JPH06124679A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
- Publication number
- JPH06124679A JPH06124679A JP4275826A JP27582692A JPH06124679A JP H06124679 A JPH06124679 A JP H06124679A JP 4275826 A JP4275826 A JP 4275826A JP 27582692 A JP27582692 A JP 27582692A JP H06124679 A JPH06124679 A JP H06124679A
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- Japan
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- discharge
- signal
- charged particle
- particle beam
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 放電発生部の特定が可能な放電検出回路を備
えた荷電粒子ビーム装置を実現する。 【構成】 電界放射型電子銃２内のいずれかの電極部分
で放電が発生した場合、まず、第２の放電検出部のコン
デンサ１１と抵抗１２との間から放電が起きたことを示
す微分信号が発生する。また、第１の放電検出部のコン
デンサ９と抵抗１０との間から、抵抗１３によって一定
時間ｔ遅延した微分信号が得られる。第２の放電検出部
からの信号は第２のレベル検出回路１５に供給され、こ
の回路１５からハイレベル信号が得られる。第２のレベ
ル検出回路１５からのハイレベル信号は第２のフリップ
フロップ１７に供給され、ハイレベル信号が発生する。
このハイレベル信号がエラー信号Ｅ２となり、このエラ
ー信号Ｅ２によって音かランプなどにより、電子銃部分
での放電の発生をオペレータに知らせる。
えた荷電粒子ビーム装置を実現する。 【構成】 電界放射型電子銃２内のいずれかの電極部分
で放電が発生した場合、まず、第２の放電検出部のコン
デンサ１１と抵抗１２との間から放電が起きたことを示
す微分信号が発生する。また、第１の放電検出部のコン
デンサ９と抵抗１０との間から、抵抗１３によって一定
時間ｔ遅延した微分信号が得られる。第２の放電検出部
からの信号は第２のレベル検出回路１５に供給され、こ
の回路１５からハイレベル信号が得られる。第２のレベ
ル検出回路１５からのハイレベル信号は第２のフリップ
フロップ１７に供給され、ハイレベル信号が発生する。
このハイレベル信号がエラー信号Ｅ２となり、このエラ
ー信号Ｅ２によって音かランプなどにより、電子銃部分
での放電の発生をオペレータに知らせる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム描画装置な
どの荷電粒子ビーム装置に関し、特に、荷電粒子ビーム
発生源と高電圧電源における異常を検出するようにした
荷電粒子ビーム装置に関する。
どの荷電粒子ビーム装置に関し、特に、荷電粒子ビーム
発生源と高電圧電源における異常を検出するようにした
荷電粒子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画装置や電子顕微鏡では、
電子ビーム発生源としての電界放射型電子銃などの電子
銃に高電圧電源から高電圧を印加している。通常、高電
圧を印加する経路に放電検出回路を設け、電子銃内のい
ずれかの電極内で放電が発生したり、高電圧電源部で放
電が発生した場合、検出回路からの出力により高電圧の
電子銃部への印加を停止するようにしている。
電子ビーム発生源としての電界放射型電子銃などの電子
銃に高電圧電源から高電圧を印加している。通常、高電
圧を印加する経路に放電検出回路を設け、電子銃内のい
ずれかの電極内で放電が発生したり、高電圧電源部で放
電が発生した場合、検出回路からの出力により高電圧の
電子銃部への印加を停止するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記した方式では、放
電を検出した後に高電圧の電子銃部への供給を停止する
ことができるものの、どの部分で放電が発生したかを判
断することができず、その後の装置の修理に時間がかか
る問題を有している。
電を検出した後に高電圧の電子銃部への供給を停止する
ことができるものの、どの部分で放電が発生したかを判
断することができず、その後の装置の修理に時間がかか
る問題を有している。
【０００４】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、放電発生部の特定が可能な放電検
出回路を備えた荷電粒子ビーム装置を実現するにある。
もので、その目的は、放電発生部の特定が可能な放電検
出回路を備えた荷電粒子ビーム装置を実現するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
ビーム装置は、荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビー
ム発生源に高電圧を供給するための高電圧電源と、高電
圧電源と荷電粒子ビーム発生源との間に配置された第１
と第２の放電検出手段と、第１と第２の放電検出手段の
間に接続された遅延素子と、第１の放電検出手段からの
信号変化に応じてハイレベル信号を発生する第１のレベ
ル検出回路と、第２の放電検出手段からの信号変化に応
じてハイレベル信号を発生する第２のレベル検出回路
と、第１と第２のレベル検出回路からのハイレベル信号
により荷電粒子ビーム発生源への高電圧の印加を停止さ
せると共に、２種のハイレベル信号のうち早く発生した
ハイレベル信号に基づいてエラー信号を発生させるため
の手段とを備えたことを特徴としている。
ビーム装置は、荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビー
ム発生源に高電圧を供給するための高電圧電源と、高電
圧電源と荷電粒子ビーム発生源との間に配置された第１
と第２の放電検出手段と、第１と第２の放電検出手段の
間に接続された遅延素子と、第１の放電検出手段からの
信号変化に応じてハイレベル信号を発生する第１のレベ
ル検出回路と、第２の放電検出手段からの信号変化に応
じてハイレベル信号を発生する第２のレベル検出回路
と、第１と第２のレベル検出回路からのハイレベル信号
により荷電粒子ビーム発生源への高電圧の印加を停止さ
せると共に、２種のハイレベル信号のうち早く発生した
ハイレベル信号に基づいてエラー信号を発生させるため
の手段とを備えたことを特徴としている。
【０００６】
【作用】本発明に基づく荷電粒子ビーム装置は、高電圧
電源と荷電粒子ビーム発生源とを接続するケーブルの途
中に２種の放電検出手段を遅延素子を介して接続し、放
電発生場所に応じて２種の放電検出手段からの放電検出
信号が時間差を持って発生するようにし、信号の発生の
タイミングから放電発生場所を判別する。
電源と荷電粒子ビーム発生源とを接続するケーブルの途
中に２種の放電検出手段を遅延素子を介して接続し、放
電発生場所に応じて２種の放電検出手段からの放電検出
信号が時間差を持って発生するようにし、信号の発生の
タイミングから放電発生場所を判別する。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳
細に説明する。図１は本発明の一実施例である電子ビー
ム描画装置の概念図、図２はその部分詳細図である。図
１において１は電子ビーム描画装置本体であり、２はそ
の上部に設けられた電界放射型電子銃である。電界放射
型電子銃２には高電圧電源３より高電圧ケーブル４，放
電検出回路５，高電圧ケーブル６を介して電子ビームの
加速電圧などの所定の高電圧が印加される。７は放電信
号処理部８を有した制御回路であり、放電検出回路５か
らの信号により高電圧電源３の制御を行ったり、エラー
信号を発生したりする。
細に説明する。図１は本発明の一実施例である電子ビー
ム描画装置の概念図、図２はその部分詳細図である。図
１において１は電子ビーム描画装置本体であり、２はそ
の上部に設けられた電界放射型電子銃である。電界放射
型電子銃２には高電圧電源３より高電圧ケーブル４，放
電検出回路５，高電圧ケーブル６を介して電子ビームの
加速電圧などの所定の高電圧が印加される。７は放電信
号処理部８を有した制御回路であり、放電検出回路５か
らの信号により高電圧電源３の制御を行ったり、エラー
信号を発生したりする。
【０００８】図２において、放電検出回路５と制御回路
７の一部の放電信号処理部８の詳細が示されているが、
放電検出回路５はコンデンサ９と抵抗１０より成る第１
の放電検出部とコンデンサ１１と抵抗１２とより成る第
２の放電検出部と、第１と第２の放電検出部の間の抵抗
１３より構成されている。なお、抵抗１３は遅延素子と
して動作する。
７の一部の放電信号処理部８の詳細が示されているが、
放電検出回路５はコンデンサ９と抵抗１０より成る第１
の放電検出部とコンデンサ１１と抵抗１２とより成る第
２の放電検出部と、第１と第２の放電検出部の間の抵抗
１３より構成されている。なお、抵抗１３は遅延素子と
して動作する。
【０００９】放電検出回路５の第１の放電検出部と第２
の放電検出部で検出された信号Ｖ１，Ｖ２は、制御回路
７内の放電信号処理部８に供給される。信号Ｖ１は第１
のレベル検出回路１４に供給され、信号Ｖ２は第２のレ
ベル検出回路１５に供給される。第１のレベル検出回路
１４の出力は、第１のフリップフロップ１６に供給さ
れ、第２のレベル検出回路１４の出力は第２のフリップ
フロップ１７に供給される。
の放電検出部で検出された信号Ｖ１，Ｖ２は、制御回路
７内の放電信号処理部８に供給される。信号Ｖ１は第１
のレベル検出回路１４に供給され、信号Ｖ２は第２のレ
ベル検出回路１５に供給される。第１のレベル検出回路
１４の出力は、第１のフリップフロップ１６に供給さ
れ、第２のレベル検出回路１４の出力は第２のフリップ
フロップ１７に供給される。
【００１０】第１のフリップフロップ１６は、第１のエ
ラー信号Ｅ１のステータスを出力すると共に、高電圧電
源３をオフにするためトランジスタ１８をオンにする。
また、第１のフリップフロップ１６の出力は、反転器１
９によって反転されて第２のフリップフロップ１７のク
リアー端子に入力される。
ラー信号Ｅ１のステータスを出力すると共に、高電圧電
