JPH0613211A

JPH0613211A - 耐食性のすぐれた永久磁石及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0613211A
Application number: JP4269515A
Authority: JP
Inventors: Shigeki Hamada; 隆樹浜田; Tetsuharu Hayakawa; 徹治早川
Original assignee: Sumitomo Special Metals Co Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1992-09-10
Filing date: 1992-09-10
Publication date: 1994-01-21

Abstract

(57)【要約】【目的】Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石において、焼結磁石
体の切削加工あるいは研削加工に伴なう磁気特性の劣化
を改善し、さらに、腐蝕性薬品等を使用あるいは接触さ
せることなく、密着性，防蝕性にすぐれた耐食性薄膜層
を被着させた永久磁石とその製造方法の提供。【構成】焼結永久磁石体の表面に、Ａｌ薄膜層を被着
しさらにショットピーニングを施したのち、クロム酸塩
処理を施し、表面にＡｌクロム酸塩処理被膜を設ける。【効果】ショットピーニングにて該Ａｌ薄膜層の緻密
化を図り、材料と表面薄膜層との密着性を改善でき、得
られたＡｌクロム酸塩処理被膜が酸化や切削加工にとも
なう磁石特性の劣化を改善する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、耐食性にすぐれたＦ
ｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石とその製造方法に係り、焼結永久
磁石の研削加工表面にＡｌのクロム酸塩処理被膜を設け
て、研削加工等に伴なう磁石特性の劣化を防止し、さら
に磁石表面の耐食性被膜の密着性を改善した耐食性のす
ぐれたＦｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石及びその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】現在の代表的な永久磁石材料は、アルニ
コ，ハードフェライトおよび希土類コバルト磁石であ
る。この希土類コバルト磁石は、磁気特性が格段にすぐ
れているため、多種用途に利用されているが、主成分の
Ｓｍ，Ｃｏは共に資源的に不足し、かつ高価であり、今
後長期間にわたって、安定して多量に供給されることは
困難である。そのため、磁気特性がすぐれ、かつ安価
で、さらに資源的に豊富で今後の安定供給が可能な組成
元素からなる永久磁石が切望されてきた。

【０００３】本出願人は先に、高価なＳｍやＣｏを含有
しない新しい高性能永久磁石としてＦｅ−Ｂ−Ｒ系（Ｒ
はＹを含む希土類元素のうち少なくとも１種）永久磁石
を提案した（特開昭５９−４６００８号、特開昭５９−
６４７３３号、特開昭５９−８９４０１号、特開昭５９
−１３２１０４号）。この永久磁石は、ＲとしてＮｄや
Ｐｒを中心とする資源的に豊富な軽希土類を用い、Ｂ，
Ｆｅを主成分として２５ＭＧＯｅ以上、最高では４５Ｍ
ＧＯｅ以上にも達する極めて高いエネルギー積を示す、
すぐれた永久磁石である。

【０００４】最近、磁気回路の高性能化、小型化に伴な
い、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石が益々注目されてきた。か
かる用途の永久磁石を製造するには、成形焼結した焼結
磁石体表面の凹凸や歪みを除去するため、あるいは表面
酸化層を除去するため、さらには磁気回路に組込むため
に、磁石体の全面あるいは所要表面を切削加工あるいは
研削加工する必要があり、加工には外周刃切断機、内周
刃切断機、表面研削機、センタレスグラインダー、ラッ
ピングマシン等が使用される。

【０００５】しかしながら、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石を
切削または研削加工すると、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石
は、主成分として空気中で極めて酸化しやすく、直ちに
安定な酸化物を生成する希土類元素及び鉄を含有するた
め、発熱したり大気と加工面との接触により酸化層が生
成し、磁気特性の劣化を招来する問題があった。

【０００６】また、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系磁気異方性焼結体か
らなる永久磁石を、磁気回路に組込んだ場合に磁石表面
に生成する酸化物により、磁気回路の出力低下及び磁気
回路間の特性ばらつきを惹起し、また、表面酸化物の脱
落による周辺機器への汚染の問題があった。

【０００７】そこで、出願人は先に、上記のＦｅ−Ｂ−
Ｒ系永久磁石の耐食性の改善のため、磁石体表面に無電
解めっき法あるいは電解めっき法により耐食性金属めっ
き層を被覆した永久磁石（特願昭５８−１６２３５０
号）及び磁石体表面にスプレー法あるいは浸漬法によっ
て耐食性樹脂層を被覆した永久磁石を提案（特願昭５８
−１７１９０７号）した。しかし、前者のめっき法では
永久磁石体が焼結体であり有孔性のため、この孔内にめ
っき前処理で酸性溶液またはアルカリ性溶液が残留し、
経年変化とともに発錆する恐れがあり、また磁石体の耐
薬品性が劣るため、めっき時に磁石表面が腐食されて密
着性・防食性が劣る問題があった。

【０００８】また後者のスプレー法による樹脂の塗装に
は方向性があるため、被処理物表面全体に均一な樹脂被
膜を施すのに多大の工程，手間を要し、特に形状が複雑
な異形磁石体に均一厚みの被膜を施すことは困難であ
り、また浸漬法では樹脂被膜厚みが不均一になり、製品
寸法精度が悪い問題があった。

【０００９】このため発明者らは、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久
磁石の耐食性を改善する方法として、焼結磁石体表面
に、特定粒径，硬度を有する硬質粉末よるグリッドブラ
ストを施した後、薄膜形成技術にて、磁石体表面にＡｌ
薄膜層を被着した永久磁石（特願昭６０−１１０７９３
号）を提案した。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】これにより、Ｆｅ−Ｂ
−Ｒ系永久磁石は著しく耐食性を増したが、上記Ａｌ薄
膜は、蒸着法等において蒸発したＡｌ粒子が、磁石体表
面に堆積して形成されるため密度不足を生じ、長期間に
わたる使用において、局部的にＡｌ薄膜が剥離したり、
薄膜層に亀裂を生じたりし、局部的な錆発生が懸念され
る問題があった。

【００１１】この発明は、希土類・ボロン・鉄を主成分
とする新規な永久磁石において、焼結磁石体の切削加工
あるいは研削加工に伴なう磁気特性の劣化を改善し、さ
らに、腐蝕性薬品等を使用あるいは接触させることな
く、密着性，防蝕性にすぐれた耐食性薄膜層を被着させ
た永久磁石とその製造方法の提供を目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この発明は、Ｒ（ＲはＮ
ｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種ある
いはさらに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔ
ｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少なくとも１種からなる）１
０原子％〜３０原子％、Ｂ２原子％〜２８原子％、Ｆｅ
６５原子％〜８０原子％を主成分とし、主相が正方晶相
からなる焼結永久磁石体の表面に、Ａｌのクロム酸塩処
理被膜を有することを特徴する耐食性のすぐれた永久磁
石である。

【００１３】また、この発明は、Ｒ（ＲはＮｄ，Ｐｒ，
Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種あるいはさら
に、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙ
ｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少なくとも１種からなる）１０原子
％〜３０原子％、Ｂ２原子％〜２８原子％、Ｆｅ６５原
子％〜８０原子％を主成分とし、主相が正方晶相からな
る焼結永久磁石体の表面に、Ａｌ薄膜層を被着したの
ち、クロム酸塩処理を施すことを特徴する耐食性のすぐ
れた永久磁石の製造方法である。

【００１４】さらに、この発明は、Ｒ（ＲはＮｄ，Ｐ
ｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種あるいはさ
らに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙ
ｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少なくとも１種からなる）１０原子
％〜３０原子％、Ｂ２原子％〜２８原子％、Ｆｅ６５原
子％〜８０原子％を主成分とし、主相が正方晶相からな
る焼結永久磁石体の表面に、Ａｌ薄膜層を被着しさらに
ショットピーニングを施したのち、クロム酸塩処理を施
すことを特徴する耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法
である。

【００１５】この発明において、焼結磁石体表面にＡｌ
層を被着させるには、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の薄膜形成方法が適宜選定利用でき
る。また、薄膜層の厚みは、薄膜層の剥離あるいは機械
的強度の低下並びに防蝕性の確保等を考慮して、３０μ
ｍ以下の厚みが好ましく、最も好ましくは５μｍ〜２５
μｍの層厚みである。また、Ａｌ薄膜層上に被着するク
ロム酸塩被膜厚みは、１μｍ〜５ μｍが好ましく、そ
の外観は、明るい玉虫色から黄金色を帯びた黄褐色に仕
上げるのが好ましい。

