JPH0610917U - レーザ光学系ユニット - Google Patents
レーザ光学系ユニットInfo
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- JPH0610917U JPH0610917U JP5635392U JP5635392U JPH0610917U JP H0610917 U JPH0610917 U JP H0610917U JP 5635392 U JP5635392 U JP 5635392U JP 5635392 U JP5635392 U JP 5635392U JP H0610917 U JPH0610917 U JP H0610917U
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- Lens Barrels (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ユニット内の温度変化と無関係に、ピント位
置を受光面上で一定に保持する事の出来るレーザ光学系
ユニットを提供する事である。 【構成】 この発明に係わるレーザ光学系ユニットは、
ユニットハウジングと、このユニットハウジング内に配
設され、レーザ光を画像情報に応じて変調して出力する
レーザ出力手段と、このレーザ出力手段から出力された
レーザ光を走査面上で円形光束に補正すると共に、非点
収差を補正する為のアナモフィック光学系と、このアナ
モフィック光学系で補正されたレーザ光を偏向させる為
のポリゴンミラーと、このポリゴンミラーで偏向された
レーザ光を走査させる為のfθレンズと、このfθレン
ズで走査されたレーザ光の受光面におけるピント位置
を、ユニットハウジング内の温度変化に対して一定に保
持するピント位置保持機構とを具備する事を特徴として
いる。
置を受光面上で一定に保持する事の出来るレーザ光学系
ユニットを提供する事である。 【構成】 この発明に係わるレーザ光学系ユニットは、
ユニットハウジングと、このユニットハウジング内に配
設され、レーザ光を画像情報に応じて変調して出力する
レーザ出力手段と、このレーザ出力手段から出力された
レーザ光を走査面上で円形光束に補正すると共に、非点
収差を補正する為のアナモフィック光学系と、このアナ
モフィック光学系で補正されたレーザ光を偏向させる為
のポリゴンミラーと、このポリゴンミラーで偏向された
レーザ光を走査させる為のfθレンズと、このfθレン
ズで走査されたレーザ光の受光面におけるピント位置
を、ユニットハウジング内の温度変化に対して一定に保
持するピント位置保持機構とを具備する事を特徴として
いる。
Description
【0001】
この考案は、レーザ光を放出する為のレーザ光学系ユニット、特に、レーザ光 で受光面、例えば感光体の外周面を走査(像露光)する為のレーザ光学系ユニッ トに関する。
【0002】
従来より、電子複写装置には、感光ドラムの表面に配設された感光層に画像に 対応した静電潜像を形成させる為に、レーザ光を用いて像露光する為のレーザス キャニングユニットが備えられている。また、この電子写真装置においては、感 光層に形成された静電潜像をトナーを用いて現像装置により現像し、この現像さ れた顕像を用紙に転写し、この用紙に転写されたトナー像を定着装置により定着 させる事で、用紙上に原稿画像に対応したトナー像(複写画像)が形成される様 に構成されている。
【0003】
ここで、従来のレーザスキャニングユニットにおいて、fθレンズはユニット 内の温度に応じて、膨張/収縮する事となる。そして、このfθレンズの膨張/ 収縮に応じて、受光面としての感光層上におけるピント位置が狂い、画像精度が 劣化する事となる。この為、従来にレーザスキャニングユニットに用いられてい る正のシリンダーレンズを光軸方向に沿って移動させて、ピント位置を目的位置 に合致する様に調整する事が考えられる。ここで、例えば、室温が約10度上昇 する事により、ピント位置が約0.4mmずれることになる。このピント位置のず れをバイメタルの変形に基づきシリンダレンズを光軸方向に沿って移動させる事 により補償しようとする場合に、このバイメタルの作動長は約170mmも必要と なり、ピント調整機構が大型化する事となり、改善が要望されている。
【0004】 この考案は、上述した事情に鑑みてなされたもので、この考案の目的は、ユニ ット内の温度変化と無関係に、ピント位置を受光面上で一定に保持する事の出来 るレーザ光学系ユニットを提供する事である。
【0005】