源３をオフにするためトランジスタ１８をオンにする。
また、第１のフリップフロップ１６の出力は、反転器１
９によって反転されて第２のフリップフロップ１７のク
リアー端子に入力される。
【００１１】第２のフリップフロップ１７は、第２のエ
ラー信号Ｅ２のステータスを出力すると共に、高電圧電
源３をオフにするためトランジスタ２０をオンにする。
また、第２のフリップフロップ１７の出力は、反転器２
１によって反転されて第２のフリップフロップ１７のク
リアー端子に入力される。このような構成の動作を次に
説明する。
ラー信号Ｅ２のステータスを出力すると共に、高電圧電
源３をオフにするためトランジスタ２０をオンにする。
また、第２のフリップフロップ１７の出力は、反転器２
１によって反転されて第２のフリップフロップ１７のク
リアー端子に入力される。このような構成の動作を次に
説明する。
【００１２】電界放射型電子銃２には、高電圧電源３よ
り高電圧が印加され、電界放射型電子銃２からは電子ビ
ームが発生し、所望の電子ビーム描画が実行される。こ
こで、電界放射型電子銃２内のいずれかの電極部分で放
電が発生した場合、まず、第２の放電検出部のコンデン
サ１１と抵抗１２との間から図３（ａ）に示す微分信号
が発生する。
り高電圧が印加され、電界放射型電子銃２からは電子ビ
ームが発生し、所望の電子ビーム描画が実行される。こ
こで、電界放射型電子銃２内のいずれかの電極部分で放
電が発生した場合、まず、第２の放電検出部のコンデン
サ１１と抵抗１２との間から図３（ａ）に示す微分信号
が発生する。
【００１３】また、第１の放電検出部のコンデンサ９と
抵抗１０との間から図３（ｂ）に示すような、図３
（ａ）の微分信号が発生した時点より抵抗１２によって
一定時間ｔ遅延した微分信号が得られる。図３（ａ）の
信号は、第２のレベル検出回路１５に供給され、この回
路１５から図３（ｃ）のハイレベル信号が得られる。ま
た、図３（ｂ）の信号は、第１のレベル検出回路１４に
供給され、この回路１４から図３（ｄ）のハイレベル信
号が得られる。図３（ｃ）のハイレベル信号は、第２の
フリップフロップ１７に供給され、第２のフリップフロ
ップ１７からは図３（ｅ）のハイレベル信号が発生す
る。この図３（ｅ）のハイレベル信号がエラー信号Ｅ２
となり、このエラー信号Ｅ２によって音かランプなどに
より、電子銃部分での放電の発生をオペレータに知らせ
る。
抵抗１０との間から図３（ｂ）に示すような、図３
（ａ）の微分信号が発生した時点より抵抗１２によって
一定時間ｔ遅延した微分信号が得られる。図３（ａ）の
信号は、第２のレベル検出回路１５に供給され、この回
路１５から図３（ｃ）のハイレベル信号が得られる。ま
た、図３（ｂ）の信号は、第１のレベル検出回路１４に
供給され、この回路１４から図３（ｄ）のハイレベル信
号が得られる。図３（ｃ）のハイレベル信号は、第２の
フリップフロップ１７に供給され、第２のフリップフロ
ップ１７からは図３（ｅ）のハイレベル信号が発生す
る。この図３（ｅ）のハイレベル信号がエラー信号Ｅ２
となり、このエラー信号Ｅ２によって音かランプなどに
より、電子銃部分での放電の発生をオペレータに知らせ
る。
【００１４】なお、ｔ時間遅れて図３（ｄ）のハイレベ
ル信号が、第１のレベル検出回路１４から第１のフリッ
プフロップ１６に供給されるが、図３（ｅ）のハイレベ
ル信号は反転器１９によって反転され、第１のフリップ
フロップ１６のクリアー端子に入力されていることか
ら、第１のフリップフロップ１６からはハイレベル信号
は発生せず、従ってエラー信号Ｅ１は発生しない。
ル信号が、第１のレベル検出回路１４から第１のフリッ
プフロップ１６に供給されるが、図３（ｅ）のハイレベ
ル信号は反転器１９によって反転され、第１のフリップ
フロップ１６のクリアー端子に入力されていることか
ら、第１のフリップフロップ１６からはハイレベル信号
は発生せず、従ってエラー信号Ｅ１は発生しない。
【００１５】一方、高電圧電源３側で放電が発生した場
合、第１のフリップフロップ１６からハイレベル信号が
発生し、エラー信号Ｅ１が発生するので、オペレータは
高電圧電源３で放電が発生したことを知ることができ
る。このように、放電が生じた場所に応じてＥ１かＥ２
のエラー信号が発生するので、オペレータは明確に放電
発生場所を知ることができ、放電発生源の修理を速やか
に行なうことができる。
合、第１のフリップフロップ１６からハイレベル信号が
発生し、エラー信号Ｅ１が発生するので、オペレータは
高電圧電源３で放電が発生したことを知ることができ
る。このように、放電が生じた場所に応じてＥ１かＥ２
のエラー信号が発生するので、オペレータは明確に放電
発生場所を知ることができ、放電発生源の修理を速やか
に行なうことができる。
【００１６】以上本発明の実施例を説明したが、本発明
はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム描画
装置のみならず、イオンビーム描画装置にも本発明を用
いることができる。また、電子顕微鏡などにも本発明を
適用することができる。
はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム描画
装置のみならず、イオンビーム描画装置にも本発明を用
