JPH06112176A - 洗浄・エッチング用ウェハ保持具 - Google Patents
洗浄・エッチング用ウェハ保持具Info
- Publication number
- JPH06112176A JPH06112176A JP16925292A JP16925292A JPH06112176A JP H06112176 A JPH06112176 A JP H06112176A JP 16925292 A JP16925292 A JP 16925292A JP 16925292 A JP16925292 A JP 16925292A JP H06112176 A JPH06112176 A JP H06112176A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- etching
- cleaning
- holder
- wafer holder
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の洗浄・エッチング保持具によれば、
洗浄またはエッチング処理の均一性および安定性が増
し、ウェハ処理後の表面品質が安定する。 【構成】 ウェハを保持するための少なくとも２本以上
の固定棒と１本以上の可動保持棒とを、ウェハを脱落さ
せないように互いの間隔を開けて、かつ一対の対向する
側板を離間させるように取り付け、前記固定保持棒のう
ち少なくとも２本にはウェハを保持するための溝を設
け、可動保持棒を前記側板に対して平行な方向に可動し
たことを特徴とする洗浄・エッチング用ウェハ保持具。
洗浄またはエッチング処理の均一性および安定性が増
し、ウェハ処理後の表面品質が安定する。 【構成】 ウェハを保持するための少なくとも２本以上
の固定棒と１本以上の可動保持棒とを、ウェハを脱落さ
せないように互いの間隔を開けて、かつ一対の対向する
側板を離間させるように取り付け、前記固定保持棒のう
ち少なくとも２本にはウェハを保持するための溝を設
け、可動保持棒を前記側板に対して平行な方向に可動し
たことを特徴とする洗浄・エッチング用ウェハ保持具。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製品の製造工程
において、半導体ウェハを洗浄またはエッチングする際
に用いられる洗浄・エッチング用ウェハ保持具に関す
る。
において、半導体ウェハを洗浄またはエッチングする際
に用いられる洗浄・エッチング用ウェハ保持具に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製品の製造工程においては半導体
ウェハを洗浄したり、エッチングしたりすることが行わ
れるが、そうした処理工程では半導体ウェハを多数収容
することができる樹脂製のウェハ保持具が利用される。
例えば、特開昭６１−１８９６４７号公報には、保持具
本体の内面側の対をなす細長いガイドが多数平行して設
けられていて溝を形成すると共に、本体下部にも前記ガ
イドに対応して溝がきられたサポート部が設けられてい
て、半導体ウェハが前記ガイドとサポート部の溝内に挿
入され、保持具下部に円筒面を有する台を設けて、ウェ
ハの保持具の揺動とともに、ウェハを押し上げる型式の
ものが開示されている。
ウェハを洗浄したり、エッチングしたりすることが行わ
れるが、そうした処理工程では半導体ウェハを多数収容
することができる樹脂製のウェハ保持具が利用される。
例えば、特開昭６１−１８９６４７号公報には、保持具
本体の内面側の対をなす細長いガイドが多数平行して設
けられていて溝を形成すると共に、本体下部にも前記ガ
イドに対応して溝がきられたサポート部が設けられてい
て、半導体ウェハが前記ガイドとサポート部の溝内に挿
入され、保持具下部に円筒面を有する台を設けて、ウェ
ハの保持具の揺動とともに、ウェハを押し上げる型式の
ものが開示されている。
【０００３】洗浄およびエッチングでは均一性を向上さ
せるためにウェハ保持具を回転あるいは揺動させること
が行われる。前記回転および揺動には、処理中に発生す
る気泡を速やかに除いたり、ウェハ近傍の液交換を容易
にする等の効果があり、それによって処理の均一性が増
すのである。しかし、前記公報に開示されているウェハ
保持具の場合、ウェハが脱落してしまうためにウェハ保
持具を回転することは事実上不可能である。したがっ
て、均一性を向上させるにはウェハ保持具の揺動を激し
くする必要があるが、被洗浄・エッチングウェハはウェ
ハ保持具内で振り子のように往復運動しており、反応が
激しい場合には処理中に発生する気泡の除去やウェハ近
傍の液交換が不十分にしか行われず、結果としてウェハ
面内、特にウェハ端部にいたる洗浄およびエッチング均
一性を確保できなくなることが起こる。
せるためにウェハ保持具を回転あるいは揺動させること
が行われる。前記回転および揺動には、処理中に発生す
る気泡を速やかに除いたり、ウェハ近傍の液交換を容易
にする等の効果があり、それによって処理の均一性が増
すのである。しかし、前記公報に開示されているウェハ
保持具の場合、ウェハが脱落してしまうためにウェハ保
持具を回転することは事実上不可能である。したがっ
て、均一性を向上させるにはウェハ保持具の揺動を激し
