JPH06126272A - 浄水装置 - Google Patents
浄水装置Info
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- JPH06126272A JPH06126272A JP27454292A JP27454292A JPH06126272A JP H06126272 A JPH06126272 A JP H06126272A JP 27454292 A JP27454292 A JP 27454292A JP 27454292 A JP27454292 A JP 27454292A JP H06126272 A JPH06126272 A JP H06126272A
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- purification tank
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 吸着物質を効率的に短時間で脱離させて再生
可能にした浄水装置を提供する。 【構成】 浄水槽内に充填された活性炭に吸着した物質
を脱離させて再生するとき、排水によって浄水槽内を減
圧する減圧手段のアスピレータを備え、減圧下の浄化槽
内に加熱蒸気を送る蒸気供給手段を設けることによっ
て、活性炭の吸着物質の脱離を促進させる。アスピレー
タは、原水の供給が停止された状態で浄水槽内の排水を
行う排水管路の排水流圧を受け、浄水槽内を吸引して減
圧する。減圧及び加熱蒸気供給は交互に数回繰り返すよ
う制御される。
可能にした浄水装置を提供する。 【構成】 浄水槽内に充填された活性炭に吸着した物質
を脱離させて再生するとき、排水によって浄水槽内を減
圧する減圧手段のアスピレータを備え、減圧下の浄化槽
内に加熱蒸気を送る蒸気供給手段を設けることによっ
て、活性炭の吸着物質の脱離を促進させる。アスピレー
タは、原水の供給が停止された状態で浄水槽内の排水を
行う排水管路の排水流圧を受け、浄水槽内を吸引して減
圧する。減圧及び加熱蒸気供給は交互に数回繰り返すよ
う制御される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般家庭用及び業務用
飲料水の浄水装置に関する。
飲料水の浄水装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、水道水をそのまま飲料水として使
用するよりも、活性炭等を利用して浄化するようにした
浄水器が広く一般に普及している。
用するよりも、活性炭等を利用して浄化するようにした
浄水器が広く一般に普及している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来から使用されてきた浄水器の場合、使用年数が高ま
って活性炭に有機塩素系化合物等の物質が物理的に吸着
されると、活性化機能が低下する。この機能低下した活
性炭を活性化させて再生するには、吸着物質の脱離が行
われる。
従来から使用されてきた浄水器の場合、使用年数が高ま
って活性炭に有機塩素系化合物等の物質が物理的に吸着
されると、活性化機能が低下する。この機能低下した活
性炭を活性化させて再生するには、吸着物質の脱離が行
われる。
【０００４】吸着物質の脱離には、浄水槽に温水や加熱
蒸気を通す方法が知られている。こうした脱離方法では
吸着物質の約７０％程度の脱離が可能であるが、長時間
を要し効率面で問題があった。
蒸気を通す方法が知られている。こうした脱離方法では
吸着物質の約７０％程度の脱離が可能であるが、長時間
を要し効率面で問題があった。
【０００５】従って、本発明は、吸着物質を効率的に短
時間で脱離させて再生可能にした浄水装置を提供するこ
とを目的としている。
時間で脱離させて再生可能にした浄水装置を提供するこ
とを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明による洗浄装置は、請求項１にあっては、浄
水槽内に充填された活性炭に吸着した物質を脱離させて
再生するとき、排水によって浄水槽内を減圧する減圧手
段を備えた構成となっている。
め、本発明による洗浄装置は、請求項１にあっては、浄
水槽内に充填された活性炭に吸着した物質を脱離させて
再生するとき、排水によって浄水槽内を減圧する減圧手
段を備えた構成となっている。
【０００７】また、請求項２にあっては、減圧下の浄化
槽内に加熱蒸気を送る蒸気供給手段を設けることによっ
て、活性炭の吸着物質の脱離を促進させる構成である。
槽内に加熱蒸気を送る蒸気供給手段を設けることによっ
て、活性炭の吸着物質の脱離を促進させる構成である。
【０００８】請求項３では、減圧手段が、原水の供給が
停止された状態で浄水槽内の排水を行うための排水管路
と、排水時に排水管路を開く排水弁と、排水管路の排水
流圧を受けて浄水槽内を吸引して減圧するアスピレータ
とからなっている。
停止された状態で浄水槽内の排水を行うための排水管路
と、排水時に排水管路を開く排水弁と、排水管路の排水
流圧を受けて浄水槽内を吸引して減圧するアスピレータ
とからなっている。
【０００９】請求項４では、浄水槽内に紫外線ランプを
配置し、紫外線を送って活性炭の吸着物質を分解する構
成も可能である。
配置し、紫外線を送って活性炭の吸着物質を分解する構
成も可能である。
【００１０】また、請求項５では、浄水槽内を減圧及び
加熱蒸気供給を同時または交互に数回繰り返すようにし
た構成である。
加熱蒸気供給を同時または交互に数回繰り返すようにし
た構成である。
【００１１】
【作用】請求項１の場合、浄水槽内を排水時に減圧手段
によって減圧し、活性炭に吸着した物質を脱離させて再
生する。
によって減圧し、活性炭に吸着した物質を脱離させて再
生する。
【００１２】請求項２の場合、蒸気供給手段から減圧下
の浄化槽内に加熱蒸気を送ることによって、活性炭の吸
着物質の脱離を促進させることができる。
の浄化槽内に加熱蒸気を送ることによって、活性炭の吸
着物質の脱離を促進させることができる。
【００１３】請求項３の場合、減圧手段のアスピレータ
によって、原水の供給が停止された状態で排水管路から
浄水槽内の排水を行い、排水流圧を受けて浄水槽内を吸
引して減圧する。
によって、原水の供給が停止された状態で排水管路から
浄水槽内の排水を行い、排水流圧を受けて浄水槽内を吸
引して減圧する。
【００１４】請求項４の場合、浄水槽内に紫外線ランプ
を配置し、活性炭の吸着物質を分解することで、脱離が
一層効果的となる。
を配置し、活性炭の吸着物質を分解することで、脱離が
一層効果的となる。
【００１５】また、請求項５の場合は、浄水槽内を減圧
及び加熱蒸気供給を同時または交互に数回繰り返すこと
で、吸着物質の脱離がより確実で効率的に行われる。
及び加熱蒸気供給を同時または交互に数回繰り返すこと
で、吸着物質の脱離がより確実で効率的に行われる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明による浄水装置の実施例を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００１７】図１に示すように、実施例の浄水装置１０
は、原水である水道水を供給して浄化後に給水栓から使
用に際し注出するに至るまでのメイン管路１１を有し、
このメイン管路１１には浄水槽１４が設けられている。
またメイン管路１１には殺菌槽等も設けられることもあ
るがここではそれらの説明は省略する。浄水槽１４には
活性炭１６が前後のフィルタ１５を介して充填され、原
水を活性炭１６に通して浄化するようになっている。
は、原水である水道水を供給して浄化後に給水栓から使
用に際し注出するに至るまでのメイン管路１１を有し、
このメイン管路１１には浄水槽１４が設けられている。
またメイン管路１１には殺菌槽等も設けられることもあ
るがここではそれらの説明は省略する。浄水槽１４には
活性炭１６が前後のフィルタ１５を介して充填され、原
水を活性炭１６に通して浄化するようになっている。
【００１８】浄水槽１４の上流入口側でメイン管路１１
には、浄水槽１４への給水を制限する電磁式の給水弁１
２が設けられ、閉弁により浄水槽２０に原水の供給を停
止できる。浄水槽２０の下流出口側でメイン管路１１に
は注水弁１３が設けられ、この注水弁１３を開き操作し
て使用に供することができる。
には、浄水槽１４への給水を制限する電磁式の給水弁１
２が設けられ、閉弁により浄水槽２０に原水の供給を停
止できる。浄水槽２０の下流出口側でメイン管路１１に
は注水弁１３が設けられ、この注水弁１３を開き操作し
て使用に供することができる。
【００１９】また、浄水槽１４からは、実施例では図示
