JPH06130441A - Optical information processing method - Google Patents
Optical information processing methodInfo
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- JPH06130441A JPH06130441A JP4284673A JP28467392A JPH06130441A JP H06130441 A JPH06130441 A JP H06130441A JP 4284673 A JP4284673 A JP 4284673A JP 28467392 A JP28467392 A JP 28467392A JP H06130441 A JPH06130441 A JP H06130441A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 少なくとも一方の電極が光透過性を有する電
極間に光電変換層と一定の波長の光により変化した導電
性を光遮断後も持続させる機能を有するメモリー層とを
有する光情報処理素子に、メモリー層の導電性を変化さ
せる波長の光による光情報を入射させて該光情報を記憶
させ、次に光電変換層に光電変換をさせる波長の光によ
る光情報を入射させ、得られる出力信号から光情報の認
識を行うことを特徴とする光情報処理方法。
【効果】 光照射により受光感度がアナログ的にスイッ
チする機能を有し、この状態が長時間安定に記憶、保持
され、加熱による可逆的な記憶の消去が可能であるとい
う特徴を有する光情報処理素子を利用した光情報処理方
法を与えるものであり、パターン認識、演算処理、視覚
情報処理、ニューロコンピューター、センサー等各種用
途に応用することができる。
(57) [Summary] [Structure] A photoelectric conversion layer and a memory layer having a function of sustaining conductivity changed by light having a certain wavelength even after light is blocked, between at least one electrode having light transparency. The optical information processing element has optical information by light of a wavelength that changes the conductivity of the memory layer, stores the optical information, and then enters optical information by light of a wavelength for photoelectric conversion in the photoelectric conversion layer. And an optical information processing method for recognizing optical information from the obtained output signal. [Effect] Optical information processing that has a function of switching the light-receiving sensitivity in an analog manner by light irradiation, that state is stably stored and held for a long time, and reversible memory can be erased by heating. The present invention provides an optical information processing method using an element, and can be applied to various applications such as pattern recognition, arithmetic processing, visual information processing, neurocomputers, and sensors.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光信号に対する応答感
度を制御光により変化させることが可能で、変化した応
答感度を素子の内部に長時間記憶させておくことができ
る、パターン認識等の視覚情報処理、ニューロコンピュ
ーターに適した新規な光情報処理素子を用いた光情報処
理方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention can change the response sensitivity to an optical signal by control light, and can store the changed response sensitivity in the element for a long time, such as pattern recognition. The present invention relates to an optical information processing method using a novel optical information processing element suitable for visual information processing and neurocomputers.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、ニューラルネットワークによる情
報処理によって、従来困難であった連想記憶や学習等
の、本来、脳、神経系特有のものと考えられてきた情報
処理が可能になると考えられるようになってきた。ま
た、ニューラルネットワークをハードウエアとして実現
しようとする試みも多数なされるようになってきた。2. Description of the Related Art In recent years, it has been considered that information processing by a neural network enables information processing that was originally thought to be peculiar to the brain and nervous system, such as associative memory and learning, which were conventionally difficult. It's coming. In addition, many attempts have been made to realize the neural network as hardware.
【0003】また、光の持つ並列性、すなわち多くの情
報を同時に伝送したり処理したりする能力、そして配
線、クロストーク等における優位性、アナログ性、画像
の直接処理能力等の利点から、光ニューラルネットワー
ク、光ニューロコンピューターに対する期待が高まって
いる。その際、ニューラルネットワークの構成単位であ
るニューロ素子においては、入力情報に応じて、その1
つ1つの入力情報に対して重みづけする、生体の神経細
胞のシナプスに相当する部分が必要となる。更に、この
重みづけの度合いがアナログ的に変更可能で、変更後は
長時間記憶、保持される特性を有することがより望まし
い。In addition, the parallelism of light, that is, the ability to simultaneously transmit and process a large amount of information, the advantages in wiring, crosstalk, etc., the analog nature, and the ability to directly process images, Expectations for neural networks and optical neurocomputers are increasing. At that time, in the neuro element, which is a constituent unit of the neural network, according to the input information,
A part corresponding to the synapse of the nerve cells of the living body, which weights each input information, is required. Further, it is more desirable that the degree of weighting can be changed in an analog manner and that the weight is stored and held for a long time after the change.
【0004】そのようなシナプス相当部を備えたニュー
ロ素子のモデルとして提唱されたものとしては、図6に
挙げるマッカロー・ピッツのモデルがある。このモデル
においては、i番目の入力信号ui がシナプス相当部で
重み係数wi と積算され、この重みづけされた信号はす
べて加算されて、出力部において非線形的な関数g
(x)(デルタ関数、シグモイド型関数)に従って出力
vががなされる。 v = g (Σwi ・ui ) <1> この際、重み係数wi がアナログ的に可変であり、入力
信号に対する荷重の度合いが変化、保持されることが学
習、記憶、認識等の情報処理を実現するために不可欠で
あると考えられている。As a model of a neuro element having such a synapse-corresponding part, there is a McCullough-Pitz model shown in FIG. In this model, the i-th input signal u i is integrated with the weighting factor w i at the synapse equivalent part, all the weighted signals are added, and the nonlinear function g at the output part is added.
The output v is calculated according to (x) (delta function, sigmoid function). v = g (Σw i · u i ) <1> At this time, the weighting factor w i is variable in an analog manner, and the degree of the weight with respect to the input signal is changed and held. It is considered to be essential for achieving the processing.
【0005】このようなモデルに従ったニューロ素子の
開発においては、上記の生体のシナプス相当部をいかに
実現するかが鍵になっており、その一例としては特開平
4−5636号に見られるように、空間光変調器によっ
て光の透過率を制御する方法がある。この方法によれ
ば、光の透過率の大小で上記式1における重み係数wi
に相当する重みづけを行うことができる。しかし、光の
透過率の制御に当っては外部からの制御が必要であり、
制御した透過率の値は外部演算装置等によらなけば記憶
することはできず、また、空間光変調器で実現できる学
習前後でのコントラストには限界がある。In the development of the neuro element according to such a model, how to realize the synapse equivalent part of the living body is a key, and an example thereof is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-5636. There is a method of controlling the light transmittance by a spatial light modulator. According to this method, the weighting factor wi in the above equation 1 is determined depending on the light transmittance.
Can be weighted. However, it is necessary to control from the outside when controlling the light transmittance.
The controlled transmittance value cannot be stored unless an external arithmetic device is used, and the contrast before and after learning that can be realized by the spatial light modulator is limited.
【0006】また、特開平4−90015号に見られる
ように、フォトダイオードからなる受光素子に対して外
部から制御電圧を加えて受光感度、すなわち光信号に対
する電気応答の度合いを変調することによって重みづけ
を実現する試みも行われているが、この素子においても
記憶機能を有していないため外部演算装置の併用が不可
欠である。As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-90015, a weight is obtained by applying a control voltage from the outside to a light receiving element formed of a photodiode to modulate the light receiving sensitivity, that is, the degree of electrical response to an optical signal. Attempts have been made to realize this, but since this element also does not have a memory function, it is essential to use an external arithmetic unit together.
【0007】この素子に記憶機能を付与したものとして
は、電子技術誌、1992年、1月号、25頁〜27頁
に示された記憶機能内蔵型の素子が挙げられる。この素
子においては金属−ガリウムひ素接合により形成された
接合部に制御光を照射することによって形成される空間
電荷の影響により信号光に対する検出感度が増大、保持
されると考えられており、この検出感度の変化を利用し
て重みづけを行っている。しかし、検出感度の増加はせ
いぜい数倍程度であり、増大した検出感度は約20分程
度でなくなるため、記憶機能として十分であるとは言い
がたい。As a device having a storage function added to this device, there is a device having a built-in storage function, which is shown in pages 25 to 27 of Electronic Technology Magazine, January 1992, pages 25 to 27. In this device, it is considered that the detection sensitivity to the signal light is increased and maintained due to the influence of the space charge formed by irradiating the junction formed by the metal-gallium arsenide junction with the control light. Weighting is performed using the change in sensitivity. However, the increase in detection sensitivity is at most about several times, and the increased detection sensitivity disappears in about 20 minutes, so it cannot be said that it is sufficient as a memory function.
【0008】以上述べたように、従来の光情報処理方法
においては、入力情報に対する重み係数の制御を外部機
器からの操作によって行ったり、重み係数の記憶を外部
演算装置で行う等、外部装置に依存し、記憶機能を有し
ていない素子によるものがほとんどであった。また、記
憶機能を有している素子を使用した場合にしても、記憶
の保持時間が極めて短いことや記憶時と非記憶時の差が
小さい等の欠点があった。As described above, in the conventional optical information processing method, the weighting coefficient for the input information is controlled by an operation from an external device, and the weighting coefficient is stored in an external arithmetic device. In most cases, it was due to an element that did not have a memory function. Further, even when an element having a memory function is used, there are drawbacks such as a very short retention time of memory and a small difference between memory and non-memory.
【0009】本発明者等は、上記実情に鑑み、光照射に
より受光感度がアナログ的にスイッチする機能を有し、
この状態が長時間安定に記憶、保持され、加熱による可
逆的な記憶の消去が可能であるという特徴を有する光情
報処理素子を完成した。In view of the above situation, the present inventors have a function of analogically switching the light receiving sensitivity by light irradiation,
We have completed an optical information processing device characterized in that this state is stored and held stably for a long time, and reversible storage can be erased by heating.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
光情報処理素子の使用に際しては、光情報に対して学
習、記憶、認識等の情報処理を効果的に行わせる光情報
処理方法が必要である。本発明は、上記のような問題点
を解決するためになされたものであり、光情報処理素子
を用いて、光情報に対して学習、記憶、認識等の情報処
理を効果的に行わせる光情報処理方法を得ることを目的
とする。However, in using the above optical information processing element, an optical information processing method for effectively performing information processing such as learning, storing, and recognizing optical information is required. . The present invention has been made to solve the above problems, and an optical information processing element is used to effectively perform information processing such as learning, memory, and recognition on optical information. The purpose is to obtain an information processing method.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、少なく
とも一方が光透過性を有する電極間に光電変換層と一定
の波長の光により変化した導電性を光遮断後も持続させ
る機能を有するメモリー層とを有する光情報処理素子
に、メモリー層の導電性を変化させる波長の光による光
情報を入射させて該光情報を記憶させ、次に光電変換層
に光電変換をさせる波長の光による光情報を入射させ、
得られる出力信号から光情報の認識を行うことを特徴と
する光情報処理方法に存する。SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is that at least one of them has a function of maintaining a photoelectric conversion layer between electrodes having a light-transmitting property and the conductivity changed by light having a certain wavelength even after the light is blocked. An optical information processing element having a memory layer is made to enter optical information of light having a wavelength that changes the conductivity of the memory layer to store the optical information, and then the photoelectric conversion layer is made to perform photoelectric conversion by light of a wavelength. Inject light information,
An optical information processing method is characterized in that the optical information is recognized from the obtained output signal.
【0012】以下、本発明を詳細に説明する。まず、本
発明の対象となる光情報処理素子について説明する。上
記の光情報処理素子は、少なくとも一方の電極が光透過
性を有する電極間に光電変換層と一定の波長の光により
変化した導電性を光遮断後も持続させる機能を有するメ
モリー層を有する。The present invention will be described in detail below. First, the optical information processing element that is the subject of the present invention will be described. The above-described optical information processing element has a photoelectric conversion layer and a memory layer having a function of sustaining conductivity changed by light having a certain wavelength even after light is blocked, between at least one electrode having a light transmitting property.
【0013】電極について説明する。電極は、支持体上
に導電性薄膜層として形成される。支持体としては、石
英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィル
ムやシート等が用いられるが、ガラス板、透明なプラス
チック(ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカー
ボネート)の板等が好ましい。電極として用いることの
できる金属板等は支持体を兼ねることができる。The electrodes will be described. The electrode is formed as a conductive thin film layer on the support. As the support, a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film or a sheet, etc. are used, but a glass plate or a transparent plastic (polyester, polymethacrylate, polycarbonate) plate or the like is preferable. A metal plate or the like that can be used as an electrode can also serve as a support.
【0014】電極形成材料は、通常、アルミニウム、
金、銀、白金、カドミウム、ニッケル、インジウム、パ
ラジウム、テルル等の金属、インジウム及び/又はスズ
等の金属の酸化物、ヨウ化銅、カーボンブラック、ポリ
(3ーメチルチオフェン)やポリピロール等の導電性樹
脂が用いられる。導電性薄膜層は、電極形成材料が金属
や金属酸化物の場合は、通常は、スパッタリング法、真
空蒸着法等により形成されるが、電極形成材料の種類に
よっては他の方法により形成されてもよい。例えば、銀
等の金属微粒子、ヨウ化銅、カーボンブラック、導電性
の金属酸化物微粒子、導電性樹脂粉末等の場合には、適
当なバインダー樹脂溶液に電極形成材料を分散させた
後、支持体上に塗布する方法により形成することができ
る。更に、導電性樹脂の場合は、電解重合により、直接
支持体上に形成することもできる。導電性薄膜層は、異
なる物質で積層することも可能である。The electrode forming material is usually aluminum,
Conductivity of metals such as gold, silver, platinum, cadmium, nickel, indium, palladium, tellurium, oxides of metals such as indium and / or tin, copper iodide, carbon black, poly (3-methylthiophene), polypyrrole, etc. Resin is used. When the electrode forming material is a metal or a metal oxide, the conductive thin film layer is usually formed by a sputtering method, a vacuum deposition method or the like, but it may be formed by another method depending on the kind of the electrode forming material. Good. For example, in the case of fine particles of metal such as silver, copper iodide, carbon black, fine particles of conductive metal oxide, conductive resin powder, etc., after the electrode forming material is dispersed in an appropriate binder resin solution, the support It can be formed by a method of coating on. Further, in the case of a conductive resin, it can be directly formed on the support by electrolytic polymerization. The conductive thin film layers can be laminated with different materials.
【0015】導電性薄膜層の厚さは、特に制約はない
が、均一な導電性発現のためには少なくとも50Å以上
とするのが好ましい。一方、光透過性が必要な場合は、
透過率を満足する膜厚以上にならないようにする必要が
ある。膜厚が厚くなる塗布法による場合でも、膜厚は通
常100μm以下である。本発明においては、電極の少
なくとも一方が光透過性電極であることが必要である。
光透過性は、必ずしも全波長領域にわたる必要はない
が、少なくともメモリー層、光電変換層が吸収する光の
波長領域での光透過性が要求される。光の透過率は、高
いほど照射光の効率上好ましい。透過率としては少なく
とも10%以上、実用上は30%以上、好ましくは60
%以上が必要である。The thickness of the conductive thin film layer is not particularly limited, but it is preferably at least 50 Å or more for uniform expression of conductivity. On the other hand, if light transmission is required,
It is necessary not to exceed the film thickness that satisfies the transmittance. Even when the coating method is used to increase the film thickness, the film thickness is usually 100 μm or less. In the present invention, at least one of the electrodes needs to be a light transmissive electrode.
The light transmittance does not necessarily have to cover the entire wavelength range, but at least the light transmittance in the wavelength range of the light absorbed by the memory layer and the photoelectric conversion layer is required. The higher the light transmittance, the more preferable in terms of the efficiency of irradiation light. The transmittance is at least 10% or more, practically 30% or more, and preferably 60% or more.
% Or more is required.
【0016】次に、電極間に形成される光電変換層及び
メモリー層について説明する。光電変換層は、光を吸収
して正負の電荷分離により電荷キャリアーを発生させる
光導電性材料からなり、必要により、バインダー樹脂、
長鎖アルキル脂肪酸等の絶縁性材料、芳香族アミン、ヒ
ドラゾン化合物等のキャリアー輸送材料その他の添加物
と共に形成される。Next, the photoelectric conversion layer and the memory layer formed between the electrodes will be described. The photoelectric conversion layer is made of a photoconductive material that absorbs light and generates charge carriers by separating positive and negative charges, and if necessary, a binder resin,
It is formed with an insulating material such as a long chain alkyl fatty acid, a carrier transport material such as an aromatic amine and a hydrazone compound, and other additives.
【0017】光導電性材料としては電子写真や太陽電池
等に用いられている光導電性材料が用いられる。無機系
の光導電性材料としては無定形セレンやセレン−テル
ル、セレン−ヒ素等のセレン合金、無定形シリコン、硫
化カドミウム、酸化亜鉛等が挙げられる。有機系の光導
電性材料としては、各種の色素や顔料が挙げられる。こ
のような例としては公知の文献で光電変換色素、電荷キ
ャリアー生成材料等として知られている化合物が挙げら
れる。As the photoconductive material, a photoconductive material used in electrophotography, solar cells and the like is used. Examples of inorganic photoconductive materials include amorphous selenium, selenium alloys such as selenium-tellurium and selenium-arsenic, amorphous silicon, cadmium sulfide, and zinc oxide. Examples of organic photoconductive materials include various dyes and pigments. Examples of such compounds include compounds known as photoelectric conversion dyes, charge carrier generating materials and the like in known documents.
【0018】文献例としては「電子写真技術の基礎と応
用」437頁−448頁(電子写真学会編、コロナ社、
1988年)、色材協会誌 47巻 594頁−604
頁(丸山勝次、1974年)、「LB膜とエレクトロニ
クス」193頁−204頁(シーエムシー、1986
年)、「有機電子材料」94頁−101頁(応用物理学
会編、オーム社、1990年)等がある。As an example of a document, “Basics and Applications of Electrophotographic Technology”, pages 437 to 448 (edited by The Electrophotographic Society, Corona Publishing Co., Ltd.,
1988), Coloring Materials Association, Vol. 47, pp. 594-604.
Page (Katsuji Maruyama, 1974), "LB film and electronics" pages 193-204 (CMC, 1986).
), "Organic electronic materials", pp. 94-101 (edited by Japan Society of Applied Physics, Ohmsha, 1990) and the like.
