JPH0612645A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 表面研摩と微小面取り加工とを精度よく行っ
て、安定な浮上性の薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提
供する。 【構成】 空気ベアリング面１２の表面を研磨すると同
時に空気ベアリング面１２の全周のエッヂを面取り加工
し、エッヂ面１４を形成する。この際、空気流入方向と
垂直な方向両側端のエッヂ面１４における中央部平坦面
１２１と流入側テーパ面１２２との稜部１３１近傍の領
域IVあるいはスライダ１と薄膜トランスデューサエレメ
ント１７の界面１７１手前の領域IIの面取り長をそれぞ
れｌ₄ 、ｌ₂ 、流入側テーパ面１２２に連接する空気流
入端のエッヂ面１４（領域Ｖ）の面取り長をｌ₅ 、平坦
面１２１に連接する側端側のエッヂ面１４（領域III ）
の面取り長をｌ₃ としたとき、（ｌ₄ −ｌ₅ ）／ｌ₅ を
０．４以下に規制するか、あるいは（ｌ₃ −ｌ₂ ）／ｌ
₃を０．２以下に規制する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドとその
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】情報記録容量の増大、高速アクセス化等
が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁
率を有し、かつ高い転送速度でも高電磁変換効率を維持
出来る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。薄
膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種セラミックス基
板材料が必要であり、ＳｉＣ、ＺｒＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣ等の材料がスライダとして用いられ
ている。

【０００３】薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上
性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面の
うち、空気ベアリング面の表面を研摩する必要がある。
スライダの空気ベアリング面の研摩に際しては、例えば
特開昭６０−１８５２７２号公報、特開昭６３−７０９
１８号公報、特開平２−１９９６１４号公報、特開平２
−２１２０５７号公報、特開平２−３０１０１４号公報
等に開示されているように、研摩フィルムあるいは研摩
テープを用いている。

【０００４】一方、空気ベアリング面の全周のエッヂ
（稜線部）を面取り加工することが、走行耐久性を向上
させる点で好ましい。この面取りは、通常空気ベアリン
グ面の研摩と同時に行われる。従って、表面研摩条件に
よって面取り寸法は種々変化する。しかし、上記の公報
には、エッヂの面取り加工面（エッヂ面）の寸法精度に
ついては全く着眼も言及もされていない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】研摩フィルムによって
スライダの空気ベアリング面、例えばレール面を研摩す
るとき、通常の条件下では、同時に行われる面取り量は
微小であるので、エッヂ部位によって面取り寸法が大き
くバラツくことが判明した。そして、微小面取り寸法が
バラツく従来のスライダでは、浮上安定性の点で満足で
きない。より具体的には、ＣＳＳ（コンタクト・スター
ト・ストップ）での浮上不安定を生み、浮上姿勢でのロ
ール角のバラツキが大きくなっていることが判明した。
また、より一層低浮上量とするときには浮上性が確保で
きなくなることも判明した。

【０００６】本発明の主たる目的は、表面研摩と同時に
行われる微小面取り加工を精度よく行うことによって、
安定な浮上性を示す薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提
供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的は下記の
（１）〜（１５）の本発明によって達成される。

【０００８】（１）スライダの空気流出端側に薄膜トラ
ンスデューサエレメントを有し、空気ベアリング面の全
周のエッヂが面取り加工されてエッヂ面が形成されてお
り、前記空気ベアリング面は、中央部平坦面に連接して
その空気流入側に流入側テーパ面を有し、空気流入方向
と垂直な方向両側端のエッヂ面における前記中央部平坦
面と流入側テーパ面との稜部を基点として空気流入方向
に±０．１mmまでの領域の面取り長をｌ₄ 、前記流入側
テーパ面に連接する空気流入端のエッヂ面の面取り長を
ｌ₅ としたとき、（ｌ₄ −ｌ₅ ）／ｌ₅ が０．４以下で
ある薄膜磁気ヘッド。

【０００９】（２）空気流入方向と垂直な方向両側端の
エッヂ面における前記スライダと薄膜トランスデューサ
エレメントとの界面から空気流入側に０．２mmまでの領
域の面取り長をｌ₂ 、前記中央部平坦面に連接する両側
端のエッヂ面の面取り長をｌ₃ としたとき、（ｌ₃ −ｌ
₂ ）／ｌ₃ が０．２以下である上記（１）の薄膜磁気ヘ
ッド。

【００１０】（３）スライダの空気流出端側に薄膜トラ
ンスデューサエレメントを有し、空気ベアリング面の全
周のエッヂが面取り加工されてエッヂ面が形成されてお
り、前記空気ベアリング面は、中央部平坦面に連接して
その空気流入側に流入側テーパ面を有し、空気流入方向
と垂直な方向両側端のエッヂ面における前記スライダと
薄膜トランスデューサエレメントとの界面から空気流入
端側に０．２mmまでの領域の面取り長をｌ₂ 、前記中央
部平坦面に連接する両側端のエッヂ面の面取り長をｌ₃
としたとき、（ｌ₃ −ｌ₂ ）／ｌ₃ が０．２以下である
薄膜磁気ヘッド。

【００１１】（４）空気流出端のエッヂ面の面取り長ｌ
₁ が４〜２０μm である上記（１）ないし（３）のいず
れかの薄膜磁気ヘッド。

【００１２】（５）エッヂ面全ての面取り長が４〜２０
μm である上記（１）ないし（４）のいずれかの薄膜磁
気ヘッド。

【００１３】（６）エッヂ面全ての面取り長の範囲Ｒ
（ＪＩＳ Ｚ８１０８１）が５μm 以下である上記
（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッド。

【００１４】（７）スライダ上の空気流出端側に薄膜ト
ランスデューサエレメントを有し、空気ベアリング面の
全周のエッヂが面取り加工されてエッヂ面が形成されて
おり、エッヂ面全ての面取り長が４〜２０μm であり、
この面取り長の範囲Ｒ（ＪＩＳ Ｚ８１０８１）が５μ
m 以下である薄膜磁気ヘッド。

【００１５】（８）前記空気ベアリング面は、磁気記録
媒体対向面の空気流入方向と垂直な方向の両側端に空気
流入方向と平行に設けられた１対のレール上に形成され
ている上記（１）ないし（７）のいずれかの薄膜磁気ヘ
ッド。

【００１６】（９）前記空気ベアリング面は、磁気記録
媒体対向面のほぼ全域を占める上記（１）ないし（７）
のいずれかの薄膜磁気ヘッド。

【００１７】（１０）コンタクト・スタート・ストップ
方式によって磁気記録媒体上を浮上走行する上記（１）
ないし（９）のいずれかの薄膜磁気ヘッド。

【００１８】（１１）前記スライダのビッカース硬度Ｈ
Ｖ（５００g ）が、１１００以上である上記（１）ない
し（１０）のいずれかの薄膜磁気ヘッド。

【００１９】（１２）薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング
面を研摩すると同時に面取り加工し、前記エッヂ面を形
成して上記（１）〜（１１）の薄膜磁気ヘッドを得る薄
膜磁気ヘッドの製造方法。

【００２０】（１３）前記研摩をダイヤモンド微粒子を
使用したダイヤモンド研摩フィルムによって行う上記
（１２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。

【００２１】（１４）前記ダイヤモンド微粒子の平均粒
径が１．０μm 以下である上記（１３）の薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。

【００２２】（１５）前記ダイヤモンド研摩フィルムの
厚さが１０μm 以下である上記（１３）または（１４）
の薄膜磁気ヘッドの製造方法。

【００２３】

【作用および効果】本発明においては、好ましくは所定
のダイヤモンド研摩フィルムを用いて空気ベアリング面
の表面研摩を行うことにより、空気ベアリング面全周の
エッヂ面の面取り長をきわめて均一なものとする。より
具体的には、スライダの空気ベアリング面には、中央部
の平坦面に連接して空気流入側にテーパ面が形成され、
また空気流入端側には薄膜トランスデューサエレメント
が形成されるが、これらテーパ面と平坦面との稜部や、
薄膜トランスデューサエレメントとスライダとの界面に
おいては特に面取り寸法が大きく変化する。これを好ま
しくは所定のダイヤモンド研摩フィルムを用いることに
より、変化量ができるだけ少なくなるように規制するも
のである。この結果、特に浮上姿勢でのロール角のバラ
ツキが少なくなるなど、浮上安定性が格段と向上すると
いう予期せぬ効果が生じるものである。

【００２４】

【具体的構成】以下、添付図面を参照しつつ、本発明の
具体的構成について説明する。まず、本発明によって得
られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図１および図
２、図３および図４、さらには図５および図６は、それ
ぞれ薄膜磁気ヘッドの１例を示す斜視図と平面図である
が、本発明の寸法規制の対象が明瞭になるように、実際
より誇張して画かれている。これらの図において、スラ
イダ１は、媒体対向面１１に平面状の空気ベアリング面
１２を有しており、矢印ａが磁気ディスクと組み合わせ
た場合の空気流入方向である。そして、図１、図２で
は、媒体対向面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央
部の溝１９を介して、２本のレール１６、１６が形成さ
れ、このレール１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリ
ング面１２、１２を構成している。なお、レール１６、
１６は３本以上であってもよい。また、図３、図４およ
び図５、図６では、媒体対向面１１のほぼ全域が空気ベ
アリング面１２を構成している。なお、スライダ１の空
気流出端には、総厚３０〜６０μm 程度の薄膜トランス
デューサエレメント１７が薄膜積層技術により形成され
ている。また、媒体対向面のサイズは、（０．２〜４m
m）×（０．２〜３．２mm）程度である。

【００２５】磁気ディスク装置として使用する場合は、
スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１１５を、ジン
バルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停
止を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ
（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気
ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ
圧により空気ベアリング面１２が磁気ディスクの表面に
押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、スラ
イダ１の空気ベアリング面１２に揚力動圧が発生し、こ
の動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上量で動
作する。なお、ＣＳＳでは、特に浮上姿勢でのロール角
変動抑制効果が有効に実現するが、この他、いわゆるダ
イナミックローディングを用いることもできる。

【００２６】図１、図２および図３、図４に示されるよ
うに、空気ベアリング面１２は、中央部の平坦面１２１
と、その空気流入側に連接し、平坦面１２１に対し微少
角度で傾斜する流入側のテーパ面１２２とから構成され
ている。このテーパ面の形成１２２は、空気ベアリング
面の研摩と、それと同時に行われる面取り加工とを行う
研摩工程に先立って行われる。なお、図５、図６は流入
側のテーパ面１２２を設けない例である。

【００２７】このような空気ベアリング面１２の全周は
面取り加工されており、エッヂ面１４が形成されてい
る。エッヂ面１４の面取り長は、全周に亘ってきわめて
均質に規制されており、面取り長が最も変動しやすいテ
ーパ面１２２と平坦面１２１との稜部１３１や、薄膜ト
ランスデューサエレメント１７とスライダ１との界面１
７１においてもその変動は少ない。

【００２８】より具体的には、流入側テーパ面１２２を
設ける場合、空気流入方向と垂直な方向（巾方向）の両
側端のエッヂ面１４において、平坦面１２１とテーパ面
１２２との稜部１３１を基点とし、空気流入方向に±
０．１mmの領域のIVの面取り長さをｌ₄ とし、エッヂ面
１４の空気ベアリング面１２の流入側テーパ面１２２と
連接する領域Ｖ（なお、図５、図６のテーパ面１２１を
設けないときには領域Ｖは平坦面１２１と連接する領域
である）の面取り長さをｌ₅ としたとき、（ｌ₄−ｌ
₅ ）／ｌ₅ は０．４以下、より好ましくは０．３５以
下、特に０〜０．３、さらには０．０５〜０．３に規制
できる。この場合、面取り長とは、空気ベアリング面１
２の平坦面１２１を平置したときのヘッドの媒体対向面
の側端面（例えばレール１６の側面）と空気ベアリング
面１２境界線との垂直距離であり、平坦面１２１を平置
した状態で２光束顕微鏡で２光束干渉法により干渉縞発
生領域を測定することによって算出されるものである。
２光束干渉法では、強度が等しい二光束に分割し、一方
を参照鏡（ガラス基準板）、他方を試料に入射し、両反
射光の光路差を測定する。この際、２光束顕微鏡では例
えば多層膜干渉フィルタで緑色（５４６nm）とした光源
を用い、参照鏡と被検体表面のなす空気のくさびによっ
て生じる干渉縞の縞間幅、すなわち例えば半波長（２７
３nm）ごとの等高線を被検物体上に引くことができ、こ
の等高線発生領域から面取り長が、また等高線から面取
り深さが測定される。そして、後述の領域III 、III ′
ではほぼ等間隔に３点程度、その他の領域ではほぼ等間
隔に２点程度サンプリングして測定し、それを平均すれ
ばよい。なお、領域Ｖ、さらには後述の領域Ｉは空気ベ
アリング面１２の流入、流出端にて巾方向（空気流入方
向と垂直な方向）の直線部が形成されている領域をい
う。

【００２９】さらに、空気流入方向と垂直な方向（巾方
向）の両側端（両外側端）のエッヂ面１４において、空
気ベアリング面１２の平坦面１２１後端部におけるスラ
イダ１と薄膜トランスデューサエレメント１７との境界
の界面１７１を基点とし、そこから空気流入端側に０．
２mmまでの領域IIの面取り長さｌ₂ とし、エッヂ面１４
における平坦面１２１に連接し、領域IIの空気流入側端
部から、領域IVの空気流出側端部（図５、図６の流入側
テーパ面１２２を設けないときには、平坦面１２１の空
気流入端稜部）の手前０．１mmの位置に至る両側端（両
外側端）側の領域III の面取り長をｌ₃ としたとき、
（ｌ₃ −ｌ₂ ）／ｌ₃ は０．２以下、より好ましくは０
〜０．１５に規制することが好ましい。この（ｌ₃ −ｌ
₂ ）／ｌ₃は通常の研摩では０．３以上となってしまう
ものである。また、上記の（ｌ₄ −ｌ₅ ）／ｌ₅ も０．
５以上となってしまう。そこで、これらテーパ面１２２
と平坦面１２１との稜部１３１近傍や、スライダ１のエ
レメント１７との界面１７１手前での面取り長ｌ₄ 、ｌ
₂ と、流入側や平坦面側部での面取り長ｌ₅ 、ｌ₃ との
関係を規制することによって、特に浮上姿勢でのロール
角の変動を臨界的に減少させるのである。

【００３０】なお、複数のレール１６、１６を設けると
きには、レール１６、１６の内方（内側側）のエッヂ面
１４におけるテーパ面１２２と平坦面１２１との稜部近
傍の領域IV′や、薄膜トランスデューサエレメント１７
とスライダ１との界面１７１手前の領域II′や、平坦面
１２１の側部領域III ′等も上記の外側側のエッヂ面１
４と全く同様に規制することが好ましい。また、空気流
出端のエッヂ面１４の面取り長をｌ₁ としたとき、エッ
ヂ面１４の平坦面１２１側部の領域III 、III′、テー
パ面１２２の側部の領域VI、VI′等の面取り長は、領域
II、II′、IV、IV′、Ｖの面取り長ｌ₂ 、ｌ₄ 、ｌ₅ 等
とともに、領域Ｉの面取り長ｌ₁ の１２０％以内の値に
規制することが好ましい。このように全周のエッヂ面の
１４の面取り長を均一化することにより、浮上性はさら
に向上する。

【００３１】さらに、全周のエッヂ面１４の面取り長は
４〜２０μm 、特に８〜２０μm に規制することが好ま
しい。特に空気流出側には薄膜トランスデューサエレメ
ント１７が設けられており、この領域Ｉの面取り量ｌ₁
が２５μm 以上となると、エレメントにキズが発生した
りするので２０μm 以内に押さえるのが好ましい。また
４μm 未満になると面取り加工が、不安定となり、耐久
走行中、エレメントに傷を生じたりする。そこで領域Ｉ
の面取り長さを４〜２０μm に規制する。そして、エレ
メント側の領域Ｉの面取り長ｌ₁ を４〜２０μm の範囲
にすると、本発明に従いｌ₄ とｌ₅ 、ｌ₃ とｌ₂ 等の関
係を規制すれば、他の領域についても自ずと４〜２０μ
m の範囲に規制できることになる。なお、好ましい面取
り長は、領域Ｉで４〜２０μm さらに好ましくは８〜２
０μm であり、他の領域については４〜２０μm さらに
好ましくは５〜１５μm である。

【００３２】さらに、エッヂ面１４のすべての領域にお
ける面取り長は４〜２０μm とすることが好ましいが、
この面取り長のＪＩＳ Ｚ８１０８１に規定される範囲
Ｒ（最大値と最小値の差）を５μm 以下に規制すること
が好ましい。これにより、浮上安定性はさらに向上す
る。

【００３３】さらに、このような場合、浮上安定性の向
上のためには、空気ベアリング面１２の平坦面１２１を
垂直に静置して観察したときの面取り深さは、全周のエ
ッヂ面にて０．０５〜０．０６μm 程度に規制すること
が好ましい。この面取り深さは、前記同様２光束顕微鏡
で干渉縞発生領域を測定することによって算出すること
ができ、あるいは前記の面取り長の測定に際して、等高
線から求めることもできる。また、この空気ベアリング
面１２の垂直静置の際の面取り深さの測定に際し、等高
線から面取り長を求めることもできる。そして、これら
全周のエッヂ面の各部におけるこれら面取り長や面取り
深さは、例えば１００個のヘッドを作製したとき変動係
数ＣＶを１０％以下、特に９％以下に規制することがで
き、製品ごとの浮上性も安定にすることができる。

【００３４】スライダ材質は、そのビッカース硬度（Ｊ
ＩＳ Ｚ ２２４４ 試験荷重５００g ）ＨＶ（５００
g ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲とな
るように設定されている。この場合、その下限値として
は、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５００
以上、更に好ましくは１８００以上であり、このとき本
発明の効果はさらにすぐれたものとなる。

【００３５】このようなセラミックス材料としては、Ａ
ｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＯ₂ ［ＨＶ（５００）１１５０程度］、
Ｍg Ｏ−ＮｉＯ−ＺｒＯ₂ （１２００程度）、ＺｒＯ
₂ （１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃
（１４００〜１６００程度）、 Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｔｉｃ−
ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２
０００程度）、Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣ（２０００〜２３０
０程度）等が好適である。また、これらには、添加物と
してＭg 、Ｙ、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 等が含有されていて
もよい。これらのうち、本発明に特に好適なものは、加
工性の点でＡｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣを主成分とするセラミッ
クスである。

【００３６】このような面取り加工によるエッヂ面１４
は空気ベアリング面の表面研摩と同時に形成される。図
５には、図１、図２に示される磁気ヘッドスライダ１を
弾性シート９１、研摩フィルム９２、加工台９３、治具
９４を用いて研摩する場合が示される。この場合、スラ
イダは、上記の構造のいずれのものであってもよい。弾
性シート９１は、研摩フィルム９２の支持体としての作
用を行なう。

【００３７】この研摩フィルム９２は、図６に示される
ように、研摩剤層９２１を、支持体としての可撓性フィ
ルム９２２上に形成したものである。研摩剤層９２１
は、好ましくは合成ダイヤモンド砥粒等のダイヤモンド
微粒子を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂
を用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等
の希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができ
る。このペーストは、各種コーティング機械を用いて、
支持体上に均一に塗布されて、層形成される。支持体と
しての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート
（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いることが
できる。

【００３８】好適に用いられるダイヤモンド粒子の平均
粒径は、１．０μm 以下であることが好ましく、特に
０．１〜１．０μm 、さらには０．１〜０．９μm 、も
っとも好ましくは０．１〜０．５μm であることが好ま
しい。また、ダイヤモンド粒子とバインダの比は、重量
比で１：１／７〜１程度である。また、研摩剤層９２１
の厚さは、１〜８μm とすることが好ましい（以下あっ
た方が良）。

【００３９】磁気ヘッドスライダ１は、接着等の手段に
よって治具９４に取付けられ、治具９４に荷重を加えな
がら、薄膜磁気ヘッドのスライダ１の媒体対向面１１側
を、弾性シート９１によって支持された研摩フィルム９
２の面上に接触させ、スライダ１を研摩フィルム９２に
対して、相対的に移動させて研摩する。このとき、図５
に示されるように、ダイヤモンド研摩フィルムが好適な
状態で押し込まれるように、ヤング率をＥとして定義さ
れる研摩フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネス
ＥＴ³ が０．８〜３．０×１０⁵ （μm ）³ kg/mm²、好
ましくは０．８〜１．６×１０⁵ （μm ）³ kg/mm²、特
に好ましくは０．８〜１．２×１０⁵ （μm ）³ kg/mm²
となるように設定することが望ましい。支持体としての
可撓性フィルムが上記のような材料で形成され、そのヤ
ング率がある所定の範囲内にあるため、上記ダイヤモン
ド研摩フィルムのスティッフネスは、その全厚によると
ころが大きい。従って、研摩フィルムの厚みが厚すぎた
り、薄すぎたりすると密着性が悪化し、研摩面やエッヂ
面の研磨や面取りの均一性に欠けてくる。このため、フ
ィルムの厚みを１０μm 以下、特に２〜１０μm とし、
ダイヤモンド研摩フィルムのスティッフネスを上記値の
範囲に設定することが好ましい。これにより、エッヂ面
の面取り量のバラツキが抑えられ、安定した浮上性が得
られるようになる。

【００４０】研摩の際の相対移動は、スライダ１、研摩
フィルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。
また、研摩フィルムを円形にしておき、その円形の中心
を中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研摩
することもできる。また、長尺の研摩フィルムと弾性シ
ートを組み合わせたものを、研摩フィルムを外側にし
て、輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行
させることによって研摩するようにしてもよい。上記荷
重は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００g の範囲とす
る。更に、研摩時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモン
ド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概
ね、１０〜３００秒程度とする。

【００４１】

【実施例】次に、本発明の実施例を示し、本発明をさら
に詳細に説明する。 実施例１ 研摩材として下記表１に示される平均粒径のダイヤモン
ドを用い下記のペーストの配合比でペーストを配合し、
これを所定の弾性シート上に設層し、全厚を表１に示さ
れるようにかえたダイヤモンド研摩フィルムを用意し
た。

【００４２】ダイヤモンド砥粒 １００．０重量部 ポリウレタン樹脂 ２０．０重量部 希釈溶剤 １００．０重量部

【００４３】この研摩フィルムを用い、荷重と研摩時間
一定の条件で、図１、図２の構造の２．８×２．２４mm
の媒体対向面を有するスライダを研摩した。なお、ヘッ
ドスライダは、Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＯ₂ 製で、Ｈｖ（５０
０g ）が２０００のスライダを有する薄膜磁気ヘッドで
ある。結果を表１に示す。表１には１００個のサンプル
における領域IV、Ｖのｌ₄ 、ｌ₅ の平均値と、（ｌ₄ −
ｌ₅ ）／ｌ₅ の最大値とが示される。なお、２光束顕微
鏡には、ニコン社製干渉対物レンズを使用した。

【００４４】これら研摩後のヘッド浮上安定性として、
浮上姿勢を測定した。すなわち、浮上測定材にてガラス
ディスクをディスク回転数３６００rpm で回転させて、
測定スライダを浮上させ、白色光による干渉光により、
ロール傾きの安定性を測定した。評価は下記の５段階評
価であり、３以上がＯＫレベルである。結果を表１に併
記する。

【００４５】 評価 ヘッド１００個のロール角傾き ５ ０．０１μm 以下 ４ ０．０２μm 以下 ３ ０．０３μm 以下 ２ ０．０４μm 以下 １ ０．０５μm 超

【００４６】

【表１】

【００４７】１００個の測定結果よりｌ₄ とｌ₅ の差が
ｌ₅ の４０％以内であると、浮上姿勢でのロール傾きが
少なく、安定であり、これが４０％をこえると、１００
個の中でもバラツキを生じてきて、ロール傾きの不安定
性が増大することがわかる。なお、サンプルNo. １〜４
のｌ₄ およびｌ₅ のＣＶは９％以下、比較サンプルNo.
５〜９のｌ₄ およびｌ₅ のＣＶは１０％超であった。ま
た、全エッヂ面の面取り量の範囲Ｒは、１００個中全て
のヘッドで５μm 以下であった。

【００４８】実施例２ 次に、領域IIとIII のｌ₂ とｌ₃ の１００個のサンプル
の平均値および（ｌ₃−ｌ₂ ）／ｌ₃ の最大値を実施例
１と同様に測定した。結果を表２に示す。

【００４９】

【表２】

【００５０】表２に示される結果からｌ₂ とｌ₃ との関
係を規制するときの効果が明らかである。なお、サンプ
ルNo. １１〜１３のｌ₂ およびｌ₃ のＣＶは９％以下、
比較サンプルNo. １４、１５のｌ₂ およびｌ₃ のＣＶは
１０％超であった。また、サンプルNo. １〜４、１１〜
１３の１００個中全てのヘッドとも領域Ｉの面取り量ｌ
₁ を４〜２０μm とすると、他の全エッヂ面の面取り量
も４〜２０μm となり、しかもそのとき面取り量の範囲
Ｒが５μm 以下となるような全エッヂ面の面取り量の均
一化が図られることが確認された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの１例を示す斜視図で
ある。

【図２】図１の平面図である。

【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの他の例を示す斜視図
である。

【図４】図３の平面図である。

【図５】本発明の薄膜磁気ヘッドの他の例を示す斜視図
である。

【図６】図５の平面図である。

【図７】薄膜磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面
の研摩および面取り加工する方法を説明するための正面
図である。

【図８】研磨および面取り加工に使用される研摩フィル
ムの一例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ スライダ １１ 媒体対向面 １２ 空気ベアリング面 １２１ 平坦面 １２２ テーパ面 １４ エッヂ面 １６ レール １７ 薄膜トランスデューサエレメント ９２ 研摩フィルム ９２１ 研摩材層 ９２２ 可撓性フィルム

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スライダの空気流出端側に薄膜トランス
   デューサエレメントを有し、 空気ベアリング面の全周のエッヂが面取り加工されてエ
   ッヂ面が形成されており、 前記空気ベアリング面は、中央部平坦面に連接してその
   空気流入側に流入側テーパ面を有し、 空気流入方向と垂直な方向両側端のエッヂ面における前
   記中央部平坦面と流入側テーパ面との稜部を基点として
   空気流入方向に±０．１mmまでの領域の面取り長をｌ
   ₄ 、 前記流入側テーパ面に連接する空気流入端のエッヂ面の
   面取り長をｌ₅ としたとき、 （ｌ₄ −ｌ₅ ）／ｌ₅ が０．４以下である薄膜磁気ヘッ
   ド。
2. 【請求項２】 空気流入方向と垂直な方向両側端のエッ
   ヂ面における前記スライダと薄膜トランスデューサエレ
   メントとの界面から空気流入側に０．２mmまでの領域の
   面取り長をｌ₂ 、 前記中央部平坦面に連接する両側端のエッヂ面の面取り
   長をｌ₃ としたとき、 （ｌ₃ −ｌ₂ ）／ｌ₃ が０．２以下である請求項１の薄
   膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 スライダの空気流出端側に薄膜トランス
   デューサエレメントを有し、 空気ベアリング面の全周のエッヂが面取り加工されてエ
   ッヂ面が形成されており、 前記空気ベアリング面は、中央部平坦面に連接してその
   空気流入側に流入側テーパ面を有し、 空気流入方向と垂直な方向両側端のエッヂ面における前
   記スライダと薄膜トランスデューサエレメントとの界面
   から空気流入端側に０．２mmまでの領域の面取り長をｌ
   ₂ 、 前記中央部平坦面に連接する両側端のエッヂ面の面取り
   長をｌ₃ としたとき、 （ｌ₃ −ｌ₂ ）／ｌ₃ が０．２以下である薄膜磁気ヘッ
   ド。
4. 【請求項４】 空気流出端のエッヂ面の面取り長ｌ₁ が
   ４〜２０μm である請求項１ないし３のいずれかの薄膜
   磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 エッヂ面全ての面取り長が４〜２０μm
   である請求項１ないし４のいずれかの薄膜磁気ヘッド。
6. 【請求項６】 エッヂ面全ての面取り長の範囲Ｒ（ＪＩ
   Ｓ Ｚ８１０８１）が５μm 以下である請求項１ないし
   ５のいずれかの薄膜磁気ヘッド。
7. 【請求項７】 スライダ上の空気流出端側に薄膜トラン
   スデューサエレメントを有し、 空気ベアリング面の全周のエッヂが面取り加工されてエ
   ッヂ面が形成されており、 エッヂ面全ての面取り長が４〜２０μm であり、 この面取り長の範囲Ｒ（ＪＩＳ Ｚ８１０８１）が５μ
   m 以下である薄膜磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 前記空気ベアリング面は、磁気記録媒体
   対向面の空気流入方向と垂直な方向の両側端に空気流入
   方向と平行に設けられた１対のレール上に形成されてい
   る請求項１ないし７のいずれかの薄膜磁気ヘッド。
9. 【請求項９】 前記空気ベアリング面は、磁気記録媒体
   対向面のほぼ全域を占める請求項１ないし７のいずれか
   の薄膜磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】 コンタクト・スタート・ストップ方式
    によって磁気記録媒体上を浮上走行する請求項１ないし
    ９のいずれかの薄膜磁気ヘッド。
11. 【請求項１１】 前記スライダのビッカース硬度ＨＶ
    （５００g ）が、１１００以上である請求項１ないし１
    ０のいずれかの薄膜磁気ヘッド。
12. 【請求項１２】 薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を
    研摩すると同時に面取り加工し、前記エッヂ面を形成し
    て請求項１〜１１の薄膜磁気ヘッドを得る薄膜磁気ヘッ
    ドの製造方法。
13. 【請求項１３】 前記研摩をダイヤモンド微粒子を使用
    したダイヤモンド研摩フィルムによって行う請求項１２
    の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径が
    １．０μm 以下である請求項１３の薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
15. 【請求項１５】 前記ダイヤモンド研摩フィルムの厚さ
    が１０μm 以下である請求項１３または１４の薄膜磁気
    ヘッドの製造方法。