のように入口側に排水管路２０が設けられ、この排水管
路２０には上流側の浄水槽１４から順に逆止弁２１、本
発明でいう減圧手段のアスピレータ２２、そして電磁弁
による排水弁２３が配置されている。アスピレータ２２
は、周知のように水流によって空気その他の気体を吸引
する器具であり、実施例では浄水槽１４からの排水時、
排水弁２３の開弁によって排水管路２０に発生する水流
圧を受けて作動し、浄水槽１４の内部を吸引して減圧す
るようになっている。
のように入口側に排水管路２０が設けられ、この排水管
路２０には上流側の浄水槽１４から順に逆止弁２１、本
発明でいう減圧手段のアスピレータ２２、そして電磁弁
による排水弁２３が配置されている。アスピレータ２２
は、周知のように水流によって空気その他の気体を吸引
する器具であり、実施例では浄水槽１４からの排水時、
排水弁２３の開弁によって排水管路２０に発生する水流
圧を受けて作動し、浄水槽１４の内部を吸引して減圧す
るようになっている。
【００２０】また、メイン管路１１においては、浄水槽
１４を迂回して給水弁１２の上流側とアスピレータ２２
がバイパス管路３０によって接続されている。従って、
アスピレータ２２にはバイパス管路３０から直接原水が
導入可能である。アスピレータ２２に原水を導入する意
味は、この原水によって浄水槽１４からの排水時に伴っ
て排水管路２０に発生する水流を引っ張るためであり、
効果的に水流圧を発生させるためである。
１４を迂回して給水弁１２の上流側とアスピレータ２２
がバイパス管路３０によって接続されている。従って、
アスピレータ２２にはバイパス管路３０から直接原水が
導入可能である。アスピレータ２２に原水を導入する意
味は、この原水によって浄水槽１４からの排水時に伴っ
て排水管路２０に発生する水流を引っ張るためであり、
効果的に水流圧を発生させるためである。
【００２１】一方、バイパス管路３０と浄水槽１４の下
流側は、蒸気供給手段を構成する蒸気供給管路４０で接
続され、この蒸気供給管路４０には同じく蒸気供給手段
を構成するヒータ装置４１が設けられている。ヒータ装
置４１は加熱槽４２を有し、ここにはバイパス管路３０
から原水導入管路４７を通して原水が導入されるように
なっている。加熱槽４２の外周囲にはヒータ４３が巻き
付けてあり、ヒータ４３への通電によって加熱槽４２内
の原水を加熱して蒸発させることが可能である。加熱槽
４２内の原水の水位はセンサ４４で検出するようになっ
ていて、原水の所定の水位を保持して加熱槽４２の空焚
き防止を可能にしている。加熱槽４２の上流側で原水導
入管路４７には電磁弁による第１開閉弁４５が設けら
れ、水位センサ４４の検出信号に基づいた制御装置５０
からの動作信号でもって第１開閉弁４５の開閉を制御
し、加熱槽４２に導入する原水量の調整が行われる。加
熱槽４２と浄水槽１４との間には第２開閉弁４６が設け
られ、加熱槽４２から浄水槽１４に送られる加熱蒸気の
導入を制限する。
流側は、蒸気供給手段を構成する蒸気供給管路４０で接
続され、この蒸気供給管路４０には同じく蒸気供給手段
を構成するヒータ装置４１が設けられている。ヒータ装
置４１は加熱槽４２を有し、ここにはバイパス管路３０
から原水導入管路４７を通して原水が導入されるように
なっている。加熱槽４２の外周囲にはヒータ４３が巻き
付けてあり、ヒータ４３への通電によって加熱槽４２内
の原水を加熱して蒸発させることが可能である。加熱槽
４２内の原水の水位はセンサ４４で検出するようになっ
ていて、原水の所定の水位を保持して加熱槽４２の空焚
き防止を可能にしている。加熱槽４２の上流側で原水導
入管路４７には電磁弁による第１開閉弁４５が設けら
れ、水位センサ４４の検出信号に基づいた制御装置５０
からの動作信号でもって第１開閉弁４５の開閉を制御
し、加熱槽４２に導入する原水量の調整が行われる。加
熱槽４２と浄水槽１４との間には第２開閉弁４６が設け
られ、加熱槽４２から浄水槽１４に送られる加熱蒸気の
導入を制限する。
【００２２】制御装置５０は、図２の制御回路のブロッ
ク図に示すように、マイクロコンピュータ等により構成
されるＣＰＵ（中央演算装置）５１、タイマー回路５２
等からなっていて、Ｉ／Ｏポート５３から外部機器の電
磁弁式給水弁１２、排水弁２３に動作信号を送出して各
弁の開閉を制御するとともに、水位センサ４４からの検
出信号を受けて第１、第２開閉弁４５、４６に動作信号
を送って開閉制御し、またヒータ４３への通電をオンオ
フさせる制御信号を送出するなどの各種制御が可能であ
る。またタイマー回路５２によって、浄水槽１４内の減
圧と加熱蒸気供給の２つの行程を好適なインターバルで
交互に、後述するように数回繰り返すことできる。
ク図に示すように、マイクロコンピュータ等により構成
されるＣＰＵ（中央演算装置）５１、タイマー回路５２
等からなっていて、Ｉ／Ｏポート５３から外部機器の電
磁弁式給水弁１２、排水弁２３に動作信号を送出して各
弁の開閉を制御するとともに、水位センサ４４からの検
出信号を受けて第１、第２開閉弁４５、４６に動作信号
を送って開閉制御し、またヒータ４３への通電をオンオ
フさせる制御信号を送出するなどの各種制御が可能であ
る。またタイマー回路５２によって、浄水槽１４内の減
圧と加熱蒸気供給の２つの行程を好適なインターバルで
交互に、後述するように数回繰り返すことできる。
【００２３】次に、以上の構成による実施例の浄水装置
の作用を図３の動作フローチャートと図４のタイムチャ
ートを併用して説明する。
の作用を図３の動作フローチャートと図４のタイムチャ
ートを併用して説明する。
【００２４】通常使用時、原水の水道水はメイン管路１
１から浄水槽１４に送られ、活性炭１６に接触して浄化
される。浄化水は好適な飲料水等として注水弁１３の操
作により使用に供される。
１から浄水槽１４に送られ、活性炭１６に接触して浄化
される。浄化水は好適な飲料水等として注水弁１３の操
作により使用に供される。
【００２５】長期使用によって、浄水槽１４の活性炭１
６に有機塩素系化合物等による物質が物理的に吸着する
と、それ以上使用に好ましくないとの判断がなされる。
吸着物質の検出には種々の方法が考えられ、吸着量が定
量以下か以上かは基準値との比較を例えばコンピュータ
制御で自動検出して判断する方法などが採用される。こ
こでは判断の方法について特に限定しない。制御装置５
０から例えば警報ランプの点滅方法などで活性炭１６の
再生指示が報知され、次の段階で制御装置５０では再生
制御を開始する（ステップＳ１）。
６に有機塩素系化合物等による物質が物理的に吸着する
と、それ以上使用に好ましくないとの判断がなされる。
吸着物質の検出には種々の方法が考えられ、吸着量が定
量以下か以上かは基準値との比較を例えばコンピュータ
制御で自動検出して判断する方法などが採用される。こ
こでは判断の方法について特に限定しない。制御装置５
０から例えば警報ランプの点滅方法などで活性炭１６の
再生指示が報知され、次の段階で制御装置５０では再生
制御を開始する（ステップＳ１）。
【００２６】まず、制御装置５０からメイン管路１１の
上流側給水弁１２にオフ信号が送られ、給水弁１２が閉
じてそれまで浄水槽１４への原水供給を停止する（ステ
ップＳ２）。これにほぼ同期して、オン信号が排水弁２
３に送られ、排水弁２３が開いて排水管路２０から浄水
槽１４内の排水が開始される（ステップＳ３）。浄水槽
１４では原水供給が停止されているので、排水が進むと
ともに内部が次第に負圧化する。このとき、アスピレー
タ２２には浄水槽１４を迂回した原水がバイパス管路３
０から導入され、排水管路２０の排水に伴ってアスピレ
ータ２２が動作し、浄水槽１４の内部を吸引して減圧す
る。浄水槽１４では、減圧によって活性炭１６に吸着し
た物質が次第に脱離する。
上流側給水弁１２にオフ信号が送られ、給水弁１２が閉
じてそれまで浄水槽１４への原水供給を停止する（ステ
ップＳ２）。これにほぼ同期して、オン信号が排水弁２
３に送られ、排水弁２３が開いて排水管路２０から浄水
槽１４内の排水が開始される（ステップＳ３）。浄水槽
１４では原水供給が停止されているので、排水が進むと
ともに内部が次第に負圧化する。このとき、アスピレー
タ２２には浄水槽１４を迂回した原水がバイパス管路３
０から導入され、排水管路２０の排水に伴ってアスピレ
ータ２２が動作し、浄水槽１４の内部を吸引して減圧す
る。浄水槽１４では、減圧によって活性炭１６に吸着し
た物質が次第に脱離する。
【００２７】図４のように、アスピレータ２２による減
圧はタイマー回路５２によって所定時間Ｔ1行われ（ス
テップＳ４）、次行程の加熱蒸気供給（時間Ｔ2）の行
程と交互に所定のインターバルで繰り返し行われ、制御
装置５０ではＣＰＵ５１にその繰り返し数Ｎが設定して