【0019】このような化合物の例としては、ポルフィ
リン系、シアニン系、メロシアニン系、ピリリウム系、
チアピリリウム系、トリアリールメタン系、スクアリリ
ウム系、アズレニウム系等の色素、ペリレン系、多環キ
ノン系、ピロロピロール系等の縮合環系色素、フタロシ
アニン系色素、アゾ系色素等が挙げられる。フタロシア
ニン系色素としては、無金属フタロシアニン系色素と共
に銅、バナジウム、インジウム、チタン、アルミニウ
ム、スズ、マグネシウム等の金属配位フタロシアニンの
各種結晶型色素を用いてもよい。アゾ系色素としては、
主にジスアゾ系、ビスアゾ系、トリスアゾ系色素が顔料
粒子の形で用いられる。Examples of such compounds include porphyrin type, cyanine type, merocyanine type, pyrylium type,
Examples thereof include thiapyrylium-based dyes, triarylmethane-based dyes, squarylium-based dyes, azurenium-based dyes, perylene-based dyes, polycyclic quinone-based dyes, pyrrolopyrrole-based and other condensed ring dyes, phthalocyanine-based dyes, and azo dyes. As the phthalocyanine-based dye, various crystal-type dyes of metal-coordinated phthalocyanines such as copper, vanadium, indium, titanium, aluminum, tin, and magnesium may be used together with the metal-free phthalocyanine-based dye. As azo dyes,
Disazo, bisazo and trisazo dyes are mainly used in the form of pigment particles.
【0020】メモリー層は、分子内に1個以上の窒素原
子を有する正孔輸送性の低分子化合物や、光の照射によ
り変化した導電性を光遮断後も持続させるメモリー性付
与機能を有する化合物等をバインダーポリマー中に分散
して構成される。まず、正孔輸送性の低分子化合物につ
いて説明する。正孔輸送性の低分子化合物は、メモリー
層の電荷キャリアーである正孔の輸送担体として作用す
る。正孔輸送現象は分子間の電子移動あるいは酸化還元
反応と見なすことができ、効果的な正孔輸送のために
は、イオン化ポテンシャルが小さい電子供与性化合物が
適している。The memory layer is a low-molecular compound having a hole-transporting property having one or more nitrogen atoms in the molecule, or a compound having a memory property-imparting function for sustaining the conductivity changed by the irradiation of light even after the light is blocked. And the like are dispersed in a binder polymer. First, the low molecular weight compound having a hole transporting property will be described. The hole transporting low molecular weight compound acts as a hole transporting carrier which is a charge carrier of the memory layer. The hole transport phenomenon can be regarded as an electron transfer between molecules or a redox reaction, and an electron donating compound having a small ionization potential is suitable for effective hole transport.
【0021】本発明においては、上記の主旨から、正孔
輸送性の低分子化合物として、好ましくは分子内に1個
以上の窒素原子を有する化合物を用いる。特に、窒素原
子がπ電子共役系に結合し、分子間の配向配列性が良好
な化合物が好適である。また、窒素原子の形態として
は、ジエチルアミノ基のようなジアルキルアミノ基、ジ
フェニルアミノ基のようなジアリールアミン基等により
芳香族炭化水素や芳香族複素環に直接結合したアミノ
基、同様に、芳香族炭化水素や芳香族複素環に結合した
ヒドラゾ基、ヒドラゾノ基が挙げられ、その他には複素
環を構成する窒素原子が挙げられる。そして、複素環の
例としては、カルバゾール、インドール、ピラゾール、
ピラゾリン、オキサゾール等が挙げられる。In the present invention, a compound having one or more nitrogen atoms in the molecule is preferably used as the low-molecular compound having a hole-transporting property from the above point. In particular, a compound in which a nitrogen atom is bonded to a π-electron conjugated system and which has a good orientation alignment between molecules is suitable. The form of the nitrogen atom is, for example, a dialkylamino group such as a diethylamino group, an amino group directly bonded to an aromatic hydrocarbon or an aromatic heterocycle by a diarylamine group such as a diphenylamino group, and the like. Examples thereof include a hydrazo group and a hydrazono group bonded to a hydrocarbon or an aromatic heterocycle, and other examples include a nitrogen atom constituting the heterocycle. And examples of the heterocycle include carbazole, indole, pyrazole,
Examples thereof include pyrazoline and oxazole.
【0022】上記のような正孔輸送性の低分子化合物
は、高分子化合物に比べて製造が容易であり、また、精
製による不純物の除去も容易なため、不純物に由来する
トラップ形成等によるメモリー特性の低下が少ない。更
に、低分子化合物は、一般的にバインダーポリマーとの
相溶性に優れているため、メモリー層中の含有量を増や
すことにより正孔の移動度を高めることも容易である。The above-described hole transporting low molecular weight compound is easier to manufacture than the high molecular weight compound, and the impurities can be easily removed by purification. Little deterioration in characteristics. Further, since the low molecular weight compound is generally excellent in compatibility with the binder polymer, it is easy to increase the hole mobility by increasing the content in the memory layer.
【0023】本発明においては、正孔輸送性の低分子化
合物として、ヒドラゾン化合物、特に、下記の化学式
[化1]で表されるヒドラゾン化合物が好適に用いられ
る。In the present invention, a hydrazone compound, particularly a hydrazone compound represented by the following chemical formula [Chemical formula 1], is preferably used as the low-molecular compound having a hole transporting property.
【0024】[0024]
【化1】 [Chemical 1]
【0025】上記の化学式[化1]中、Aは少なくとも
一個の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を含む1価又
は2価の有機基を表し、そして、これらの環は置換基を
有していてもよい。具体的には次の(a)〜(d)に記
載の有機基が挙げられる。 (a)ベンゼン、ナフタリン、アントラセン、ピレン、
ペリレン、フェナントレン、フルオランテン、アセナフ
テン、アセナフチレン、アズレン、フルオレン、インデ
ン、テトラリン、ナフタセン等から誘導される1価又は
2価の有機基。当該有機基は、少なくとも1個の芳香族
炭化水素環を含む例である。In the above chemical formula [Chemical formula 1], A represents a monovalent or divalent organic group containing at least one aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle, and these rings have a substituent. You may have. Specific examples include the organic groups described in (a) to (d) below. (A) benzene, naphthalene, anthracene, pyrene,
A monovalent or divalent organic group derived from perylene, phenanthrene, fluoranthene, acenaphthene, acenaphthylene, azulene, fluorene, indene, tetralin, naphthacene and the like. The organic group is an example containing at least one aromatic hydrocarbon ring.
【0026】(b)ピロール、チオフェン、フラン、イ
ンドール、カルバゾール、ピラゾール、ピリジン、アク
リジン、フェナジン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン
等から誘導される1価又は2価の有機基。当該有機基
は、少なくとも1個の芳香族複素環を含む例である。 (c)上記の各有機基が直接結合した化合物から誘導さ
れる1価又は2価の有機基。(B) A monovalent or divalent organic group derived from pyrrole, thiophene, furan, indole, carbazole, pyrazole, pyridine, acridine, phenazine, benzothiophene, benzofuran and the like. The organic group is an example containing at least one aromatic heterocycle. (C) A monovalent or divalent organic group derived from a compound in which each of the above organic groups is directly bonded.
【0027】上記の化合物としては、ビフェニル、ター
フェニル、フェニルアントラセン、ビチオフェン、ター
チオフェン、ビフラン、チエニルベンゼン、チエニルナ
フタリン、ピロリルチイオフェン、N−フェニルカルバ
ゾール等が挙げられる。 (d)上記の各有機基が結合基を介して結合した化合物
から誘導される1価又は2価の有機基。Examples of the above compounds include biphenyl, terphenyl, phenylanthracene, bithiophene, terthiophene, bifuran, thienylbenzene, thienylnaphthalene, pyrrolylthiophene, N-phenylcarbazole and the like. (D) A monovalent or divalent organic group derived from a compound in which each of the above organic groups is bonded via a bonding group.
【0028】上記の結合基としては、下記の化学式[化
2]で表されるような置換基を有していてもよいアルキ
レン基又は下記の化学式[化3]で表されるような2価
の有機基が挙げられる。また、斯かるアルキレン基及び
2価の有機基を組合わせた結合基が挙げられる。The above-mentioned bonding group is an alkylene group which may have a substituent represented by the following chemical formula [Chemical formula 2] or a divalent group represented by the following chemical formula [Chemical formula 3]. The organic groups of Further, a bonding group in which such an alkylene group and a divalent organic group are combined can be mentioned.
【0029】[0029]
【化2】 [Chemical 2]
【0030】[0030]
【化3】 [Chemical 3]
【0031】そして、(d)に該当する化合物の具体例
としては、結合基により前記の芳香環や複素環が縮合環
を形成した、例えば、キサンテン、チオキサンテン、イ
ンドリン、フェノチアジン、下記の化学式[化4]で表
される化合物が挙げられる。Specific examples of the compound corresponding to (d) include, for example, xanthene, thioxanthene, indoline, phenothiazine represented by the following chemical formula [Chemical formula 4].
