JPH06132001A - シートメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料及びその作製方法 - Google Patents
シートメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料及びその作製方法Info
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- JPH06132001A JPH06132001A JP5141704A JP14170493A JPH06132001A JP H06132001 A JPH06132001 A JP H06132001A JP 5141704 A JP5141704 A JP 5141704A JP 14170493 A JP14170493 A JP 14170493A JP H06132001 A JPH06132001 A JP H06132001A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料に照射されるイオンビームを均一にし、
広範囲の研磨を可能にするシートメッシュを提供する。 【構成】 円板形状のシートメッシュ11の中央の開口
部11aエッジにテーパ部11bを形成し、イオンビー
ムBがエッジにあたらないようにすることにより、広範
囲な試料面が研磨でき、しかもビーム乱流の発生を防止
して均一な研磨を可能にする。
広範囲の研磨を可能にするシートメッシュを提供する。 【構成】 円板形状のシートメッシュ11の中央の開口
部11aエッジにテーパ部11bを形成し、イオンビー
ムBがエッジにあたらないようにすることにより、広範
囲な試料面が研磨でき、しかもビーム乱流の発生を防止
して均一な研磨を可能にする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、透過型電子顕微鏡
(TEM:Transmission Electro
n Microscope)に用いられる試料を支持す
るシートメッシュ及び試料の作製方法に関する。
(TEM:Transmission Electro
n Microscope)に用いられる試料を支持す
るシートメッシュ及び試料の作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より半導体素子の微細構造の評価手
段として、透過型電子顕微鏡による素子の断面方向から
の観察が行なわれている。この透過型電子顕微鏡で観察
する試料は、例えば、2枚の半導体基板1,1を図14
(A)に示すように積層膜2どうしを向い合わせて接着
剤3で貼り合わせ、薄板aを切出す。次に、図14
(B)に示すように、薄板aを接着剤5で研磨用回転体
4に接着して研磨粉6を用いて回転研磨して厚みを20
μm程度まで薄くし、両面を鏡面に仕上げる。次いで、
このようにして薄く加工された薄板aを、図14(C)
に示すように、中央に孔7aが開設された金属性の厚さ
数10μm単孔メッシュ(シートメッシュ)7に該孔7
aを覆うように載せて固定し、図14(D)に示すよう
回転支持体8に装着し、真空中で高圧放電により生じた
Ar+イオンを加速して照射角9〜20゜で薄板aにイ
オンビームBを照射し、薄板aの中央に小さな穴があい
た時点でイオン照射を止める。このようにして、透過型
電子顕微鏡の試料が作製できる。
段として、透過型電子顕微鏡による素子の断面方向から
の観察が行なわれている。この透過型電子顕微鏡で観察
する試料は、例えば、2枚の半導体基板1,1を図14
(A)に示すように積層膜2どうしを向い合わせて接着
剤3で貼り合わせ、薄板aを切出す。次に、図14
(B)に示すように、薄板aを接着剤5で研磨用回転体
4に接着して研磨粉6を用いて回転研磨して厚みを20
μm程度まで薄くし、両面を鏡面に仕上げる。次いで、
このようにして薄く加工された薄板aを、図14(C)
に示すように、中央に孔7aが開設された金属性の厚さ
数10μm単孔メッシュ(シートメッシュ)7に該孔7
aを覆うように載せて固定し、図14(D)に示すよう
回転支持体8に装着し、真空中で高圧放電により生じた
Ar+イオンを加速して照射角9〜20゜で薄板aにイ
オンビームBを照射し、薄板aの中央に小さな穴があい
た時点でイオン照射を止める。このようにして、透過型
電子顕微鏡の試料が作製できる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の透過型電子顕微鏡用試料の作製方法による
と、図15に示すように、斜め方向から入射するAr+
イオンビームBが単孔メッシュ7の開口部のエッジ部に
衝突して孔7aに面する薄板(試料)aの下面周辺は図
16に示すように、あまり研磨されず、また、エッジ部