上述した課題を解決し、目的を達成する為、この考案に係わるレーザ光学系ユ ニットは、ユニットハウジングと、このユニットハウジング内に配設され、レー ザ光を画像情報に応じて変調して出力するレーザ出力手段と、このレーザ出力手 段から出力されたレーザ光を走査面上で円形光束に補正すると共に、非点収差を 補正する為のアナモフィック光学系と、このアナモフィック光学系で補正された レーザ光を偏向させる為の回転鏡と、この回転鏡で偏向されたレーザ光を走査さ せる為のfθレンズと、このfθレンズで走査されたレーザ光の受光面における ピント位置を、前記ユニットハウジング内の温度変化に対して一定に保持するピ ント位置保持手段とを具備する事を特徴としている。
【0006】
以下に、この考案に係わるレーザ光学系ユニットの一実施例の構成を、ファク シミリ装置に適用した場合につき、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0007】 この一実施例のファクシミリ装置10は、図1に示す様に、複数枚を一度にセ ットされた送信原稿の画像情報を一枚づつ自動的に読み取り、読み取った画像情 報を電話回線を用いて相手受信側のファクシミリ装置に送信し、また、相手送信 側のファクシミリ装置から送信されてきた画像情報を、レーザスキャニング方式 を用いた電子写真法を介して、内蔵する用紙(この一実施例では、カットされた 普通紙)に転写(画像形成)することができる様に構成されている。一方、この ファクシミリ装置10は、原稿から読み取った画像情報を、内蔵する用紙に複写 (画像形成)する事のできる所謂電子複写機能を有する様に構成されている。更 に、このファクシミリ装置10は、電話回線以外の接続ラインを介して例えば情 報処理装置から送信されてきた画像情報を内蔵する用紙に転写(画像形成)する 事の出来る所謂プリンタ機能を有する様にも構成されている。
【0008】 このファクシミリ装置10は、これの載置面に対して実質的に平行に配設され たメインプレート12と、このメインプレート12の上面上に装着され、上述し た画像形成機能を担うプリント機構14と、このメインプレート12の後端に回 動自在に軸支され、メインプレート12に対して揺動可能な揺動フレーム16と 、この揺動フレーム16の上面上に配設され、上述した画像読み取り機能を担う 画像読み取り機構18と、この揺動フレーム16の中間部に後端を回動自在に軸 支され、メイン揺動フレーム16に対して揺動可能なコントロールパネル20と 、上述したメインプレート12の下面の左右両側に固定され、夫々前後方向に沿 って延出するロアーフレーム22と、両ロアーフレーム22に挟まれる空間内に 配置されると共にメインプレート12の下面に取り付けられ、プリント機構14 における感光ドラム24の外周面上への潜像形成機能を担う所の、この考案に係 わるレーザ光学系ユニットとしてのレーザスキャニングユニット26と、上述し た各ロアーフレーム22の下面の前後両端に夫々固定され、図示しない載置面上 に載置される4つの脚部28とを概略備えている。
【0009】 上述した様に、この一実施例においては、レーザスキャニングユニット26は 、メインプレート12の下面に取り付けられる様に設定されている。そして、こ のレーザスキャニングユニット26はその一部(具体的には、感光ドラム24へ の画像露光用のレーザ光の取り出し口)をメインプレート12の上面側に突出す る様に設定されている。ここで、仮に、ロアーハウジング30の下面に脚部28 を取り付け、この脚部28を介してロアーハウジング30で荷重を受ける様に構 成すると、このロアーハウジング30を予め組み付けない限りレーザスキャニン グユニット26を組み付けることが困難となり、作業順序に多大な制約が加えら れ、作業性が極めて悪化することとなる。しかしながら、この一実施例において は、ロアーハウジング30とは無関係な状態で、荷重を受ける為の脚部28をロ アーフレーム22に固着しているので、レーザスキャニングユニット26は、メ インプレート12にロアーフレーム22を組み付けた後であれば、いつでもメイ ンプレート12の下面に組み付けることが可能となり、作業性における自由度が 増し、作業性の向上を図ることが出来ることとなる。