【0032】[0032]
【化4】 [Chemical 4]
【0033】また、上記の他に、(d)に該当する化合
物の具体例としては、ジフェニルメタン、スチルベン、
トラン、1,4−ジフェニルフタジエン、ジフェニルエ
ーテル、ジフェニルスルフィド、N−メチルジフェニル
アミン、トリフェニルアミン、アゾベンゼン等が挙げら
れる。更にまた、これらの化合物のベンゼン環の代わり
に、他の芳香環や複素環を結合基を用いて組合わせた化
合物等が挙げられる。In addition to the above, specific examples of the compound corresponding to (d) include diphenylmethane, stilbene,
Examples thereof include tolan, 1,4-diphenylphthaldiene, diphenyl ether, diphenyl sulfide, N-methyldiphenylamine, triphenylamine and azobenzene. Furthermore, instead of the benzene ring of these compounds, compounds in which other aromatic rings or heterocycles are combined by using a bonding group can be cited.
【0034】前記の(a)〜(d)における芳香族炭化
水素環及び/又は芳香族複素環が有していてもよい置換
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等の低級アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基、
アリル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル
基等のアラルキル基、フェノキシ基、トリオキシ基等の
アリールオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキ
シ基等のアリールアルコキシ基、フェニル基、ナフチル
基等のアリール基、スチリル基、ナフチルビニル基等の
アリールビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基等のジアルキルアミノ基が挙げられる。そして、これ
らの置換基中のアルキル成分には、エーテル基、エステ
ル基、シアノ基、スルフィド基等が含有されていてもよ
い。Examples of the substituent which the aromatic hydrocarbon ring and / or the aromatic heterocycle in the above (a) to (d) may have include, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. A lower alkyl group such as a hexyl group, a lower alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group or a butoxy group,
Aralkyl groups such as allyl group, benzyl group, naphthylmethyl group and phenethyl group, aryloxy groups such as phenoxy group and trioxy group, arylalkoxy groups such as benzyloxy group and phenethyloxy group, aryl groups such as phenyl group and naphthyl group , Aryl vinyl groups such as styryl group and naphthyl vinyl group, and dialkylamino groups such as dimethylamino group and diethylamino group. The alkyl component in these substituents may contain an ether group, an ester group, a cyano group, a sulfide group or the like.
【0035】前記の化学式[化1]中、R1 、R2 、R
3 、R4 及びR5 は、水素原子又は置換基を有していて
もよいアルキル基、アラルキル基、芳香族炭化水素基、
複素環基を表す。R1 〜R5 の具体例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
低級アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、ナフチル基、アセナフチル基、ア
ントリル基、ピレニル基等のAにおけるのと同様の芳香
族炭化水素基、チエニル基、ビチエニル基、カルバゾル
基、インドリル基、フリル基、インドリン基等のAにお
けるのと同様の複素環基が挙げられる。In the above chemical formula [Chemical formula 1], R 1 , R 2 and R
3 , R 4 and R 5 are each a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group, an aromatic hydrocarbon group,
Represents a heterocyclic group. Specific examples of R 1 to R 5 include lower alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and hexyl group, aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group, phenyl group, naphthyl group, acenaphthyl group, An aromatic hydrocarbon group similar to A such as an anthryl group and a pyrenyl group, a thienyl group, a bithienyl group, a carbazole group, an indolyl group, a furyl group, an indoline group and the like heterocyclic group similar to that in A can be mentioned. .
【0036】そして、上記のR1 〜R5 の各有機基が有
していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の低級アルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等の低級アル
コキシ基、フェノキシ基、トリオキシ基等のアリールオ
キシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のア
リールアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリ
ール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニ
ルメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等の置換アミノ
基等が挙げられる。The substituents that each organic group of R 1 to R 5 may have include a methyl group, an ethyl group,
Lower alkyl group such as propyl group, butyl group and hexyl group, lower alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group and butoxy group, aryloxy group such as phenoxy group and trioxy group, arylalkoxy such as benzyloxy group and phenethyloxy group Groups, aryl groups such as phenyl group and naphthyl group, and substituted amino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, phenylmethylamino group and diphenylamino group.
【0037】但し、R1 はAと一体となって環を形成し
てもよい。このような例としては、下記の化学式[化
5]で表される有機基が挙げられる。However, R 1 may form a ring together with A. As such an example, an organic group represented by the following chemical formula [Formula 5] can be given.
【0038】[0038]
【化5】 [Chemical 5]
【0039】前記の化学式[化1]中、R6 及びR
7 は、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキ
ル基、アリル基、芳香族炭化水素基又は複素環基を表
す。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チン基等の低級アルキル基、ベンジル基、フェネチル
基、ナフチルメチル基等のアラルキル基、アリル基、フ
ェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基、ピリジル
基、チエニル基、フリル基、ピロリル基等の複素環基を
表す。これらが有していてもよい置換基としては、前記
R1 、R2 、R3 、R4 及びR5 におけるのと同様の置
換基が挙げられる。In the above chemical formula [Chemical formula 1], R 6 and R
7 represents an optionally substituted alkyl group, aralkyl group, allyl group, aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group. Specifically, a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyne group, an aralkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group and a naphthylmethyl group, an aromatic hydrocarbon such as an allyl group, a phenyl group and a naphthyl group. Represents a heterocyclic group such as a group, a pyridyl group, a thienyl group, a furyl group and a pyrrolyl group. Examples of the substituent which these may have include the same substituents as those in R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 .
【0040】但し、R6 とR7 は一体となって環を形成
してもよく、このような例としては、下記の化学式[化
6]で表される有機基が挙げられる。However, R 6 and R 7 may be combined to form a ring, and examples thereof include an organic group represented by the following chemical formula [Chemical Formula 6].
【0041】[0041]
【化6】 [Chemical 6]
【0042】前記の化学式[化1]中、lは0又は1、
mは0,1又は2、nは1又は2の整数を表す。尚、n
はAが1価の基の場合には1を、2価の基の場合は2で
ある。前記の化学式[化1]で表されるヒドラゾン化合
物の中では、特に、Aがカルバゾール環であるヒドラゾ
ン化合物が好ましい。下記の化学式[化7]は、斯かる
ヒドラゾン化合物の幾つかを例示したものである。In the above chemical formula [Chemical formula 1], l is 0 or 1,
m represents an integer of 0, 1 or 2, and n represents an integer of 1 or 2. Note that n
Is 1 when A is a monovalent group and 2 when A is a divalent group. Among the hydrazone compounds represented by the chemical formula [Formula 1], a hydrazone compound in which A is a carbazole ring is particularly preferable. The following chemical formula [Chemical formula 7] illustrates some of the hydrazone compounds.
【0043】[0043]
【化7】 [Chemical 7]
【0044】次に、メモリー性付与機能を有する化合物
について説明する。メモリー性は数多くの化合物により
達成することができる。代表的な化合物としては、例え
ば、クロロ酢酸、オルソベンゾイル安息香酸等のプロト
ン酸、芳香族ジアゾニウム塩、ロイコクリスタルバイオ
レット、ロイコマラカイトグリーン等のトリアリールメ
タン類、ヨウ化メチレン、ヘキサクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素、1,3,5−トリブロモベンゼン、
9,10−ジクロロアントラセン、9,10−ジブロモ
アントラセン等の芳香族ハロゲン化合物、ベンズアミ
ド、ニトロフェノール、ニトロアニリン、ヘキサクロロ
アセトン、ブロモアセトフェノン等のハロゲン化ケトン
化合物、塩化アセチル、臭化アセチル、クロロベンゾイ
ルクロリド等のハロゲン化アシル化合物、無水フタル酸
等の酸無水物、チオミヒェラーズケトン等のチオケトン
が挙げられる。Next, the compound having a memory property-imparting function will be described. Memory properties can be achieved by many compounds. Representative compounds include, for example, protic acids such as chloroacetic acid and orthobenzoylbenzoic acid, aromatic diazonium salts, triarylmethanes such as leuco crystal violet and leucomalachite green, halogenated methylene iodide, hexachloroethane and the like. Hydrocarbon, 1,3,5-tribromobenzene,
Aromatic halogen compounds such as 9,10-dichloroanthracene and 9,10-dibromoanthracene, halogenated ketone compounds such as benzamide, nitrophenol, nitroaniline, hexachloroacetone and bromoacetophenone, acetyl chloride, acetyl bromide and chlorobenzoyl chloride. And the like, acid anhydrides such as phthalic anhydride, and thioketones such as thiomichelers ketone.
【0045】特に、塩素原子及び/又は臭素原子が2つ
以上置換した芳香族ハロゲン化合物又は下記の化学式
[化8]で表されるチオケトンが好ましい。Particularly, an aromatic halogen compound in which two or more chlorine atoms and / or bromine atoms are substituted or a thioketone represented by the following chemical formula [Formula 8] is preferable.
【0046】[0046]
【化8】 [Chemical 8]
【0047】上記の化学式[化8]中、Ar1 及びAr
2 は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基又は芳香
族複素環基を表し、具体的には、前記の化学式[化1]
中のAにおけるのと同様の芳香族炭化水素基又は芳香族
複素環基が挙げられる。下記の化学式[化9]は、好ま
しいチオケトン類を例示したものである。In the above chemical formula [Chemical formula 8], Ar 1 and Ar
2 represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent, and specifically, the above-mentioned chemical formula [Chemical formula 1]
The same aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group as in A in the above can be mentioned. The following chemical formula [Chemical Formula 9] illustrates preferable thioketones.
【0048】[0048]
【化9】 [Chemical 9]
【0049】次に、バインダーポリマーについて説明す
る。バインダーポリマーとしては、前記の各化合物との
相溶性が良好であり、更に、電荷キャリアーの層内移動
に対して悪影響を及ぼさないポリマーが好ましい。例え
ば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、ブタジエン等のビニル
化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリ
フェニレンオキシド、ポリウレタン、セルロースエステ
ル、セルロースエーテル、アルキド樹脂、フェノキシ樹
脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂が挙げられる。これらの
中では、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂及びフェノキシ樹脂が好ま
しく、特に、ポリカーボネート樹脂及びメタクリル樹脂
が好ましい。Next, the binder polymer will be described. The binder polymer is preferably a polymer which has good compatibility with the above-mentioned compounds and does not adversely affect the movement of charge carriers in the layer. For example, polymers and copolymers of vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and butadiene, polyvinyl acetal,
Examples thereof include polycarbonate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polyurethane, cellulose ester, cellulose ether, alkyd resin, phenoxy resin, silicon resin and epoxy resin. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, methacrylic resin, acrylic resin and phenoxy resin are preferable, and polycarbonate resin and methacrylic resin are particularly preferable.
【0050】バインダーポリマーの使用量は通常、正孔
輸送性低分子化合物に対し、0.1〜30重量倍、好ま
しくは0.3〜10重量倍の範囲である。本発明の光情
報処理素子におけるメモリー層は前述の正孔輸送性の低
分子化合物、メモリー性付与機能を有する化合物をバイ
ンダー中に分散して構成されるが、更に、必要に応じて
可塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、電子
吸引性化合物等の添加物を含有させることができる。The amount of the binder polymer used is usually in the range of 0.1 to 30 times by weight, preferably 0.3 to 10 times by weight, of the hole transporting low molecular weight compound. The memory layer in the optical information processing element of the present invention is constituted by dispersing the above-described hole transporting low molecular weight compound, a compound having a memory property imparting function in a binder, and further, if necessary, a plasticizer, Additives such as a surfactant, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and an electron-withdrawing compound can be included.
【0051】次に本発明の光情報処理素子の製造方法に
ついて説明する。本発明の光情報処理素子はまず上記の
メモリー層の各成分及び必要に応じて使用される各種の
添加物成分を溶剤に溶解して塗布液を調製し、当該塗布
液を電極上に塗布した後乾燥してメモリー層を形成す
る。メモリー層の膜厚は、光情報処理素子の動作に必要
な電界強度、電源電圧の範囲により決定されるが通常は
100μm以下、好ましくは30μm以下とされる。そ
して、膜厚の下限は、塗布膜の均一性の確保及びピンホ
ールの防止の観点から、0.01μm、好ましくは0.
1μm以上とするのがよい。Next, a method of manufacturing the optical information processing element of the present invention will be described. In the optical information processing device of the present invention, first, each component of the memory layer and various additive components used as necessary are dissolved in a solvent to prepare a coating liquid, and the coating liquid is coated on an electrode. After that, it is dried to form a memory layer. The film thickness of the memory layer is determined by the electric field strength required for the operation of the optical information processing element and the range of the power supply voltage, but is usually 100 μm or less, preferably 30 μm or less. Further, the lower limit of the film thickness is 0.01 μm, preferably 0. 0, from the viewpoint of ensuring the uniformity of the coating film and preventing pinholes.
The thickness is preferably 1 μm or more.
【0052】メモリー層上に光電変換層を形成する方法
としては、塗布法、真空蒸着法、CVD法の他に、ラン
グミュアー・ブロジェット(LB)法(LB膜とエレク
トロニクス、1頁〜15頁、33頁〜46頁、シーエム
シー、1986年を参照)等によって単分子層を積層す
る方法等が挙げられる。光導電性材料の形状も上記製法
により様々である。セレンやシリコンの様に、無定形の
薄層の場合のほか、微粒子からなる薄層や、バインダー
樹脂中に粒子が分散した形、溶解した形等があり、さら
にLB法により単分子層が数層積層したLB膜の形状も
ある。LB膜の場合には光導電性色素単独の他、アラキ
ン酸等の絶縁性の長鎖脂肪酸あるいは異なる色素との混
合膜や、混合比の異なる単分子膜を積層することもでき
る。As the method for forming the photoelectric conversion layer on the memory layer, in addition to the coating method, the vacuum deposition method, the CVD method, the Langmuir-Blodgett (LB) method (LB film and electronics, pages 1 to 15) , Pp. 33-46, CMC, 1986), etc., and the like, and a method for laminating monomolecular layers. The shape of the photoconductive material also varies depending on the above manufacturing method. In addition to amorphous thin layers such as selenium and silicon, there are thin layers made of fine particles, particles dispersed in a binder resin, dissolved particles, and the like. There is also a shape of an LB film in which layers are laminated. In the case of the LB film, in addition to the photoconductive dye alone, a mixed film with an insulating long-chain fatty acid such as arachidic acid or a different dye, or a monomolecular film having a different mixing ratio can be laminated.
【0053】光導電性材料が微粒子としてバインダー樹
脂中に分散した形の光電変換層ではバインダー樹脂とし
ては、微粒子の分散性の良好な水酸基を有するバインダ
ー樹脂であるブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、フェノ
ール樹脂等のほか、ポリエステル、ポリカーボネート、
メタクリル系樹脂等が用いられる。蒸着等によって光電
変換層を形成する場合には必要に応じて、より変換効率
を高めるために溶媒蒸気にさらして結晶型を変える操作
等も行われる。In the photoelectric conversion layer in which the photoconductive material is dispersed as fine particles in the binder resin, the binder resin may be butyral resin, phenoxy resin, phenol resin, etc., which is a binder resin having a hydroxyl group with good dispersibility of the fine particles. Besides, polyester, polycarbonate,
Methacrylic resin or the like is used. When the photoelectric conversion layer is formed by vapor deposition or the like, an operation of changing the crystal form by exposing it to a solvent vapor to further improve the conversion efficiency is performed, if necessary.
【0054】また、光電変換層には塗布性、分散安定
性、保存安定性の向上のための添加剤を加えることがで
きる。さらに、キャリアー輸送能のある光導電性材料を
加えることもできる。光電変換層の厚さは、製法によっ
ても異なるが、数十Åから数μmであり、一般には1μ
m以下の厚さが望ましい。メモリー層、光電変換層の積
層に際しては必ずしも上記の順序である必要はなく、光
電変換層上にメモリー層を上記の方法で形成してもよ
い。また、メモリー層、光電変換層を別々の電極上に形
成した後に圧着等により一体化させる製造法も採用する
ことができる。電極の積層は、スパッタリングや蒸着法
等のほか、圧着法によってもよい。Further, additives for improving coatability, dispersion stability and storage stability can be added to the photoelectric conversion layer. Further, a photoconductive material having a carrier transporting ability can be added. Although the thickness of the photoelectric conversion layer varies depending on the manufacturing method, it is several tens of to several μm, and generally 1 μm.
A thickness of m or less is desirable. The order of stacking the memory layer and the photoelectric conversion layer is not necessarily the same, and the memory layer may be formed on the photoelectric conversion layer by the above method. Further, a manufacturing method in which the memory layer and the photoelectric conversion layer are formed on separate electrodes and then integrated by pressure bonding or the like can be employed. The electrodes may be laminated by a pressure bonding method as well as a sputtering method or a vapor deposition method.
【0055】次に、光情報処理素子を用いた光情報処理
方法について説明する。光情報処理素子は電極間に電圧
を印加して使用される。その際に、光を照射しない暗状
態では絶縁性で、暗電流は非常に小さい値であるが、光
電変換層の吸収波長領域の光(入力光)を照射中には、
導電性が増大し明電流が観測される。そして、メモリー
層の吸収波長領域の光(制御光)を一定時間照射したの
ちに観測すると、暗電流値はほとんど変化しないが、入
力光を照射すると、制御光を一定時間照射する前に観測
された明電流値と比べて増大あるいは減少する。すなわ
ち制御光照射によって入力光に対する素子の応答感度が
変化し、この変化した受光感度は電圧が印加された状態
において安定に保持されるから、この素子は受光感度の
変化という形態で情報を記憶していることになる。素子
の受光感度は光照射量、照射回数、印加電圧等によって
アナログ的に制御が可能である。Next, an optical information processing method using the optical information processing element will be described. The optical information processing element is used by applying a voltage between the electrodes. At that time, it is insulating in a dark state where light is not irradiated, and the dark current has a very small value, but during irradiation with light in the absorption wavelength region of the photoelectric conversion layer (input light),
The conductivity increases and a bright current is observed. When the light in the absorption wavelength region of the memory layer (control light) is irradiated for a certain period of time and then observed, the dark current value hardly changes, but when the input light is irradiated, it is observed before the control light is irradiated for a certain period of time. It increases or decreases compared to the bright current value. That is, the response sensitivity of the element to the input light is changed by the irradiation of the control light, and the changed light receiving sensitivity is stably maintained in the state in which the voltage is applied, so this element stores information in the form of a change in light receiving sensitivity. Will be. The light receiving sensitivity of the element can be controlled in an analog manner by the light irradiation amount, the number of times of irradiation, the applied voltage and the like.
【0056】上記の現象のメカニズムは現時点では十分
明らかではないが、可逆的な現象であることから、有機
物成分等の化学的分解によるものではないことは明らか
である。しかしながら、一応は、次のように仮説するこ
とができる。すなわち、メモリー層中の正孔輸送性の低
分子化合物、メモリー性を付与する機能を有する化合物
あるいはバインダーポリマー等が制御光照射により単独
あるいは分子間でプロトトロピー、異性化、配向変化等
の状態変化を引き起こし、光電変換層界面近傍での分極
を変化させることにより光電変換層からの正孔注入のエ
ネルギー障壁を低下させ、光電変換層に入力光を照射す
る際にできる正孔の流入を容易にさせる等の変化を生じ
させ、入力光照射時の明電流が増加する。そして、この
ように変化した状態が安定に持続することにより、記憶
(メモリー)機能が発現される。Although the mechanism of the above-mentioned phenomenon is not sufficiently clear at the present time, it is clear that it is not a chemical decomposition of an organic matter component or the like because it is a reversible phenomenon. However, for the time being, we can hypothesize that: That is, a low-molecular compound having a hole-transporting property in the memory layer, a compound having a function of imparting a memory property, a binder polymer, or the like, undergoes a state change such as prototropy, isomerization, or orientation change by controlled light irradiation alone or between molecules. And lowering the energy barrier of hole injection from the photoelectric conversion layer by changing the polarization in the vicinity of the photoelectric conversion layer interface, facilitating the inflow of holes that can occur when the photoelectric conversion layer is irradiated with input light. Change occurs, and the bright current at the time of illuminating the input light increases. Then, the memory function is expressed by stably maintaining the changed state.
【0057】上記光情報処理素子は制御光照射によって
変化した受光感度を安定に保持するが、元の状態への復
帰は加熱により可能であり、メモリー層のガラス転移温
度以上に加熱することによって速やかに元の状態に可逆
的に復帰することから、繰り返し記憶、消去が可能であ
ることがわかる。また、上記光情報処理素子は、電極間
に電圧を印加して使用される。制御光照射時に電極間に
かかる電界強度の大小によって受光感度の変化の度合い
を制御することができる。この際、電界強度が大きいほ
ど素子の受光感度の変化の割合は大きくなる。電界強度
としては絶縁破壊を起こさないことが必要で、一般的に
は107 V/cm以下とされ、通常は106 V/cm以
下、好ましくは5×105V/cm以下である。The optical information processing element stably holds the light receiving sensitivity changed by the irradiation of the control light, but it can be restored to the original state by heating, and can be quickly heated by heating the glass transition temperature of the memory layer or higher. Since it reversibly returns to the original state, it is possible to repeatedly store and erase. The optical information processing element is used by applying a voltage between the electrodes. The degree of change in the light receiving sensitivity can be controlled by the magnitude of the electric field strength applied between the electrodes during irradiation of the control light. At this time, the greater the electric field strength, the greater the rate of change in the light receiving sensitivity of the element. The electric field strength is required not to cause dielectric breakdown, and is generally 10 7 V / cm or less, usually 10 6 V / cm or less, preferably 5 × 10 5 V / cm or less.
【0058】次に、光照射方法について説明する。入力
光は光電変換層に吸収されて、メモリー層にできるだけ
影響を及ぼさないことが必要で、制御光は入力層とメモ
リー層の界面近傍に吸収されることが必要である。その
ためには、ここで入力光と制御光は同一波長であっても
異なる波長であってもよく、光の強度も同一でも異なっ
ていてもよい。光は単色光であっても一定の波長幅を持
った光であってもよい。光の入射方向もメモリー層側か
らでも光電変換層側からでもよい。例として次の場合が
挙げられる。Next, the light irradiation method will be described. It is necessary that the input light is absorbed by the photoelectric conversion layer and does not affect the memory layer as much as possible, and the control light is absorbed near the interface between the input layer and the memory layer. For that purpose, the input light and the control light may have the same wavelength or different wavelengths, and the light intensities may be the same or different. The light may be monochromatic light or light having a certain wavelength width. The incident direction of light may be from the memory layer side or the photoelectric conversion layer side. For example, the following cases are listed.
【0059】(1)入力光と制御光の波長領域が異なる
場合。この場合、入力光は光電変換層の吸収波長領域の
光で、制御光はメモリー層の吸収波長領域の光である。
入射方向が入力光、制御光ともにメモリー層側から照射
する場合はメモリー層が入力光を全く吸収しないか、吸
収しても入力光の一部は光電変換層に到達する程度であ
ることが必要である。また、制御光はメモリー層と光電
変換層との接合界面近傍にまで到達させる。(1) When the wavelength regions of the input light and the control light are different. In this case, the input light is light in the absorption wavelength region of the photoelectric conversion layer, and the control light is light in the absorption wavelength region of the memory layer.
When both the input light and the control light are incident from the memory layer side, the memory layer should not absorb the input light at all, or even if it absorbs, part of the input light should reach the photoelectric conversion layer. Is. Further, the control light is made to reach the vicinity of the bonding interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer.
【0060】入射方向が入力光、制御光ともに光電変換
層側から照射する場合は光電変換層が制御光を全く吸収
しないか、吸収しても制御光の一部はメモリー層に到達
する程度であることが必要である。入射方向が入力光、
制御光とで逆の場合には上記の場合と同様に、光電変換
層に入力光が、メモリー層と光電変換層の接合界面に制
御光が到達するようにする。When both the incident light and the control light are emitted from the photoelectric conversion layer side, the photoelectric conversion layer does not absorb the control light at all, or even if it absorbs, a part of the control light reaches the memory layer. It is necessary to be. The incident direction is the input light,
When the control light is opposite, the input light is made to reach the photoelectric conversion layer and the control light is made to reach the junction interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer, as in the above case.
【0061】以上の条件に加え、入力光が光情報処理素
子の受光感度に影響を及ぼさないことが望ましく、その
場合には制御光によって変化、保持された受光感度に影
響を与えずに当該素子の受光感度を入力光照射によって
モニターすることができる。すなわち、制御光を情報の
書き込みに、入力光を情報の読みだしに使用することが
可能となる。In addition to the above conditions, it is desirable that the input light does not affect the light receiving sensitivity of the optical information processing element. In that case, the light receiving sensitivity which is changed and held by the control light is not affected and the element concerned is not affected. The light receiving sensitivity of can be monitored by illuminating the input light. That is, the control light can be used for writing information and the input light can be used for reading information.
【0062】(2)入力光と制御光の波長領域が同じ場
合。この場合の波長はメモリー層の吸収波長領域に相当
するが、同時に光電変換層の吸収波長領域でもあること
が必要である。入射方向が入力光、制御光ともにメモリ
ー層側から照射する場合には、入力光の一部は光電変換
層に到達することが必要であり、制御光はメモリー層と
光電変換層との接合界面近傍にまで到達することが必要
である。更に、入力光の光強度を制御光の光強度に比べ
て小さくするか、入力光の照射時間を素子の受光感度に
影響を及ぼさない程度に十分短くすることによって入力
光が素子の受光感度に及ぼす影響をできるだけ小さくす
れば、制御光により変化、保持された素子の受光感度に
ほとんど影響を及ぼさずに入力光でモニターすることが
できる。(2) When the wavelength regions of the input light and the control light are the same. The wavelength in this case corresponds to the absorption wavelength region of the memory layer, but at the same time, it needs to be the absorption wavelength region of the photoelectric conversion layer. When both the incident light and the control light are emitted from the memory layer side, it is necessary that a part of the input light reaches the photoelectric conversion layer, and the control light is the bonding interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer. It is necessary to reach the neighborhood. In addition, the light intensity of the input light should be smaller than that of the control light, or the input light irradiation time should be short enough not to affect the light receiving sensitivity of the device. If the influence exerted is made as small as possible, it is possible to monitor by the input light with little influence on the light receiving sensitivity of the element which is changed and held by the control light.
【0063】入射方向が入力光、制御光ともに光電変換
層側から照射する場合には、制御光がメモリー層と光電
変換層との接合界面近傍にまで到達することが必要であ
る。入射方向が入力光、制御光とで逆の場合には、制御
光をメモリー層側から、入力光を光電変換層側から照射
し、入力光がメモリー層と光電変換層との接合界面近傍
に影響を及ぼさないようにすれば制御光により変化、保
持された素子の受光感度にほとんど影響を及ぼさずに入
力光でモニターすることができる。When both the incident light and the control light are incident from the photoelectric conversion layer side, it is necessary that the control light reaches near the junction interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer. When the incident direction is opposite to the input light and the control light, the control light is irradiated from the memory layer side and the input light is irradiated from the photoelectric conversion layer side, and the input light is emitted near the junction interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer. If the light is not affected, it can be monitored by the input light with little influence on the light receiving sensitivity of the element which is changed and held by the control light.
