JPH06122929A - 極低酸素銅の製造法 - Google Patents
極低酸素銅の製造法Info
- Publication number
- JPH06122929A JPH06122929A JP4296397A JP29639792A JPH06122929A JP H06122929 A JPH06122929 A JP H06122929A JP 4296397 A JP4296397 A JP 4296397A JP 29639792 A JP29639792 A JP 29639792A JP H06122929 A JPH06122929 A JP H06122929A
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- Japan
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- molten copper
- copper
- gaseous
- gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸素濃度が０．５ppm 以下の純度を有する極
低酸素銅の製造法に関する。 【構成】 溶銅に還元性ガスを吹込みながら撹拌し脱酸
する工程の途中で一時的に溶銅に対して１００〜３００
ppm に相当する量の酸素ガスを吹込むことを特徴とす
る。
低酸素銅の製造法に関する。 【構成】 溶銅に還元性ガスを吹込みながら撹拌し脱酸
する工程の途中で一時的に溶銅に対して１００〜３００
ppm に相当する量の酸素ガスを吹込むことを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、酸素濃度が０．５pp
m 以下の極低酸素銅の製造法に関するものである。
m 以下の極低酸素銅の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】無酸素銅を製造する方法の１つとして、
市販の電気銅を不活性ガスまたは還元性ガス雰囲気中で
溶解して溶銅を作製し、この溶銅中に還元性ガスを吹込
んで撹拌し脱ガスする方法が知られている。
市販の電気銅を不活性ガスまたは還元性ガス雰囲気中で
溶解して溶銅を作製し、この溶銅中に還元性ガスを吹込
んで撹拌し脱ガスする方法が知られている。
【０００３】この方法により製造される無酸素銅の酸素
濃度は１ppm までしか下げることができず、１ppm より
も少なくすることは極めて困難であった。
濃度は１ppm までしか下げることができず、１ppm より
も少なくすることは極めて困難であった。
【０００４】特に、近年、高真空下で使用される粒子加
速器の部材として無酸素銅が使用されており、この無酸
素銅にガスが含まれていると粒子加速器の作動中に真空
度が下がることになる。
速器の部材として無酸素銅が使用されており、この無酸
素銅にガスが含まれていると粒子加速器の作動中に真空
度が下がることになる。
【０００５】したがって、粒子加速器部材として残存ガ
スの極めて少ない無酸素銅が求められており、かかる残
存ガスの少ない無酸素銅を得るためにベーキング処理が
行なわれていた。
スの極めて少ない無酸素銅が求められており、かかる残
存ガスの少ない無酸素銅を得るためにベーキング処理が
行なわれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、無酸素銅に残
存するガスのほとんどは水素であり、水素は無酸素銅中
に酸素が残存していると残存酸素にトラップされてベー
キング処理を行っても十分に除去されない。そのため、
従来よりも一層酸素含有量の少ない極低酸素銅が求めら
れていた。
存するガスのほとんどは水素であり、水素は無酸素銅中
に酸素が残存していると残存酸素にトラップされてベー
キング処理を行っても十分に除去されない。そのため、
従来よりも一層酸素含有量の少ない極低酸素銅が求めら
れていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
従来よりも一層酸素濃度の低い極低酸素銅を得るべく研
究を行った結果、（ａ） 電気銅を溶解して得られた溶
銅に還元性ガスを吹込んで脱酸する工程において、上記
還元性ガスを吹込んでいる途中で一時的に酸素ガスを吹
込むと、得られた鋳塊の酸素濃度が０．５ppm 以下に低
下する、（ｂ） 上記一時的に吹込む酸素ガス量は、溶
銅に対する酸素濃度が１００〜３００ppm に相当する量
であることが一層好ましい、という知見を得たのであ
る。
従来よりも一層酸素濃度の低い極低酸素銅を得るべく研
究を行った結果、（ａ） 電気銅を溶解して得られた溶
銅に還元性ガスを吹込んで脱酸する工程において、上記
還元性ガスを吹込んでいる途中で一時的に酸素ガスを吹
込むと、得られた鋳塊の酸素濃度が０．５ppm 以下に低
下する、（ｂ） 上記一時的に吹込む酸素ガス量は、溶
銅に対する酸素濃度が１００〜３００ppm に相当する量
であることが一層好ましい、という知見を得たのであ
る。
【０００８】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、溶銅に還元性ガスを吹き込みながら
撹拌し脱酸する工程の途中で一時的に酸素ガスを吹込む
極低酸素銅の製造法に特徴を有するものである。
れたものであって、溶銅に還元性ガスを吹き込みながら
撹拌し脱酸する工程の途中で一時的に酸素ガスを吹込む
極低酸素銅の製造法に特徴を有するものである。
【０００９】上記一時的に吹込む酸素ガスの量は、溶銅
に対する酸素濃度が１００〜３００ppm に相当するのが
好ましく、１００ppm 未満ではその後の脱酸効果が十分
でなく、一方、３００ppm を越えると溶銅中に過剰の酸
素が残留してしまうので好ましくない。したがって、溶
銅に吹込む酸素ガス量は溶銅に対して１００〜３００pp
m と定めた。
に対する酸素濃度が１００〜３００ppm に相当するのが
好ましく、１００ppm 未満ではその後の脱酸効果が十分
でなく、一方、３００ppm を越えると溶銅中に過剰の酸
素が残留してしまうので好ましくない。したがって、溶
銅に吹込む酸素ガス量は溶銅に対して１００〜３００pp
m と定めた。
【００１０】溶銅は電気銅をＡｒガス雰囲気中で溶解す
ることが好ましく、脱酸工程にて吹込む還元性ガスはＣ
Ｏガスが好ましい。
ることが好ましく、脱酸工程にて吹込む還元性ガスはＣ
Ｏガスが好ましい。
【００１１】脱酸工程において、ＣＯガスを所定時間吹
込んだのち、ＣＯガスとは別の吹込み口より所定量の純
Ｏ2 ガスまたはＡｒガスとＯ2 ガスの混合ガスを吹込
み、さらにＣＯガスを吹込む。
込んだのち、ＣＯガスとは別の吹込み口より所定量の純
Ｏ2 ガスまたはＡｒガスとＯ2 ガスの混合ガスを吹込
み、さらにＣＯガスを吹込む。
【００１２】溶銅にＣＯガスを吹込んで脱酸している途
中で一時的にＯ2 ガスを吹込むことにより酸素濃度を極
めて低くすることができる理由は、下記によるものと考
えられる。
中で一時的にＯ2 ガスを吹込むことにより酸素濃度を極
めて低くすることができる理由は、下記によるものと考
えられる。
【００１３】すなわち、溶銅をＣＯガスで還元し脱酸が
進行すると、溶銅中の酸素と水素および雰囲気中のＨ2
Ｏは平衡に近づく。ここでＨとＯの結合力はＣＯとＯの
それよりも強いため、ＣＯガスではそれ以上の脱酸が困
難になる。そこで溶銅中にＯ2 ガスを吹込み、固溶水素
をＨ2 Ｏの形で溶銅中から除去すると、ＣＯとＯの反応
がしやすくなり、脱酸がさらに進行する。
進行すると、溶銅中の酸素と水素および雰囲気中のＨ2
Ｏは平衡に近づく。ここでＨとＯの結合力はＣＯとＯの
それよりも強いため、ＣＯガスではそれ以上の脱酸が困
難になる。そこで溶銅中にＯ2 ガスを吹込み、固溶水素
をＨ2 Ｏの形で溶銅中から除去すると、ＣＯとＯの反応
がしやすくなり、脱酸がさらに進行する。
【００１４】
【実施例】原料として酸素：２０ppm 含有の電気銅を用
意し、この電気銅を１５kgづつＡｒガス雰囲気下で加熱
された黒鉛るつぼに投入した。
意し、この電気銅を１５kgづつＡｒガス雰囲気下で加熱
された黒鉛るつぼに投入した。
【００１５】原料の電気銅が溶解した時点でＣＯガスを
溶銅中に流量：５ｌ／分で１０分間吹込んだのち、Ｏ2
ガスを表１に示される条件で吹込み、さらに５ｌ／分の
ＣＯガスを１０分間吹込んで本発明法１〜５および比較
法１〜４により脱酸した。
溶銅中に流量：５ｌ／分で１０分間吹込んだのち、Ｏ2
ガスを表１に示される条件で吹込み、さらに５ｌ／分の
ＣＯガスを１０分間吹込んで本発明法１〜５および比較
法１〜４により脱酸した。
【００１６】上記脱酸した溶銅を直径：３０mmの寸法を
有するモールドに鋳造して鋳塊を製造し、これら鋳塊の
酸素濃度を測定し、その測定値を表１に示した。
有するモールドに鋳造して鋳塊を製造し、これら鋳塊の
酸素濃度を測定し、その測定値を表１に示した。
【００１７】さらに比較のために、途中でＯ2 ガスを吹
込むことなく、流量：５ｌ／分のＣＯガスを２０分間吹
込むことにより従来法による脱酸を行ない、同様にモー
ルドに鋳造して鋳塊を製造し、得られた鋳塊の酸素濃度
を測定してその測定結果を表１に示した。
込むことなく、流量：５ｌ／分のＣＯガスを２０分間吹
込むことにより従来法による脱酸を行ない、同様にモー
ルドに鋳造して鋳塊を製造し、得られた鋳塊の酸素濃度
を測定してその測定結果を表１に示した。
【００１８】
【表１】
【発明の効果】表１に示される結果から、ＣＯガス吹込
み途中で一時的にＯ2 ガスを溶銅に対して１００〜３０
０ppm 吹込む本発明法１〜５で脱酸した溶銅の鋳塊は、
ＣＯガスのみにより脱酸する従来法により得られた鋳塊
に比べて、酸素濃度が極めて低いことがわかる。
み途中で一時的にＯ2 ガスを溶銅に対して１００〜３０
０ppm 吹込む本発明法１〜５で脱酸した溶銅の鋳塊は、
ＣＯガスのみにより脱酸する従来法により得られた鋳塊
に比べて、酸素濃度が極めて低いことがわかる。
【００１９】しかし、比較法１〜４に見られるように、
Ｏ2 ガスの吹込み量がこの発明の範囲から外れると、得
られた鋳塊の酸素濃度は上昇し、十分に脱酸されていな
いことがわかる。
Ｏ2 ガスの吹込み量がこの発明の範囲から外れると、得
られた鋳塊の酸素濃度は上昇し、十分に脱酸されていな
いことがわかる。
【００２０】上述のように、この発明の方法によると従
来の無酸素銅よりも大幅に酸素濃度の低い極低酸素銅を
製造することができ、酸素濃度が低いために材料中に存
在する水素ガスをベーキング等により容易に除去するこ
とができ、高真空下で使用する真空容器の真空度を下げ
ることがない真空容器材料を提供することができ、産業
上すぐれた効果を奏するものである。
来の無酸素銅よりも大幅に酸素濃度の低い極低酸素銅を
製造することができ、酸素濃度が低いために材料中に存
在する水素ガスをベーキング等により容易に除去するこ
とができ、高真空下で使用する真空容器の真空度を下げ
ることがない真空容器材料を提供することができ、産業
上すぐれた効果を奏するものである。
Claims (2)
- 【請求項１】 溶銅に還元性ガスを吹き込みながら撹拌
し脱酸する工程の途中で一時的に酸素ガスを吹込むこと
を特徴とする極低酸素銅の製造法。 - 【請求項２】 上記一時的に吹込む酸素ガス量は、溶銅
に対する酸素濃度が１００〜３００ppm に相当する量で
あることを特徴とする請求項１記載の極低酸素銅の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4296397A JPH06122929A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 極低酸素銅の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4296397A JPH06122929A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 極低酸素銅の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122929A true JPH06122929A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17833018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4296397A Withdrawn JPH06122929A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 極低酸素銅の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06122929A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6944930B2 (en) * | 2000-02-24 | 2005-09-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for manufacturing low-oxygen copper |
-
1992
- 1992-10-08 JP JP4296397A patent/JPH06122929A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6944930B2 (en) * | 2000-02-24 | 2005-09-20 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for manufacturing low-oxygen copper |
| US7524356B2 (en) | 2000-02-24 | 2009-04-28 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for manufacturing low-oxygen copper |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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