JPH06140369A - 有機物除去装置 - Google Patents
有機物除去装置Info
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- JPH06140369A JPH06140369A JP4262358A JP26235892A JPH06140369A JP H06140369 A JPH06140369 A JP H06140369A JP 4262358 A JP4262358 A JP 4262358A JP 26235892 A JP26235892 A JP 26235892A JP H06140369 A JPH06140369 A JP H06140369A
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- Japan
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- work
- ozone
- nozzle
- heater
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 供給したオゾンを有機物の酸化除去のために
有効に使用することのできる有機物除去装置を提供する
ことを目的としている。 【構成】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに付着
したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機物除
去装置であって、前記ワークの周縁部から外側に広がる
枠部(平面部)92を有するワークホルダ90を設けた
構成になっている。
有効に使用することのできる有機物除去装置を提供する
ことを目的としている。 【構成】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに付着
したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機物除
去装置であって、前記ワークの周縁部から外側に広がる
枠部(平面部)92を有するワークホルダ90を設けた
構成になっている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばTFT、半導
体等を製造する際のレジストプロセスにおいて不要とな
ったフォトレジスト等の有機物を除去する有機物除去装
置に関するものである。
体等を製造する際のレジストプロセスにおいて不要とな
ったフォトレジスト等の有機物を除去する有機物除去装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の有機物除去装置としては、例え
ばTFT(Thin Film Transisto
r)や半導体等を製造する工程で、フォトレジスト(有
機物)が付着した基板(ワーク)に、オゾン(O3 )を
吹き付けることによって、上記フォトレジストを酸化除
去するものが知られている。オゾンの吹き付けは、密閉
された処理室内で行われるようになっており、オゾンに
より、フォトレジストが効率よく酸化除去できるように
なっている。
ばTFT(Thin Film Transisto
r)や半導体等を製造する工程で、フォトレジスト(有
機物)が付着した基板(ワーク)に、オゾン(O3 )を
吹き付けることによって、上記フォトレジストを酸化除
去するものが知られている。オゾンの吹き付けは、密閉
された処理室内で行われるようになっており、オゾンに
より、フォトレジストが効率よく酸化除去できるように
なっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
有機物除去装置においては、基板に直接当たらないオゾ
ンは、処理室内を循環するものの、基板の部分を通り過
ぎてしまうため、基板近くのオゾン濃度を向上する上で
はあまり役に立っておらず、供給したオゾンを有効に使
用していないという問題が判明した。
有機物除去装置においては、基板に直接当たらないオゾ
ンは、処理室内を循環するものの、基板の部分を通り過
ぎてしまうため、基板近くのオゾン濃度を向上する上で
はあまり役に立っておらず、供給したオゾンを有効に使
用していないという問題が判明した。
【0004】この発明は上述した問題を解決するためな
されたもので、その目的は、供給したオゾンを有機物の
酸化除去のために有効に使用することのできる有機物除
去装置を提供することにある。
されたもので、その目的は、供給したオゾンを有機物の
酸化除去のために有効に使用することのできる有機物除
去装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、ワークにオゾンを吹き付けて、ワーク
に付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有
機物除去装置であって、前記ワークの周縁部から外側に
広がる枠部を有するワークホルダを設けたことを特徴と
している。
に、この発明は、ワークにオゾンを吹き付けて、ワーク
に付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有
機物除去装置であって、前記ワークの周縁部から外側に
広がる枠部を有するワークホルダを設けたことを特徴と
している。
【0006】そして、上記有機物除去装置は、ワークホ
ルダを搬送する搬送手段と、この搬送手段によってワー
クホルダと共に搬送されてきたワークを加熱する加熱ヒ
ータと、この加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを
吹き付けるノズルとを具備していることが好ましい。
ルダを搬送する搬送手段と、この搬送手段によってワー
クホルダと共に搬送されてきたワークを加熱する加熱ヒ
ータと、この加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを
吹き付けるノズルとを具備していることが好ましい。
【0007】一方、この発明は、ワークにオゾンを吹き
付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物を
酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを搬送す
る搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータと、こ
の加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを吹き付ける
ノズルとを具備し、前記加熱ヒータは、その加熱面が前
記搬送手段の搬送面に近接するように設けられているこ
とを特徴としている。
付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物を
酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを搬送す
る搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータと、こ
の加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを吹き付ける
ノズルとを具備し、前記加熱ヒータは、その加熱面が前
記搬送手段の搬送面に近接するように設けられているこ
とを特徴としている。
【0008】さらに、この発明は、ワークにオゾンを吹
き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物
を酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを搬送
する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータと、
この加熱ヒータの加熱面を覆い、加熱面からの熱によっ
て高温になる熱伝達カバーと、この熱伝達カバーで加熱
されたワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具備し、
前記熱伝達カバーは、前記搬送手段の搬送面に近接する
ように設けられていることを特徴としている。
き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物
を酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを搬送
する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータと、
この加熱ヒータの加熱面を覆い、加熱面からの熱によっ
て高温になる熱伝達カバーと、この熱伝達カバーで加熱
されたワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具備し、
前記熱伝達カバーは、前記搬送手段の搬送面に近接する
ように設けられていることを特徴としている。
【0009】さらにまた、この発明は、ワークにオゾン
を吹き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有
機物を酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを
搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータ
と、この加熱ヒータの加熱面に密着するように設けられ
た熱伝達ブロックと、この熱伝達ブロックで加熱された
ワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具備し、前記熱
伝達ブロックは、前記加熱面に密着する面と反対側の放
熱面が前記搬送手段の搬送面に近接するように設けられ
ていることを特徴としている。
を吹き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有
機物を酸化除去する有機物除去装置であって、ワークを
搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータ
と、この加熱ヒータの加熱面に密着するように設けられ
た熱伝達ブロックと、この熱伝達ブロックで加熱された
ワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具備し、前記熱
伝達ブロックは、前記加熱面に密着する面と反対側の放
熱面が前記搬送手段の搬送面に近接するように設けられ
ていることを特徴としている。
【0010】そして、上記の各有機物除去装置は、ノズ
ルからオゾンが吹き付けられているワークに紫外線を照
射する紫外線照射手段を設けることが好ましい。
ルからオゾンが吹き付けられているワークに紫外線を照
射する紫外線照射手段を設けることが好ましい。
【0011】また、ワークに紫外線を照射する紫外線照
射手段を有するものにあっては、熱伝達カバーを、紫外
線照射手段から紫外線が照射される加熱ヒータの部分に
設けることが好ましい。
射手段を有するものにあっては、熱伝達カバーを、紫外
線照射手段から紫外線が照射される加熱ヒータの部分に
設けることが好ましい。
【0012】さらに、この発明は、ワークにオゾンを吹
き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物
を酸化除去する有機物除去装置であって、前記ワークを
搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータ
と、この加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを吹き
付けるノズルとを具備してなり、前記ノズルは、前記搬
送手段の搬送方向の手前側からワークにオゾンを吹き付
ける第1のノズルと、搬送方向の向こう側からワークに
オゾンを吹き付ける第2のノズルとにより構成されてい
ることを特徴としている。
き付けて、ワークに付着したフォトレジスト等の有機物
を酸化除去する有機物除去装置であって、前記ワークを
搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱する加熱ヒータ
と、この加熱ヒータで加熱されたワークにオゾンを吹き
付けるノズルとを具備してなり、前記ノズルは、前記搬
送手段の搬送方向の手前側からワークにオゾンを吹き付
ける第1のノズルと、搬送方向の向こう側からワークに
オゾンを吹き付ける第2のノズルとにより構成されてい
ることを特徴としている。
【0013】また、上記各ノズルは、前記搬送手段の搬
送方向からワークにオゾンを吹き付ける第1のノズル
と、反搬送方向からワークにオゾンを吹き付ける第2の
ノズルとにより構成することが好ましい。
送方向からワークにオゾンを吹き付ける第1のノズル
と、反搬送方向からワークにオゾンを吹き付ける第2の
ノズルとにより構成することが好ましい。
【0014】そして、第1のノズル及び第2のノズルの
間に、ワークに紫外線を照射する紫外線照射手段を設け
ることが好ましい。
間に、ワークに紫外線を照射する紫外線照射手段を設け
ることが好ましい。
【0015】
【作用】上記のように構成された有機物除去装置におい
て、ワークホルダを有するものは、ワークの外側に吹き
付けたオゾンがワークホルダの枠部に当たって、ワーク
の回りに滞留するようになる。このため、ワーク及びそ
の周囲でオゾンの濃度が上昇して、ワーク上の有機物が
効率良く酸化除去される。すなわち、供給したオゾンを
有機物の酸化除去のために有効に使用することができ
る。
て、ワークホルダを有するものは、ワークの外側に吹き
付けたオゾンがワークホルダの枠部に当たって、ワーク
の回りに滞留するようになる。このため、ワーク及びそ
の周囲でオゾンの濃度が上昇して、ワーク上の有機物が
効率良く酸化除去される。すなわち、供給したオゾンを
有機物の酸化除去のために有効に使用することができ
る。
【0016】また、ワークを搬送する搬送手段を有する
ものにあっては、オゾンの噴出する中をワークが通過す
ることになる。この場合、ワークの先端部はオゾンが直
接噴出する中に入るまでオゾンが当たらないが、ワーク
の後端側はワークの先端部がオゾンの噴出中に入ればワ
ークに沿って流れるオゾンによって覆われることにな
る。このため、ワークの先端部は、オゾンにさらされる
時間が後端側に比べて短くなり、有機物の酸化除去不足
となる傾向がある。ところが、この発明のようにワーク
の周縁部から外側に広がる枠部を有するワークホルダを
設け、このワークホルダを搬送するようにした場合に
は、ワークホルダがオゾン噴出中に入れば、ワークがオ
ゾン噴出中に入らなくても、オゾンがワークホルダの枠
部に沿ってワークに流れてくる。このため、ワークの先
端部にも十分オゾンを当てることができ、ワーク先端部
の有機物の酸化除去不足の改善を図ることができる。す
なわち、ワーク上の有機物を均一に酸化除去することが
できる。
ものにあっては、オゾンの噴出する中をワークが通過す
ることになる。この場合、ワークの先端部はオゾンが直
接噴出する中に入るまでオゾンが当たらないが、ワーク
の後端側はワークの先端部がオゾンの噴出中に入ればワ
ークに沿って流れるオゾンによって覆われることにな
る。このため、ワークの先端部は、オゾンにさらされる
時間が後端側に比べて短くなり、有機物の酸化除去不足
となる傾向がある。ところが、この発明のようにワーク
の周縁部から外側に広がる枠部を有するワークホルダを
設け、このワークホルダを搬送するようにした場合に
は、ワークホルダがオゾン噴出中に入れば、ワークがオ
ゾン噴出中に入らなくても、オゾンがワークホルダの枠
部に沿ってワークに流れてくる。このため、ワークの先
端部にも十分オゾンを当てることができ、ワーク先端部
の有機物の酸化除去不足の改善を図ることができる。す
なわち、ワーク上の有機物を均一に酸化除去することが
できる。
【0017】一方、加熱ヒータをワークの搬送面に接近
させたものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンが同ワ
ークを通り過ぎるが、その直後で、加熱ヒータに当たり
ワークの回りに滞留するようになる。このため、ワーク
及びその周囲でオゾン濃度が上昇して、ワーク上の有機
物が効率良く酸化除去される。すなわち、供給したオゾ
ンを有機物の酸化除去のために有効に使用することがで
きる。しかも、加熱ヒータに当たって滞留するオゾンの
中をワークが移動するので、ワークの先端部にも十分オ
ゾンを当てることができ、ワーク先端部の有機物の酸化
除去不足の改善を図ることができる。
させたものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンが同ワ
ークを通り過ぎるが、その直後で、加熱ヒータに当たり
ワークの回りに滞留するようになる。このため、ワーク
及びその周囲でオゾン濃度が上昇して、ワーク上の有機
物が効率良く酸化除去される。すなわち、供給したオゾ
ンを有機物の酸化除去のために有効に使用することがで
きる。しかも、加熱ヒータに当たって滞留するオゾンの
中をワークが移動するので、ワークの先端部にも十分オ
ゾンを当てることができ、ワーク先端部の有機物の酸化
除去不足の改善を図ることができる。
【0018】さらに、熱伝達カバーや熱伝達ブロックを
搬送手段の搬送面に近接させたものも、上記と同様の作
用を呈する。
搬送手段の搬送面に近接させたものも、上記と同様の作
用を呈する。
【0019】また、オゾンが吹き付けられているワーク
に紫外線を照射する紫外線照射手段を設け、紫外線が照
射される加熱ヒータの部分に熱伝達カバーを設けたもの
にあっては、熱伝達カバーのない部分でワークを十分加
熱することができる。そして、紫外線照射手段を有する
部分ではワークが高温になり過ぎるのを防止することが
できる。つまり、紫外線照射手段を有する部分では、紫
外線照射手段からの熱も加わるため、ワークが高温にな
る傾向にあるが、熱伝達カバーが加熱ヒータからの熱を
ある程度遮るので、ワークが高温になり過ぎるのを防止
することができる。
に紫外線を照射する紫外線照射手段を設け、紫外線が照
射される加熱ヒータの部分に熱伝達カバーを設けたもの
にあっては、熱伝達カバーのない部分でワークを十分加
熱することができる。そして、紫外線照射手段を有する
部分ではワークが高温になり過ぎるのを防止することが
できる。つまり、紫外線照射手段を有する部分では、紫
外線照射手段からの熱も加わるため、ワークが高温にな
る傾向にあるが、熱伝達カバーが加熱ヒータからの熱を
ある程度遮るので、ワークが高温になり過ぎるのを防止
することができる。
【0020】さらに、第1のノズルと第2のノズルを設
けたものは、搬送方向からも反搬送方向からも、ワーク
にオゾンが吹き付けられることになる。そして、搬送方
向から吹き付けるオゾンは、ワークに沿ってその後端側
から先端側に向けて流れ、反搬送方向から吹き付けるオ
ゾンは、ワークに沿ってその先端側から後端側に向けて
流れる。このため、ワークの先端側も後端側も、長時
間、オゾンが当たるようになり、有機物を均一にかつ十
分に除去することができる。
けたものは、搬送方向からも反搬送方向からも、ワーク
にオゾンが吹き付けられることになる。そして、搬送方
向から吹き付けるオゾンは、ワークに沿ってその後端側
から先端側に向けて流れ、反搬送方向から吹き付けるオ
ゾンは、ワークに沿ってその先端側から後端側に向けて
流れる。このため、ワークの先端側も後端側も、長時
間、オゾンが当たるようになり、有機物を均一にかつ十
分に除去することができる。
【0021】
【実施例】以下、図面にしたがって本発明の有機物除去
装置の実施例について詳細に説明する。図1は本発明の
第1実施例として示した有機物除去装置の要部説明図、
図2は同有機物除去装置のノズルの斜視説明図、図3は
図1のIII −III 線に沿う断面説明図、図4は同有機物
除去装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明
図、図5は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機
物除去部を示す側面説明図、図6は本発明の第2実施例
として示した有機物除去装置の要部説明図、図7は図6
のVIII−VIII線に沿う断面説明図、図8は同有機物除去
装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明図、図
9は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物除去
部を示す側面説明図、図10は第1及び第2実施例のノ
ズルの他の例を示す斜視説明図、図11は本発明の第3
実施例として示した有機物除去装置のワークホルダを示
す斜視説明図、図12は同有機物除去装置の有機物除去
部を示す斜視説明図、図13は本発明の第4実施例とし
て示した有機物除去装置の側面説明図、図14は同有機
物除去装置の実験結果を示した説明図、図15は本発明
の第5実施例として示した有機物除去装置の側面説明
図、図16は図15のK−K線に沿う断面説明図であ
る。
装置の実施例について詳細に説明する。図1は本発明の
第1実施例として示した有機物除去装置の要部説明図、
図2は同有機物除去装置のノズルの斜視説明図、図3は
図1のIII −III 線に沿う断面説明図、図4は同有機物
除去装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明
図、図5は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機
物除去部を示す側面説明図、図6は本発明の第2実施例
として示した有機物除去装置の要部説明図、図7は図6
のVIII−VIII線に沿う断面説明図、図8は同有機物除去
装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明図、図
9は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物除去
部を示す側面説明図、図10は第1及び第2実施例のノ
ズルの他の例を示す斜視説明図、図11は本発明の第3
実施例として示した有機物除去装置のワークホルダを示
す斜視説明図、図12は同有機物除去装置の有機物除去
部を示す斜視説明図、図13は本発明の第4実施例とし
て示した有機物除去装置の側面説明図、図14は同有機
物除去装置の実験結果を示した説明図、図15は本発明
の第5実施例として示した有機物除去装置の側面説明
図、図16は図15のK−K線に沿う断面説明図であ
る。
【0022】まず、図1〜図5を参照して本発明の第1
実施例を説明する。有機物除去装置は、図4及び図5に
示すように、ワークの搬送手段としてローラコンベア1
を有している。ローラコンベア1は、ワーク供給位置A
から、ワーク取出位置Bにかけて配置されている。ま
た、ワークとしては、この実施例では製造過程のTFT
の基板であって、不要となったフォトレジストを有する
基板を示している。フォトレジストは、有機物によって
構成されているものであり、回路等を基板上に形成する
段階で使用するものである。
実施例を説明する。有機物除去装置は、図4及び図5に
示すように、ワークの搬送手段としてローラコンベア1
を有している。ローラコンベア1は、ワーク供給位置A
から、ワーク取出位置Bにかけて配置されている。ま
た、ワークとしては、この実施例では製造過程のTFT
の基板であって、不要となったフォトレジストを有する
基板を示している。フォトレジストは、有機物によって
構成されているものであり、回路等を基板上に形成する
段階で使用するものである。
【0023】ローラコンベア1は、図3に示すように、
対向する左右1対の搬送ローラ2、2を複数有するもの
であり、各搬送ローラ2は、互いに対向する部分が縮径
され、この縮径された部分が搬送部2aになっている。
したがって、複数の縮径部2aの上側の部分がワークを
搬送するためのパスライン(搬送面)PL(図1、図4
及び図5参照)になっている。また、左右の搬送ローラ
2、2の側方には、後述するノズル30から吹き出した
オゾンがワーク上から簡単に逃げないように側板3、3
が設けられている。
対向する左右1対の搬送ローラ2、2を複数有するもの
であり、各搬送ローラ2は、互いに対向する部分が縮径
され、この縮径された部分が搬送部2aになっている。
したがって、複数の縮径部2aの上側の部分がワークを
搬送するためのパスライン(搬送面)PL(図1、図4
及び図5参照)になっている。また、左右の搬送ローラ
2、2の側方には、後述するノズル30から吹き出した
オゾンがワーク上から簡単に逃げないように側板3、3
が設けられている。
【0024】さらに、左右の搬送ローラ2の間には、図
3に示すように、遠赤外線ヒータによって構成された余
熱ヒータ10及び加熱ヒータ20が設けられている。余
熱ヒータ10は、図4に示すように、ワークの余熱部1
1に設けられており、加熱ヒータ20は、図5に示すよ
うに、有機物除去部21に設けられている。これらの余
熱ヒータ10及び加熱ヒータ20は、それぞれの加熱面
10a、20aが平面状に形成されていて、これらの各
加熱面10a、20aがパスラインPLの下側にあって
同パスラインPLに近接する位置に設けられている。ま
た、各搬送ローラ2の直下位置には、余熱部11及び有
機物除去部21のぞれぞれに、ワークの側縁部を熱する
側縁部余熱ヒータ12及び側縁部加熱ヒータ22が設け
られている。側縁部余熱ヒータ12及び側縁部加熱ヒー
タ22は、それぞれ余熱ヒータ10及び加熱ヒータ20
より温度が高く設定されていて、余熱ヒータ10及び加
熱ヒータ20と同様の熱量をワークの側縁部に供給する
ようになっている。
3に示すように、遠赤外線ヒータによって構成された余
熱ヒータ10及び加熱ヒータ20が設けられている。余
熱ヒータ10は、図4に示すように、ワークの余熱部1
1に設けられており、加熱ヒータ20は、図5に示すよ
うに、有機物除去部21に設けられている。これらの余
熱ヒータ10及び加熱ヒータ20は、それぞれの加熱面
10a、20aが平面状に形成されていて、これらの各
加熱面10a、20aがパスラインPLの下側にあって
同パスラインPLに近接する位置に設けられている。ま
た、各搬送ローラ2の直下位置には、余熱部11及び有
機物除去部21のぞれぞれに、ワークの側縁部を熱する
側縁部余熱ヒータ12及び側縁部加熱ヒータ22が設け
られている。側縁部余熱ヒータ12及び側縁部加熱ヒー
タ22は、それぞれ余熱ヒータ10及び加熱ヒータ20
より温度が高く設定されていて、余熱ヒータ10及び加
熱ヒータ20と同様の熱量をワークの側縁部に供給する
ようになっている。
【0025】余熱部11には、図4に示すように、パス
ラインPLの上側に副処理室13が2つ設けられてお
り、各副処理室13には、ワークに上方からオゾンを吹
き付けるノズル30が設けられている。一方、有機物除
去部21には、加熱ヒータ20の上側全体を覆うよう
に、主処理室23が設けられており、この主処理室23
には、上述のノズル30が等間隔に3つ設けられている
とともに、各ノズル30の間に低圧水銀灯(紫外線照射
手段)40が設けられている。低圧水銀灯40は、U字
状に屈曲された蛍光管によって構成されている。
ラインPLの上側に副処理室13が2つ設けられてお
り、各副処理室13には、ワークに上方からオゾンを吹
き付けるノズル30が設けられている。一方、有機物除
去部21には、加熱ヒータ20の上側全体を覆うよう
に、主処理室23が設けられており、この主処理室23
には、上述のノズル30が等間隔に3つ設けられている
とともに、各ノズル30の間に低圧水銀灯(紫外線照射
手段)40が設けられている。低圧水銀灯40は、U字
状に屈曲された蛍光管によって構成されている。
【0026】ノズル30は、図1〜図3に示すように、
ステンレス鋼の板状部材で箱状に形成したものであっ
て、対向する搬送ローラ2、2を跨ぐよに長く形成さ
れ、底面31がパスラインPLの上側にあってワークに
近接する位置に設けられている。そして、一側面32に
は、底面31に沿うように長い長孔状の吹き出し口32
aが形成されている。この吹き出し口32aの回りに
は、冷却パイプ50が設けられている。冷却パイプ50
は、ステンレス鋼で形成されたものであり、冷却媒体と
して水が流れるようになっている。なお、冷却媒体とし
ては、水に限らず空気等であってもよいことはいうまで
もない。
ステンレス鋼の板状部材で箱状に形成したものであっ
て、対向する搬送ローラ2、2を跨ぐよに長く形成さ
れ、底面31がパスラインPLの上側にあってワークに
近接する位置に設けられている。そして、一側面32に
は、底面31に沿うように長い長孔状の吹き出し口32
aが形成されている。この吹き出し口32aの回りに
は、冷却パイプ50が設けられている。冷却パイプ50
は、ステンレス鋼で形成されたものであり、冷却媒体と
して水が流れるようになっている。なお、冷却媒体とし
ては、水に限らず空気等であってもよいことはいうまで
もない。
【0027】また、ノズル30には、その長手方向の一
端部に設けられた開口部33を介ししてオゾンが供給さ
れるようになっている。オゾンは、図示しないオゾナイ
ザによって生成されノズル30に供給されるようになっ
ている。さらに、ノズル30の一端部にはブラケット3
4が設けられており、このブラケット34にはノズル3
0を有機物除去装置のフレーム本体に固定するためのボ
ルト35が設けられている。そして、ノズル30は、ボ
ルト35を中心にして所定の角度に傾けて固定すること
が可能になっており、吹き出し口32aの向きがワーク
対して種々の角度に設定できるようになっている。通
常、吹き出し口32aの向きは、吹き出したオゾンが低
圧水銀灯40直下のワークに当たるように設定されてい
る。
端部に設けられた開口部33を介ししてオゾンが供給さ
れるようになっている。オゾンは、図示しないオゾナイ
ザによって生成されノズル30に供給されるようになっ
ている。さらに、ノズル30の一端部にはブラケット3
4が設けられており、このブラケット34にはノズル3
0を有機物除去装置のフレーム本体に固定するためのボ
ルト35が設けられている。そして、ノズル30は、ボ
ルト35を中心にして所定の角度に傾けて固定すること
が可能になっており、吹き出し口32aの向きがワーク
対して種々の角度に設定できるようになっている。通
常、吹き出し口32aの向きは、吹き出したオゾンが低
圧水銀灯40直下のワークに当たるように設定されてい
る。
【0028】低圧水銀灯40は、対向する搬送ローラ
2、2を跨がるように長く形成され、かつ、ワークの上
側にあって同ワークに近接する位置に設けられている。
この低圧水銀灯40は、主に254nm波長の紫外線を
放射するようになっており、ノズル30から噴出したオ
ゾンを分解して、ワークの表面部分で酸素原子(O)を
生成するようになっている。また、反射板41によっ
て、紫外線が効率良くワークに照射されるようになって
いる。このように構成した低圧水銀灯40及び上記ノズ
ル30は、互いに近接させて設けることがワーク上で酸
素原子を生成する上で好ましい。しかも、加熱するライ
ンが長い場合には、ローラコンベア1の搬送終了端部側
に低圧水銀灯40やノズル30を集中させて設けること
が所定の温度に安定させた状態で処理する上で好まし
い。
2、2を跨がるように長く形成され、かつ、ワークの上
側にあって同ワークに近接する位置に設けられている。
この低圧水銀灯40は、主に254nm波長の紫外線を
放射するようになっており、ノズル30から噴出したオ
ゾンを分解して、ワークの表面部分で酸素原子(O)を
生成するようになっている。また、反射板41によっ
て、紫外線が効率良くワークに照射されるようになって
いる。このように構成した低圧水銀灯40及び上記ノズ
ル30は、互いに近接させて設けることがワーク上で酸
素原子を生成する上で好ましい。しかも、加熱するライ
ンが長い場合には、ローラコンベア1の搬送終了端部側
に低圧水銀灯40やノズル30を集中させて設けること
が所定の温度に安定させた状態で処理する上で好まし
い。
【0029】上記の構成された有機物除去装置において
は、ワークの温度が余熱ヒータ10によって徐々に上昇
し、加熱ヒータ20の間で一定の温度になる。そして、
フォトレジストは、その一部が余熱段階の副処理室13
内でオゾン及び酸素原子によって酸化除去され、さらに
主処理室23でその全てが酸化除去される。副処理室1
3及び主処理室23内でノズル30から噴出するオゾン
は、ワークに当たって、同ワークに沿って流れる。そし
て、ワークの移動にともなって、ワークとワークとの間
にオゾンが流れるようなる。しかし、余熱ヒータ10や
加熱ヒータ20が、ワークのパスラインPLに接近して
設けられているので、パスラインPLから下側に流れ去
ってしまうことがなく、次に搬送されてくるワークのフ
ォトレジストの酸化除去に役立つようになる。また、側
板3が設けられていることも、オゾンをパスラインPL
上に滞留させる上で役立つ。
は、ワークの温度が余熱ヒータ10によって徐々に上昇
し、加熱ヒータ20の間で一定の温度になる。そして、
フォトレジストは、その一部が余熱段階の副処理室13
内でオゾン及び酸素原子によって酸化除去され、さらに
主処理室23でその全てが酸化除去される。副処理室1
3及び主処理室23内でノズル30から噴出するオゾン
は、ワークに当たって、同ワークに沿って流れる。そし
て、ワークの移動にともなって、ワークとワークとの間
にオゾンが流れるようなる。しかし、余熱ヒータ10や
加熱ヒータ20が、ワークのパスラインPLに接近して
設けられているので、パスラインPLから下側に流れ去
ってしまうことがなく、次に搬送されてくるワークのフ
ォトレジストの酸化除去に役立つようになる。また、側
板3が設けられていることも、オゾンをパスラインPL
上に滞留させる上で役立つ。
【0030】そして、副処理室13においても、また主
処理室23においても、余熱ヒータ10あるいは加熱ヒ
ータ20からの放射熱によって、各ヒータ10、20に
近いノズル30の吹き出し口32aの回りが熱せられる
ことになる。しかし、冷却パイプ50によって、吹き出
し口32aの回りが冷却されるので、同吹き出し口32
aの回りの温度が上昇することがなく、全体としてノズ
ル30の温度上昇が避けられる。すなわち、ノズル30
内で、熱によってオゾンが分解し、酸素原子が生成され
ることがない。このため、オゾナイザから供給されたオ
ゾンがノズル30からそのままワークに噴出することに
なる。そして、ワークの熱によってオゾンが分解して酸
素原子が生成される。したがって、酸素原子によってフ
ォトレジストの酸化除去が行われる。
処理室23においても、余熱ヒータ10あるいは加熱ヒ
ータ20からの放射熱によって、各ヒータ10、20に
近いノズル30の吹き出し口32aの回りが熱せられる
ことになる。しかし、冷却パイプ50によって、吹き出
し口32aの回りが冷却されるので、同吹き出し口32
aの回りの温度が上昇することがなく、全体としてノズ
ル30の温度上昇が避けられる。すなわち、ノズル30
内で、熱によってオゾンが分解し、酸素原子が生成され
ることがない。このため、オゾナイザから供給されたオ
ゾンがノズル30からそのままワークに噴出することに
なる。そして、ワークの熱によってオゾンが分解して酸
素原子が生成される。したがって、酸素原子によってフ
ォトレジストの酸化除去が行われる。
【0031】また、主処理室23においては、ノズル3
0から噴出するオゾンが、低圧水銀灯40の紫外線によ
って、ワーク上で酸素原子に分解するので、より多くの
酸素原子によってフォトレジストの酸化除去が行われ
る。
0から噴出するオゾンが、低圧水銀灯40の紫外線によ
って、ワーク上で酸素原子に分解するので、より多くの
酸素原子によってフォトレジストの酸化除去が行われ
る。
【0032】上記のように構成された有機物除去装置に
よれば、冷却パイプ50によってノズル30を冷却する
ことができるから、余熱ヒータ10あるいは加熱ヒータ
20の熱がノズル30に作用しても、ノズル30の温度
の上昇を防止することができる。このため、ノズル30
内で酸素原子が生成されることなく、オゾンを直接ワー
クに当てることができる。したがって、ワークの熱や、
低圧水銀灯40の紫外線によって、ワークの表面近くで
酸素原子が生成されることになり、この酸素原子によっ
て、効率良くフォトレジストを酸化除去することができ
る。
よれば、冷却パイプ50によってノズル30を冷却する
ことができるから、余熱ヒータ10あるいは加熱ヒータ
20の熱がノズル30に作用しても、ノズル30の温度
の上昇を防止することができる。このため、ノズル30
内で酸素原子が生成されることなく、オゾンを直接ワー
クに当てることができる。したがって、ワークの熱や、
低圧水銀灯40の紫外線によって、ワークの表面近くで
酸素原子が生成されることになり、この酸素原子によっ
て、効率良くフォトレジストを酸化除去することができ
る。
【0033】さらに、余熱ヒータ10や加熱ヒータ20
が、ワークのパスラインPLに接近して設けられている
ので、オゾンがパスラインPLから下側に流れ去ってし
まうことがなく、ワークの近傍にオゾンを滞留させるこ
とができる。すなわち、ワーク付近のオゾンの濃度を向
上させることができ、供給したオゾンをフォトレジスト
の酸化除去のために有効に使用することができる。しか
も、パスラインPL付近に滞留したオゾンを、次に搬送
されてくるワークのフォトレジストの酸化除去に役立た
せることができる。また、側板3が設けられていること
も、オゾンをパスラインPL近傍に滞留させる上で効果
がある。
が、ワークのパスラインPLに接近して設けられている
ので、オゾンがパスラインPLから下側に流れ去ってし
まうことがなく、ワークの近傍にオゾンを滞留させるこ
とができる。すなわち、ワーク付近のオゾンの濃度を向
上させることができ、供給したオゾンをフォトレジスト
の酸化除去のために有効に使用することができる。しか
も、パスラインPL付近に滞留したオゾンを、次に搬送
されてくるワークのフォトレジストの酸化除去に役立た
せることができる。また、側板3が設けられていること
も、オゾンをパスラインPL近傍に滞留させる上で効果
がある。
【0034】また、余熱ヒータ10や加熱ヒータ20の
加熱面10a、20bがパスラインPLに近接していな
い場合には、ワークの先端部はオゾンが噴出する中に入
るまでオゾンに当たることがなく、またワークの後端側
はワークの先端部がオゾンの噴出中に入ればワークに沿
って流れるオゾンによって覆われることになる。このた
め、ワークの先端部は、オゾンにさらされる時間が後端
側に比べて短くなり、有機物の酸化除去不足となる傾向
がある。ところが、この実施例の場合は、余熱ヒータ1
0や加熱ヒータ20の加熱面10a、20bがパスライ
ンPLに近接しているので、オゾンをパスラインPL近
傍に滞留させることができ、このオゾンの中をワークが
通過するようになる。このため、ワークの先端部にも十
分オゾンを当てることができ、ワーク先端部に有機物の
酸化除去不足が生じるのを防止することができる。すな
わち、ワーク上の有機物を均一に酸化除去することがで
きる。
加熱面10a、20bがパスラインPLに近接していな
い場合には、ワークの先端部はオゾンが噴出する中に入
るまでオゾンに当たることがなく、またワークの後端側
はワークの先端部がオゾンの噴出中に入ればワークに沿
って流れるオゾンによって覆われることになる。このた
め、ワークの先端部は、オゾンにさらされる時間が後端
側に比べて短くなり、有機物の酸化除去不足となる傾向
がある。ところが、この実施例の場合は、余熱ヒータ1
0や加熱ヒータ20の加熱面10a、20bがパスライ
ンPLに近接しているので、オゾンをパスラインPL近
傍に滞留させることができ、このオゾンの中をワークが
通過するようになる。このため、ワークの先端部にも十
分オゾンを当てることができ、ワーク先端部に有機物の
酸化除去不足が生じるのを防止することができる。すな
わち、ワーク上の有機物を均一に酸化除去することがで
きる。
【0035】次に、図6〜図9を参照してこの発明の第
2実施例を説明する。ただし、図1〜図5に示した第1
実施例と共通する要素には同一の符号を付しその説明を
簡略化する。図6〜図9に示す有機物除去装置が図1〜
図5に示す有機物除去装置と異なる点は、余熱ヒータ6
0及び加熱ヒータ70の構造が異なる点である。
2実施例を説明する。ただし、図1〜図5に示した第1
実施例と共通する要素には同一の符号を付しその説明を
簡略化する。図6〜図9に示す有機物除去装置が図1〜
図5に示す有機物除去装置と異なる点は、余熱ヒータ6
0及び加熱ヒータ70の構造が異なる点である。
【0036】すなわち、余熱ヒータ60は、図8に示す
ように、余熱部11に設けられており、加熱ヒータ70
は、図9に示すように、有機物除去部21に設けられて
いる。これらの余熱ヒータ60及び加熱ヒータ70は、
それぞれの加熱面60a、70aが平面状に形成されて
いて、これらの各加熱面60a、70aが左右の搬送ロ
ーラ2、2を跨がって、同搬送ローラ2、2の下側を覆
うように設けられている。そして、各余熱ヒータ60及
び加熱ヒータ70には、図6及び図7に示すように、左
右の搬送ローラ2、2の内法いっぱいに納まるように熱
伝達カバー80が設けられている。熱伝達カバー80
は、ステンレス鋼の板状部材で形成されたものであり、
パスラインPLに沿う平面がパスラインPLの下側にあ
って、同パスラインPLに近接する位置に設けられてい
る。
ように、余熱部11に設けられており、加熱ヒータ70
は、図9に示すように、有機物除去部21に設けられて
いる。これらの余熱ヒータ60及び加熱ヒータ70は、
それぞれの加熱面60a、70aが平面状に形成されて
いて、これらの各加熱面60a、70aが左右の搬送ロ
ーラ2、2を跨がって、同搬送ローラ2、2の下側を覆
うように設けられている。そして、各余熱ヒータ60及
び加熱ヒータ70には、図6及び図7に示すように、左
右の搬送ローラ2、2の内法いっぱいに納まるように熱
伝達カバー80が設けられている。熱伝達カバー80
は、ステンレス鋼の板状部材で形成されたものであり、
パスラインPLに沿う平面がパスラインPLの下側にあ
って、同パスラインPLに近接する位置に設けられてい
る。
【0037】上記のように構成された有機物除去装置に
おいては、余熱ヒータ60又は加熱ヒータ70の中央部
から発する熱によって熱伝達カバー80が高温に加熱さ
れ、この高温に加熱された熱伝達カバー80によって、
パスラインPLを通過するワークが加熱される。また、
余熱ヒータ60又は加熱ヒータ70の側部から発する熱
によってワークの側部が加熱される。
おいては、余熱ヒータ60又は加熱ヒータ70の中央部
から発する熱によって熱伝達カバー80が高温に加熱さ
れ、この高温に加熱された熱伝達カバー80によって、
パスラインPLを通過するワークが加熱される。また、
余熱ヒータ60又は加熱ヒータ70の側部から発する熱
によってワークの側部が加熱される。
【0038】したがって、上記のように構成された有機
物除去装置においても、ノズル30から噴出したオゾン
がワークとワークとの間から下側に逃げるのを熱伝達カ
バー80によって防止することができるから、オゾンを
ワークの近辺に効率良く滞留させることができる。その
他は第1実施例と同様の作用効果を奏する。
物除去装置においても、ノズル30から噴出したオゾン
がワークとワークとの間から下側に逃げるのを熱伝達カ
バー80によって防止することができるから、オゾンを
ワークの近辺に効率良く滞留させることができる。その
他は第1実施例と同様の作用効果を奏する。
【0039】また、上記第2実施例の変形例として、熱
伝達カバー80の変わりに、余熱ヒータ60又は加熱ヒ
ータ70の加熱面60a、70aに密着するように熱伝
達ブロックを設けるように構成してもよい。この場合に
は、加熱面60a、70bに密着する面と反対側の放熱
面をパスラインPLに近接するように設ける必要があ
る。この変形例の場合にも、第2実施例と同様の作用効
果を奏する。ただし、熱伝達ブロックの方が熱伝達カバ
ー80より熱伝達率が良いので、効率良くワークを加熱
することができる。
伝達カバー80の変わりに、余熱ヒータ60又は加熱ヒ
ータ70の加熱面60a、70aに密着するように熱伝
達ブロックを設けるように構成してもよい。この場合に
は、加熱面60a、70bに密着する面と反対側の放熱
面をパスラインPLに近接するように設ける必要があ
る。この変形例の場合にも、第2実施例と同様の作用効
果を奏する。ただし、熱伝達ブロックの方が熱伝達カバ
ー80より熱伝達率が良いので、効率良くワークを加熱
することができる。
【0040】さらに、上記第1及び第2実施例のノズル
の他の例を図10を参照して説明する。ただし、第2図
に示すノズル30と共通する構成要素には同一の符号を
付しその説明を省略する。すなわち、図10に示すノズ
ル30は、平面状の底面31の下側を覆うように、円弧
状に湾曲した外板36を設け、底板31と外板36との
間に冷却水の流路37を形成したものである。そして、
この流路37内に流入あるいは流出する水が冷却パイプ
50を通るようになっている。
の他の例を図10を参照して説明する。ただし、第2図
に示すノズル30と共通する構成要素には同一の符号を
付しその説明を省略する。すなわち、図10に示すノズ
ル30は、平面状の底面31の下側を覆うように、円弧
状に湾曲した外板36を設け、底板31と外板36との
間に冷却水の流路37を形成したものである。そして、
この流路37内に流入あるいは流出する水が冷却パイプ
50を通るようになっている。
【0041】このように構成されたノズル30において
は、冷却パイプ50及び流路37によって、特に各ヒー
タ10、20に接近していて温度上昇の激しいノズル3
0の吹き出し口32aの回りを冷却することができ、こ
れによってノズル30全体の温度上昇を抑えることがで
きる。そして、底面31全体を冷却することができるの
で、ノズル30の温度上昇をより確実に抑えることがで
きる。
は、冷却パイプ50及び流路37によって、特に各ヒー
タ10、20に接近していて温度上昇の激しいノズル3
0の吹き出し口32aの回りを冷却することができ、こ
れによってノズル30全体の温度上昇を抑えることがで
きる。そして、底面31全体を冷却することができるの
で、ノズル30の温度上昇をより確実に抑えることがで
きる。
【0042】次に、この発明の第3実施例を図11及び
図12を参照して説明する。この第3実施例は、上記第
1実施例又は第2実施例において、ワークを保持したワ
ークホルダをパスラインPL上に移動するように構成し
たものである。
図12を参照して説明する。この第3実施例は、上記第