の近くで発生する乱流によって研磨むらや表面荒れが生
じ良好に研磨されない問題があった。
うな従来の透過型電子顕微鏡用試料の作製方法による
と、図15に示すように、斜め方向から入射するAr+
イオンビームBが単孔メッシュ7の開口部のエッジ部に
衝突して孔7aに面する薄板(試料)aの下面周辺は図
16に示すように、あまり研磨されず、また、エッジ部
の近くで発生する乱流によって研磨むらや表面荒れが生
じ良好に研磨されない問題があった。
【0004】また、このような従来の透過型電子顕微鏡
用試料の作製方法によると、研磨しようとする試料の積
層膜2の材質によっては、接着剤3が効かず、その後の
研磨工程に進めないという問題があった。接着不可能な
材質としては、例えばAlがあげられる。
用試料の作製方法によると、研磨しようとする試料の積
層膜2の材質によっては、接着剤3が効かず、その後の
研磨工程に進めないという問題があった。接着不可能な
材質としては、例えばAlがあげられる。
【0005】さらに、このような従来の透過型電子顕微
鏡用試料の作製方法によると、観察対象部分である積層
膜2が孔7aの中央にくるように薄板aを配置すること
が困難で、おおむね図17に示すように積層膜2が孔7
aの中央からずれて固定され、観察対象部分である積層
膜2部分が図17(B)に示すように良好に研磨されな
い問題があった。
鏡用試料の作製方法によると、観察対象部分である積層
膜2が孔7aの中央にくるように薄板aを配置すること
が困難で、おおむね図17に示すように積層膜2が孔7
aの中央からずれて固定され、観察対象部分である積層
膜2部分が図17(B)に示すように良好に研磨されな
い問題があった。
【0006】この発明が解決しようとする課題は、イオ
ンビームが試料の広範囲に亘って均一に照射されるシー
トメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料の作製方法を得
るにはどのような手段を講じればよいかという点にあ
る。また、試料の接着を確実にするにはどのような手段
を用いればよいかという点にある。さらに、シートメッ
シュの中央に積層膜(被観察膜)を厳密に配置するに
は、どのような手段を講じればよいかという点にある。
ンビームが試料の広範囲に亘って均一に照射されるシー
トメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料の作製方法を得
るにはどのような手段を講じればよいかという点にあ
る。また、試料の接着を確実にするにはどのような手段
を用いればよいかという点にある。さらに、シートメッ
シュの中央に積層膜(被観察膜)を厳密に配置するに
は、どのような手段を講じればよいかという点にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
中央に開口部を有し、該開口部を覆うように透過型電子
顕微鏡用試料を載置した状態で該試料を支持するシート
メッシュにおいて、前記開口部のエッジ部をテーパ状に
形成したことを、その解決手段としている。
中央に開口部を有し、該開口部を覆うように透過型電子
顕微鏡用試料を載置した状態で該試料を支持するシート
メッシュにおいて、前記開口部のエッジ部をテーパ状に
形成したことを、その解決手段としている。
【0008】請求項2記載の発明は、前記エッジ部のテ
ーパを試料研磨用エネルギー線の照射角と同じ角度にし
たことを特徴としている。
ーパを試料研磨用エネルギー線の照射角と同じ角度にし
たことを特徴としている。
【0009】請求項3記載の発明は、中央に開口部を有
し、該開口部を覆うように透過型電子顕微鏡用試料を載
置した状態で該試料を支持するシートメッシュにおい
て、前記試料を支持する領域に凹部を形成し、該凹部に
前記試料を嵌め込むことを特徴としている。
し、該開口部を覆うように透過型電子顕微鏡用試料を載
置した状態で該試料を支持するシートメッシュにおい
て、前記試料を支持する領域に凹部を形成し、該凹部に
前記試料を嵌め込むことを特徴としている。
【0010】請求項4記載の発明は、中央に開口部を有
し、該開口部のエッジ部をテーパ状に形成したシートメ
ッシュに試料を支持し、エネルギー線により該試料を研
磨することを、解決手段としている。
し、該開口部のエッジ部をテーパ状に形成したシートメ
ッシュに試料を支持し、エネルギー線により該試料を研
磨することを、解決手段としている。
【0011】請求項5記載の発明は、前記エッジ部のテ
ーパを前記エネルギー線の照射角と同じ角度にしたシー
トメッシュを用いることを特徴としている。
ーパを前記エネルギー線の照射角と同じ角度にしたシー
トメッシュを用いることを特徴としている。
【0012】請求項6記載の発明は、中央に開口部を有
し、且つ試料を支持する領域に凹部を形成したシートメ
ッシュの該凹部に前記試料を嵌め込み、エネルギー線に
より該試料を研磨することを、解決手段としている。
し、且つ試料を支持する領域に凹部を形成したシートメ
ッシュの該凹部に前記試料を嵌め込み、エネルギー線に
より該試料を研磨することを、解決手段としている。
【0013】請求項7記載の発明は、少なくとも一方の
基板の表面に積層膜を成膜した基板どうしを、該積層膜
を挟むように接着して試料を作製し、該試料の切断及び
研磨を行って透過型電子顕微鏡用試料を作製する方法に
おいて、前記積層膜上に該積層膜及び接着剤に対して密
着性の高い密着層を形成した後に、該密着層の表面に該
接着剤を付着させて接着を行うことを、解決手段として
いる。
基板の表面に積層膜を成膜した基板どうしを、該積層膜
を挟むように接着して試料を作製し、該試料の切断及び
研磨を行って透過型電子顕微鏡用試料を作製する方法に
おいて、前記積層膜上に該積層膜及び接着剤に対して密
着性の高い密着層を形成した後に、該密着層の表面に該
接着剤を付着させて接着を行うことを、解決手段として
いる。
【0014】請求項8記載の発明は、接着剤層を挟む密
着層を有し、該密着層の外側には積層膜を有し、該積層
膜の外側には基板を有することを、解決手段としてい
る。
着層を有し、該密着層の外側には積層膜を有し、該積層
膜の外側には基板を有することを、解決手段としてい
る。
【0015】請求項9記載の発明は、中央に開口部を有
し、該開口部を覆うように透過型電子顕微鏡用試料を載
置した状態で該試料を支持するシートメッシュにおい
て、前記開口部に対する前記透過型電子顕微鏡用試料の
位置決め手段を設けたことを、解決手段としている。
し、該開口部を覆うように透過型電子顕微鏡用試料を載
置した状態で該試料を支持するシートメッシュにおい
て、前記開口部に対する前記透過型電子顕微鏡用試料の
位置決め手段を設けたことを、解決手段としている。
【0016】請求項10記載の発明は、前記位置決め手
段は、前記開口部の周辺に形成した、中心に向かう線で
あることを、特徴としている。
段は、前記開口部の周辺に形成した、中心に向かう線で
あることを、特徴としている。
【0017】請求項11記載の発明は、前記位決め手段
は、前記透過型電子顕微鏡用試料を嵌め込む凹部である
ことを特徴としている。
は、前記透過型電子顕微鏡用試料を嵌め込む凹部である
ことを特徴としている。
【0018】請求項12記載の発明は、中央に開口部を
有し、該開口部の周辺に中心に向かう線が形成されたシ
ートメッシュに、透過型電子顕微鏡用試料を支持し、該
試料をエネルギー線により研磨することを、解決手段と
している。
有し、該開口部の周辺に中心に向かう線が形成されたシ
ートメッシュに、透過型電子顕微鏡用試料を支持し、該
試料をエネルギー線により研磨することを、解決手段と
している。
【0019】請求項13記載の発明は、中央に開口部を
有し、且つ位置決め用の凹部を有するシートメッシュの
該凹部に透過型電子顕微鏡用試料を嵌め込んで支持し、
該試料をエネルギー線により研磨することを、解決手段
としている。
有し、且つ位置決め用の凹部を有するシートメッシュの
該凹部に透過型電子顕微鏡用試料を嵌め込んで支持し、
該試料をエネルギー線により研磨することを、解決手段
としている。
【0020】
【作用】この出願の請求項1〜6記載の発明において
は、シートメッシュの開口部のエッジ部をテーパ状とし
たことにより、開口部に面する試料面へ試料研磨用エネ
ルギー線を均一に照射させることが可能となる。特に、
エッジ部のテーパをエネルギー線の照射角と同じ角度と
することにより、試料面に開口部エッジの影がなくな
り、良好な研磨が可能となる。また、中央に開口部を有
するシートメッシュに凹部を形成し、この凹部に試料を
嵌め込むことにより、シートメッシュの凹部を形成しな
い側の表面と試料面との段差が小さくなり、試料研磨用
のエネルギー線が広範囲な試料面に照射される、エネル
ギー線の乱流の発生を抑制されて良好な研磨が行なえ
る。
は、シートメッシュの開口部のエッジ部をテーパ状とし
たことにより、開口部に面する試料面へ試料研磨用エネ
ルギー線を均一に照射させることが可能となる。特に、
エッジ部のテーパをエネルギー線の照射角と同じ角度と
することにより、試料面に開口部エッジの影がなくな
り、良好な研磨が可能となる。また、中央に開口部を有
するシートメッシュに凹部を形成し、この凹部に試料を
嵌め込むことにより、シートメッシュの凹部を形成しな
い側の表面と試料面との段差が小さくなり、試料研磨用
のエネルギー線が広範囲な試料面に照射される、エネル
ギー線の乱流の発生を抑制されて良好な研磨が行なえ
る。
【0021】また、この出願の請求項7及び8記載の発
明においては、密着層を用いて接着することで、積層膜
が成膜された基板どうしを一体化し、試料の切断及び研
磨を可能にする作用を奏する。特に積層膜がAl等の接
着剤が効かない材料膜である場合に有効となる。
明においては、密着層を用いて接着することで、積層膜
が成膜された基板どうしを一体化し、試料の切断及び研
磨を可能にする作用を奏する。特に積層膜がAl等の接
着剤が効かない材料膜である場合に有効となる。
【0022】さらに、この出願の請求項9〜13記載の
発明においては、シートメッシュの開口部の周辺に形成
された、中心に向かう線、または位置決め用の凹部によ
って、透過型電子顕微鏡用試料を厳密に配置することが
可能となる。このため、透過型電子顕微鏡による観察を
良好に行うことができる。
発明においては、シートメッシュの開口部の周辺に形成
された、中心に向かう線、または位置決め用の凹部によ
って、透過型電子顕微鏡用試料を厳密に配置することが
可能となる。このため、透過型電子顕微鏡による観察を
良好に行うことができる。
【0023】
【実施例】以下、本発明に係るシートメッシュ及び透過
型電子顕微鏡用試料及びその作製方法の詳細を図面に示
す実施例に基づいて説明する。
型電子顕微鏡用試料及びその作製方法の詳細を図面に示
す実施例に基づいて説明する。
【0024】(実施例1)図1は、本実施例のシートメ
ッシュ(単孔メッシュ)11及びこれに載置・固定され
た試料Aの断面図である。シートメッシュ11は、中央
に開口部11aが形成された円板形状であり、試料Aを
一側表面に載置・固定することにより、シートメッシュ
11の開口部11aを覆うようになっている。そして、
シートメッシュ11の他側表面側の開口部11aのエッ
ジ部には、テーパ部11bを周回して形成している。こ
のテーパ部11bのテーパ角度は、図2に示すように、
試料研磨用エネルギー線であるアルゴン(Ar)のイオ
ンビームBの照射角度と同一となるように形成してい
る。なお、試料Aは、図14(A),(B)に示す従来
方法で作成すればよい。
ッシュ(単孔メッシュ)11及びこれに載置・固定され
た試料Aの断面図である。シートメッシュ11は、中央
に開口部11aが形成された円板形状であり、試料Aを
一側表面に載置・固定することにより、シートメッシュ
11の開口部11aを覆うようになっている。そして、
シートメッシュ11の他側表面側の開口部11aのエッ
ジ部には、テーパ部11bを周回して形成している。こ
のテーパ部11bのテーパ角度は、図2に示すように、
試料研磨用エネルギー線であるアルゴン(Ar)のイオ
ンビームBの照射角度と同一となるように形成してい
る。なお、試料Aは、図14(A),(B)に示す従来
方法で作成すればよい。
【0025】斯るシートメッシュ11を用いて試料Aの
研磨を行なう場合は、図14(D)に示すような回転支
持体8にシートメッシュ11を取付け、イオンビーム照
射手段からイオンビームBを照射し且つ回転支持体8を
回転させる。
研磨を行なう場合は、図14(D)に示すような回転支
持体8にシートメッシュ11を取付け、イオンビーム照
射手段からイオンビームBを照射し且つ回転支持体8を
回転させる。
【0026】本実施例においては、図2に示すように、
イオンビームBが開口部11aのエッジ部に衝突せずに
試料面の広範囲に照射できるため、試料Aの良好な研磨
が可能となる。また、本実施例においては、イオンビー
ムが開口部11aのエッジにあたらないため、ビームの
流れが均一となると共に、シートメッシュ11自身が試
料近傍で研磨されないため、試料Aがシートメッシュ材
料で汚染されにくくなる利点がある。
イオンビームBが開口部11aのエッジ部に衝突せずに
試料面の広範囲に照射できるため、試料Aの良好な研磨
が可能となる。また、本実施例においては、イオンビー
ムが開口部11aのエッジにあたらないため、ビームの
流れが均一となると共に、シートメッシュ11自身が試
料近傍で研磨されないため、試料Aがシートメッシュ材
料で汚染されにくくなる利点がある。
【0027】図3〜図7は、実施例の変形例を示す断面
図である。図3に示すシートメッシュ11開口部11a
の内周面を全面的にテーパ部11bとしたものであり、
そのテーパ角度は、上記実施例と同様にイオンビームB
の照射角と同一にしている。このため、イオンビームB
の影が全くできず、より均一な研磨が可能となる。ま
た、図4に示すシートメッシュ11は、シートメッシュ
11下面全体をテーパ部11bとしたものであり、より
低角度のイオンビーム照射を行なう場合に適している。
さらに、図5に示すシートメッシュ11は、図3に示す
シートメッシュ11のテーパ部11bを内側に湾曲する
アール面11cとしたものであり、図6に示すシートメ
ッシュ11は、外側に湾曲するアール面11dを有する
例である。また、図7に示すシートメッシュ11は、上