【0010】 次に、この一実施例のレーザスキャニングユニット26の構成を図2及び図3 を参照して詳細に説明する。 このレーザスキャニングユニット26は、これが装着されるファクシミリ装置 10のメインプレート12の下面に取り付けられるユニットハウジング32を備 えている。このユニットハウジング32内には、図2に示す様に、半導体レーザ を備えたレーザ光出力部34と、このレーザ光出力部34から出力(発振)され たレーザ光を偏向させる為のポリゴンミラー(回転多面鏡)36と、このポリゴ ンミラー36で偏向されたレーザ光を、受光面(即ち、感光ドラム24の外周面 に形成された感光層)において等速の線速度で走査させる為の結像レンズとして のfθレンズ38と、このfθレンズ38で走査されたレーザ光を一旦下方に向 けて反射させる為の第1の反射ミラー40と、この第1の反射ミラー40で反射 されて来たレーザ光を、上方に向けて反射させる為の第2の反射ミラー42とを 概略備えている。尚、このfθレンズ38は、この一実施例においては、プラス チックから形成されている。
【0011】 尚、この一実施例においては、fθレンズ38で走査されたレーザ光は、図3 に示す様に、ユニットハウジング32の上部に厚さ方向に貫通した状態で形成さ れた開口32aを介して外部に取り出され、受光面としての感光層を外周面に有 する感光ドラム20に対して像露光される様に設定されている。この開口32a は、レーザ光の走査方向に沿って、ユニットハウジング32の上面の略全幅に渡 り形成されており、感光ドラム24から落下して来た現像剤としてのトナーがこ の開口32aを介してユニットハウジング26内に侵入するのを防止する為に、 カバーガラス44により全面的に覆われている。
【0012】 また、図2に示す様に、fθレンズ38で走査されたレーザ光の中で、受光面 での画像形成範囲に対応する走査範囲外の一側に位置した状態で、ユニットハウ ジング32の底面上には、第3の反射ミラー46が搭載されている。一方、この 走査範囲外の他側に位置した状態で、第3の反射ミラー46で反射されたレーザ 光を受ける受光素子48が、ユニットハウジング32の底面上に固定されている 。この受光素子48は、この一実施例においては、水平同期信号を検出する為の ビームデテクターとして機能する様に設定されている。
【0013】 ここで、レーザ光出力部34の半導体レーザ50から出力(射出)される光束 は、縦方向と横方向とで発散角度が異なるものである。この為、通常のコリメー タレンズで平行光にすると光束形状は楕円となる。また、半導体レーザ光束の縦 方向と横方向とでの発散位置(ビームウエスト位置)も僅かに異なる為、非点収 差が生じる事になる。この為、この一実施例においては、半導体レーザ50から 射出されたレーザ光を一旦、アナモフィック光学系52を介して透過させ、走査 面上で楕円形状の光束を円形光束に補正し、且つ、非点収差も同時に補正する様 にしている。ここで、この一実施例のアナモフィック光学系52は、図4及び図 5に示す様に、凸レンズ52aと、この凸レンズ52aのレーザ光の射出方向に 関して下流側に配設された負のシリンダーレンズ52bとを備えて構成されてい る。尚、この負のシリンダーレンズ52bは、ポリゴンミラー36よりも、レー ザ光の射出方向に関して上流側に配設されている。
【0014】 次に、図6乃至図9を参照して、プラスチック製fθレンズ38で走査された レーザ光の受光面におけるピント位置を、ユニットハウジング32内の温度変化 に対して一定に保持するピント位置保持機構54について説明する。この一実施 例においては、ピント位置保持機構54は、ユニットハウジング32内の温度変 化に応じて、上述した負のシリンダーレンズ52bの光軸方向に沿う配設位置を 変更する事により、受光面におけるピント位置を一定に保持する様に構成されて いる。また、このユニットハウジング32内の温度変化に応じて負のシリンダレ ンズ52bの配設位置を変更させる駆動部材として、バイメタル56が採用され ている。
【0015】 詳細には、このピント位置保持機構54は、負のシリンダレンズ52bを保持 するレンズホルダ58と、このレンズホルダ58をレーザ光の光軸方向に沿って 移動可能にガイドする一対のガイド部材60,62と、一方のガイド部材60に 片持ち支持状態で基端部を固定され、先端がレンズホルダ58の下方に延出し、 ユニットハウジング32内の温度影響を受ける様に設定されたバイメタル56と 、レンズホルダ58の下面に下方に突出した状態で取り付けられ、バイメタル5 6の先端部を挟持する一対の把持ピン64,66とを備えて構成されている。こ こで、両ガイド部材60,62はユニットハウジング32の底面上に取り付けら れるものであるが、バイメタル56が取り付けられた一方のガイド部材60は、 レーザ光の光軸に沿って移動可能に取り付けられており、他方のガイド部材62 は、固着されている。