くする必要があるが、被洗浄・エッチングウェハはウェ
ハ保持具内で振り子のように往復運動しており、反応が
激しい場合には処理中に発生する気泡の除去やウェハ近
傍の液交換が不十分にしか行われず、結果としてウェハ
面内、特にウェハ端部にいたる洗浄およびエッチング均
一性を確保できなくなることが起こる。
【０００４】このような不都合はウェハ保持具を回転可
能な構造にすることである程度は緩和されるが、ウェハ
が前記保持具内でウェハ保持溝に引っかかって回転しな
くなったり、洗浄・エッチング中に発生する気泡が表面
に付着して被洗浄ウェハが上方へ押さえつけられてウェ
ハの回転が抑制されたりすることが散発する。
能な構造にすることである程度は緩和されるが、ウェハ
が前記保持具内でウェハ保持溝に引っかかって回転しな
くなったり、洗浄・エッチング中に発生する気泡が表面
に付着して被洗浄ウェハが上方へ押さえつけられてウェ
ハの回転が抑制されたりすることが散発する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は被ウェハの浮
上を防止しかつ被処理ウェハを保持具内で確実に回転さ
せる機構をウェハ保持具に付与することで前記問題点を
解消し、均一な洗浄あるいはエッチングを安定して行う
ことができる洗浄・エッチング用ウェハ保持具を提供す
るものである。
上を防止しかつ被処理ウェハを保持具内で確実に回転さ
せる機構をウェハ保持具に付与することで前記問題点を
解消し、均一な洗浄あるいはエッチングを安定して行う
ことができる洗浄・エッチング用ウェハ保持具を提供す
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄・エッチン
グ用ウェハ保持具は、ウェハを保持するための少なくと
も２本以上の固定保持棒と１本以上の可動保持棒とを、
ウェハを脱落させないように互いの間隔を開けて、かつ
一対の対向する側板を離間させる用に取り付け、前記固
定保持棒あるいは可動保持棒のいづれか少なくとも１つ
を取り外し可能とし、固定保持棒のうち少なくとも２本
にはウェハを保持するための溝を設け、可動保持棒を前
記側板に対して平行な方向に可動したことを特徴とす
る。
グ用ウェハ保持具は、ウェハを保持するための少なくと
も２本以上の固定保持棒と１本以上の可動保持棒とを、
ウェハを脱落させないように互いの間隔を開けて、かつ
一対の対向する側板を離間させる用に取り付け、前記固
定保持棒あるいは可動保持棒のいづれか少なくとも１つ
を取り外し可能とし、固定保持棒のうち少なくとも２本
にはウェハを保持するための溝を設け、可動保持棒を前
記側板に対して平行な方向に可動したことを特徴とす
る。
【０００７】
【作用】以下、図を参照しながら、本発明の具体的構成
と作用を説明する。
と作用を説明する。
【０００８】図１、２、および３は本発明のウェハ保持
具の一例で、その外観図と２つの断面図である。図２は
側断面図、そして、図３は、図２の紙面に垂直でかつＳ
Ｓ′線を通る断面を表した断面図である。図示されてい
るように、ウェハ保持具本体は一対の側板３からなる。
側板３には固定保持棒１と可動保持棒２が取り付けられ
ている。側板３には回転支持部４がある。固定保持棒１
にはウェハ５を保持するための溝が設けられている。可
動保持棒２の場合、側板３には前記棒の直径よりも大き
な孔６が設けてあり、この孔６で支持されると同時に、
孔６の中で自在に動くことができる。また、被洗浄ウェ
ハの出し入れを容易にするため、固定保持棒あるいは可
動保持棒のいづれか少なくとも１つは取り外し可能であ
る。
具の一例で、その外観図と２つの断面図である。図２は
側断面図、そして、図３は、図２の紙面に垂直でかつＳ
Ｓ′線を通る断面を表した断面図である。図示されてい
るように、ウェハ保持具本体は一対の側板３からなる。
側板３には固定保持棒１と可動保持棒２が取り付けられ
ている。側板３には回転支持部４がある。固定保持棒１
にはウェハ５を保持するための溝が設けられている。可
動保持棒２の場合、側板３には前記棒の直径よりも大き
な孔６が設けてあり、この孔６で支持されると同時に、
孔６の中で自在に動くことができる。また、被洗浄ウェ
ハの出し入れを容易にするため、固定保持棒あるいは可
動保持棒のいづれか少なくとも１つは取り外し可能であ
る。
【０００９】図４はウェハ保持具を回転させた場合の被
洗浄ウェハ５の位置について示している。洗浄またはエ
ッチング前のウェハ５は図４においてＡで表される状態
になっている。溝にセットされたウェハ５は重力により
すべて下側に接している。ウェハ保持具を回転させる
と、ウェハ５は重力により図４のＢの状態になり、ウェ
ハと各保持棒間のクリアランス分だけウェハ５が回転す
る。更に、可動保持棒２もウェハ保持具の回転とともに
側板３の孔６の中で自在に移動してウェハ５を下部に押
し下げる。ウェハ保持具を更に回転させると、図４のＣ
およびＤで表すような状態になり、かくしてウェハ保持
具の回転にともないウェハ５を確実に回転させることが
できる。従来のウェハ保持具では洗浄あるいはエッチン
グ反応により発生する気泡が付着することによりウェハ
５が浮上して回転が妨げられ、洗浄やエッチングの均一
性が損なわれることがあったが、このような場合に、可
動保持棒２がウェハ５の周面を押し下げる本発明の洗浄
・エッチング用ウェハ保持具は極めて有効であり、ウェ
ハ５を確実に回転させることができる。また、従来のウ
ェハ保持具では固定保持棒１に設けられた溝部にウェハ
４が挾まって回転が妨げられて洗浄・エッチングむらが
生ずる場合があったが、ウェハ４を確実に回転できる本
発明の洗浄・エッチング用保持具ではこのようなことが
起こらず、むらを生じない。なお、可動保持棒の材料と
してはテフロン等の比重の大きな物質が好適である。
洗浄ウェハ５の位置について示している。洗浄またはエ
ッチング前のウェハ５は図４においてＡで表される状態
になっている。溝にセットされたウェハ５は重力により
すべて下側に接している。ウェハ保持具を回転させる
と、ウェハ５は重力により図４のＢの状態になり、ウェ
ハと各保持棒間のクリアランス分だけウェハ５が回転す
る。更に、可動保持棒２もウェハ保持具の回転とともに
側板３の孔６の中で自在に移動してウェハ５を下部に押
し下げる。ウェハ保持具を更に回転させると、図４のＣ
およびＤで表すような状態になり、かくしてウェハ保持
具の回転にともないウェハ５を確実に回転させることが
できる。従来のウェハ保持具では洗浄あるいはエッチン
グ反応により発生する気泡が付着することによりウェハ
５が浮上して回転が妨げられ、洗浄やエッチングの均一
性が損なわれることがあったが、このような場合に、可
動保持棒２がウェハ５の周面を押し下げる本発明の洗浄
・エッチング用ウェハ保持具は極めて有効であり、ウェ
ハ５を確実に回転させることができる。また、従来のウ
ェハ保持具では固定保持棒１に設けられた溝部にウェハ
４が挾まって回転が妨げられて洗浄・エッチングむらが
生ずる場合があったが、ウェハ４を確実に回転できる本
発明の洗浄・エッチング用保持具ではこのようなことが
起こらず、むらを生じない。なお、可動保持棒の材料と
してはテフロン等の比重の大きな物質が好適である。
【００１０】以上詳述したように、本発明の洗浄・エッ
チング用ウェハ保持具ではウェハ保持具を回転するだけ
でウェハが保持具内で常に安定に回転するため、洗浄や
エッチングの状況が不均一になったりすることがない。
これに対し、従来のウェハ保持具ではウェハの回転が不
可能または困難な場合があり、洗浄やエッチングの状況
が不均一になったりする。
チング用ウェハ保持具ではウェハ保持具を回転するだけ
でウェハが保持具内で常に安定に回転するため、洗浄や
エッチングの状況が不均一になったりすることがない。
これに対し、従来のウェハ保持具ではウェハの回転が不
可能または困難な場合があり、洗浄やエッチングの状況
が不均一になったりする。
【００１１】
【実施例】ラッピング工程において荒研磨されたシリコ
ンウェハを洗浄した後、図１に示すウェハ保持具にセッ
トした。図１の保持具は本発明のウェハ保持具である。
次に、弗硝酸溶液（５０％弗酸：７０％硝酸：１００％
酢酸を３：５：３の容量比で混合した混酸）中に前記ウ
ェハがセットされた保持具を浸漬して、回転、揺動しな
がらエッチングを行った。比較のために可動保持棒のな
いウェハ保持具でも同様の試験を行った。超純水により
リンスした後、保持具から取り出して乾燥し、エッチン
グむらの有無を調べた。
ンウェハを洗浄した後、図１に示すウェハ保持具にセッ
トした。図１の保持具は本発明のウェハ保持具である。
次に、弗硝酸溶液（５０％弗酸：７０％硝酸：１００％
酢酸を３：５：３の容量比で混合した混酸）中に前記ウ
ェハがセットされた保持具を浸漬して、回転、揺動しな
がらエッチングを行った。比較のために可動保持棒のな
いウェハ保持具でも同様の試験を行った。超純水により
リンスした後、保持具から取り出して乾燥し、エッチン
グむらの有無を調べた。
【００１２】本発明のウェハ保持具を利用した場合には
エッチングむらは全く発生しないが、比較例ではエッチ
ングむらが散発した。また、エッチング後の形状にも差
があり、本発明のウェハ保持具を用いた場合にはウェハ
毎の差はほとんどなかった。
エッチングむらは全く発生しないが、比較例ではエッチ
ングむらが散発した。また、エッチング後の形状にも差
があり、本発明のウェハ保持具を用いた場合にはウェハ
毎の差はほとんどなかった。
【００１３】以上のように、本発明の洗浄・エッチング
用ウェハ保持具ではエッチングが均一に起こり、ウェハ
毎の差異が小さい。
用ウェハ保持具ではエッチングが均一に起こり、ウェハ
毎の差異が小さい。
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の洗浄・エ
ッチング用ウェハ保持具によれば、洗浄またはエッチン
グ処理の均一性および安定性が増し、ウェハ処理後の表
面品質が安定する。
ッチング用ウェハ保持具によれば、洗浄またはエッチン
グ処理の均一性および安定性が増し、ウェハ処理後の表
面品質が安定する。
【図１】 本発明の洗浄・エッチング用ウェハ保持具
（外観図）の一例。
（外観図）の一例。
【図２】 図１の保持具の側断面図。
【図３】 図１の保持の断面図。
【図４】 本発明の洗浄・エッチング用ウェハ保持具を
用いた時の被処理ウェハの位置図。
用いた時の被処理ウェハの位置図。
１…固定保持棒、 ２…可保持棒、 ３…側板、
４…回転支持部、５…ウェハ、 ６…孔。
４…回転支持部、５…ウェハ、 ６…孔。
Claims (1)
- 【請求項１】ウェハを保持するための少なくとも２本以
上の固定保持棒と１本以上の可動保持棒とを、ウェハを
脱落させないように互いの間隔を開けて、かつ一対の対
向する側板を離間させるように取り付け、前記固定保持
棒あるいは可動保持棒のいづれか少なくとも１つを取り
外し可能とし、固定保持棒のうち少なくとも２本にはウ
ェハを保持するための溝を設け、可動保持棒を前記側板
に対して平行な方向に可動としたことを特徴とする洗浄
・エッチング用ウェハ保持具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16925292A JP2740594B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 洗浄・エッチング用ウェハ保持具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16925292A JP2740594B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 洗浄・エッチング用ウェハ保持具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06112176A true JPH06112176A (ja) | 1994-04-22 |
| JP2740594B2 JP2740594B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=15883068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16925292A Expired - Lifetime JP2740594B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | 洗浄・エッチング用ウェハ保持具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2740594B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016046504A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | 力晶科技股▲ふん▼有限公司 | 収容治具及びこの収容治具を含む洗浄槽 |
| EP4113586A1 (fr) * | 2021-07-02 | 2023-01-04 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Dispositif d'immersion de plaquettes |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5911338A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-20 | Hoechst Gosei Kk | 発泡組成物 |
-
1992
- 1992-06-26 JP JP16925292A patent/JP2740594B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5911338A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-20 | Hoechst Gosei Kk | 発泡組成物 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016046504A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | 力晶科技股▲ふん▼有限公司 | 収容治具及びこの収容治具を含む洗浄槽 |
| CN105463491A (zh) * | 2014-08-20 | 2016-04-06 | 力晶科技股份有限公司 | 承载治具 |
| CN105463491B (zh) * | 2014-08-20 | 2017-12-22 | 力晶科技股份有限公司 | 承载治具 |
| EP4113586A1 (fr) * | 2021-07-02 | 2023-01-04 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Dispositif d'immersion de plaquettes |
| FR3124887A1 (fr) * | 2021-07-02 | 2023-01-06 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif d’immersion de plaquettes |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2740594B2 (ja) | 1998-04-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980113 |