いることができる。また、電子顕微鏡などにも本発明を
適用することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく荷
電粒子ビーム装置は、高電圧電源と荷電粒子ビーム発生
源とを接続するケーブルの途中に２種の放電検出手段を
遅延素子を介して接続し、放電発生場所に応じて２種の
放電検出手段からの放電検出信号が時間差を持って発生
するようにし、信号の発生のタイミングから放電発生場
所を判別するように構成したので、簡単な構成で放電発
生場所の特定を行うことができる。
電粒子ビーム装置は、高電圧電源と荷電粒子ビーム発生
源とを接続するケーブルの途中に２種の放電検出手段を
遅延素子を介して接続し、放電発生場所に応じて２種の
放電検出手段からの放電検出信号が時間差を持って発生
するようにし、信号の発生のタイミングから放電発生場
所を判別するように構成したので、簡単な構成で放電発
生場所の特定を行うことができる。
【図１】本発明の一実施例である電子ビーム描画装置の
概略図である。
概略図である。
【図２】図１の装置の部分詳細図である。
【図３】本発明の動作を説明するために用いた信号波形
図である。
図である。
１ 電子ビーム描画装置本体 ２ 電界放射型電子銃 ３ 高電圧電源 ５ 放電検出回路 ７ 制御回路 ８ 放電信号処理部 １４，１５ レベル検出回路 １６，１７ フリップフロップ １８，２０ トランジスタ １９，２１ 反転器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】 荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビー
ム発生源に高電圧を供給するための高電圧電源と、高電
圧電源と荷電粒子ビーム発生源との間に配置された第１
と第２の放電検出手段と、第１と第２の放電検出手段の
間に接続された遅延素子と、第１の放電検出手段からの
信号変化に応じてハイレベル信号を発生する第１のレベ
ル検出回路と、第２の放電検出手段からの信号変化に応
じてハイレベル信号を発生する第２のレベル検出回路
と、第１と第２のレベル検出回路からのハイレベル信号
により荷電粒子ビーム発生源への高電圧の印加を停止さ
せると共に、２種のハイレベル信号のうち早く発生した
ハイレベル信号に基づいてエラー信号を発生させるため
の手段とを備えた荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4275826A JPH06124679A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4275826A JPH06124679A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124679A true JPH06124679A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17560971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4275826A Withdrawn JPH06124679A (ja) | 1992-10-14 | 1992-10-14 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124679A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184674A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
| US12288669B2 (en) | 2021-07-21 | 2025-04-29 | Nuflare Technology, Inc. | Method and apparatus for detecting discharge site |
| WO2025150183A1 (ja) * | 2024-01-12 | 2025-07-17 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
-
1992
- 1992-10-14 JP JP4275826A patent/JPH06124679A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002184674A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-28 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
| US12288669B2 (en) | 2021-07-21 | 2025-04-29 | Nuflare Technology, Inc. | Method and apparatus for detecting discharge site |
| WO2025150183A1 (ja) * | 2024-01-12 | 2025-07-17 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |