JPH06116711A - アルミナ膜の製膜方法 - Google Patents
アルミナ膜の製膜方法Info
- Publication number
- JPH06116711A JPH06116711A JP28707392A JP28707392A JPH06116711A JP H06116711 A JPH06116711 A JP H06116711A JP 28707392 A JP28707392 A JP 28707392A JP 28707392 A JP28707392 A JP 28707392A JP H06116711 A JPH06116711 A JP H06116711A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alumina
- film
- layer
- torr
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 密着力に優れ突沸粒子がない表面が平滑で硬
質の透明アルミナ膜の製膜方法を提供する。 【構成】 イオンプレーティング法で金属表面に蒸着材
料に融解で作成したアルミナを用い、第一層として１×
１０-4Ｔｏｒｒより低い圧力でアルミナを蒸着し、第二
層として１×１０-4Ｔｏｒｒ〜１×１０-3Ｔｏｒｒにな
るように反応ガスとして酸素を導入した状態でアルミナ
を蒸着し、第一層、第二層を通してアルミナの製膜速度
を１０μｍ／ｈｒ以下で保持する。
質の透明アルミナ膜の製膜方法を提供する。 【構成】 イオンプレーティング法で金属表面に蒸着材
料に融解で作成したアルミナを用い、第一層として１×
１０-4Ｔｏｒｒより低い圧力でアルミナを蒸着し、第二
層として１×１０-4Ｔｏｒｒ〜１×１０-3Ｔｏｒｒにな
るように反応ガスとして酸素を導入した状態でアルミナ
を蒸着し、第一層、第二層を通してアルミナの製膜速度
を１０μｍ／ｈｒ以下で保持する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は装飾用メッキなどの耐摩
耗透明保護膜及び金属材料での電気絶縁用のアルミナを
蒸着する方法に関するものである。
耗透明保護膜及び金属材料での電気絶縁用のアルミナを
蒸着する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】アルミナ膜は装飾品や記録媒体の保護膜
として、また電気絶縁用の保護膜として用いられてい
る。記録媒体の保護膜の作製にはスパッタ法が用いられ
るが、装飾品などの場合は成膜速度が速いイオンプレー
ティング法が用いられる。アルミナ膜を装飾品などの金
属表面に製膜する方法として、例えば特開昭５７−７３
１７８に示されるように金属アルミニウムを酸素中に蒸
発させる反応性イオンプレーティング法が知られてい
る。しかし、この方法は製膜条件の幅が狭くその条件か
ら少しでも外れると膜が変色して透明性が得られなかっ
たり、未反応のアルミニウムが析出し電気絶縁性が損な
われる問題があった。これに対して、特開昭６３−６２
８６８に示されるようにアルミナを蒸着材として高周波
イオンプレーティング法により品質の安定したアルミナ
膜を製膜することが行われている。
として、また電気絶縁用の保護膜として用いられてい
る。記録媒体の保護膜の作製にはスパッタ法が用いられ
るが、装飾品などの場合は成膜速度が速いイオンプレー
ティング法が用いられる。アルミナ膜を装飾品などの金
属表面に製膜する方法として、例えば特開昭５７−７３
１７８に示されるように金属アルミニウムを酸素中に蒸
発させる反応性イオンプレーティング法が知られてい
る。しかし、この方法は製膜条件の幅が狭くその条件か
ら少しでも外れると膜が変色して透明性が得られなかっ
たり、未反応のアルミニウムが析出し電気絶縁性が損な
われる問題があった。これに対して、特開昭６３−６２
８６８に示されるようにアルミナを蒸着材として高周波
イオンプレーティング法により品質の安定したアルミナ
膜を製膜することが行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】アルミナを蒸発材料に
用いて、イオンプレーティング法によりアルミナ膜を製
膜すれば硬質で透明性、電気絶縁性に優れたアルミナ膜
を得ることができるが、従来の方法では密着力が低く、
使用中に剥がれ易いという問題点があった。また、蒸発
材料のアルミナに焼結アルミナを用いると、溶解中ガス
が発生しやすく、突沸が生じ基板表面にアルミナ粒子が
付着し表面荒れを起こすという問題があった。そこで、
本発明の目的は、密着力に優れ、突沸粒子のない、すな
わち表面が平滑な硬質で透明性のあるアルミナ膜の製膜
方法を提供することである。
用いて、イオンプレーティング法によりアルミナ膜を製
膜すれば硬質で透明性、電気絶縁性に優れたアルミナ膜
を得ることができるが、従来の方法では密着力が低く、
使用中に剥がれ易いという問題点があった。また、蒸発
材料のアルミナに焼結アルミナを用いると、溶解中ガス
が発生しやすく、突沸が生じ基板表面にアルミナ粒子が
付着し表面荒れを起こすという問題があった。そこで、
本発明の目的は、密着力に優れ、突沸粒子のない、すな
わち表面が平滑な硬質で透明性のあるアルミナ膜の製膜
方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決する手段として、イオンプレーティング法により金属
表面にアルミナ被膜を製膜する際に、蒸着材料として溶
解により作製したアルミナ粒を用い、第一層として１×
１０-4Ｔｏｒｒより低い圧力でアルミナを蒸着し、その
後、第二層として真空槽内の圧力が１×１０-4Ｔｏｒｒ
〜１×１０-3Ｔｏｒｒになるように反応ガスとして酸素
を導入した状態でアルミナを蒸着し、第一層、第二層を
通して、アルミナ膜の成膜速度を１０μｍ／ｈｒ以下に
保持することに特徴がある。
決する手段として、イオンプレーティング法により金属
表面にアルミナ被膜を製膜する際に、蒸着材料として溶
解により作製したアルミナ粒を用い、第一層として１×
１０-4Ｔｏｒｒより低い圧力でアルミナを蒸着し、その
後、第二層として真空槽内の圧力が１×１０-4Ｔｏｒｒ
〜１×１０-3Ｔｏｒｒになるように反応ガスとして酸素
を導入した状態でアルミナを蒸着し、第一層、第二層を
通して、アルミナ膜の成膜速度を１０μｍ／ｈｒ以下に
保持することに特徴がある。
【０００５】
【作用】アルミナを蒸発材料として製膜したアルミナ被
膜の硬度、密着力、透明性は製膜条件に依存する。反応
ガスとして製膜中に導入した酸素の圧力が１×１０-4Ｔ
ｏｒｒより低いと蒸発材のアルミナの分解により、アル
ミナ被膜中の酸素が不足し、化学組成からずれた被膜と
なり、アルミナ被膜の硬度はビッカース硬度でＨｖ７０
０以下になってしまう。Ｈｖ７００以下では硬度が高い
金属材料と同程度である。１×１０-4Ｔｏｒｒ以上でＨ
ｖ７００〜Ｈｖ１１００の被膜が得られる。酸素圧を１
×１０-3Ｔｏｒｒ以上にすると、蒸発材料溶解に用いる
電子銃のタングステンフィラメントや、基板加熱ヒータ
の急激な劣化を引き起こすので望ましくない。
膜の硬度、密着力、透明性は製膜条件に依存する。反応
ガスとして製膜中に導入した酸素の圧力が１×１０-4Ｔ
ｏｒｒより低いと蒸発材のアルミナの分解により、アル
ミナ被膜中の酸素が不足し、化学組成からずれた被膜と
なり、アルミナ被膜の硬度はビッカース硬度でＨｖ７０
０以下になってしまう。Ｈｖ７００以下では硬度が高い
金属材料と同程度である。１×１０-4Ｔｏｒｒ以上でＨ
ｖ７００〜Ｈｖ１１００の被膜が得られる。酸素圧を１
×１０-3Ｔｏｒｒ以上にすると、蒸発材料溶解に用いる
電子銃のタングステンフィラメントや、基板加熱ヒータ
の急激な劣化を引き起こすので望ましくない。
【０００６】ＳＫＨ５１及びＳＵＳ３０４基板に製膜し
たアルミナ被膜の密着力をスクラッチテスタ（ＬＳＲＨ
製ＲＥＶＥＴＥＳＴ）で測定したところ、硬度の酸素圧
依存性とは反対に、酸素圧が１×１０-4Ｔｏｒｒ未満で
１０Ｎ以上の密着力が得られ、１×１０-4Ｔｏｒｒ以上
では１０Ｎ未満になってしまうことを見いだした。
たアルミナ被膜の密着力をスクラッチテスタ（ＬＳＲＨ
製ＲＥＶＥＴＥＳＴ）で測定したところ、硬度の酸素圧
依存性とは反対に、酸素圧が１×１０-4Ｔｏｒｒ未満で
１０Ｎ以上の密着力が得られ、１×１０-4Ｔｏｒｒ以上
では１０Ｎ未満になってしまうことを見いだした。
【０００７】したがって、被膜硬度を低下させずに密着
力を向上させるためには、先ず第一層として１×１０-4
Ｔｏｒｒより低い圧力で酸素を導入しない状態でアルミ
ナを蒸着し、その後更に第二層として酸素を１×１０-4
Ｔｏｒｒ〜１×１０-3Ｔｏｒｒになるように導入した状
態でアルミナを蒸着すれば、被膜硬度Ｈｖ７００以上
で、密着力１０Ｎ以上の硬質で密着性に優れた透明性ア
ルミナ膜を製膜することができる。第二層製膜中に酸素