【0064】上述の(1),(2)の場合の他に、入力
光と制御光を区別しない使用法も可能であり、メモリー
層と光電変換層との接合界面近傍にまで到達する光を用
いれば、光照射毎に明電流値が変化する。次に、光情報
処理素子の、パターン認識へ適用について説明する。光
情報処理素子は1つの電極内においても学習光の当たっ
た部分だけが選択的に応答感度が上がる。そこで、2次
元パターンの光学マスクを通して制御光を素子に照射す
ることによりあるパターンを学習、記憶させ、その後入
力光によって2次元パターンを照射することによって学
習、記憶していたパターンの認識が可能である。つま
り、学習、記憶していたパターンとより似た、すなわち
よりハミング距離のより小さなパターンが入力されたと
きほど大きな出力が出ることになる。また、光情報処理
素子は、その応答感度を照射光量あるいは印加電圧によ
って連続的に制御することが可能であることから、例え
ば濃淡の階調性のある光学マスクを用いた場合にもその
濃淡の度合いに対応した記憶をし、応答性に面内分布を
持たせることができる。また、異なるパターンをを同一
素子に記憶させた場合にも、線形に積算されることによ
り、クロストークのない情報処理が可能となる。In addition to the above cases (1) and (2), it is possible to use the input light and the control light without distinguishing them, and the light reaching the vicinity of the junction interface between the memory layer and the photoelectric conversion layer can be used. If used, the bright current value changes with each light irradiation. Next, application of the optical information processing element to pattern recognition will be described. In the optical information processing element, even within one electrode, the response sensitivity is selectively increased only in the portion exposed to the learning light. Therefore, it is possible to learn a certain pattern by irradiating the element with a control light through an optical mask having a two-dimensional pattern, and then to memorize the stored pattern by irradiating the two-dimensional pattern with the input light. is there. That is, when a pattern that is more similar to the learned and stored pattern, that is, a pattern with a smaller Hamming distance is input, a larger output is output. In addition, since the response sensitivity of the optical information processing element can be continuously controlled by the irradiation light amount or the applied voltage, for example, even when an optical mask having gradation of gradation is used, It is possible to memorize according to the degree and to give the responsiveness an in-plane distribution. Further, even when different patterns are stored in the same element, the information can be processed without crosstalk by being linearly integrated.
【0065】[0065]
実施例1 <光情報処理素子の作製>9−エチルカルバゾール−3
−カルバルデヒドジフェニルヒドラゾン1.0g、4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)チオベンゾフェノン1
2.5mg、ポリカーボネート1.25gをジオキサン
14gに溶解して塗布液を調整した。Example 1 <Preparation of optical information processing element> 9-ethylcarbazole-3
-Carbaldehyde diphenylhydrazone 1.0 g, 4,
4'-bis (dimethylamino) thiobenzophenone 1
A coating solution was prepared by dissolving 2.5 mg of polycarbonate and 1.25 g of polycarbonate in 14 g of dioxane.
【0066】ガラス基板上に形成したITO電極層の上
に上記の塗布液を乾燥後の膜厚が3μmになるように塗
布して乾燥し、メモリー層を形成した。次いで、チタニ
ルフタロシアニン2重量部、ポリビニルブチラール1重
量部をn−プロピルアルコール及びメタノールを重量比
60:40で混合した溶剤に固形分比率が3.4%にな
るように混合して分散液を調整した。この分散液を上記
のメモリー層上に、乾燥後の膜厚が約0.1μmになる
ように塗布して乾燥し、光電変換層を形成した。光電変
換層表面にアルミニウムを素子の電極面積が1cm2 と
なるように真空蒸着して対向電極を形成し、光情報処理
素子を作製した。 <光情報処理素子の機能の評価>上記の光情報処理素子
にアルミニウム電極側を正極として直流電圧30Vを印
加した後、透明電極(ITO電極)側から出力100μ
W/cm2 で波長700nmの単色光を1分間照射した
ところ、図1に示すように、1×10ー8A/cm 2 の明
電流が観測された。光遮断後再び同様に700nmの光
照射を行うとほぼ同じ明電流が再現性良く観測された。
次に445nmの単色光を透明電極側から5分間照射し
たところ明電流が徐々に増加し、5分後に3×10ー7A
/cm2 に達した。光遮断後、暗電流は速やかにほぼ元
の電流値に復帰した。20分後、再び700nmの単色
光を透明電極側から照射したところ、5×10ー7A/c
m2の明電流が再現性良く観測された。即ち、445n
mの光照射によって700nmの光に対する明電流の応
答感度が約50倍に増大することを確認した。この増大
した応答感度は室温下で経時的に安定で、3時間後に9
6%、5時間後に91%、7時間後に91%保持され
た。 実施例2 <光情報処理素子の作製>実施例1と同様にして、光情
報処理素子を作製した。 <光情報処理素子の機能の評価>上記の光情報処理素子
にアルミニウム電極側を正極として直流電圧30Vを印
加した後、透明電極(ITO電極)側から出力100μ
W/cm2 で波長445nmの単色光を20秒間照射し
たところ3×10ー8A/cm2 の明電流が観測された。
光遮断後は速やかに元の暗電流値に復帰した。波長44
5nmの光を繰り返し照射したところ、図2に示すよう
に明電流値は徐々に増加し、10回照射後には1×10
ー7A/cm2 に増大した。即ち、445nmの光に対す
る応答感度が光照射を繰り返す度に連続的に増加するこ
とを確認した。 実施例3 <光情報処理素子の作製>9−エチルカルバゾール−3
−カルバルデヒドジフェニルヒドラゾン1.0g、4,
4’−ビス(ジメチルアミノ)チオベンゾフェノン1
2.5mg、ポリカーボネート1.25gをジオキサン
14gに溶解して塗布液を調整した。On the ITO electrode layer formed on the glass substrate
The above coating solution is applied to the film so that the film thickness after drying is 3 μm.
It was clothed and dried to form a memory layer. Then titani
Ruphthalocyanine 2 parts by weight, polyvinyl butyral 1 layer
Weight ratio of n-propyl alcohol and methanol
The solid content ratio becomes 3.4% in the solvent mixed at 60:40.
And mixed to prepare a dispersion liquid. This dispersion is
The film thickness after drying on the memory layer is about 0.1 μm
Thus coated and dried to form a photoelectric conversion layer. Photoelectric conversion
Aluminum on the surface of the replacement layer has an electrode area of 1 cm2When
By vacuum evaporation to form the counter electrode,
A device was produced. <Evaluation of functions of optical information processing element> The above optical information processing element
And a DC voltage of 30V is applied with the aluminum electrode side as the positive electrode.
After applying, output 100μ from the transparent electrode (ITO electrode) side
W / cm2At a wavelength of 700 nm for 1 minute
However, as shown in FIG. 1, 1 × 10-8A / cm 2The light of
An electric current was observed. After shutting off the light, again 700 nm light
When irradiated, almost the same bright current was observed with good reproducibility.
Then, 445 nm monochromatic light is irradiated from the transparent electrode side for 5 minutes.
Bright current gradually increased, and after 5 minutes, 3 × 10ー 7A
/ Cm2Reached After shutting off the light, the dark current quickly disappeared.
It returned to the current value of. After 20 minutes, again 700nm monochromatic
When light is irradiated from the transparent electrode side, 5 × 10ー 7A / c
m2The bright current was observed with good reproducibility. That is, 445n
The bright current response to 700 nm light is
It was confirmed that the response sensitivity increased about 50 times. This increase
The response sensitivity was stable over time at room temperature, and after 3 hours,
6%, 91% after 5 hours, 91% after 7 hours
It was Example 2 <Production of Optical Information Processing Device>
An information processing element was prepared. <Evaluation of functions of optical information processing element> The above optical information processing element
And a DC voltage of 30V is applied with the aluminum electrode side as the positive electrode.
After applying, output 100μ from the transparent electrode (ITO electrode) side
W / cm2With monochromatic light of wavelength 445 nm for 20 seconds
3 x 10 on the spot-8A / cm2The bright current of was observed.
After the light was cut off, the original dark current value was quickly restored. Wavelength 44
Repeated irradiation with 5 nm light showed that
The bright current value gradually increases, and after irradiation of 10 times, 1 × 10
ー 7A / cm2Increased to. That is, for light of 445 nm
Response sensitivity increases continuously with each irradiation of light.
And confirmed. Example 3 <Preparation of optical information processing element> 9-ethylcarbazole-3
-Carbaldehyde diphenylhydrazone 1.0 g, 4,
4'-bis (dimethylamino) thiobenzophenone 1
2.5 mg, polycarbonate 1.25 g dioxane
It was dissolved in 14 g to prepare a coating solution.
【0067】ガラス基板上に形成したITO電極層の上
に上記の塗布液を乾燥後の膜厚が3μmになるように塗
布して乾燥し、メモリー層を形成した。次いで、p−
(10−カルボキシデシロキシ)フェニルトリトリルポ
ルフィリン及びアラキン酸をそれぞれ1.0mmol/
l、5.0mmol/l含有する混合クロロホルム溶液
を調整し、これをラングミュアー・ブロジェット(L
B)法に従って、二価のカドミウム塩を含む水溶液上に
滴下し、単分子膜を形成した後に、表面圧が25mN/
mとなるように膜を圧縮し、メモリー層上に36層累積
し、光電変換層を形成した。光電変換層表面にアルミニ
ウムを素子の電極面積が1cm2 となるように真空蒸着
して対向電極を形成し、光情報処理素子を作製した。 <光情報処理素子の機能の評価>上記の光情報処理素子
にアルミニウム電極側を正極として直流電圧30Vを印
加した後、透明電極(ITO電極)側から出力100μ
W/cm2 で波長440nmの単色光を10秒間照射し
たところ5×10ー9A/cm2 の明電流が観測された。
光遮断後は速やかに元の暗電流値に復帰した。波長44
0nmの光を繰り返し照射したところ、図3に示すよう
に明電流値は徐々に増加し、14回照射後には7×10
ー8A/cm2 に増大した。即ち、440nmの光に対す
る応答感度が光照射を繰り返す度に連続的に増加するこ
とを確認した。 実施例4 実施例1と同様にして、光情報処理素子を作製した。The above coating liquid was applied onto the ITO electrode layer formed on the glass substrate so that the film thickness after drying was 3 μm, and dried to form a memory layer. Then p-
1.0 mmol / (10-carboxydecyloxy) phenyltritolylporphyrin and arachidic acid
l, 5.0 mmol / l containing mixed chloroform solution was prepared, and this was mixed with Langmuir-Blodgett (L
According to the method B), after dropping the solution onto an aqueous solution containing a divalent cadmium salt to form a monomolecular film, the surface pressure is 25 mN /
The film was compressed to m, and 36 layers were accumulated on the memory layer to form a photoelectric conversion layer. Aluminum was vacuum-deposited on the surface of the photoelectric conversion layer so that the electrode area of the device was 1 cm 2 to form a counter electrode, and an optical information processing device was produced. <Evaluation of Function of Optical Information Processing Element> After applying a DC voltage of 30 V to the above optical information processing element with the aluminum electrode side as a positive electrode, an output of 100 μm from the transparent electrode (ITO electrode) side.
When a monochromatic light having a wavelength of 440 nm was irradiated for 10 seconds at W / cm 2 , a bright current of 5 × 10 −9 A / cm 2 was observed.
After the light was cut off, the original dark current value was quickly restored. Wavelength 44
When the light of 0 nm is repeatedly irradiated, the bright current value gradually increases as shown in FIG.
It increased to -8 A / cm 2 . That is, it was confirmed that the response sensitivity to the light of 440 nm continuously increases each time the light irradiation is repeated. Example 4 An optical information processing element was produced in the same manner as in Example 1.
【0068】図4の(a)に示した1〜9のパターンは
いずれも4×4のマトリックスのうち半分の8ピクセル
からなるもので、このうち、1と4を学習に使用した。
図4の(b)のグラフは、パターン1〜9の、パターン
1、4からのハミング距離を表す。このグラフは、座標
軸の左に行くほどパターン1に類似し、上に行くほどパ
ターン4に類似していることを示している。図5の
(a)に示すように学習前は1〜9のパターンに対す
る、入力光照射時の応答性の違いは観測されないが、パ
ターン1を学習させた後は、図5の(b)に示すように
パターン1からのハミング距離に応じた異なる出力の分
布となった。さらにこれに続けてパターン4を学習させ
た後は、図5の(c)に示すように、パターン1の履歴
が残るものの、ほぼパターン4からのハミング距離に応
じた出力分布となった。図5の(b)のグラフと図5の
(c)のグラフの差を取ると、図5の(d)に示すよう
に、パターン4からのハミング距離に応じた出力分布と
なっており、記憶されていたパターン1の情報に影響さ
れることなく線形に重ね書きがされていたことがわかっ
た。以上、この素子はニューロ素子に必要な、入力情報
と記憶情報との積和演算が可能で、簡単なパターン認識
も行えることが確認された。All of the patterns 1 to 9 shown in FIG. 4A consist of 8 pixels, which is half of the 4 × 4 matrix. Of these, 1 and 4 were used for learning.
The graph of FIG. 4B shows the Hamming distances of the patterns 1 to 9 from the patterns 1 and 4. This graph shows that the pattern 1 is closer to the left of the coordinate axis, and the pattern 4 is closer to the upper side. As shown in (a) of FIG. 5, before learning, no difference in the responsiveness at the time of irradiation of the input light with respect to patterns 1 to 9 is observed, but after learning pattern 1, As shown in the figure, the distribution of the output varies depending on the Hamming distance from the pattern 1. Further, after learning the pattern 4 subsequently to this, as shown in FIG. 5C, although the history of the pattern 1 remains, the output distribution substantially corresponds to the Hamming distance from the pattern 4. Taking the difference between the graph of FIG. 5B and the graph of FIG. 5C, the output distribution according to the Hamming distance from the pattern 4 is obtained as shown in FIG. It was found that the overwriting was performed linearly without being affected by the stored information of pattern 1. As described above, it was confirmed that this element can perform product-sum operation of input information and stored information, which is necessary for a neuro element, and can also perform simple pattern recognition.
【0069】[0069]
【発明の効果】本発明は、光照射により受光感度がアナ
ログ的にスイッチする機能を有し、この状態が長時間安
定に記憶、保持され、加熱による可逆的な記憶の消去が
可能であるという特徴を有する光情報処理素子を利用し
た光情報処理方法を与えるもので、パターン認識、演算
処理、視覚情報処理、ニューロコンピューター、センサ
ー等各種用途に適用することが期待できる。According to the present invention, the light-receiving sensitivity has a function of analog-switching by light irradiation, this state is stably stored and held for a long time, and reversible storage can be erased by heating. It provides an optical information processing method using an optical information processing element having characteristics, and can be expected to be applied to various applications such as pattern recognition, arithmetic processing, visual information processing, neurocomputers, and sensors.
【図1】実施例1光情報処理素子の制御光照射前後の入
力光照射による電流応答特性を示す図。FIG. 1 is a diagram showing current response characteristics of an optical information processing element before and after irradiation of control light with irradiation of input light.
【図2】実施例2の光情報処理素子の繰り返し光照射に
よる電流応答特性を示す図。FIG. 2 is a diagram showing current response characteristics of the optical information processing element of Example 2 due to repeated light irradiation.
【図3】実施例3の光情報処理素子の繰り返し光照射に
よる電流応答特性を示す図。FIG. 3 is a diagram showing the current response characteristics of the optical information processing element of Example 3 upon repeated light irradiation.
【図4】(a)実施例4で使用した2次元パターンの
図。 (b)実施例4で使用した2次元パターンの、パターン
1及びパターン4からのハミング距離を示す図。図中の
〜は図4(a)のパターン1〜9を表す。4A is a diagram of a two-dimensional pattern used in Example 4. FIG. (B) The figure which shows the Hamming distance from the pattern 1 and the pattern 4 of the two-dimensional pattern used in Example 4. In the figure, ~ represents patterns 1 to 9 in Fig. 4A.
【図5】(a)学習前の、パターン1〜9に対する出力
電流応答を示した図。 (b)パターン1学習後の、パターン1〜9に対する出
力電流応答を示した図。 (c)パターン4学習後の、パターン1〜9に対する出
力電流応答を示した図。 (d)図5の(b)と図5の
(c)の出力電流の差を取った図。5A is a diagram showing output current responses to patterns 1 to 9 before learning. FIG. (B) The figure which showed the output current response with respect to patterns 1-9 after the pattern 1 learning. (C) The figure which showed the output current response with respect to patterns 1-9 after the pattern 4 learning. (D) The figure which took the difference of the output current of (b) of FIG. 5 and (c) of FIG.
【図6】マッカロー・ピッツによるニューロンモデルを
表した図。FIG. 6 is a diagram showing a neuron model by McCullough Pitts.
u1 〜un :入力信号 w1 〜wn :シナプスの結合荷重 v :出力信号 g(x) :出力関数u 1 ~u n: input signal w 1 to w n: synaptic connection weights v: output signal g (x): Output Functions
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村山 徹郎 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuro Murayama Sanyo Kasei Co., Ltd. Research Institute, 1000, Kamoshida-cho, Midori-ku, Yokohama-shi, Kanagawa
Claims (1)
る電極間に光電変換層と一定の波長の光により変化した
導電性を光遮断後も持続させる機能を有するメモリー層
とを有する光情報処理素子に、メモリー層の導電性を変
化させる波長の光による光情報を入射させて該光情報を
記憶させ、次に光電変換層に光電変換をさせる波長の光
による光情報を入射させ、得られる出力信号から光情報
の認識を行うことを特徴とする光情報処理方法。1. An optical information processing system in which at least one electrode has a photoelectric conversion layer between electrodes having light transmissivity and a memory layer having a function of maintaining conductivity changed by light having a certain wavelength even after light is blocked. Obtained by inputting light information of light having a wavelength that changes the conductivity of the memory layer into the device to store the light information, and then making light information of light having a wavelength causing photoelectric conversion enter the photoelectric conversion layer. An optical information processing method characterized by recognizing optical information from an output signal.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284673A JPH06130441A (en) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | Optical information processing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284673A JPH06130441A (en) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | Optical information processing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06130441A true JPH06130441A (en) | 1994-05-13 |
Family
ID=17681503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4284673A Pending JPH06130441A (en) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | Optical information processing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06130441A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009042313A (en) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | National Institute For Materials Science | Optical parallel computing element |
-
1992
- 1992-10-22 JP JP4284673A patent/JPH06130441A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009042313A (en) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | National Institute For Materials Science | Optical parallel computing element |
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