【0016】 ここで、バイメタル56は、ユニットハウジング32内の室温が基準温度であ る場合に、図7に示す様に直線状態で延出し、この基準温度の室温の熱影響下に あるプラスチック製fθレンズ38に対応したピント位置が、受光面としての感 光ドラム24の感光層上に設定される様になされている。また、このバイメタル 56は、ユニットハウジング32内の室温が基準温度よりも低い場合に、図8に 示す様に、レーザ出力部34側に湾曲する様に変形し、図7に示す基準温度の場 合と比較して、負のシリンダレンズ52bを光軸方向に沿ってレーザ出力部32 側に移動させ、この基準温度よりも低い室温の熱影響下にあるプラスチック製f θレンズ38に対応したピント位置が、受光面としての感光ドラム24の感光層 上に設定される様になされている。更に、このバイメタル56は、ユニットハウ ジング32内の室温が基準温度よりも高い場合に、図9に示す様に、ポリゴンミ ラー36側に湾曲する様に変形し、図7に示す基準温度の場合と比較して、負の シリンダレンズ52bを光軸方向に沿ってポリゴンミラー36側に移動させ、こ の基準温度よりも高い室温の熱影響下にあるプラスチック製fθレンズ38に対 応したピント位置が、受光面としての感光ドラム24の感光層上に設定される様 になされている。
【0017】 このようにピント位置保持機構54は構成されているので、ユニットハウジン グ32内の室温に応じてfθレンズ38が膨張/収縮して、ピント位置がずれた としても、この室温に応じて変形するバイメタル56を利用して、アナモフィッ ク光学系52を構成する負のシリンダレンズ52bを光軸方向に沿って移動させ る事により、ピント位置は、感光ドラム24の感光層上に正確に設定され、常に 一定してピントのあった画像が形成される事になる。
【0018】 尚、この一実施例においては、プラスチック製fθレンズ38の温度変化に基 づく感光層上のピント位置を補償する為に、アナモフィック光学系52を構成す る負のシリンダレンズ52bを光軸方向に沿って移動させているが、これは、図 4及び図5に示す配設構造において、負のシリンダレンズ52bのピント感度が 68倍になされているからである。即ち、この負のシリンダレンズ52bを僅か に移動させるだけで、ピント位置のずれ量を確実に補正することが出来ることと なり、換言すれば、この負のシリンダレンズ52bを移動させる為の駆動部材と してのバイメタル56の形状を小さく済ませる事が出来、従って、ピント位置保 持機構54の全体構成を小型化することが出来る事になる。
【0019】 以下に、この小型化の達成について、詳細に数値を上げて説明する。 先ず、前提条件として、プラスチック製fθレンズ38の温度変化によるピン ト位置のずれ量(具体的には、走査面と垂直な断面での移動量)は、ユニットハ ウジング32内の室温が基準温度から10℃変化した場合に、0.4mmであると する。ここで、上述したピント感度から、負のシリンダレンズ52bの光軸方向 に沿う必要移動量(即ち、変位量)Dは、0.4÷64≒0.06mmとなる。一 方、片持ち支持型のバイメタル56の変位量Dは、 D=k・ΔT・L2 /t (但し、k:バイメタル56の湾曲係数、ΔT:ユニットハウジング32内の温 度変化量、L:バイメタル56の作動長、t:バイメタル56の板厚)で表され る。この式から、必要な作動長Lを、(株)東芝製のバイメタル(型番:TIY )を使用した状態で求める。ここで、この(株)東芝製の型番TIYのバイメタ ル56の湾曲係数はk=15.5×10-5であり、また、板厚t=1mmとすると 、 L=√(D・t/k・ΔT)=√(0.06×1/15.5×10-5×10)≒6.2mmとな る。
【0020】 一方、バイメタル56による負のシリンダレンズ52b及びこれをレンズホル ダ58を移動するための力Pは、バイメタル56の幅bを含む以下の式で規定さ れるものである。 P=k・ΔT・E・b・t2 /4L ただし、E:弾性係数(=17000Kg/mm2)、また、P=1Kgとする。
【0021】 この式からバイメタル56の幅bは、 b=4・P・L/k・ΔT・E・t2 =4×1×6.2/15.5×10-5×10×17000×1 ≒9.4mmとなる。 以上詳述したように、この一実施例において(株)東芝製の型番TIYで特定 されるバイメタル56を負のシリンダレンズ52bをユニットハウジング32な いの温度に応じて光軸方向に沿って移動させるためには、その形状を、板厚tを 1mm、作動長Lを6.2mm、そして、幅bを9.4mmにそれぞれ設定すれば良い ことが具体的に検証される。
【0022】 この考案は、上述した一実施例の構成に限定されることなく、この考案の要旨 を逸脱しない範囲で種々変形可能である事は言うまでも無い。 例えば、上述した一実施例においては、バイメタルは片持ち支持状態で取り付 けられる様に説明したが、この考案は、このような構成に限定されることなく、 図6に他の変形例として示す様に、両端支持状態で取り付けられる様に構成して も良い。
【0023】 以下に、この考案の他の実施例の構成を、図10乃至図13を参照して概略的 に説明する。尚、上述した一実施例と同一部分には同一符号を付して、その説明 を省略する。 即ち、この実施例におけるピント位置保持機構68は、負のシリンダレンズ5 2bを保持するレンズホルダ70と、このレンズホルダ70をレーザ光の光軸方 向に沿って移動可能にガイドするガイド部材(図示せず)と、両端をユニットハ ウジング32の底面上に固定され、この底面に対して起立した状態で取りつけら れたバイメタル72と、レンズホルダ70の下面に下方に突出した状態で取り付 けられ、バイメタル72の中央部が嵌入される溝が下面に形成された押さえ台7 4とを備えて構成されている。
【0024】 ここで、バイメタル72は、ユニットハウジング32内の室温が基準温度であ る場合に、図11に示す様に直線状態で延出し、この基準温度の室温の熱影響下 にあるプラスチック製fθレンズ38に対応したピント位置が、受光面としての 感光ドラム24の感光層上に設定される様になされている。また、このバイメタ ル72は、ユニットハウジング32内の室温が基準温度よりも低い場合に、図1 2に示す様に、レーザ出力部34側に湾曲する様に変形し、図11に示す基準温 度の場合と比較して、負のシリンダレンズ52bを光軸方向に沿ってレーザ出力 部32側に移動させ、この基準温度よりも低い室温の熱影響下にあるプラスチッ ク製fθレンズ38に対応したピント位置が、受光面としての感光ドラム24の 感光層上に設定される様になされている。更に、このバイメタル72は、ユニッ トハウジング32内の室温が基準温度よりも高い場合に、図13に示す様に、ポ リゴンミラー36側に湾曲する様に変形し、図11に示す基準温度の場合と比較 して、負のシリンダレンズ52bを光軸方向に沿ってポリゴンミラー36側に移 動させ、この基準温度よりも高い室温の熱影響下にあるプラスチック製fθレン ズ38に対応したピント位置が、受光面としての感光ドラム24の感光層上に設 定される様になされている。
【0025】 このようにして、例え、バイメタル72を両端支持状態でユニットハウジング 32の底面上に固定したとしても、上述した一実施例に示すように、バイメタル 52を片持ち支持状態で取りつけた場合と、同様な効果を奏する事が出来ること になる。
【0026】
以上詳述した様に、この考案に係わるレーザ光学系ユニットは、ユニットハウ ジングと、このユニットハウジング内に配設され、レーザ光を画像情報に応じて 変調して出力するレーザ出力手段と、このレーザ出力手段から出力されたレーザ 光を走査面上で円形光束に補正すると共に、非点収差を補正する為のアナモフィ ック光学系と、このアナモフィック光学系で補正されたレーザ光を偏向させる為 の回転鏡と、この回転鏡で偏向されたレーザ光を走査させる為のfθレンズと、 このfθレンズで走査されたレーザ光の受光面におけるピント位置を、前記ユニ ットハウジング内の温度変化に対して一定に保持するピント位置保持手段とを具 備する事を特徴としている。
【0027】 従って、この考案によれば、ユニット内の温度変化と無関係に、ピント位置を 受光面上で一定に保持する事の出来るレーザ光学系ユニットが提供される事にな る。
【図1】この考案に係わるレーザ光学系ユニットの一実
施例の構成が適用されるファクシミリ装置の内部構成を
概略的に示す側面図である。
施例の構成が適用されるファクシミリ装置の内部構成を
概略的に示す側面図である。
【図2】この考案に係わるレーザ光学系ユニットの一実
施例としてのレーザスキャニングユニットの構成を取り
出して示す平面断面図である。
施例としてのレーザスキャニングユニットの構成を取り
出して示す平面断面図である。
【図3】この考案に係わるレーザ光学系ユニットの一実
施例としてのレーザスキャニングユニットの構成を取り
出して示す縦断面図である。
施例としてのレーザスキャニングユニットの構成を取り
出して示す縦断面図である。
【図4】アナモフィック光学系のレンズ配置構造を、走
査面を含む平面を上方から見た状態で示す上面図であ
る。
査面を含む平面を上方から見た状態で示す上面図であ
る。
【図5】アナモフィック光学系のレンズ配置構造を、走