圧が上記の圧力範囲内で変動しても、得られる被膜の特
性に変わりはない。
力を向上させるためには、先ず第一層として１×１０-4
Ｔｏｒｒより低い圧力で酸素を導入しない状態でアルミ
ナを蒸着し、その後更に第二層として酸素を１×１０-4
Ｔｏｒｒ〜１×１０-3Ｔｏｒｒになるように導入した状
態でアルミナを蒸着すれば、被膜硬度Ｈｖ７００以上
で、密着力１０Ｎ以上の硬質で密着性に優れた透明性ア
ルミナ膜を製膜することができる。第二層製膜中に酸素
圧が上記の圧力範囲内で変動しても、得られる被膜の特
性に変わりはない。
【０００８】該金属としてはＳ１５Ｃなどの肌焼鋼、Ｓ
４５Ｃなどの構造用鋼、ＳＵＰ１０などのばね鋼、ＳＵ
Ｊ２などの軸受鋼、ＳＡＳＭ１などの窒化鋼、ＳＫＤ６
などの熱間加工用鋼、ＳＫＤ１１などの冷間加工用鋼、
ＳＫＨ５１などの高速度工具鋼、ＳＵＳ３０１などの耐
熱鋼、ＳＵＳ４１０などの耐食耐酸鋼などの種々の鋼を
挙げることができる。
４５Ｃなどの構造用鋼、ＳＵＰ１０などのばね鋼、ＳＵ
Ｊ２などの軸受鋼、ＳＡＳＭ１などの窒化鋼、ＳＫＤ６
などの熱間加工用鋼、ＳＫＤ１１などの冷間加工用鋼、
ＳＫＨ５１などの高速度工具鋼、ＳＵＳ３０１などの耐
熱鋼、ＳＵＳ４１０などの耐食耐酸鋼などの種々の鋼を
挙げることができる。
【０００９】また、蒸着材料としてのアルミナには焼結
して作製した焼結アルミナ粒と溶解により作製した溶解
アルミナ粒があるが、焼結アルミナを用いると、製膜中
アルミナ粒内部からガスが発生しやすく、突沸が発生し
基板表面にアルミナ粒子が付着し、基板表面を荒すとい
う問題が生じる。溶解アルミナを用いれば、突沸はかな
り抑えることができ、滑らかな蒸着面を有するアルミナ
蒸着基板が得られる。しかし、溶解アルミナを用いても
製膜速度が速すぎると、突沸が問題となるため製膜速度
は１０μｍ／ｈｒ以下とする必要がある。
して作製した焼結アルミナ粒と溶解により作製した溶解
アルミナ粒があるが、焼結アルミナを用いると、製膜中
アルミナ粒内部からガスが発生しやすく、突沸が発生し
基板表面にアルミナ粒子が付着し、基板表面を荒すとい
う問題が生じる。溶解アルミナを用いれば、突沸はかな
り抑えることができ、滑らかな蒸着面を有するアルミナ
蒸着基板が得られる。しかし、溶解アルミナを用いても
製膜速度が速すぎると、突沸が問題となるため製膜速度
は１０μｍ／ｈｒ以下とする必要がある。
【００１０】本発明に用いるイオンプレーティング法と
しては、蒸着材料の蒸発方法として抵抗加熱、電子銃加
熱等の蒸発材料の溶融を伴う方法を用いたものであれば
良く、また、蒸着材料のイオン化の方法としてアーク放
電、グロー放電、高周波放電等のいずれの方法を備えた
ものでもよい。
しては、蒸着材料の蒸発方法として抵抗加熱、電子銃加
熱等の蒸発材料の溶融を伴う方法を用いたものであれば
良く、また、蒸着材料のイオン化の方法としてアーク放
電、グロー放電、高周波放電等のいずれの方法を備えた
ものでもよい。
【００１１】基板に印加するバイアス電圧は０〜−５０
０Ｖ以下にしたほうがよい。アルミナ被膜の電気絶縁性
がさほど要求されないときはバイアス電圧印加により密
着力を向上させることができるが、高い電気絶縁性が要
求されるときは大きなバイアス電圧を印加することによ
りアルミナ膜が絶縁破壊を起こしてしまう。
０Ｖ以下にしたほうがよい。アルミナ被膜の電気絶縁性
がさほど要求されないときはバイアス電圧印加により密
着力を向上させることができるが、高い電気絶縁性が要
求されるときは大きなバイアス電圧を印加することによ
りアルミナ膜が絶縁破壊を起こしてしまう。
【００１２】製膜中温度は基板の種類、用途に応じて適
宜選択することができ、各種ヒータにより制御すること
ができる。
宜選択することができ、各種ヒータにより制御すること
ができる。
【００１３】
（実施例１）本発明の実施例として、高周波イオンプレ
ーティング法を用い、蒸着原料として溶解法により作製
したアルミナを用いて、ＳＫＨ５１材上に蒸着したアル
ミナ膜の酸素圧による硬度変化及び密着力変化をそれぞ
れ図１及び図２に示す。酸素の圧力が１×１０-4Ｔｏｒ
ｒより低いとアルミナ被膜の硬度はビッカース硬度でＨ
ｖ７００以下になってしまう。１×１０-4Ｔｏｒｒ以上
でＨｖ７００〜Ｈｖ１１００の被膜が得られる。アルミ
ナ被膜の密着力は、硬度の酸素圧依存性とは反対に、酸
素圧が１×１０-4Ｔｏｒｒ未満で１０Ｎ以上の密着力が
得られ、１×１０-4Ｔｏｒｒ以上では１０Ｎ未満になっ
てしまう。