【００１６】この発明において、Ａｌ薄膜層の被着前の
焼結磁石体表面に所要形状からなる硬質粉末を加圧気体
とともに噴射するグリットブラストを行うことは、焼結
磁石体の黒皮、酸化層や加工歪層等の表面層を除去し
て、表面を清浄化させて後工程で被着するＡｌ薄膜層の
耐食性を向上させることができるため、有効な処理であ
る。

【００１７】このグリットブラストに使用する硬質粉末
としては、モース硬度が５以上のＡｌ₂Ｏ₃系、炭化けい
素系、ＺｒＯ₂系、炭化硼素系、ガーネット系等の粉末
があり、硬度の高いＡｌ₂Ｏ₃系粉末が好ましい。上記の
不定形硬質粉末のモース硬度は、５未満では研削力が小
さすぎて、研削処理時間に長時間を要して好ましくな
い。また、不定形硬質粉末の平均粒度は、２０μｍ未満
では研削力が小さすぎて研削に長時間を要し、また、３
５０μｍを超えると焼結磁石体表面の面粗度が粗くなり
すぎ、研削量が不均一となるため、２０μｍ〜３５０μ
ｍが好ましい。

【００１８】また、不定形硬質粉末の噴射条件として、
圧力１．０ｋｇ／ｃｍ²未満では研削処理に長時間を要
し、また、圧力６．０ｋｇ／ｃｍ²を超えると磁石体表
面の研削量が不均一となり、面粗度の劣化が懸念され
る。さらに、噴射時間が０．５分間未満では研削量が小
さくかつ不均一であり、また、６０分を超えると磁石体
表面の研削量が多くなり、面粗度が悪化して好ましくな
い。また、硬質粉末の噴射用加圧流体としては、空気あ
るいはＡｒ、Ｎ₂ガス等の不活性ガスが利用できるが、
磁石体の酸化防止のためには、不活性ガスが好ましく、
また、空気を用いる場合は、除湿を行なった空気が望ま
しい。

【００１９】この発明において、ショットピーニング用
粉末としては、モース硬度３以上の球状硬質粉末を用
い、スチールボールやガラスビーズ等が利用でき、被着
したＡｌ薄膜層の硬度と同等以上の硬度であればよく、
ガラスビーズが好ましい。ピーニング用球状粉末のモー
ス硬度が、３未満ではＡｌ薄膜層の硬度より小さくな
り、ピーニング効果が得られないため好ましくない。ま
た、ピーニング用球状粉末の平均粒度は、３０μｍ未満
ではＡｌ薄膜層に対する押圧力が小さく処理に長時間を
要し、また、３０００μｍを超えると焼結磁石体表面の
面粗度が粗くなりすぎ、仕上面が不均一となるため、３
０μｍ〜３０００μｍが好ましい。さらに好ましい平均
粒度は、４０μｍから２０００μｍである。

【００２０】また、球状粉末の噴射条件としては、圧力
１．０ｋｇ／ｃｍ²未満ではＡｌ薄膜層に対する押圧力
が小さく処理に長時間を要し、また、圧力５．０ｋｇ／
ｃｍ²を超えるとＡｌ薄膜層への押圧力が不均一とな
り、面粗度の悪化を招来する。さらに、噴射時間が１分
間未満では全表面を均一に処理できず、また、噴射時間
の上限は、ピーニングの処理量、処理条件によって決定
されるが、６０分を超えると面粗度が悪化して好ましく
ない。

【００２１】組成限定理由この発明の永久磁石に用いる希土類元素Ｒは、組成の１
０原子％〜３０原子％を占めるが、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，
Ｈｏ，Ｔｂのうち少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌ
ａ，Ｃｅ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌ
ｕ，Ｙのうち少なくとも１種を含むものが好ましい。ま
た、通常Ｒのうち１種をもって足りるが、実用上は２種
以上の混合物（ミッシュメタル，ジジム等）を入手上の
便宜等の理由により用いることができる。なお、このＲ
は純希土類元素でなくてもよく、工業上入手可能な範囲
で製造上不可避な不純物を含有するものでも差支えな
い。Ｒは、新規な上記系永久磁石における、必須元素で
あって、１０原子％未満では結晶構造がα鉄と同一構造
の立方晶組織となるため、高磁気特性、特に高保磁力が
得られず、３０原子％を超えるとＲリッチな非磁性相が
多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して、すぐれた
特性の永久磁石が得られない。よって、Ｒは１０原子％
〜３０原子％の範囲とする。

【００２２】Ｂは、この発明による永久磁石における必
須元素であって、２原子％未満では菱面体構造が主相と
なり、高い保磁力（ｉＨｃ）は得られず、２８原子％を
超えるとＢリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度
（Ｂｒ）が低下するため、すぐれた永久磁石が得られな
い。よって、Ｂは２原子％〜２８原子％の範囲とする。

【００２３】Ｆｅは、新規な上記系永久磁石における必
須元素であり、６５原子％未満では残留磁束密度（Ｂ
ｒ）が低下し、８０原子％を超えると高い保磁力が得ら
れないので、Ｆｅは６５原子％〜８０原子％の含有とす
る。

【００２４】また、この発明による永久磁石において、
Ｆｅの一部をＣｏで置換することは、得られる磁石の磁
気特性を損うことなく、温度特性を改善することができ
るが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０％を超えると、逆に磁気
特性が劣化するため好ましくない。Ｃｏの置換量がＦｅ
とＣｏの合計量で５原子％〜１５原子％の場合は、（Ｂ
ｒ）は置換しない場合に比較して増加するため、高磁束
密度を得るために好ましい。

【００２５】また、この発明による永久磁石は、Ｒ，
Ｂ，Ｆｅの他、工業的生産上不可避的不純物の存在を許
容できるが、Ｂの一部を４．０原子％以下のＣ、３．５
原子％以下のＰ、２．５原子％以下のＳ、３．５原子％
以下のＣｕのうち少なくとも１種、合計量で４．０原子
％以下で置換することにより、永久磁石の製造性改善、
低価格化が可能である。

【００２６】また、下記添加元素のうち少なくとも１種
は、Ｒ−Ｂ−Ｆｅ系永久磁石に対してその保磁力、減磁
曲線の角型性を改善あるいは製造性の改善、低価格化に
効果があるため添加することができる。９．５原子％以
下のＡｌ、４．５原子％以下のＴｉ、９．５原子％以下
のＶ、８．５原子％以下のＣｒ、８．０原子％以下のＭ
ｎ、５．０原子％以下のＢｉ、９．５原子％以下のＮ
ｂ、９．５原子％以下のＴａ、９．５原子％以下のＭ
ｏ、９．５原子％以下のＷ、２．５原子％以下のＳｂ、
７原子％以下のＧｅ、３．５原子％以下のＳｎ、５．５
原子％以下のＺｒ、９．０原子％以下のＮｉ、９．０原
子％以下のＳｉ、１．１原子％以下のＺｎ、５．５原子
％以下のＨｆ、のうち少なくとも１種を添加含有、但
し、２種以上含有する場合は、その最大含有量は当該添
加元素のうち最大値を有するものの原子％以下の含有さ
せることにより、永久磁石の高保磁力化が可能になる。

【００２７】結晶相は主相が正方晶であることが、微細
で均一な合金粉末より、すぐれた磁気特性を有する焼結
永久磁石を作製するのに不可欠である。また、この発明
の永久磁石は平均結晶粒径が１〜８０μｍの範囲にある
正方晶系の結晶構造を有する化合物を主相とし、体積比
で１％〜５０％の非磁性相（酸化物相を除く）を含むこ
とを特徴とする。

【００２８】また、この発明の永久磁石は、磁場中プレ
ス成型することにより磁気的異方性磁石が得られ、ま
た、無磁界中でプレス成型することにより、磁気的等方
性磁石を得ることができる。

【００２９】

【作用】この発明は、Ｆｅ−Ｂ−Ｒ系永久磁石体表面
に、Ａｌのクロム酸塩処理被膜を被着し、酸化や切削加
工にともなう磁石特性の劣化を改善し、さらに、所要形
状からなる特定の粉末を加圧気体とともに噴射して、該
Ａｌ薄膜層の緻密化を計り、材料と表面薄膜層との密着
性を改善し、材料の耐食性をなお一層向上させたもので
ある。

【００３０】この発明による永久磁石は、保磁力ｉＨｃ
≧１ｋＯｅ、残留磁束密度Ｂｒ＞４ｋＧ、を示し、最大
エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘは、（ＢＨ）ｍａｘ≧１０
ＭＧＯｅを示し、最大値は２５ＭＧＯｅ以上に達する。
また、この発明による永久磁石のＲの主成分が、その５
０％以上をＮｄ及びＰｒを主とする軽希土類金属が占め
る場合で、Ｒ１２原子％〜２０原子％、Ｂ４原子％〜２
４原子％、Ｆｅ７４原子％〜８０原子％を主成分とする
とき、（ＢＨ）ｍａｘが３５ＭＧＯｅ以上のすぐれた磁
気特性を示し、特に軽希土類金属がＮｄの場合には、そ
の最大値が４５ＭＧＯｅ以上に達する。

【００３１】

【実施例】出発原料として、純度９９．９％の電解鉄、
フェロボロン合金、純度９９．７％以上のＮｄを使用
し、これらを配合後高周波溶解し、その後水冷銅鋳型に
鋳造し、１６．０Ｎｄ７．０Ｂ７７．０Ｆｅなる組成の
鋳塊を得た。その後このインゴットを、スタンプミルに
より粗粉砕し、次にボールミルにより微粉砕し、平均粒
度２．８μｍの微粉末を得た。

【００３２】この微粉末を金型に挿入し、１５ｋＯｅの
磁界中で配向し、磁界に垂直方向に、１．２ｔｏｎ／ｃ
ｍ²の圧力で成形した。得られた成形体を、１１００
℃、１時間、Ａｒ雰囲気中の条件で焼結し、長さ２５ｍ
ｍ×幅４０ｍｍ×厚み３０ｍｍ寸法の焼結体を得た。さ
らに、Ａｒ中での８００℃、１時間と６３０℃、１．５
時間の２段時効処理を施した。

【００３３】上記の永久磁石体を、大気中でダイヤモン
ド＃２００番を砥石として、回転数２４００ｒｐｍ、送
り速度５ｍｍ／ｍｉｎで、長さ５ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚
み３ｍｍ寸法に切出した。さらに、この切出し試料に、
平均粒径５０μｍ、モース硬度９の不定形Ａｌ₂Ｏ₃硬質
粉末を用いて、圧力２．５ｋｇ／ｃｍ²、Ｎ₂ガスの加圧
気体とともに、２０分間噴射する条件のグリットブラス
トを施し、上記磁石体の表面層を除去した。

【００３４】次に、真空度５×１０^-5Ｔｏｒｒの真空容
器内に、上記試料を入れ、Ａｒガスを送入し、１×１０
^-2ＴｏｒｒのＡｒガス中、５００Ｖの電圧で１５分間の
放電を行なった後、引続きコーティング材料として、純
度９９．９９％のＡｌ板を用い、これを加熱して蒸発Ａ
ｌをイオン化し、これらイオン化粒子が電界に引かれ
て、陰極を構成する前記試験片に付着し、Ａｌ薄膜を形
成した。試験片表面に形成した薄膜厚みは１５μｍであ
った。上記イオン・プレーティング条件は、電圧１．５
ｋＶ、１０分間処理であった。

【００３５】上記試験片を３０℃に保持した２％アロジ
ン＃１２００（商品名、日本ペイント社製）溶液中に１
分間浸漬し、Ａｌ薄膜層表面に黄金色にクロム酸塩被膜
を被着して試験片を得た（本発明１）。

【００３６】また、Ａｌ薄膜層を被着した磁石体試料
に、平均粒径１２０μｍ、モース硬度６の球状ガラスビ
ーズ粉末を用いて、圧力１．５ｋｇ／ｃｍ²、Ｎ₂ガスの
加圧気体とともに、５分間噴射する条件のショットピー
ニングを施した後、試験片を３０℃に保持した２％アロ
ジン＃１２００（商品名、日本ペイント社製）溶液中に
１分間浸漬し、ピーニンク後のＡｌ薄膜層表面に黄金色
にクロム酸塩被膜を被着して試験片を得た（本発明
２）。

【００３７】これらの試験片に耐食性試験と耐食性試験
後の薄膜の密着強度試験を行なった。また、耐食性試験
前後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果を第
１表に示す。

【００３８】また、比較のため、前記の切出しままの試
験片（比較例３）及び上記試験片に、本発明と同条件の
グリットブラストを施し、トリクレンにて３分間溶剤脱
脂し、５％ＮａＯＨにて６０℃、３分間のアルカリ脱脂
した後、２％ＨＣｌにて室温、１０秒間の酸洗し、ワッ
ト浴にて電流密度４Ａ／ｄｍ²、浴温度６０℃、２０分
間の条件にて、電気ニッケルめっきを行ない表面に２０
μｍ厚みのニッケルめっき層を有する比較試験片（比較
例４）を得た。さらに、上記のＡｌ薄膜層を被着させた
のち、ショットピーニング処理しない比較試験片（比較
例５）を得た。

【００３９】これらの比較試験片に上記の実施例１と同
一の試験及び測定を行ない、その結果を同様に第１表に
示す。耐食性試験は、上記試験片を７０℃の温度９０％
の湿度の雰囲気に、５００時間放置した場合の試験片外
観状況及び密着強度、耐蝕試験前後の磁気特性でもって
評価した。また、この発明の試験片１は上記条件で発錆
するまでの時間を調べた。また、密着強度試験は、耐食
性試験後の本発明１，２及び比較例４，５試験片を、破
断して破断面を観察することで評価した。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【発明の効果】実施例の第１表より明らかなように、焼
結永久磁石体の表面にＡｌ薄膜層を被着した後、ショッ
トピーニングを施してクロム酸塩処理するこの発明方法
により、切削加工あるいは研削加工による磁気特性の劣
化が改善され、さらに、耐食性にすぐれた永久磁石が得
られ、その効果が著しいことが分る。この発明の製造方
法は、ＲとしてＮｄやＰｒを中心とする資源的に豊富な
軽希土類を用い、Ｂ，Ｆｅを主成分として２５ＭＧＯｅ
以上、最高では４５ＭＧＯｅ以上にも達する極めて高い
エネルギー積並びに高残留磁束密度、高保磁力を示す、
すぐれた永久磁石であり、かつ研削加工及び酸化層によ
る磁気特性の劣化を防止し、かつ防蝕性にすぐれたＡｌ
のにクロム酸塩被膜を表面に安定被着したＦｅ−Ｂ−Ｒ
系永久磁石を安価に得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｆ 41/02 Ｇ 8019−5Ｅ // Ｈ０１Ｆ 1/08 Ｂ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｒ（ＲはＮｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂ
のうち少なくとも１種あるいはさらに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓ
ｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少
なくとも１種からなる）１０原子％〜３０原子％、Ｂ２
原子％〜２８原子％、Ｆｅ６５原子％〜８０原子％を主
成分とし、主相が正方晶相からなる焼結永久磁石体の表
面に、Ａｌのクロム酸塩処理被膜を有することを特徴す
る耐食性のすぐれた永久磁石。
【請求項２】Ｒ（ＲはＮｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂ
のうち少なくとも１種あるいはさらに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓ
ｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少
なくとも１種からなる）１０原子％〜３０原子％、Ｂ２
原子％〜２８原子％、Ｆｅ６５原子％〜８０原子％を主
成分とし、主相が正方晶相からなる焼結永久磁石体の表
面に、Ａｌ薄膜層を被着したのち、クロム酸塩処理を施
すことを特徴する耐食性のすぐれた永久磁石の製造方
法。
【請求項３】Ｒ（ＲはＮｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂ
のうち少なくとも１種あるいはさらに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓ
ｍ，Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少
なくとも１種からなる）１０原子％〜３０原子％、Ｂ２
原子％〜２８原子％、Ｆｅ６５原子％〜８０原子％を主
成分とし、主相が正方晶相からなる焼結永久磁石体の表
面に、Ａｌ薄膜層を被着しさらにショットピーニングを
施したのち、クロム酸塩処理を施すことを特徴する耐食
性のすぐれた永久磁石の製造方法。