法である。しか
し、エアー・ツー・エアー方式の処理装置で処理を行う
と、同じガス組成でも処理効果が得られたり得られなか
ったりと効果が安定しないことが判明した。
【００１１】本発明は、かかる従来技術の諸欠点に鑑み
考案されたものであり、その目的は、安定した処理効果
の得られる、フッ素フイルムの表面処理方法を提供する
ことにある。
考案されたものであり、その目的は、安定した処理効果
の得られる、フッ素フイルムの表面処理方法を提供する
ことにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
処理室の前後にエアーシール部を持つエアー・ツー・エ
アー方式の処理装置を用い、該処理室内で高圧印加電極
とフッ素フイルムを支持する対向電極との間に高圧を印
加することにより得られる放電によってフッ素フイルム
の表面を改質する方法であって、前記放電を、Ｈｅ、Ｎ
ｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１種の希
ガスを７０モル％以上と、ＣＯ2 と、化学式Ｃn Ｈ2n+2
（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水素のうちの少な
くとも１種とを含み、かつ酸素濃度が５００ｐｐｍ以下
のガス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏｒｒの圧力下で
行なうことを特徴とするフッ素フイルムの表面改質方法
により達成される。
処理室の前後にエアーシール部を持つエアー・ツー・エ
アー方式の処理装置を用い、該処理室内で高圧印加電極
とフッ素フイルムを支持する対向電極との間に高圧を印
加することにより得られる放電によってフッ素フイルム
の表面を改質する方法であって、前記放電を、Ｈｅ、Ｎ
ｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１種の希
ガスを７０モル％以上と、ＣＯ2 と、化学式Ｃn Ｈ2n+2
（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水素のうちの少な
くとも１種とを含み、かつ酸素濃度が５００ｐｐｍ以下
のガス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏｒｒの圧力下で
行なうことを特徴とするフッ素フイルムの表面改質方法
により達成される。
【００１３】本発明に於いて使用されるフッ素フイルム
としては、４フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、４フッ化エ
チレンー６フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、４フ
ッ化エチレンーパーフルオロアルコキシエチレン共重合
体（ＰＦＡ）、エチレンー４フッ化エチレン共重合体
（ＥＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などフッ素系モノマーの
重合体および共重合体、あるいはこれらのモノマーとフ
ッ素系以外のモノマーとの共重合体、さらにはこれらの
重合体と他の高分子化合物との混合物などを挙げること
ができる。なかでも、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴ
ＦＥなどが好ましい。
としては、４フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、４フッ化エ
チレンー６フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、４フ
ッ化エチレンーパーフルオロアルコキシエチレン共重合
体（ＰＦＡ）、エチレンー４フッ化エチレン共重合体
（ＥＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などフッ素系モノマーの
重合体および共重合体、あるいはこれらのモノマーとフ
ッ素系以外のモノマーとの共重合体、さらにはこれらの
重合体と他の高分子化合物との混合物などを挙げること
ができる。なかでも、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴ
ＦＥなどが好ましい。
【００１４】本発明において放電は、１００〜１０００
Ｔｏｒｒのガス雰囲気中で、高圧印加電極とフイルムを
支持する対向電極との間に高周波高電圧を印加すること
によって形成される。
Ｔｏｒｒのガス雰囲気中で、高圧印加電極とフイルムを
支持する対向電極との間に高周波高電圧を印加すること
によって形成される。
【００１５】放電を行なう雰囲気の圧力は１００〜１０
００Ｔｏｒｒの範囲であるが、より好ましくは６００〜
９００Ｔｏｒｒの圧力範囲がよい。圧力が１００Ｔｏｒ
ｒ未満では高精度のエアー・ツー・エアー装置が必要で
あり、１０００Ｔｏｒｒ以上では放電が開始しにくくな
る。
００Ｔｏｒｒの範囲であるが、より好ましくは６００〜
９００Ｔｏｒｒの圧力範囲がよい。圧力が１００Ｔｏｒ
ｒ未満では高精度のエアー・ツー・エアー装置が必要で
あり、１０００Ｔｏｒｒ以上では放電が開始しにくくな
る。
【００１６】高圧印加電極の形状は、任意のものが用い
られるが、棒状のものが好ましい。ガス雰囲気が、１０
０Ｔｏｒｒ以上の場合、放電がアーク放電に移行しやす
いので、電極を誘電体で被覆するのが好ましい。誘電体
はガラス、セラミックス、ゴムなど任意のものが用いら
れる。誘電体被覆厚みは、０．１〜５mm、より好ましく
は０．５〜３mmである。厚みが０．１mmより薄いと絶縁
破壊を起こしやすく、また５mmより厚いと放電に高い電
圧が必要なため電極が破損しやすい。
られるが、棒状のものが好ましい。ガス雰囲気が、１０
０Ｔｏｒｒ以上の場合、放電がアーク放電に移行しやす
いので、電極を誘電体で被覆するのが好ましい。誘電体
はガラス、セラミックス、ゴムなど任意のものが用いら
れる。誘電体被覆厚みは、０．１〜５mm、より好ましく
は０．５〜３mmである。厚みが０．１mmより薄いと絶縁
破壊を起こしやすく、また５mmより厚いと放電に高い電
圧が必要なため電極が破損しやすい。
【００１７】高圧印加電極は、中空構造にして冷却する
のが好ましく、内部を流す冷媒としては水、空気、フレ
オンなどが挙げられるが水が好ましい。冷却を行わない
場合、プラズマのエネルギーにより電極が高温になるた
め、処理フイルムが損傷したり、電極が破損しやすい。
のが好ましく、内部を流す冷媒としては水、空気、フレ
オンなどが挙げられるが水が好ましい。冷却を行わない
場合、プラズマのエネルギーにより電極が高温になるた
め、処理フイルムが損傷したり、電極が破損しやすい。
【００１８】フイルムを支持する対向電極の形状は、フ
イルムが密着する構造ならば任意のものが用いられる
が、長尺のフイルムを連続して処理する場合は、フイル
ムを搬送自在に支持できるドラム状電極が好ましい。そ
の大きさは、例えば前記棒状高圧印加電極の直径の２倍
以上の直径を持つようにするのがよい。ドラム状電極の
少なくとも放電の形成される部分は高圧印加電極と同様
に誘電体で被覆することが重要であり、厚さ、材質など
高圧印加電極と同様のものが使用される。
イルムが密着する構造ならば任意のものが用いられる
が、長尺のフイルムを連続して処理する場合は、フイル
ムを搬送自在に支持できるドラム状電極が好ましい。そ
の大きさは、例えば前記棒状高圧印加電極の直径の２倍
以上の直径を持つようにするのがよい。ドラム状電極の
少なくとも放電の形成される部分は高圧印加電極と同様
に誘電体で被覆することが重要であり、厚さ、材質など
高圧印加電極と同様のものが使用される。
【００１９】高圧印加電極とフイルムを支持する対向電
極とは同数である必要はなく、対向電極１個に対し、高
圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
極とは同数である必要はなく、対向電極１個に対し、高
圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
【００２０】電極間の間隙は、０．１〜１０mmに設定す
るのがよく、好ましくは０．５〜５mmに設定するのがよ
い。間隙が０．１mmより短いと間隙の精度を出すのが困
難になり、また１０mmより広いとアーク放電に移行しや
すくなるので大きい電力を投入できないため好ましくな
い。
るのがよく、好ましくは０．５〜５mmに設定するのがよ
い。間隙が０．１mmより短いと間隙の精度を出すのが困
難になり、また１０mmより広いとアーク放電に移行しや
すくなるので大きい電力を投入できないため好ましくな
い。
【００２１】高圧印加電極に印加する高電圧の周波数は
特に限定されないが、２０ｋＨｚ〜５５ＭＨｚの範囲で
選択するのが好ましく、より好ましくは５０ｋＨｚ〜５
００ｋＨｚである。
特に限定されないが、２０ｋＨｚ〜５５ＭＨｚの範囲で
選択するのが好ましく、より好ましくは５０ｋＨｚ〜５
００ｋＨｚである。
【００２２】対向電極は接地してもよいし、あるいは該
電極を大地より浮かし、高電圧電源の高電圧電極との結
線端子の対となる出力端子と結線してもよい。
電極を大地より浮かし、高電圧電源の高電圧電極との結
線端子の対となる出力端子と結線してもよい。
【００２３】また、高電圧電源は整合回路を持っている
のが好ましい。
のが好ましい。
【００２４】本発明において、雰囲気のガス組成は極め
て重要であり、希ガスとＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４）とＣ
Ｏ2 の３成分からなる。
て重要であり、希ガスとＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４）とＣ
Ｏ2 の３成分からなる。
【００２５】Ｃn Ｈ2n+2化合物は、ｎ＝１〜４のものが
単体でまたは混合して用いられるが、好ましくはｎ＝
１、２のＣＨ4 およびＣ2 Ｈ6 の単体または混合ガスで
ある。これらの化合物が含まれないと、十分な接着力が
得られないか、あるいは全く得られない。
単体でまたは混合して用いられるが、好ましくはｎ＝
１、２のＣＨ4 およびＣ2 Ｈ6 の単体または混合ガスで
ある。これらの化合物が含まれないと、十分な接着力が
得られないか、あるいは全く得られない。
【００２６】雰囲気ガスは希ガスを７０モル％以上、好
ましくは８０モル％以上含むことが重要である。７０モ
ル％未満では、放電領域が狭くなり、また火花放電とな
りやすいため、十分な効果が得られなかったり、処理む
らとなったりするため好ましくない。
ましくは８０モル％以上含むことが重要である。７０モ
ル％未満では、放電領域が狭くなり、また火花放電とな
りやすいため、十分な効果が得られなかったり、処理む
らとなったりするため好ましくない。
【００２７】用いられる希ガスとしては、Ａｒ、Ｎｅ、
Ｈｅ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる単体または混合ガスが挙
げられるが、Ａｒ、Ｈｅが好ましく、より好ましくはＡ
ｒ単体である。
Ｈｅ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる単体または混合ガスが挙
げられるが、Ａｒ、Ｈｅが好ましく、より好ましくはＡ
ｒ単体である。
【００２８】本発明において、処理ガス中にＣＯ2 を含
むことが必要である。ＣＯ2 を含まないと接着力が得ら
れない。
むことが必要である。ＣＯ2 を含まないと接着力が得ら
れない。
【００２９】本発明において、Ｃn Ｈ2n+2とＣＯ2 の組
成割合は、Ｃn Ｈ2n+2とＣＯ2 の組成比Ｃn Ｈ2n+2／Ｃ
Ｏ2 の値が０．６以上５０以下の範囲であることが好ま
しく、より好ましくは１．０以上４０以下の範囲であ
る。これらの範囲を外れると、十分な接着力が得られな
いため好ましくない。
成割合は、Ｃn Ｈ2n+2とＣＯ2 の組成比Ｃn Ｈ2n+2／Ｃ
Ｏ2 の値が０．６以上５０以下の範囲であることが好ま
しく、より好ましくは１．０以上４０以下の範囲であ
る。これらの範囲を外れると、十分な接着力が得られな
いため好ましくない。
【００３０】本発明に於いて、残留ガスや、随伴ガスと
して処理ガス中に含まれるＯ2 濃度の管理はきわめて重
要であり、処理室内に於けるＯ2 濃度は５００ｐｐｍ以
下、好ましくは４００ｐｐｍ以下である必要がある。Ｏ
2 濃度が５００ｐｐｍをこえると、接着力向上に対する
処理効果が小さくなるか、または効果が全く無くなって
しまうため好ましくない。
して処理ガス中に含まれるＯ2 濃度の管理はきわめて重
要であり、処理室内に於けるＯ2 濃度は５００ｐｐｍ以
下、好ましくは４００ｐｐｍ以下である必要がある。Ｏ
2 濃度が５００ｐｐｍをこえると、接着力向上に対する
処理効果が小さくなるか、または効果が全く無くなって
しまうため好ましくない。
【００３１】処理強度としては１０〜１０００Ｗ・ｍｉ
ｎ／ｍ2 の処理電力密度で処理するのがよく、より好ま
しくは５０〜７００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 の処理電力密度で
処理するのがよい。ここで処理電力密度とは、放電に投
入した電力と時間の積を放電面積で割った値であり、長
尺フイルムの処理の場合は投入電力を放電部分の幅（電
極長さ）とフイルムの処理速度で割った値である。
ｎ／ｍ2 の処理電力密度で処理するのがよく、より好ま
しくは５０〜７００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 の処理電力密度で
処理するのがよい。ここで処理電力密度とは、放電に投
入した電力と時間の積を放電面積で割った値であり、長
尺フイルムの処理の場合は投入電力を放電部分の幅（電
極長さ）とフイルムの処理速度で割った値である。
【００３２】次に本発明の実施装置の１例を示すが、も
ちろんこれに限定されない。
ちろんこれに限定されない。
【００３３】図１において、大気中にある送り出しロー
ル２より送り出されたフイルム１はエアーシール部９を
経て処理室１０へはいる。処理室１０はガス供給装置８
より供給されるガスで所定のガス雰囲気に保たれてい
る。処理室１０でフイルムは、高圧印加電極３に印加さ
れた高電圧によって放電処理され、またエアーシール部
９を経て大気中に出て巻取ロール７に巻き取られる。
ル２より送り出されたフイルム１はエアーシール部９を
経て処理室１０へはいる。処理室１０はガス供給装置８
より供給されるガスで所定のガス雰囲気に保たれてい
る。処理室１０でフイルムは、高圧印加電極３に印加さ
れた高電圧によって放電処理され、またエアーシール部
９を経て大気中に出て巻取ロール７に巻き取られる。
【００３４】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【００３５】(1) 接着力の測定 ２枚の処理したフッ素フイルムの処理面同士を重ね合わ
せて、ヒートシーラー（テスター産業製、ＴＰ−７０１
Ｓ）を用いて、熱板温度１９０℃、シール圧力１．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 、シール時間１０秒の条件で熱接着した。
せて、ヒートシーラー（テスター産業製、ＴＰ−７０１
Ｓ）を用いて、熱板温度１９０℃、シール圧力１．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 、シール時間１０秒の条件で熱接着した。
【００３６】次いで、熱接着したフイルムを１０ｍｍ幅
に切り、万能引張試験機（東洋ボールドウィン製、テン
シロン）を用いてＴ剥離する時の接着力を測定した。引
張速度は２００ｍｍ／ｍｉｎとした。
に切り、万能引張試験機（東洋ボールドウィン製、テン
シロン）を用いてＴ剥離する時の接着力を測定した。引
張速度は２００ｍｍ／ｍｉｎとした。
【００３７】(2) 酸素濃度の測定 放電前の処理室内のフイルムから５ｍｍの点の酸素濃度
を、ジルコニアセンサー式酸素濃度計（東レエンジニア
リング製、ＬＣ−８００）で測定した。
を、ジルコニアセンサー式酸素濃度計（東レエンジニア
リング製、ＬＣ−８００）で測定した。
【００３８】実施例１〜４、比較例１〜５ 厚さ２５μｍのＦＥＰフイルム（東レ合成フイルム
（株）製、“トヨフロン”）を表１に示す条件で、図１
の装置を用いて大気圧下のガス雰囲気で処理した。高圧
印加電極は、厚さ１ｍｍのガラスを被覆した内部を水で
冷却した鉄管を用い、ドラム状電極は、厚さ１ｍｍシリ
コーンゴムを被覆したものを用いた。また電極間距離
は、１ｍｍとした。用いた高周波電源の周波数は、１１
０ｋＨｚである。
（株）製、“トヨフロン”）を表１に示す条件で、図１
の装置を用いて大気圧下のガス雰囲気で処理した。高圧
印加電極は、厚さ１ｍｍのガラスを被覆した内部を水で
冷却した鉄管を用い、ドラム状電極は、厚さ１ｍｍシリ
コーンゴムを被覆したものを用いた。また電極間距離
は、１ｍｍとした。用いた高周波電源の周波数は、１１
０ｋＨｚである。
【００３９】接着力を評価した結果を表１に示す。表１
から明らかなように、実施例１〜４では、３５０ｇ／ｃ
ｍ以上の実用上十分な接着力が得られたのに対して、比
較例１〜５では、０〜１２０ｇ／ｃｍの弱い接着力しか
得られなかった。
から明らかなように、実施例１〜４では、３５０ｇ／ｃ
ｍ以上の実用上十分な接着力が得られたのに対して、比
較例１〜５では、０〜１２０ｇ／ｃｍの弱い接着力しか
得られなかった。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、フ
ッ素フイルムの安定した表面改質効果、特に接着性の向
上効果を得ることができる。
ッ素フイルムの安定した表面改質効果、特に接着性の向
上効果を得ることができる。
【００４２】このような効果が得られる理由は明らかで
はないが、放電処理によりフッ素フイルム表面のフッ素
原子の引き抜き反応が起こり、またＣＨ4 、ＣＯ2 によ
りその表面に適当な官能基が生成するために、接着性向
上効果が得られるが、Ｏ2 が存在すると、Ｏ2 の反応性
が高いために官能基の生成が妨げられるものと考えられ
る。
はないが、放電処理によりフッ素フイルム表面のフッ素
原子の引き抜き反応が起こり、またＣＨ4 、ＣＯ2 によ
りその表面に適当な官能基が生成するために、接着性向
上効果が得られるが、Ｏ2 が存在すると、Ｏ2 の反応性
が高いために官能基の生成が妨げられるものと考えられ
る。
【図１】本発明を実施するための装置の１例を示す概略
断面図である。
断面図である。
１：フィルム ３：高圧印加電極 ４：対向電極 ５：高周波高圧電源 ６：整合回路 ９：エアーシール部 １０：処理室
Claims (1)
- 【請求項１】 処理室の前後にエアーシール部を持つエ
アー・ツー・エアー方式の処理装置を用い、該処理室内
で高圧印加電極とフッ素フイルムを支持する対向電極と
の間に高圧を印加することにより得られる放電によって
フッ素フイルムの表面を改質する方法であって、前記放
電を、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少な
くとも１種の希ガスを７０モル％以上と、ＣＯ2 と、化
学式Ｃn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水
素のうちの少なくとも１種とを含み、かつ酸素濃度が５
００ｐｐｍ以下のガス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏ
ｒｒの圧力下で行なうことを特徴とするフッ素フイルム
の表面改質方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6311192A JPH06107828A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6311192A JPH06107828A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107828A true JPH06107828A (ja) | 1994-04-19 |
Family
ID=13219857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6311192A Pending JPH06107828A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06107828A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006059697A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 旭硝子株式会社 | エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体成形物およびその製造方法 |
| WO2014116053A1 (ko) * | 2013-01-28 | 2014-07-31 | 한국기초과학지원연구원 | Ｐｔｆｅ 표면의 친수성 개질 방법 |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP6311192A patent/JPH06107828A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006059697A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 旭硝子株式会社 | エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体成形物およびその製造方法 |
| WO2014116053A1 (ko) * | 2013-01-28 | 2014-07-31 | 한국기초과학지원연구원 | Ｐｔｆｅ 표면의 친수성 개질 방법 |
| KR101480094B1 (ko) * | 2013-01-28 | 2015-01-07 | 한국기초과학지원연구원 | Ｐｔｆｅ 표면의 친수성 개질 방법 |
| CN104955884A (zh) * | 2013-01-28 | 2015-09-30 | 韩国基础科学支援研究院 | 聚四氟乙烯表面亲水性改性方法 |
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