査面に直交する平面で切断した状態で示す断面図であ
る。
査面に直交する平面で切断した状態で示す断面図であ
る。
【図6】アナモフィック光学系を構成する負のシリンダ
レンズのバイメタルによる移動構造を示す斜視図であ
る。
レンズのバイメタルによる移動構造を示す斜視図であ
る。
【図7】ユニットハウジング内の室温が基準温度にある
場合のバイメタルの変形状態を示す上面図である。
場合のバイメタルの変形状態を示す上面図である。
【図8】ユニットハウジング内の室温が基準温度より低
い温度である場合のバイメタルの変形状態を示す上面図
である。
い温度である場合のバイメタルの変形状態を示す上面図
である。
【図9】ユニットハウジング内の室温が基準温度より高
い温度である場合のバイメタルの変形状態を示す上面図
である。
い温度である場合のバイメタルの変形状態を示す上面図
である。
【図10】この発明に係わるレーザ光学系ユニットの他
の実施例におけるアナモフィック光学系を構成する負の
シリンダレンズのバイメタルによる移動構造を示す斜視
図である。
の実施例におけるアナモフィック光学系を構成する負の
シリンダレンズのバイメタルによる移動構造を示す斜視
図である。
【図11】図10に示す構成におけるユニットハウジン
グ内の室温が基準温度にある場合のバイメタルの変形状
態を示す上面図である。
グ内の室温が基準温度にある場合のバイメタルの変形状
態を示す上面図である。
【図12】図10に示す構成におけるユニットハウジン
グ内の室温が基準温度より低い温度である場合のバイメ
タルの変形状態を示す上面図である。
グ内の室温が基準温度より低い温度である場合のバイメ
タルの変形状態を示す上面図である。
【図13】図10に示す構成におけるユニットハウジン
グ内の室温が基準温度より高い温度である場合のバイメ
タルの変形状態を示す上面図である。
グ内の室温が基準温度より高い温度である場合のバイメ
タルの変形状態を示す上面図である。
24 感光ドラム 26 レーザスキャニングユニット 32 ユニットハウジング 34 レーザ光出力部 36 ポリゴンミラー 38 fθレンズ 46 第3の反射レンズ 48 受光素子(ビームデテクター) 50 半導体レーザ 52 アナモフィック光学系 52a 凸レンズ 52b 負のシリンダレンズ 54 ピント位置保持機構 56 バイメタル 58 レンズホルダ 60;62 ガイド部材 64;66 把持ピン 68 ピント位置保持機構 70 レンズホルダ 72 バイメタル 74 押さえ台である。
Claims (6)
- 【請求項1】ユニットハウジングと、 このユニットハウジング内に配設され、レーザ光を画像
情報に応じて変調して出力するレーザ出力手段と、 このレーザ出力手段から出力されたレーザ光を走査面上
で円形光束に補正すると共に、非点収差を補正する為の
アナモフィック光学系と、 このアナモフィック光学系で補正されたレーザ光を偏向
させる為の回転鏡と、この回転鏡で偏向されたレーザ光
を走査させる為のfθレンズと、 このfθレンズで走査されたレーザ光の受光面における
ピント位置を、前記ユニットハウジング内の温度変化に
対して一定に保持するピント位置保持手段とを具備する
事を特徴とするレーザ光学系ユニット。 - 【請求項2】前記アナモフィック光学系は、少なくとも
負のシリンダレンズを備え、 前記ピント位置保持手段は、このシリンダレンズと前記
ユニットハウジングとの間に介設され、前記ユニットハ
ウジング内の温度に応じて、前記シリンダレンズの光軸
方向に沿う位置を調整するバイメタルを備える事を特徴
とする請求項1に記載のレーザ光学系ユニット。 - 【請求項3】前記バイメタルは、前記ユニットハウジン
グ内の温度が高くなる程、前記fθレンズに近接する様
に、また、前記ユニットハウジング内の温度が低くなる
程、前記fθレンズから離間する様に形成されている事
を特徴とする請求項2に記載のレーザ光学系ユニット。 - 【請求項4】前記バイメタルは、前記ユニットハウジン
グに片持ち支持状態で取り付けられ、このバイメタルの
先端に前記シリンダレンズが接続されている事を特徴と
する請求項2に記載のレーザ光学系ユニット。 - 【請求項5】前記バイメタルは、前記ユニットハウジン
グに両端支持状態で取り付けられ、このバイメタルの中
央部に、前記シリンダレンズが接続されている事を特徴
とする請求項2に記載のレーザ光学系ユニット。 - 【請求項6】前記fθレンズは、プラスチックから形成
される事を特徴とする請求項1に記載のレーザ光学系ユ
ニット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5635392U JPH0610917U (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | レーザ光学系ユニット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5635392U JPH0610917U (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | レーザ光学系ユニット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0610917U true JPH0610917U (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=13024875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5635392U Pending JPH0610917U (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | レーザ光学系ユニット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0610917U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20210131985A1 (en) * | 2019-09-30 | 2021-05-06 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Measuring deflection to determine a characteristic of a layered-material strip |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5934512A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-24 | Canon Inc | 温度補償効果を有する走査光学系 |
| JPS6271913A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 光線式センサ |
| JPS63155012A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Toshiba Corp | 非球面レンズの取付方法 |
-
1992
- 1992-07-17 JP JP5635392U patent/JPH0610917U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5934512A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-24 | Canon Inc | 温度補償効果を有する走査光学系 |
| JPS6271913A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 光線式センサ |
| JPS63155012A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Toshiba Corp | 非球面レンズの取付方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20210131985A1 (en) * | 2019-09-30 | 2021-05-06 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Measuring deflection to determine a characteristic of a layered-material strip |
| US12298264B2 (en) * | 2019-09-30 | 2025-05-13 | United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Measuring deflection to determine a characteristic of a layered-material strip |
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