ある。
圧はタイマー回路５２によって所定時間Ｔ1行われ（ス
テップＳ４）、次行程の加熱蒸気供給（時間Ｔ2）の行
程と交互に所定のインターバルで繰り返し行われ、制御
装置５０ではＣＰＵ５１にその繰り返し数Ｎが設定して
ある。
【００２８】一方、浄水槽１４内の減圧が行われている
間、活性炭１６では物質の脱離が進行する。例えば、減
圧開始と同時に、制御装置５０から第１開閉弁４５にオ
ン信号が送られ、第１開閉弁４５が開いて浄水槽１４を
迂回した原水がバイパス管路３０から原水導入管路４７
に流れ込み、ヒーター装置４１の加熱槽４２内に導入さ
れる。このヒータ装置４１では、加熱槽４２に所定量の
原水が導入されたタイミングを計ってヒータ４３に通電
の信号が送られ、加熱槽４２内の原水を加熱して蒸発さ
せる。
間、活性炭１６では物質の脱離が進行する。例えば、減
圧開始と同時に、制御装置５０から第１開閉弁４５にオ
ン信号が送られ、第１開閉弁４５が開いて浄水槽１４を
迂回した原水がバイパス管路３０から原水導入管路４７
に流れ込み、ヒーター装置４１の加熱槽４２内に導入さ
れる。このヒータ装置４１では、加熱槽４２に所定量の
原水が導入されたタイミングを計ってヒータ４３に通電
の信号が送られ、加熱槽４２内の原水を加熱して蒸発さ
せる。
【００２９】減圧時間Ｔ1がタイムアップすると、制御
装置５０から蒸気供給管路４０の第２開閉弁４６にオン
信号が送られ、この第２開閉弁４６が開いてヒータ装置
４１から加熱蒸気が浄水槽１４内に導入される（ステッ
プＳ５）。減圧下の浄水槽１４内に加熱蒸気の導入によ
って、活性炭１６に吸着した物質の減圧による脱離が更
に促進される。即ち、減圧時間Ｔ1に続いて蒸気供給を
時間Ｔ2だけ交互に設定回数Ｎ回まで繰り返す（ステッ
プＳ５）。これによって、吸着物質の脱離が短時間で再
生効果を一層高めることができる。
装置５０から蒸気供給管路４０の第２開閉弁４６にオン
信号が送られ、この第２開閉弁４６が開いてヒータ装置
４１から加熱蒸気が浄水槽１４内に導入される（ステッ
プＳ５）。減圧下の浄水槽１４内に加熱蒸気の導入によ
って、活性炭１６に吸着した物質の減圧による脱離が更
に促進される。即ち、減圧時間Ｔ1に続いて蒸気供給を
時間Ｔ2だけ交互に設定回数Ｎ回まで繰り返す（ステッ
プＳ５）。これによって、吸着物質の脱離が短時間で再
生効果を一層高めることができる。
【００３０】加熱槽４２で原水の加熱中、原水がなくな
った状態での空焚きが防止される。即ち、加熱槽４２へ
の導入原水量を常時一定に保持するため、水位センサ４
４は所定の原水レベルを検出して信号を制御装置５０に
送り、制御装置５０からの動作信号で原水導入管路４７
の第１開閉弁４５の開閉を管理し、バイパス管路３０か
ら加熱槽４２への原水供給に過不足がないように制御を
行う。
った状態での空焚きが防止される。即ち、加熱槽４２へ
の導入原水量を常時一定に保持するため、水位センサ４
４は所定の原水レベルを検出して信号を制御装置５０に
送り、制御装置５０からの動作信号で原水導入管路４７
の第１開閉弁４５の開閉を管理し、バイパス管路３０か
ら加熱槽４２への原水供給に過不足がないように制御を
行う。
【００３１】なお、本発明の浄水装置１０では、他の実
施例として、電磁式の第１開閉弁４５に代えて三方向切
換弁とすることもできる。また、浄水槽１４の内部に紫
外線ランプ（図示せず）を配置し、前述のように減圧と
蒸気供給の２つの行程を数回繰り返す間に、これらに併
行して紫外線を活性炭１６に照射し、吸着した物質の分
解を行い、脱離を促進させて活性炭１６の再生効率を更
に高めることが可能である。
施例として、電磁式の第１開閉弁４５に代えて三方向切
換弁とすることもできる。また、浄水槽１４の内部に紫
外線ランプ（図示せず）を配置し、前述のように減圧と
蒸気供給の２つの行程を数回繰り返す間に、これらに併
行して紫外線を活性炭１６に照射し、吸着した物質の分
解を行い、脱離を促進させて活性炭１６の再生効率を更
に高めることが可能である。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１による本
発明の浄水装置では、浄水槽の活性炭に吸着した物質を
脱離させて再生する際、浄水槽内の残留水を排水して減
圧する構造が採られているため、従来からの周知技術で
ある温水や加熱蒸気との接触による構造に比較して、脱
離が短時間で行なわれ、活性炭の再生効率を格段に高め
ることができる。
発明の浄水装置では、浄水槽の活性炭に吸着した物質を
脱離させて再生する際、浄水槽内の残留水を排水して減
圧する構造が採られているため、従来からの周知技術で
ある温水や加熱蒸気との接触による構造に比較して、脱
離が短時間で行なわれ、活性炭の再生効率を格段に高め
ることができる。
【００３３】請求項２、３では、減圧下の浄化槽内に加
熱蒸気を送ることによって、活性炭の吸着物質の脱離を
促進させることができる。
熱蒸気を送ることによって、活性炭の吸着物質の脱離を
促進させることができる。
【００３４】請求項４では、浄水槽内に紫外線ランプを
配置することによって、紫外線により減圧下の加熱蒸気
の供給に併行して活性炭の吸着物質の分解が進み、脱離
が一層効果的である。
配置することによって、紫外線により減圧下の加熱蒸気
の供給に併行して活性炭の吸着物質の分解が進み、脱離
が一層効果的である。
【００３５】また、請求項５では、浄水槽内を減圧及び
加熱蒸気供給の２つの行程を交互に繰り返す制御を行う
ことで、吸着物質の脱離がより確実で効率的に行われ
る。
加熱蒸気供給の２つの行程を交互に繰り返す制御を行う
ことで、吸着物質の脱離がより確実で効率的に行われ
る。
【図１】本発明による浄水装置の実施例の構成図
【図２】実施例の浄水装置における制御装置のブロック
図
図
【図３】実施例の浄水装置の動作フローチャート
【図４】実施例の浄水装置における減圧と加熱蒸気供給
のタイムチャート
のタイムチャート
１０…浄水槽、１１…メイン管路、１２、２３、４５、
４６…電磁式開閉弁、１４…浄水槽、１６…活性炭、２
０…排水管路、２２…アスピレータ（減圧手段）、３０
…バイパス管路、４０…蒸気供給管路、４１…ヒータ装
置、４２…加熱槽、４３…ヒータ、４４…水位センサ、
４５、４６…第１、第２開閉弁、４７…原水導入管路。
４６…電磁式開閉弁、１４…浄水槽、１６…活性炭、２
０…排水管路、２２…アスピレータ（減圧手段）、３０
…バイパス管路、４０…蒸気供給管路、４１…ヒータ装
置、４２…加熱槽、４３…ヒータ、４４…水位センサ、
４５、４６…第１、第２開閉弁、４７…原水導入管路。
Claims (5)
- 【請求項１】 浄水槽内に充填された活性炭に吸着した
物質を脱離させて再生するとき、排水によって浄水槽内
を減圧する減圧手段を備えたことを特徴とする浄水装
置。 - 【請求項２】 吸着物質の脱離を促進させるために減圧
下の浄化槽内に加熱蒸気を送る蒸気供給手段を設けた請
求項１記載の浄水装置。 - 【請求項３】 減圧手段が、 原水の供給が停止された状態で浄水槽内の排水を行う排
水管路と、 排水時に排水管路を開く排水弁と、 排水管路の排水流圧を受けて浄水槽内を吸引して減圧す
るアスピレータと、を備えた請求項１記載の浄水装置。 - 【請求項４】 活性炭に吸着した物質を紫外線で分解す
る紫外線ランプを浄水槽内に配置した請求項１乃至３の
いずれか記載の浄水装置。 - 【請求項５】 浄水槽内の減圧及び加熱蒸気供給を同時
または交互に数回繰り返す、 請求項１乃至３のいずれか記載の浄水装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27454292A JP3239304B2 (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 浄水装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP27454292A JP3239304B2 (ja) | 1992-10-13 | 1992-10-13 | 浄水装置 |
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| WO2013125744A1 (ko) * | 2012-02-22 | 2013-08-29 | (주) 윈텍글로비스 | 수처리장치 및 수처리방법 |
-
1992
- 1992-10-13 JP JP27454292A patent/JP3239304B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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