面に試料Aを嵌め込む凹部11eが形成され、下面には
テーパ部11bが形成されたものであり、試料Aの支持
が良好となると共に、低照射角のイオンビームにも対応
できる構成となっている。
図である。図3に示すシートメッシュ11開口部11a
の内周面を全面的にテーパ部11bとしたものであり、
そのテーパ角度は、上記実施例と同様にイオンビームB
の照射角と同一にしている。このため、イオンビームB
の影が全くできず、より均一な研磨が可能となる。ま
た、図4に示すシートメッシュ11は、シートメッシュ
11下面全体をテーパ部11bとしたものであり、より
低角度のイオンビーム照射を行なう場合に適している。
さらに、図5に示すシートメッシュ11は、図3に示す
シートメッシュ11のテーパ部11bを内側に湾曲する
アール面11cとしたものであり、図6に示すシートメ
ッシュ11は、外側に湾曲するアール面11dを有する
例である。また、図7に示すシートメッシュ11は、上
面に試料Aを嵌め込む凹部11eが形成され、下面には
テーパ部11bが形成されたものであり、試料Aの支持
が良好となると共に、低照射角のイオンビームにも対応
できる構成となっている。
【0028】以上、本実施例について説明したが、本発
明は、これらに限定されるものではなく、構成の要旨に
付随する各種の設計変更が可能である。
明は、これらに限定されるものではなく、構成の要旨に
付随する各種の設計変更が可能である。
【0029】(実施例2)図8及び図9は、実施例2の
断面図を示している。本実施例は、図14に示す接着剤
3が効かず、接着不可能な積層膜2について効果がある
ものである。
断面図を示している。本実施例は、図14に示す接着剤
3が効かず、接着不可能な積層膜2について効果がある
ものである。
【0030】図8は、透過型電子顕微鏡の観察目的部分
であるAlで成る積層膜2の上に、密着層としてのSi
N膜14をコートした状態の断面図である。半導体基板
1上に積層膜2が成膜された状態までは、通常の半導体
デバイスの製造プロセス下で作製される。積層膜2の膜
圧は実際の半導体デバイスの設計膜厚でよい。そして、
積層膜2の上側にはSiN膜14がコートされている。
SiN膜14は通常の半導体デバイス製造プロセスで行
っている、CVD装置を用いたSiN膜(パッシベーシ
ョン膜)コーティングプロセスにより、500nm程度
コートする。
であるAlで成る積層膜2の上に、密着層としてのSi
N膜14をコートした状態の断面図である。半導体基板
1上に積層膜2が成膜された状態までは、通常の半導体
デバイスの製造プロセス下で作製される。積層膜2の膜
圧は実際の半導体デバイスの設計膜厚でよい。そして、
積層膜2の上側にはSiN膜14がコートされている。
SiN膜14は通常の半導体デバイス製造プロセスで行
っている、CVD装置を用いたSiN膜(パッシベーシ
ョン膜)コーティングプロセスにより、500nm程度
コートする。
【0031】このようにすると、図9に示すように、エ
ポキシ系接着剤3はSiN膜14に対しては接着効果が
あるため、透過型電子顕微鏡用試料作製の一工程である
試料接着が可能となる。よって、本実施例に示す手法を
用いれば、従来不可能だった、接着剤で接着不可能な積
層膜の透過型電子顕微鏡用試料の作製が可能となる。
ポキシ系接着剤3はSiN膜14に対しては接着効果が
あるため、透過型電子顕微鏡用試料作製の一工程である
試料接着が可能となる。よって、本実施例に示す手法を
用いれば、従来不可能だった、接着剤で接着不可能な積
層膜の透過型電子顕微鏡用試料の作製が可能となる。
【0032】なお、本実施例は、積層膜2がAlで成る
場合について説明したが、他の材料で成る場合にも適用
が可能である。また、密着層もSiNに限定されるもの
ではない。さらに、接着剤もエポキシ系以外のものを用
いることが可能である。また、上記実施例は、接着する
双方の基板に積層膜が形成された例であるが、一方のみ
の基板に積層膜が形成されている場合でも本発明を適用
することが可能である。
場合について説明したが、他の材料で成る場合にも適用
が可能である。また、密着層もSiNに限定されるもの
ではない。さらに、接着剤もエポキシ系以外のものを用
いることが可能である。また、上記実施例は、接着する
双方の基板に積層膜が形成された例であるが、一方のみ
の基板に積層膜が形成されている場合でも本発明を適用
することが可能である。
【0033】(実施例3)図10は、本実施例のシート
メッシュ(単孔メッシュ)12の平面図、図11は該シ
ートメッシュ12に試料Aを載置・固定した状態の平面
図である。シートメッシュ12は、中央に開口部12a
が形成された円盤形状であり、試料Aを一側表面に載置
・固定することにより、シートメッシュ12の開口部1
2aを覆うようになっている。そして開口部12aの周
辺部には、開口部12aの中心に向かう線12bをけが
いている。図11に示すように、試料Aの積層膜2部分
を線12bに合わせて載置・固定することにより、積層
膜2部分がシートメッシュ12の開口部12a中央に厳
密に配置されている。なお、試料Aは、図14(A),
(B)に示す従来方法で作製すればよい。
メッシュ(単孔メッシュ)12の平面図、図11は該シ
ートメッシュ12に試料Aを載置・固定した状態の平面
図である。シートメッシュ12は、中央に開口部12a
が形成された円盤形状であり、試料Aを一側表面に載置
・固定することにより、シートメッシュ12の開口部1
2aを覆うようになっている。そして開口部12aの周
辺部には、開口部12aの中心に向かう線12bをけが
いている。図11に示すように、試料Aの積層膜2部分
を線12bに合わせて載置・固定することにより、積層
膜2部分がシートメッシュ12の開口部12a中央に厳
密に配置されている。なお、試料Aは、図14(A),
(B)に示す従来方法で作製すればよい。
【0034】斯るシートメッシュ12を用いて試料Aの
研磨を行う場合は、図14(D)に示すような回転支持
体8にシートメッシュ12を取り付け、イオンビーム照
射手段からイオンビームBを照射し且つ回転支持体8を
回転させる。
研磨を行う場合は、図14(D)に示すような回転支持
体8にシートメッシュ12を取り付け、イオンビーム照
射手段からイオンビームBを照射し且つ回転支持体8を
回転させる。
【0035】ところで、従来の技術で示した、本発明を
実施する際に用いる一連の透過型電子顕微鏡用試料の作
製法では、完成試料Aは、中央付近が最も薄く研磨さ
れ、周辺に近づくにしたがって厚みを増す形状の試料と
なる。従って、観察対象の積層膜2を開口部12aの中
央に配置したときに、積層膜2部分が広範囲にわたって
薄く均一に研磨された、最も良好な試料が得られる。本
実施例においては、図12に示すように、観察対象部分
である積層膜2を開口部12aの中央に厳密に配置する
ことが従来と比較して容易になり、またそのように配置
することで最も良好な透過型電子顕微鏡用試料が得られ
るという利点がある。
実施する際に用いる一連の透過型電子顕微鏡用試料の作
製法では、完成試料Aは、中央付近が最も薄く研磨さ
れ、周辺に近づくにしたがって厚みを増す形状の試料と
なる。従って、観察対象の積層膜2を開口部12aの中
央に配置したときに、積層膜2部分が広範囲にわたって
薄く均一に研磨された、最も良好な試料が得られる。本
実施例においては、図12に示すように、観察対象部分
である積層膜2を開口部12aの中央に厳密に配置する
ことが従来と比較して容易になり、またそのように配置
することで最も良好な透過型電子顕微鏡用試料が得られ
るという利点がある。
【0036】図13は、本実施例の変形例である。図1
3に示すシートメッシュ13は、一側面に試料Aを位置
決めする凹部13bを形成したもので、試料Aの積層膜
2部分をシートメッシュの開口部中央に配置することが
さらに容易且つ正確となる。
3に示すシートメッシュ13は、一側面に試料Aを位置
決めする凹部13bを形成したもので、試料Aの積層膜
2部分をシートメッシュの開口部中央に配置することが
さらに容易且つ正確となる。
【0037】以上、実施例1〜3について説明したが、
本発明はこれらに限定されるものではなく、各種の設計
変更が可能である。
本発明はこれらに限定されるものではなく、各種の設計
変更が可能である。
【0038】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この出
願の請求項1〜6記載の発明によれば、イオンビームの
流れが均一になると共に、イオンビームが試料の広範囲
にあたるため、良好な試料の研磨が行なえる効果があ
る。また、エネルギー線によりシートメッシュ自身が研
磨されにくくなり、シートメッシュ材料による試料汚染
の発生を抑える効果がある。
願の請求項1〜6記載の発明によれば、イオンビームの
流れが均一になると共に、イオンビームが試料の広範囲
にあたるため、良好な試料の研磨が行なえる効果があ
る。また、エネルギー線によりシートメッシュ自身が研
磨されにくくなり、シートメッシュ材料による試料汚染
の発生を抑える効果がある。
【0039】また、この出願の請求項7及び8記載の発
明によれば、従来試料作製が不可能だった、接着剤で接
着不可能な積層膜の透過型電子顕微鏡用試料の作製を可
能にする効果を奏する。
明によれば、従来試料作製が不可能だった、接着剤で接
着不可能な積層膜の透過型電子顕微鏡用試料の作製を可
能にする効果を奏する。
【0040】さらに、この出願の請求項9〜13記載の
発明によれば、観察対象部分である積層幕がシートメッ
シュの中央に厳密に配置し易くなるため、観察対象部分
の広範囲を薄く均一に研磨することが可能となる効果が
ある。
発明によれば、観察対象部分である積層幕がシートメッ
シュの中央に厳密に配置し易くなるため、観察対象部分
の広範囲を薄く均一に研磨することが可能となる効果が
ある。
【図1】本発明の実施例1の断面図。
【図2】本発明の実施例1の断面図。
【図3】実施例1の変形例を示す断面図。
【図4】実施例1の変形例を示す断面図。
【図5】実施例1の変形例を示す断面図。
【図6】実施例1の変形例を示す断面図。
【図7】実施例1の変形例を示す断面図。
【図8】実施例2を示す断面図。
【図9】実施例2を示す断面図。
【図10】実施例3を示す平面図。
【図11】実施例3を示す平面図。
【図12】実施例3を示す断面図。
【図13】実施例3の変形例を示す斜視図。
【図14】(A)〜(D)は従来の試料の研磨方法の工
程を示す説明図。
程を示す説明図。
【図15】従来のビームの状態を示す説明図。
【図16】従来例の断面説明図。
【図17】(A)及び(B)は従来例の断面図
A…試料 B…イオンビーム 1…半導体基板 2…積層膜 3…接着剤 11…シートメッシュ 11a…開口部 11b…テーパ部 11e…凹部 12…シートメッシュ 12a…開口部 12b…線 13…シートメッシュ 13a…開口部 13b…凹部
Claims (13)
- 【請求項1】 中央に開口部を有し、該開口部を覆うよ
うに透過型電子顕微鏡用試料を載置した状態で該試料を
支持するシートメッシュにおいて、 前記開口部のエッジ部をテーパ状に形成したことを特徴
とするシートメッシュ。 - 【請求項2】 前記エッジ部のテーパを試料研磨用エネ
ルギー線の照射角と同じ角度にした請求項1記載のシー
トメッシュ。 - 【請求項3】 中央に開口部を有し、該開口部を覆うよ
うに透過型電子顕微鏡用試料を載置した状態で該試料を
支持するシートメッシュにおいて、 前記試料を支持する領域に凹部を形成し、該凹部に前記
試料を嵌め込むことを特徴とするシートメッシュ。 - 【請求項4】 中央に開口部を有し、該開口部のエッジ
部をテーパ状に形成したシートメッシュに試料を支持
し、エネルギー線により該試料を研磨することを特徴と
する透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項5】 前記エッジ部のテーパを前記エネルギー
線の照射角と同じ角度にしたシートメッシュを用いる請
求項4記載の透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項6】 中央に開口部を有し、且つ試料を支持す
る領域に凹部を形成したシートメッシュの該凹部に前記
試料を嵌め込み、エネルギー線により該試料を研磨する
ことを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項7】 少なくとも一方の基板の、表面に積層膜
を成膜し、基板どうしを、該積層膜を挟むように接着し
て試料を作製し、該試料の切断及び研磨を行って透過型
電子顕微鏡用試料を作製する方法において、 前記積層膜上に該積層膜及び接着剤に対して密着性の高
い密着層を形成した後に、該密着層の表面に該接着剤を
付着させて接着を行うことを特徴とする透過型電子顕微
鏡用試料の作製方法。 - 【請求項8】 接着剤層を挟む密着層を有し、該密着層
の外側には積層膜を有し、該積層膜の外側には基板を有
することを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料。 - 【請求項9】 中央に開口部を有し、該開口部を覆うよ
うに透過型電子顕微鏡用試料を載置した状態で該試料を
支持するシートメッシュにおいて、 前記開口部に対する前記透過型電子顕微鏡用試料の位置
決め手段を設けたことを特徴とするシートメッシュ。 - 【請求項10】 前記位置決め手段は、前記開口部の周
辺に形成した、中心に向かう線である請求項9記載のシ
ートメッシュ。 - 【請求項11】 前記位決め手段は、前記透過型電子顕
微鏡用試料を嵌め込む凹部である請求項9記載のシート
メッシュ。 - 【請求項12】 中央に開口部を有し、該開口部の周辺
に中心に向かう線が形成されたシートメッシュに、透過
型電子顕微鏡用試料を支持し、該試料をエネルギー線に
より研磨することを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料
の作製方法。 - 【請求項13】 中央に開口部を有し、且つ位置決め用
の凹部を有するシートメッシュの該凹部に透過型電子顕
微鏡用試料を嵌め込んで支持し、該試料をエネルギー線
により研磨することを特徴とする透過型電子顕微鏡用試
料の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5141704A JPH06132001A (ja) | 1992-09-03 | 1993-06-14 | シートメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-235026 | 1992-09-03 | ||
| JP23502692 | 1992-09-03 | ||
| JP5141704A JPH06132001A (ja) | 1992-09-03 | 1993-06-14 | シートメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06132001A true JPH06132001A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=26473893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5141704A Pending JPH06132001A (ja) | 1992-09-03 | 1993-06-14 | シートメッシュ及び透過型電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06132001A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005010158A (ja) * | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Fei Co | 電子ビームで照射されるサンプルを運ぶサンプル・キャリア |
| WO2012136583A1 (fr) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Valeo Systemes D'essuyage | Installation pour le traitement par bombardement ionique de deux surfaces opposees |
| JP2019164119A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透過電子顕微鏡観察用試料およびその作製方法 |
| JP2020193969A (ja) * | 2019-05-24 | 2020-12-03 | 住友金属鉱山株式会社 | 透過電子顕微鏡観察用試料の作製方法 |
| CN117727711A (zh) * | 2024-02-07 | 2024-03-19 | 厦门超新芯科技有限公司 | 一种高倾角的原位加热芯片 |
-
1993
- 1993-06-14 JP JP5141704A patent/JPH06132001A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005010158A (ja) * | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Fei Co | 電子ビームで照射されるサンプルを運ぶサンプル・キャリア |
| WO2012136583A1 (fr) * | 2011-04-08 | 2012-10-11 | Valeo Systemes D'essuyage | Installation pour le traitement par bombardement ionique de deux surfaces opposees |
| FR2973811A1 (fr) * | 2011-04-08 | 2012-10-12 | Valeo Systemes Dessuyage | Installation pour le traitement par bombardement ionique de deux surfaces opposees |
| JP2019164119A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透過電子顕微鏡観察用試料およびその作製方法 |
| JP2020193969A (ja) * | 2019-05-24 | 2020-12-03 | 住友金属鉱山株式会社 | 透過電子顕微鏡観察用試料の作製方法 |
| CN117727711A (zh) * | 2024-02-07 | 2024-03-19 | 厦门超新芯科技有限公司 | 一种高倾角的原位加热芯片 |
| CN117727711B (zh) * | 2024-02-07 | 2024-05-10 | 厦门超新芯科技有限公司 | 一种高倾角的原位加热芯片 |
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