JPH06134556A - 静磁場を用いた連続鋳造用タンディッシュ - Google Patents
静磁場を用いた連続鋳造用タンディッシュInfo
- Publication number
- JPH06134556A JPH06134556A JP28909292A JP28909292A JPH06134556A JP H06134556 A JPH06134556 A JP H06134556A JP 28909292 A JP28909292 A JP 28909292A JP 28909292 A JP28909292 A JP 28909292A JP H06134556 A JPH06134556 A JP H06134556A
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- Japan
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- static magnetic
- tundish
- molten metal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 介在物、気泡の浮上を促進し、連続鋳造鋳片
の品質を向上させる。 【構成】 上方に自由表面を有するタンディッシュ内の
溶融金属プールの平均流速方向に対して垂直で、かつ鉛
直な向きの一様な静磁場を、溶融金属入側と溶融金属出
側の間に作用させる静磁場を用いた連続鋳造用タンディ
ッシュで、少なくとも静磁場作用領域に含まれるタンデ
ィッシュ壁を電導体によって構成する電導壁とする。
の品質を向上させる。 【構成】 上方に自由表面を有するタンディッシュ内の
溶融金属プールの平均流速方向に対して垂直で、かつ鉛
直な向きの一様な静磁場を、溶融金属入側と溶融金属出
側の間に作用させる静磁場を用いた連続鋳造用タンディ
ッシュで、少なくとも静磁場作用領域に含まれるタンデ
ィッシュ壁を電導体によって構成する電導壁とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静磁場を用いた連続鋳
造用タンディッシュに関するものである。
造用タンディッシュに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造タンディッシュ内では、一般的
に図６に示すようにロングノズル１から吐出した溶融金
属噴流２がロングノズル１とイマージョンノズル３の間
に大きな溶融金属流４をもたらす。
に図６に示すようにロングノズル１から吐出した溶融金
属噴流２がロングノズル１とイマージョンノズル３の間
に大きな溶融金属流４をもたらす。
【０００３】また、連続鋳造用タンディッシュ内で介在
物や気泡の浮上を促進して連続鋳造鋳片の品質向上を図
るため、図７に示すような堰７を用いたタンディッシュ
が特開昭５７−１７０８５７号公報等に開示されてい
る。
物や気泡の浮上を促進して連続鋳造鋳片の品質向上を図
るため、図７に示すような堰７を用いたタンディッシュ
が特開昭５７−１７０８５７号公報等に開示されてい
る。
【０００４】また、図８に示すような、タンディッシュ
のロングノズル１とイマージョンノズル３との間に、溶
融金属の進行方向５に対して垂直でかつ水平向きの静磁
場６を作用させる連続鋳造用タンディッシュが特開昭６
３−１４０７４５号公報に開示されている。
のロングノズル１とイマージョンノズル３との間に、溶
融金属の進行方向５に対して垂直でかつ水平向きの静磁
場６を作用させる連続鋳造用タンディッシュが特開昭６
３−１４０７４５号公報に開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図８に
示すタンディッシュの壁は絶縁体であるため、図９に示
すように誘導電流８が溶融金属内でループを形成し、タ
ンディッシュ内底付近および表面付近で誘導電流８が水
平方向を向く。このため、静磁場作用領域中心位置９よ
りもロングノズル１側の底付近および静磁場作用領域中
心位置９よりもイマージョンノズル３側の表面付近では
上向きの制動力１０が働き、静磁場作用領域中心位置９
よりもイマージョンノズル３側の底付近および静磁場作
用域９よりもロングノズル１側の表面付近では下向きの
制動力１１が働く。上向きの制動力１０、下向きの制動
力１１は溶融金属プールの平均流速方向５に垂直なので
溶融金属流を制動することができず、介在物や気泡の浮
上効果が小さい。
示すタンディッシュの壁は絶縁体であるため、図９に示
すように誘導電流８が溶融金属内でループを形成し、タ
ンディッシュ内底付近および表面付近で誘導電流８が水
平方向を向く。このため、静磁場作用領域中心位置９よ
りもロングノズル１側の底付近および静磁場作用領域中
心位置９よりもイマージョンノズル３側の表面付近では
上向きの制動力１０が働き、静磁場作用領域中心位置９
よりもイマージョンノズル３側の底付近および静磁場作
用域９よりもロングノズル１側の表面付近では下向きの
制動力１１が働く。上向きの制動力１０、下向きの制動
力１１は溶融金属プールの平均流速方向５に垂直なので
溶融金属流を制動することができず、介在物や気泡の浮
上効果が小さい。
【０００６】本発明は、以上のように誘導電流が溶融金
属内でループを形成して底付近および表面付近で水平方
向を向く現象をなくし、効率良くタンディッシュ内溶融
金属流を制動して介在物や気泡の浮上を促進することに
より、連続鋳造鋳片の品質を向上させることを目的とす
る。
属内でループを形成して底付近および表面付近で水平方
向を向く現象をなくし、効率良くタンディッシュ内溶融
金属流を制動して介在物や気泡の浮上を促進することに
より、連続鋳造鋳片の品質を向上させることを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、上方に
自由表面を有するタンディッシュ内の溶融金属プールの
平均流速方向に対して垂直でかつ鉛直な向きの一様な静
磁場を溶融金属入側のロングノズルと溶融金属出側のイ
マージョンノズルとの間に作用させる静磁場を用いた連
続鋳造用タンディッシュにおいて、少なくとも静磁場作
用領域に含まれるタンディッシュ壁を電導体によって構
成する電導壁としたことを特徴とする静磁場を用いた連
続鋳造用タンディッシュである。
自由表面を有するタンディッシュ内の溶融金属プールの
平均流速方向に対して垂直でかつ鉛直な向きの一様な静
磁場を溶融金属入側のロングノズルと溶融金属出側のイ
マージョンノズルとの間に作用させる静磁場を用いた連
続鋳造用タンディッシュにおいて、少なくとも静磁場作
用領域に含まれるタンディッシュ壁を電導体によって構
成する電導壁としたことを特徴とする静磁場を用いた連
続鋳造用タンディッシュである。
【０００８】
【作用】本発明は、図１に示すように、上方に自由表面
を有するタンディッシュ内の溶融金属プールの平均流速
方向５に対して垂直でかつ鉛直な向きに一様な静磁場６
を、溶融金属入側のロングノズル１と溶融金属出側のイ
マージョンノズル３との間に作用させる、静磁場を用い
た連続鋳造用タンディッシュにおいて、少なくとも静磁
場作用領域１２に含まれるタンディッシュ壁、具体的に
は、静磁場作用領域幅１３以上の範囲のタンディッシュ
壁を電導体によって構成する電導壁１５として、効率の
高い制動効果を得られるようにした。なお、電導壁１５
の幅は静磁場作用領域幅の２倍の幅１４以下で十分であ
り、その厚みも３０mm以上であれば十分である。また、
電導体としては、１×１０6 （Ω- 1 ｍ- 1 ）以上の電
気伝導度を持つことを目安とすればよい。
を有するタンディッシュ内の溶融金属プールの平均流速
方向５に対して垂直でかつ鉛直な向きに一様な静磁場６
を、溶融金属入側のロングノズル１と溶融金属出側のイ
マージョンノズル３との間に作用させる、静磁場を用い
た連続鋳造用タンディッシュにおいて、少なくとも静磁
場作用領域１２に含まれるタンディッシュ壁、具体的に
は、静磁場作用領域幅１３以上の範囲のタンディッシュ
壁を電導体によって構成する電導壁１５として、効率の
高い制動効果を得られるようにした。なお、電導壁１５
の幅は静磁場作用領域幅の２倍の幅１４以下で十分であ
り、その厚みも３０mm以上であれば十分である。また、
電導体としては、１×１０6 （Ω- 1 ｍ- 1 ）以上の電
気伝導度を持つことを目安とすればよい。
【０００９】図２に示すように、側壁付近部を除く静磁
場作用領域１２では、溶融金属プールの平均流速方向５
に対して垂直でかつ鉛直方向な向きに一様な静磁場６を
作用させるので、溶融金属の進行方向５と逆向きの制動
力１６が働くことにより溶融金属流を制動する。
場作用領域１２では、溶融金属プールの平均流速方向５
に対して垂直でかつ鉛直方向な向きに一様な静磁場６を
作用させるので、溶融金属の進行方向５と逆向きの制動
力１６が働くことにより溶融金属流を制動する。
【００１０】図３に示すように、誘導電流８は静磁場作
用領域１２内のタンディッシュ側壁にある電導壁１５に
流れ出て、他方の側壁の電導壁１５より流入することに
より、溶融金属と電導壁１５とで電流ループを形成す
る。
用領域１２内のタンディッシュ側壁にある電導壁１５に
流れ出て、他方の側壁の電導壁１５より流入することに
より、溶融金属と電導壁１５とで電流ループを形成す
る。
【００１１】図４に示すように、静磁場作用領域１２内
でタンディッシュ底面および表面付近では、従来技術の
ように制動力が上向き、下向きに作用することがなく、
溶融金属の進行方向５に対して垂直でかつ鉛直方向な向
きに一様な静磁場６を作用させるので、溶融金属プール
の平均流速方向５に対して垂直で水平な向きに誘導電流
８が発生する。よって、溶融金属プールの平均流速方向
５と逆向きの制動力１６が働くことにより溶融金属流を
制動する。
でタンディッシュ底面および表面付近では、従来技術の
ように制動力が上向き、下向きに作用することがなく、
溶融金属の進行方向５に対して垂直でかつ鉛直方向な向
きに一様な静磁場６を作用させるので、溶融金属プール
の平均流速方向５に対して垂直で水平な向きに誘導電流
８が発生する。よって、溶融金属プールの平均流速方向
５と逆向きの制動力１６が働くことにより溶融金属流を
制動する。
【００１２】また、静磁場作用領域１２内のタンディッ
シュ側壁付近では誘導電流が電導壁１５に流れ出る。よ
って、静磁場作用領域１２の側壁付近では誘導電流８は
水平方向を向き、溶融金属と逆向きの制動力１６が働く
ので側壁付近での制動効果も大きい。この結果、介在物
や気泡の浮上を促進し、連続鋳造鋳片の品質を向上させ
ることが可能になる。
シュ側壁付近では誘導電流が電導壁１５に流れ出る。よ
って、静磁場作用領域１２の側壁付近では誘導電流８は
水平方向を向き、溶融金属と逆向きの制動力１６が働く
ので側壁付近での制動効果も大きい。この結果、介在物
や気泡の浮上を促進し、連続鋳造鋳片の品質を向上させ
ることが可能になる。
【００１３】
【実施例】容量５０ton のタンディッシュにおいて、静
磁場を作用しない場合、静磁場の大きさが５０００ガウ
スで水平方向に作用させ全壁に絶縁体を用いた従来方式
の場合、静磁場の大きさが５０００ガウスで鉛直方向に
作用させ、磁場作用域を含む広い範囲で電導壁を用いた
本発明の方式の場合について、それぞれの鋳片中に残っ
た介在物の介在物径に対する分布量を冶金的に調査し
た。この結果を図５に示す。本発明により、タンディッ
シュでの介在物の浮上分離が促進されていることが確認
された。
磁場を作用しない場合、静磁場の大きさが５０００ガウ
スで水平方向に作用させ全壁に絶縁体を用いた従来方式
の場合、静磁場の大きさが５０００ガウスで鉛直方向に
作用させ、磁場作用域を含む広い範囲で電導壁を用いた
本発明の方式の場合について、それぞれの鋳片中に残っ
た介在物の介在物径に対する分布量を冶金的に調査し
た。この結果を図５に示す。本発明により、タンディッ
シュでの介在物の浮上分離が促進されていることが確認
された。
【００１４】
【発明の効果】本発明の静磁場を用いた連続鋳造用タン
ディッシュにより、タンディッシュ内溶鋼流を制動する
ことができ、介在物と気泡の浮上を促進し、鋳型鋳片の
品質を著しく向上することができた。
ディッシュにより、タンディッシュ内溶鋼流を制動する
ことができ、介在物と気泡の浮上を促進し、鋳型鋳片の
品質を著しく向上することができた。
【図１】本発明における溶鋼流の向き、静磁場、電導壁
の模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は立面図であ
る。
の模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は立面図であ
る。
【図２】本発明における溶鋼流の向き、静磁場、制動力
の方向をタンディッシュ側壁方向からみた透視図であ
る。
の方向をタンディッシュ側壁方向からみた透視図であ
る。
【図３】本発明における誘導電流ループを示した透視図
であり、長手方向からみた立面図である。
であり、長手方向からみた立面図である。
【図４】本発明における誘導電流の向きと底付近におけ
る制動力を示した透視図であり、（ａ）は底付近、
（ｂ）は表面付近、（ｃ）は側壁付近の拡大した立面図
である。
る制動力を示した透視図であり、（ａ）は底付近、
（ｂ）は表面付近、（ｃ）は側壁付近の拡大した立面図
である。
【図５】磁場がない場合の通常例、従来例、および本発
明実施例について鋳型内に補足された介在物の介在物径
に対する分布量を比較したグラフである。
明実施例について鋳型内に補足された介在物の介在物径
に対する分布量を比較したグラフである。
【図６】静磁場を作用していない場合のタンディッシュ
内溶鋼の流動パターンをタンディッシュ側壁方向からみ
た透視図である。
内溶鋼の流動パターンをタンディッシュ側壁方向からみ
た透視図である。
【図７】従来方式の堰を用いた連続鋳造用タンディッシ
ュの側面からみた透視図である。
ュの側面からみた透視図である。
【図８】従来方式における溶鋼流の向きと作用する電磁
力を示した模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は立
面図である。
力を示した模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は立
面図である。
【図９】従来方式の静磁場を作用させたときのタンディ
ッシュ内誘導電流の流れパターンを示した透視図であ
り、（ａ）は立面図、（ｂ）は（ａ）の表面付近の拡大
図であり、（ｃ）は（ａ）の底付近の拡大図である。
ッシュ内誘導電流の流れパターンを示した透視図であ
り、（ａ）は立面図、（ｂ）は（ａ）の表面付近の拡大
図であり、（ｃ）は（ａ）の底付近の拡大図である。
１ ロングノズル ２ ロングノズルより吐出した溶鋼噴流 ３ イマージョンノズル ４ 大きな溶鋼流 ５ 溶鋼の進行方向 ６ 静磁場 ７ 堰 ８ 誘導電流 ９ 静磁場作用領域幅方向中心位置 １０ 上向きの制動力 １１ 下向きの制動力 １２ 静磁場作用領域 １３ 静磁場作用領域幅 １４ 静磁場作用領域幅の２倍の幅 １５ 電導壁 １６ 溶鋼の進行方向と逆向きの制動力。
Claims (1)
- 【請求項１】 上方に自由表面を有するタンディッシュ
内の溶融金属プールの平均流速方向に対して垂直で、か
つ鉛直な向きの一様な静磁場を、溶融金属入側と溶融金
属出側の間に作用させる静磁場を用いた連続鋳造用タン
ディッシュにおいて、少なくとも静磁場作用領域に含ま
れるタンディッシュ壁を電導体によって構成する電導壁
としたことを特徴とする静磁場を用いた連続鋳造用タン
ディッシュ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28909292A JPH06134556A (ja) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | 静磁場を用いた連続鋳造用タンディッシュ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28909292A JPH06134556A (ja) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | 静磁場を用いた連続鋳造用タンディッシュ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06134556A true JPH06134556A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17738704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28909292A Withdrawn JPH06134556A (ja) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | 静磁場を用いた連続鋳造用タンディッシュ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06134556A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112974783A (zh) * | 2021-02-07 | 2021-06-18 | 佛山科学技术学院 | 基于静磁场的中间包控流装置 |
-
1992
- 1992-10-27 JP JP28909292A patent/JPH06134556A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112974783A (zh) * | 2021-02-07 | 2021-06-18 | 佛山科学技术学院 | 基于静磁场的中间包控流装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |