JPH06134457A - 超純水の製造システム及び製造方法 - Google Patents
超純水の製造システム及び製造方法Info
- Publication number
- JPH06134457A JPH06134457A JP31278692A JP31278692A JPH06134457A JP H06134457 A JPH06134457 A JP H06134457A JP 31278692 A JP31278692 A JP 31278692A JP 31278692 A JP31278692 A JP 31278692A JP H06134457 A JPH06134457 A JP H06134457A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exchange resin
- ion
- ultrapure water
- ion exchange
- mixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 超純水の安定供給が可能であり、かつ使用可
能なイオン交換樹脂を廃棄することのない経済的な超純
水製造システムの開発。 【構成】 イオン交換樹脂装置を含む超純水の製造シス
テムにおいて、非再生型陽イオン交換樹脂と非再生型陰
イオン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換樹脂装置
を直列に２段設置し、前段の混床型イオン交換樹脂装置
５と後段の混床型イオン交換樹脂装置６との間にイオン
検出装置８を設置し、前段のイオン交換樹脂装置への流
入管と該装置からの流出管とを弁１２を介して連結する
バイパス管１３を付設したことを特徴とする超純水の製
造システムである。
能なイオン交換樹脂を廃棄することのない経済的な超純
水製造システムの開発。 【構成】 イオン交換樹脂装置を含む超純水の製造シス
テムにおいて、非再生型陽イオン交換樹脂と非再生型陰
イオン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換樹脂装置
を直列に２段設置し、前段の混床型イオン交換樹脂装置
５と後段の混床型イオン交換樹脂装置６との間にイオン
検出装置８を設置し、前段のイオン交換樹脂装置への流
入管と該装置からの流出管とを弁１２を介して連結する
バイパス管１３を付設したことを特徴とする超純水の製
造システムである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は超純水の製造システム及
び製造方法に係り、特に非再生型陽イオン交換樹脂と非
再生型陰イオン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換
樹脂装置を含む超純水の製造システム及び該システムを
用いた超純水の製造方法に関する。
び製造方法に係り、特に非再生型陽イオン交換樹脂と非
再生型陰イオン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換
樹脂装置を含む超純水の製造システム及び該システムを
用いた超純水の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の洗浄用水として使用される超純
水は、通常、一次純水を原水として製造される。すなわ
ち、一次純水中に含まれている微量の有機物、微粒子、
イオンなどを更に低濃度にまで除去することが超純水製
造システムの役割である。したがって、超純水製造シス
テムには、これら不純物を除去する紫外線酸化装置、イ
オン交換樹脂装置、限外濾過装置などが設置されてお
り、定期的に各単位装置のメンテナンスが行われる。
水は、通常、一次純水を原水として製造される。すなわ
ち、一次純水中に含まれている微量の有機物、微粒子、
イオンなどを更に低濃度にまで除去することが超純水製
造システムの役割である。したがって、超純水製造シス
テムには、これら不純物を除去する紫外線酸化装置、イ
オン交換樹脂装置、限外濾過装置などが設置されてお
り、定期的に各単位装置のメンテナンスが行われる。
【０００３】前記のような不純物が超純水中に存在する
と、半導体デバイス洗浄時に表面汚染の原因となり、結
果としてデバイス性能を大幅に低下させる。特に、ナト
リウム等の金属イオンは、極微量でも影響率が大きいと
されており、このような金属イオンを除去するイオン交
換装置の性能維持に関しては細心な注意が必要となって
いる。
と、半導体デバイス洗浄時に表面汚染の原因となり、結
果としてデバイス性能を大幅に低下させる。特に、ナト
リウム等の金属イオンは、極微量でも影響率が大きいと
されており、このような金属イオンを除去するイオン交
換装置の性能維持に関しては細心な注意が必要となって
いる。
【０００４】超純水の製造システム内のイオン交換装置
としては、非再生型の陽イオン交換樹脂と陰イオン交換
樹脂とを混合した、いわゆる混床型イオン交換樹脂装置
が採用されている。このイオン交換樹脂装置のイオン除
去性能が低下した場合には、速やかに装置内部のイオン
交換樹脂を更新する必要があるが、通常の更新作業では
装置を一時停止しなければならない。このため、必然的
にイオン交換樹脂の更新作業は、半導体工場が作業停止
する機会に実施することになり、使用可能なイオン交換
樹脂をも廃棄することが多い。また、イオン交換樹脂の
使用率を高めようとすると水質変動に対応できずにイオ
ン交換樹脂のブレイクによる水質の悪化を招く危険があ
り、極端な場合には半導体の製造を停止することにもな
りかねない。
としては、非再生型の陽イオン交換樹脂と陰イオン交換
樹脂とを混合した、いわゆる混床型イオン交換樹脂装置
が採用されている。このイオン交換樹脂装置のイオン除
去性能が低下した場合には、速やかに装置内部のイオン
交換樹脂を更新する必要があるが、通常の更新作業では
装置を一時停止しなければならない。このため、必然的
にイオン交換樹脂の更新作業は、半導体工場が作業停止
する機会に実施することになり、使用可能なイオン交換
樹脂をも廃棄することが多い。また、イオン交換樹脂の
使用率を高めようとすると水質変動に対応できずにイオ
ン交換樹脂のブレイクによる水質の悪化を招く危険があ
り、極端な場合には半導体の製造を停止することにもな
りかねない。
【０００５】したがって、現状の超純水の製造システム
においては、余裕のあるイオン交換樹脂量を充填し、定
期的に更新する方法が採用されている。このような装置
構成においては前記のように使用可能なイオン交換樹脂
をも廃棄するため効率的なシステムとは言えないし、省
資源の点からも問題である。さらに、このような、単一
のイオン交換装置だけを備えた構成では、一次純水製造
システムの異常などに対しても影響を受けやすく、時
々、半導体工場の稼働時にイオンブレイクする事故も起
こり、高純度の超純水を供給する超純水の製造システム
の性能安定化においても充分とは言えない。
においては、余裕のあるイオン交換樹脂量を充填し、定
期的に更新する方法が採用されている。このような装置
構成においては前記のように使用可能なイオン交換樹脂
をも廃棄するため効率的なシステムとは言えないし、省
資源の点からも問題である。さらに、このような、単一
のイオン交換装置だけを備えた構成では、一次純水製造
システムの異常などに対しても影響を受けやすく、時
々、半導体工場の稼働時にイオンブレイクする事故も起
こり、高純度の超純水を供給する超純水の製造システム
の性能安定化においても充分とは言えない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、超純水の安
定供給が可能であり、かつ使用可能なイオン交換樹脂を
廃棄することのない経済的な超純水製造システムを提供
することを目的とする。
定供給が可能であり、かつ使用可能なイオン交換樹脂を
廃棄することのない経済的な超純水製造システムを提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来単一槽で
構成されているため、装置停止時にしか樹脂の更新が不
可能であった混床型イオン交換樹脂装置を２槽構造と
し、前段の混床型イオン交換樹脂装置と後段の混床型イ
オン交換樹脂装置との間でイオン量を検出し、イオンブ
レイクを検知した時点で前段のイオン交換樹脂のみを更
新するように構成することによって前記目的を達成した
ものである。
構成されているため、装置停止時にしか樹脂の更新が不
可能であった混床型イオン交換樹脂装置を２槽構造と
し、前段の混床型イオン交換樹脂装置と後段の混床型イ
オン交換樹脂装置との間でイオン量を検出し、イオンブ
レイクを検知した時点で前段のイオン交換樹脂のみを更
新するように構成することによって前記目的を達成した
ものである。
【０００８】すなわち、本発明による超純水の製造シス
テムは、イオン交換樹脂装置を含む超純水の製造システ
ムにおいて、非再生型陽イオン交換樹脂と非再生型陰イ
オン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換樹脂装置を
直列に２段設置し、前段の混床型イオン交換樹脂装置と
後段の混床型イオン交換樹脂装置との間にイオン検出装
置を設置し、前段のイオン交換樹脂装置への流入管と該
装置からの流出管とを弁を介して連結するバイパス管を
付設したことを特徴とする。
テムは、イオン交換樹脂装置を含む超純水の製造システ
ムにおいて、非再生型陽イオン交換樹脂と非再生型陰イ
オン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換樹脂装置を
直列に２段設置し、前段の混床型イオン交換樹脂装置と
後段の混床型イオン交換樹脂装置との間にイオン検出装
置を設置し、前段のイオン交換樹脂装置への流入管と該
装置からの流出管とを弁を介して連結するバイパス管を
付設したことを特徴とする。
【０００９】また、本発明による超純水の製造方法は、
上記超純水の製造システムを用いてイオン検出装置で前
段の混床型イオン交換樹脂装置のイオン除去性能の低下
を検知し、イオンブレイクが検出された時点で、前段の
混床型イオン交換樹脂装置内のイオン交換樹脂のみを新
樹脂に更新し、その間は後段の混床型イオン交換樹脂装
置のみに通水することを特徴とする。
上記超純水の製造システムを用いてイオン検出装置で前
段の混床型イオン交換樹脂装置のイオン除去性能の低下
を検知し、イオンブレイクが検出された時点で、前段の
混床型イオン交換樹脂装置内のイオン交換樹脂のみを新
樹脂に更新し、その間は後段の混床型イオン交換樹脂装
置のみに通水することを特徴とする。
【００１０】
【実施例】次に、図示した実施例に基づいて本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はこれによって制限さ
れるものではない。
らに具体的に説明するが、本発明はこれによって制限さ
れるものではない。
【００１１】図１は、本発明の一実施例を示す超純水の
製造システムの略示系統図である。このシステムの主な
装置構成は、一次純水供給システム１からの一次純水を
貯留する超純水タンク２と超純水ポンプ３、紫外線酸化
装置４、前段の混床型イオン交換樹脂装置５、後段の混
床型イオン交換樹脂装置６及び限外濾過装置７から成
る。この超純水の製造システムにおいては、前段の混床
型イオン交換樹脂装置５と後段の混床型イオン交換樹脂
装置６との間にイオン検出装置８が設置されている。使
用しうるイオン検出装置としては、イオン濃度を検出す
る導電率計、比抵抗計などが挙げられる。製造された超
純水は、限外濾過装置７の出口に比抵抗計などのイオン
検出装置、微粒子計、ＴＯＣ計などを設置して水質管理
され、半導体洗浄装置などのユースポイント９に供給さ
れる。
製造システムの略示系統図である。このシステムの主な
装置構成は、一次純水供給システム１からの一次純水を
貯留する超純水タンク２と超純水ポンプ３、紫外線酸化
装置４、前段の混床型イオン交換樹脂装置５、後段の混
床型イオン交換樹脂装置６及び限外濾過装置７から成
る。この超純水の製造システムにおいては、前段の混床
型イオン交換樹脂装置５と後段の混床型イオン交換樹脂
装置６との間にイオン検出装置８が設置されている。使
用しうるイオン検出装置としては、イオン濃度を検出す
る導電率計、比抵抗計などが挙げられる。製造された超
純水は、限外濾過装置７の出口に比抵抗計などのイオン
検出装置、微粒子計、ＴＯＣ計などを設置して水質管理
され、半導体洗浄装置などのユースポイント９に供給さ
れる。
【００１２】図１に示した超純水の製造システムにより
超純水を製造する場合、紫外線酸化装置４から流出した
被処理液は、前段の混床型イオン交換樹脂装置５及び後
段の混床型イオン交換樹脂装置６に通水され、ここで一
次純水中に残存している微量の無機イオン及び超純水の
製造システム系内から溶出した無機イオン、さらには紫
外線酸化装置４により形成されたイオン性有機物が除去
される。これらのイオン性物質は、前段の混床型イオン
交換樹脂装置５によってその大半が除去され、最終的に
限外濾過装置７で微粒子が除去され、超純水となり、ユ
ースポイント９において半導体の洗浄などに用いられる
が、未使用の超純水は、一部超純水タンク２に返送され
る。超純水の製造システムは、この通水−不純物除去を
連続的に繰り返すことによって常に高純度な水質を維持
している。
超純水を製造する場合、紫外線酸化装置４から流出した
被処理液は、前段の混床型イオン交換樹脂装置５及び後
段の混床型イオン交換樹脂装置６に通水され、ここで一
次純水中に残存している微量の無機イオン及び超純水の
製造システム系内から溶出した無機イオン、さらには紫
外線酸化装置４により形成されたイオン性有機物が除去
される。これらのイオン性物質は、前段の混床型イオン
交換樹脂装置５によってその大半が除去され、最終的に
限外濾過装置７で微粒子が除去され、超純水となり、ユ
ースポイント９において半導体の洗浄などに用いられる
が、未使用の超純水は、一部超純水タンク２に返送され
る。超純水の製造システムは、この通水−不純物除去を
連続的に繰り返すことによって常に高純度な水質を維持
している。
【００１３】前段の混床型イオン交換樹脂装置５は、前
記のように超純水中のイオン性物質を除去する過程で通
水時間に応じて徐々にイオンブレイクに近づく。二つの
イオン交換樹脂装置の間に設置したイオン検出装置８
は、このイオンブレイクを検知し、前段の混床型イオン
交換樹脂の更新時期を表示・警報する。本発明のシステ
ムにおいては、イオン検出装置８からの警報によって、
弁１０及び１１が閉じられ、弁１２が開放されてバイパ
ス管１３に被処理水が流れ、自動的に前段の混床型イオ
ン交換樹脂装置５をバイパスし、後段の混床型イオン交
換樹脂装置６で被処理液中の無機イオンを除去するとと
もに、その間に前段のイオン交換樹脂の更新を行う。し
たがって、超純水の製造システムの停止時に限らず、樹
脂の更新が必要な任意の時点で更新が可能である。さら
に、前段のイオン交換樹脂をブレイク状態まで使用する
ことができるため、経済的である。なお、後段のイオン
交換樹脂のブレイクを検出するため、後段のイオン交換
樹脂装置と限外濾過装置との間にもイオン検出装置を設
置しておくのが好ましい（図示していない）。
記のように超純水中のイオン性物質を除去する過程で通
水時間に応じて徐々にイオンブレイクに近づく。二つの
イオン交換樹脂装置の間に設置したイオン検出装置８
は、このイオンブレイクを検知し、前段の混床型イオン
交換樹脂の更新時期を表示・警報する。本発明のシステ
ムにおいては、イオン検出装置８からの警報によって、
弁１０及び１１が閉じられ、弁１２が開放されてバイパ
ス管１３に被処理水が流れ、自動的に前段の混床型イオ
ン交換樹脂装置５をバイパスし、後段の混床型イオン交
換樹脂装置６で被処理液中の無機イオンを除去するとと
もに、その間に前段のイオン交換樹脂の更新を行う。し
たがって、超純水の製造システムの停止時に限らず、樹
脂の更新が必要な任意の時点で更新が可能である。さら
に、前段のイオン交換樹脂をブレイク状態まで使用する
ことができるため、経済的である。なお、後段のイオン
交換樹脂のブレイクを検出するため、後段のイオン交換
樹脂装置と限外濾過装置との間にもイオン検出装置を設
置しておくのが好ましい（図示していない）。
【００１４】図２は、半導体工場で実際に使用された廃
棄樹脂のイオン交換性能について調査した結果を示す。
調査には、一定量の廃棄イオン交換樹脂（図２にはＡ、
Ｂ及びＣで示した）及び未使用のイオン交換樹脂（図２
にＤで示した）を用いて、逆浸透装置の透過水を通水し
た。図２に示すように更新終了時の廃棄イオン交換樹脂
には、まだ、２０〜４０％のイオン交換能力があり、従
来の定期的な樹脂の更新では未使用樹脂を多量に廃棄す
ることとなる。
棄樹脂のイオン交換性能について調査した結果を示す。
調査には、一定量の廃棄イオン交換樹脂（図２にはＡ、
Ｂ及びＣで示した）及び未使用のイオン交換樹脂（図２
にＤで示した）を用いて、逆浸透装置の透過水を通水し
た。図２に示すように更新終了時の廃棄イオン交換樹脂
には、まだ、２０〜４０％のイオン交換能力があり、従
来の定期的な樹脂の更新では未使用樹脂を多量に廃棄す
ることとなる。
【００１５】本発明の大きな効果は、超純水の製造シス
テムを停止することなく樹脂の更新を行いうる点にある
が、図２に示した結果によれば、本発明の製造システム
及び本発明の方法を採用することにより、少なくとも２
０％の樹脂使用量を削減できることになり、著しく経済
的である。また、従来の単一構造のイオン交換樹脂装置
を用いた場合には、無機イオンよりもＴＯＣ（Total Or
ganic Carbon）成分であるイオン性の有機物のリークが
早く生じるケースもあり、このような異常時においても
本発明は有利である。
テムを停止することなく樹脂の更新を行いうる点にある
が、図２に示した結果によれば、本発明の製造システム
及び本発明の方法を採用することにより、少なくとも２
０％の樹脂使用量を削減できることになり、著しく経済
的である。また、従来の単一構造のイオン交換樹脂装置
を用いた場合には、無機イオンよりもＴＯＣ（Total Or
ganic Carbon）成分であるイオン性の有機物のリークが
早く生じるケースもあり、このような異常時においても
本発明は有利である。
【００１６】さらに、最近の超純水の製造システムにお
いては、紫外線酸化装置４の後段に紫外線酸化で形成し
たイオン性有機物を除去するアニオン交換樹脂を設置
し、その後段に混床式イオン交換樹脂装置を組み込むこ
とが主流となってきている。この形式のシステムに本発
明を適用する場合には、紫外線酸化装置４の次にアニオ
ン交換樹脂、次いで前段及び後段の混床型イオン交換樹
脂の３相構成でイオン交換を行うこととなる。
いては、紫外線酸化装置４の後段に紫外線酸化で形成し
たイオン性有機物を除去するアニオン交換樹脂を設置
し、その後段に混床式イオン交換樹脂装置を組み込むこ
とが主流となってきている。この形式のシステムに本発
明を適用する場合には、紫外線酸化装置４の次にアニオ
ン交換樹脂、次いで前段及び後段の混床型イオン交換樹
脂の３相構成でイオン交換を行うこととなる。
【００１７】
【発明の効果】本発明による超純水の製造システム及び
超純水の製造方法を用いれば、システムの稼働時でもイ
オン交換樹脂の更新作業を行うことができ、一次純水供
給システムの異常時、例えば、逆浸透装置のリーク成分
の増加、純水製造用イオン交換樹脂等の再生不良時など
による超純水製造システム内の混床式イオン交換樹脂の
異常早期ブレイクにも適切に対応することが可能とな
る。さらに、従来の定期更新方法に比べてイオン交換樹
脂の使用量を大幅に低減することができる。
超純水の製造方法を用いれば、システムの稼働時でもイ
オン交換樹脂の更新作業を行うことができ、一次純水供
給システムの異常時、例えば、逆浸透装置のリーク成分
の増加、純水製造用イオン交換樹脂等の再生不良時など
による超純水製造システム内の混床式イオン交換樹脂の
異常早期ブレイクにも適切に対応することが可能とな
る。さらに、従来の定期更新方法に比べてイオン交換樹
脂の使用量を大幅に低減することができる。
【図１】本発明の一実施例を示す超純水の製造システム
の略示系統図である。
の略示系統図である。
【図２】未使用樹脂及び使用済み廃棄樹脂のイオン交換
性能を示す比抵抗の経時変化図である。
性能を示す比抵抗の経時変化図である。
１ 一次純水供給システム ２ 超純水タンク ３ 超純水ポンプ ４ 紫外線酸化装置 ５ 前段のイオン交換樹脂装置 ６ 後段のイオン交換樹脂装置 ７ 限外濾過装置 ８ イオン検出装置 ９ ユースポイント １３ バイパス管
Claims (3)
- 【請求項１】 イオン交換樹脂装置を含む超純水の製造
システムにおいて、非再生型陽イオン交換樹脂と非再生
型陰イオン交換樹脂とを混合した混床型イオン交換樹脂
装置を直列に２段設置し、前段の混床型イオン交換樹脂
装置と後段の混床型イオン交換樹脂装置との間にイオン
検出装置を設置し、前段のイオン交換樹脂装置への流入
管と該装置からの流出管とを弁を介して連結するバイパ
ス管を付設したことを特徴とする超純水の製造システ
ム。 - 【請求項２】 イオン検出装置がイオン量を検知する導
電率計又は比抵抗計である請求項１記載の超純水の製造
システム。 - 【請求項３】 請求項１記載の装置を用いて、イオン検
出装置で前段の混床型イオン交換樹脂装置のイオン除去
性能の低下を検知し、イオンブレイクが検出された時点
で、前段の混床型イオン交換樹脂装置内のイオン交換樹
脂のみを新樹脂に更新し、その間は後段の混床型イオン
交換樹脂装置のみに通水することを特徴とする超純水の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31278692A JPH06134457A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 超純水の製造システム及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31278692A JPH06134457A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 超純水の製造システム及び製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06134457A true JPH06134457A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=18033391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31278692A Pending JPH06134457A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 超純水の製造システム及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06134457A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419137B1 (ko) * | 2001-03-26 | 2004-02-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 |
| JPWO2022059430A1 (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-24 | ||
| WO2022113741A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置、軟水化装置の再生方法、及び軟水化装置の洗浄方法 |
| JP2022086033A (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022095010A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022116415A (ja) * | 2021-01-29 | 2022-08-10 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022129612A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置並びにその再生方法及び洗浄方法 |
| KR20230038265A (ko) | 2020-09-09 | 2023-03-17 | 오르가노 코포레이션 | 수처리 시스템, 정보처리장치, 정보처리방법 및 프로그램 |
| WO2024024277A1 (ja) * | 2022-07-28 | 2024-02-01 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置の運転管理方法および運転管理システム |
| JP2024062759A (ja) * | 2022-10-25 | 2024-05-10 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 水質制御方法および水質制御装置 |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP31278692A patent/JPH06134457A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419137B1 (ko) * | 2001-03-26 | 2004-02-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 초순수 제조 장치 |
| KR20230038265A (ko) | 2020-09-09 | 2023-03-17 | 오르가노 코포레이션 | 수처리 시스템, 정보처리장치, 정보처리방법 및 프로그램 |
| JPWO2022059430A1 (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-24 | ||
| WO2022059430A1 (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-24 | オルガノ株式会社 | 超純水供給システム、制御装置およびプログラム |
| TWI869621B (zh) * | 2020-09-15 | 2025-01-11 | 日商奧璐佳瑙股份有限公司 | 超純水供給系統、控制裝置及超純水供給程式 |
| JP2024009931A (ja) * | 2020-09-15 | 2024-01-23 | オルガノ株式会社 | 超純水供給システムに用いるプログラム |
| WO2022113741A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置、軟水化装置の再生方法、及び軟水化装置の洗浄方法 |
| JP2022086033A (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022095010A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022116415A (ja) * | 2021-01-29 | 2022-08-10 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置 |
| JP2022129612A (ja) * | 2021-02-25 | 2022-09-06 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 軟水化装置並びにその再生方法及び洗浄方法 |
| WO2024024277A1 (ja) * | 2022-07-28 | 2024-02-01 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置の運転管理方法および運転管理システム |
| CN119522194A (zh) * | 2022-07-28 | 2025-02-25 | 奥加诺株式会社 | 超纯水制造装置的运转管理方法及运转管理系统 |
| JP2024062759A (ja) * | 2022-10-25 | 2024-05-10 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 水質制御方法および水質制御装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11498852B2 (en) | Ultrapure water generation and verification system | |
| JP3200301B2 (ja) | 純水又は超純水の製造方法及び製造装置 | |
| US5061374A (en) | Reverse osmosis as final filter in ultrapure deionized water system | |
| KR102092441B1 (ko) | 초순수 제조 장치 | |
| US20120283343A1 (en) | Ion exchange regeneration and upw treatment system | |
| JP5081690B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
| JPH08126886A (ja) | 超純水の製造方法及び装置 | |
| JPH06134457A (ja) | 超純水の製造システム及び製造方法 | |
| US20180251385A1 (en) | Water treatment system | |
| JP4480061B2 (ja) | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 | |
| CN112770825B (zh) | 超纯水制造装置的启动方法以及超纯水制造装置 | |
| CN100406393C (zh) | 超纯水制造系统及其运转方法 | |
| JP3505035B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPS5811090A (ja) | 純水製造用逆浸透装置又は限外「ろ」過装置 | |
| TWI876341B (zh) | 電鍍方法及機器可讀媒體 | |
| CN113874328A (zh) | 超纯水制造系统及超纯水制造方法 | |
| JP5343891B2 (ja) | 水処理システム | |
| CN106746049A (zh) | 一种超纯水生产系统及其生产方法 | |
| JP4696350B2 (ja) | 比抵抗調整水製造装置及び缶検査用水製造装置 | |
| KR20200117972A (ko) | 초순수 제조 시스템의 미립자 관리 방법 | |
| JPH1119485A (ja) | 膜を用いた水処理における運転制御法 | |
| CN113896353A (zh) | 水过滤净化系统及其处理方法 | |
| CN114699923A (zh) | 一种浸没式超滤膜化学清洗药液回用方法 | |
| CN206721381U (zh) | 电泳漆槽液电脑自动维护系统 | |
| JP4469542B2 (ja) | 機能水の製造方法及びその製造装置 |