ーティング法を用い、蒸着原料として溶解法により作製
したアルミナを用いて、ＳＫＨ５１材上に蒸着したアル
ミナ膜の酸素圧による硬度変化及び密着力変化をそれぞ
れ図１及び図２に示す。酸素の圧力が１×１０-4Ｔｏｒ
ｒより低いとアルミナ被膜の硬度はビッカース硬度でＨ
ｖ７００以下になってしまう。１×１０-4Ｔｏｒｒ以上
でＨｖ７００〜Ｈｖ１１００の被膜が得られる。アルミ
ナ被膜の密着力は、硬度の酸素圧依存性とは反対に、酸
素圧が１×１０-4Ｔｏｒｒ未満で１０Ｎ以上の密着力が
得られ、１×１０-4Ｔｏｒｒ以上では１０Ｎ未満になっ
てしまう。
【００１４】被覆すべき基板として、ＳＫＨ５１材を用
いた。この基板を有機溶剤で洗浄後、真空反応槽内にセ
ットしこの真空反応槽内の圧力を１×１０-5Ｔｏｒｒ以
上まで真空に排気した。目標真空度に到達後、３００℃
で１時間加熱し、その後Ａｒイオンボンバード処理を１
０分間行った。蒸着材料には溶解法により作製した粒径
１ｍｍから３ｍｍのアルミナ粒を用いた。この蒸着源に
９ｋＶ−３００ｍＡの加速電子を当てることによって加
熱溶解し、アルミナを蒸発させるが、第一層は反応ガス
としての酸素を導入せずに、３０分蒸着する。その後、
酸素２０ｃｃ導入し圧力を３×１０-4Ｔｏｒｒとし、さ
らに３０分第二層の蒸着を行った。第一層及び第二層を
通して、高周波による蒸発材料のイオン化は行わず、基
板にバイアス電圧を印加していない。また製膜中の温度
は３００℃、製膜速度は３μｍ／ｈｒであった。
いた。この基板を有機溶剤で洗浄後、真空反応槽内にセ
ットしこの真空反応槽内の圧力を１×１０-5Ｔｏｒｒ以
上まで真空に排気した。目標真空度に到達後、３００℃
で１時間加熱し、その後Ａｒイオンボンバード処理を１
０分間行った。蒸着材料には溶解法により作製した粒径
１ｍｍから３ｍｍのアルミナ粒を用いた。この蒸着源に
９ｋＶ−３００ｍＡの加速電子を当てることによって加
熱溶解し、アルミナを蒸発させるが、第一層は反応ガス
としての酸素を導入せずに、３０分蒸着する。その後、
酸素２０ｃｃ導入し圧力を３×１０-4Ｔｏｒｒとし、さ
らに３０分第二層の蒸着を行った。第一層及び第二層を
通して、高周波による蒸発材料のイオン化は行わず、基
板にバイアス電圧を印加していない。また製膜中の温度
は３００℃、製膜速度は３μｍ／ｈｒであった。
【００１５】この様な条件の製膜により、３μｍのアル
ミナ被膜が得られた。この被膜の硬度はＨｖ９５０で、
密着力は１６Ｎであり、高硬度で高密着力の透明アルミ
ナ膜が得られた。また、被膜の最大粗さＲmax は０．３
２μｍであった。
ミナ被膜が得られた。この被膜の硬度はＨｖ９５０で、
密着力は１６Ｎであり、高硬度で高密着力の透明アルミ
ナ膜が得られた。また、被膜の最大粗さＲmax は０．３
２μｍであった。
【００１６】（実施例２）第一層及び第二層製膜中に蒸
発材料をイオン化するためにイオン化電極に２００Ｗの
高周波を印加した以外は実施例１と同様の条件でアルミ
ナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は２．８μｍで、
被膜の硬度はＨｖ１０５０、密着力は１７Ｎであった。
発材料をイオン化するためにイオン化電極に２００Ｗの
高周波を印加した以外は実施例１と同様の条件でアルミ
ナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は２．８μｍで、
被膜の硬度はＨｖ１０５０、密着力は１７Ｎであった。
【００１７】（実施例３）第一層製膜中に基板にバイア
ス電圧を−１００Ｖ印加した以外は実施例１と同様の条
件でアルミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．
１μｍで、被膜硬度はＨｖ９７０で密着力は２０Ｎであ
った。
ス電圧を−１００Ｖ印加した以外は実施例１と同様の条
件でアルミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．
１μｍで、被膜硬度はＨｖ９７０で密着力は２０Ｎであ
った。
【００１８】（比較例１）蒸発材料として焼結により作
製したアルミナ粒を用いた以外は実施例１と同様にアル
ミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．４μｍ
で、硬度はＨｖ９３０、密着力は１６Ｎで、溶解アルミ
ナを用いた場合とほぼ同程度であるが、表面粗度はＲ
max ０．９μｍで表面には突沸により付着したと思われ
る粒子が多数観察された。
製したアルミナ粒を用いた以外は実施例１と同様にアル
ミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．４μｍ
で、硬度はＨｖ９３０、密着力は１６Ｎで、溶解アルミ
ナを用いた場合とほぼ同程度であるが、表面粗度はＲ
max ０．９μｍで表面には突沸により付着したと思われ
る粒子が多数観察された。
【００１９】（比較例２）第二層製膜中の酸素の圧力を
７×１０-5Ｔｏｒｒとした以外は実施例１と同様の条件
でアルミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．５
μｍで、硬度はＨｖ６３０、密着力は１５Ｎであった。
７×１０-5Ｔｏｒｒとした以外は実施例１と同様の条件
でアルミナ膜を製膜した。得られた被膜の膜厚は３．５
μｍで、硬度はＨｖ６３０、密着力は１５Ｎであった。
【００２０】（比較例３）第一層、第二層の製膜を通し
て、蒸発源に９ｋＶ−３００ｍＡの加速電圧を当てて、
被膜の製膜速度を１３μｍ／ｈｒとした以外は実施例１
と同様の条件でアルミナ膜を製膜した。被膜硬度はＨｖ
８８０、密着力は１５Ｎであったが、表面粗度はＲmax
１．２μｍで表面には突沸により付着したと思われる粒
子が多数観察された。
て、蒸発源に９ｋＶ−３００ｍＡの加速電圧を当てて、
被膜の製膜速度を１３μｍ／ｈｒとした以外は実施例１
と同様の条件でアルミナ膜を製膜した。被膜硬度はＨｖ
８８０、密着力は１５Ｎであったが、表面粗度はＲmax
１．２μｍで表面には突沸により付着したと思われる粒
子が多数観察された。
【００２１】
【発明の効果】上述したように本発明による製膜方法を
用いることにより、硬質で密着力に優れ、平滑な表面を
持つ透明なアルミナ膜を金属材料上に製膜することがで
き、装飾品等の耐摩耗性を大幅に改善することができ
る。
用いることにより、硬質で密着力に優れ、平滑な表面を
持つ透明なアルミナ膜を金属材料上に製膜することがで
き、装飾品等の耐摩耗性を大幅に改善することができ
る。
【図１】図１は酸素圧と被膜硬度の関係を示す図であ
る。
る。
【図２】図２は酸素圧と密着力の関係を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 イオンプレーティング法により金属表面
にアルミナ被膜を製膜する際に、（１）蒸着材料として
溶解により作製したアルミナ粒を用い、（２）第一層と
して１×１０-4Ｔｏｒｒより低い圧力でアルミナを蒸着
し、（３）その後、第二層として真空槽内の圧力が１×
１０-4Ｔｏｒｒ〜１×１０-3Ｔｏｒｒになるように反応
ガスとして酸素を導入した状態でアルミナを蒸着し、
（４）第一層、第二層を通して、アルミナ膜の製膜速度
を１０μｍ／ｈｒ以下に保持することを特徴とするアル
ミナ膜の製膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28707392A JPH06116711A (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | アルミナ膜の製膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28707392A JPH06116711A (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | アルミナ膜の製膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06116711A true JPH06116711A (ja) | 1994-04-26 |
Family
ID=17712709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28707392A Pending JPH06116711A (ja) | 1992-10-02 | 1992-10-02 | アルミナ膜の製膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06116711A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102115868A (zh) * | 2009-12-30 | 2011-07-06 | 上海欧菲尔光电技术有限公司 | 红外窗口的氧化铝保护膜制备方法 |
| JP2012110894A (ja) * | 2000-01-27 | 2012-06-14 | Battelle Memorial Inst | 触媒、その製造方法、及び触媒を用いる反応 |
| JP2024127139A (ja) * | 2023-03-08 | 2024-09-20 | 出光興産株式会社 | 固体潤滑被膜、摺動部材及び固体潤滑被膜の製造方法 |
-
1992
- 1992-10-02 JP JP28707392A patent/JPH06116711A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012110894A (ja) * | 2000-01-27 | 2012-06-14 | Battelle Memorial Inst | 触媒、その製造方法、及び触媒を用いる反応 |
| CN102115868A (zh) * | 2009-12-30 | 2011-07-06 | 上海欧菲尔光电技术有限公司 | 红外窗口的氧化铝保护膜制备方法 |
| JP2024127139A (ja) * | 2023-03-08 | 2024-09-20 | 出光興産株式会社 | 固体潤滑被膜、摺動部材及び固体潤滑被膜の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US12110580B2 (en) | TiCN having reduced growth defects by means of HiPIMS | |
| US20040173160A1 (en) | Apparatus for thin film deposition, especially under reactive conditions | |
| JPH01129958A (ja) | 高密着窒化チタン膜形成方法 | |
| US7279078B2 (en) | Thin-film coating for wheel rims | |
| US20140255286A1 (en) | Method for manufacturing cubic boron nitride thin film with reduced compressive residual stress and cubic boron nitride thin film manufactured using the same | |
| JPH03260054A (ja) | 耐剥離性にすぐれたｃＢＮ被覆部材及びその製作法 | |
| JPH04103754A (ja) | セラミック被覆材料とその製造方法 | |
| GB2227755A (en) | Improving the wear resistance of metallic components by coating and diffusion treatment | |
| JP2590349B2 (ja) | 耐摩耗性膜被覆方法 | |
| CN104114740A (zh) | 低温电弧离子镀涂层 | |
| JP2004010741A (ja) | 撥水性被膜の形成方法および該方法で形成される撥水性被膜 | |
| JPH10278049A (ja) | 耐摩耗性・耐食性被膜付き金型およびその製法 | |
| JP2898338B2 (ja) | カーボン硬質膜の被覆方法 | |
| JPH1068070A (ja) | 化合物膜の形成方法 | |
| JP2667309B2 (ja) | Ｈｃｄイオンプレーティングによる耐摩耗性被膜形成法 | |
| JPS62128410A (ja) | 熱陰極部品 | |
| JP2005060765A (ja) | 硬質皮膜とその製造方法 | |
| JPS62283258A (ja) | ピストンリング | |
| JPH0718469A (ja) | 金色めっき装身具 | |
| JPH0428861A (ja) | ホロカソード電子銃を用いた成膜装置 | |
| JPH0995763A (ja) | 耐摩耗性皮膜形成方法 | |
| JPS5836671B2 (ja) | 表面処理方法 | |
| JPH0247252A (ja) | 複合材料膜の製造方法 | |
| JP2004244688A (ja) | 窒化チタン被覆チタン材およびその製造方法 | |
| JPH02243757A (ja) | ステンレス合金被膜の形成方法 |