1実施例又は第2実施例において、ワークを保持したワ
ークホルダをパスラインPL上に移動するように構成し
たものである。
【0043】ワークホルダ90は、図11に示すよう
に、矩形形状に形成したステンレス鋼の板状部材の左右
両端部を直角に屈曲させて脚部91、91を形成したも
のであり、中央の平面部92でワークを保持するように
なっている。左右の脚部91、91は、左右の搬送ロー
ラ2、2の搬送部2a、2a上に載置されるようになっ
ている。また、平面部92には、ワークをほぼ中央部に
保持するための鉤型部材93が一対設けられている。こ
の平面部92は、ワークを載置した状態において、ワー
クの周縁部から外側に広がる枠部になっている。また、
平面部92には、ワークが重なる位置に孔92aが形成
されている。
に、矩形形状に形成したステンレス鋼の板状部材の左右
両端部を直角に屈曲させて脚部91、91を形成したも
のであり、中央の平面部92でワークを保持するように
なっている。左右の脚部91、91は、左右の搬送ロー
ラ2、2の搬送部2a、2a上に載置されるようになっ
ている。また、平面部92には、ワークをほぼ中央部に
保持するための鉤型部材93が一対設けられている。こ
の平面部92は、ワークを載置した状態において、ワー
クの周縁部から外側に広がる枠部になっている。また、
平面部92には、ワークが重なる位置に孔92aが形成
されている。
【0044】また、ノズル30は、図12に示すよう
に、低圧水銀灯40を挟むように2つ設けられており、
低圧水銀灯40の直下位置に搬送方向の前後からオゾン
を噴出するようになっている。すなわち、ワークには、
搬送方向からも、また搬送方向と逆の方向からもオゾン
が吹き付けられるようになっている。その他は、上記第
1実施例又は第2実施例と同一であるので説明を省略す
る。
に、低圧水銀灯40を挟むように2つ設けられており、
低圧水銀灯40の直下位置に搬送方向の前後からオゾン
を噴出するようになっている。すなわち、ワークには、
搬送方向からも、また搬送方向と逆の方向からもオゾン
が吹き付けられるようになっている。その他は、上記第
1実施例又は第2実施例と同一であるので説明を省略す
る。
【0045】上記のように構成された有機物除去装置に
おいては、ワークホルダ90がワークを保持した状態で
パスラインPLに沿って移動することになる。この際、
ワークがオゾン噴出中に入らなくても、ワークホルダ9
0の一部がオゾン噴出中に入れば、ワークホルダ90の
平面部92に沿って、オゾンがワーク側に流れてくるの
で、ワークの先端部にも十分オゾンを当てることがで
き、ワーク先端部のフォトレジストの酸化除去不足を改
善することができる。すなわち、ワーク上のフォトレジ
ストを均一に酸化除去することができる。その他、上記
第1実施例及び第2実施例と同様の作用効果を奏する。
また、ノズル30から噴出したオゾンがワークの搬送方
向からも、また搬送方向の逆方向からも、ワークに当た
るので、ワークの先後に関係なく、ワーク上に均一にオ
ゾンを吹き付けることができる。
おいては、ワークホルダ90がワークを保持した状態で
パスラインPLに沿って移動することになる。この際、
ワークがオゾン噴出中に入らなくても、ワークホルダ9
0の一部がオゾン噴出中に入れば、ワークホルダ90の
平面部92に沿って、オゾンがワーク側に流れてくるの
で、ワークの先端部にも十分オゾンを当てることがで
き、ワーク先端部のフォトレジストの酸化除去不足を改
善することができる。すなわち、ワーク上のフォトレジ
ストを均一に酸化除去することができる。その他、上記
第1実施例及び第2実施例と同様の作用効果を奏する。
また、ノズル30から噴出したオゾンがワークの搬送方
向からも、また搬送方向の逆方向からも、ワークに当た
るので、ワークの先後に関係なく、ワーク上に均一にオ
ゾンを吹き付けることができる。
【0046】なお、第3実施例においては、ワークホル
ダ90を設けているから、余熱ヒータ10や加熱ヒータ
20をパスラインPLに接近させたり、熱伝達カバー8
0や熱伝達ブロックをパスラインPLに接近させたりす
ることによる作用効果を合わせ持っている。したがっ
て、ワークホルダ90を設けた場合には、余熱ヒータ1
0や加熱ヒータ20をパスラインPLに接近させたり、
熱伝達カバー80や熱伝達ブロックをパスラインPLに
接近させたりしなくてもよいことはいうまでもない。
ダ90を設けているから、余熱ヒータ10や加熱ヒータ
20をパスラインPLに接近させたり、熱伝達カバー8
0や熱伝達ブロックをパスラインPLに接近させたりす
ることによる作用効果を合わせ持っている。したがっ
て、ワークホルダ90を設けた場合には、余熱ヒータ1
0や加熱ヒータ20をパスラインPLに接近させたり、
熱伝達カバー80や熱伝達ブロックをパスラインPLに
接近させたりしなくてもよいことはいうまでもない。
【0047】次に、この発明の第4実施例を図13を参
照して説明する。ただし、図6〜図9に示した第2実施
例と共通する要素には同一の符号を付しその説明を簡略
化する。図13に示す有機物除去装置が図6〜図9に示
す有機物除去装置と異なる主な点は、熱伝達カバー80
が設けられておらず、主処理室23内に、低圧水銀灯4
0を挟んで第1のノズル30Aと第2のノズル30Bが
設けられている点である。ただし、第1及び第2のノズ
ル30A、30Bは、図2又は図10に示すノズル30
と同一であるから、その詳細な説明は省略する。
照して説明する。ただし、図6〜図9に示した第2実施
例と共通する要素には同一の符号を付しその説明を簡略
化する。図13に示す有機物除去装置が図6〜図9に示
す有機物除去装置と異なる主な点は、熱伝達カバー80
が設けられておらず、主処理室23内に、低圧水銀灯4
0を挟んで第1のノズル30Aと第2のノズル30Bが
設けられている点である。ただし、第1及び第2のノズ
ル30A、30Bは、図2又は図10に示すノズル30
と同一であるから、その詳細な説明は省略する。
【0048】すなわち、第1のノズル30Aは、低圧水
銀灯40の直下位置にあるワークに向けて、ローラコン
ベア1の搬送方向からオゾンを噴出するようになってい
る。第2のノズル30Bは、低圧水銀灯40の直下位置
にあるワークに向けて、ローラコンベア1の反搬送方向
からオゾンを噴出するようになっている。これらの第1
のノズル30A及び第2のノズル30Bは、低圧水銀灯
40に近接して設けられている。また、ワーク供給位置
Aには、ローラコンベア1上にワークを供給するための
蓋23Aが設けられており、ワーク取出位置Bには、ロ
ーラコンベア1上からワークを取り出すための蓋23B
が設けられている。
銀灯40の直下位置にあるワークに向けて、ローラコン
ベア1の搬送方向からオゾンを噴出するようになってい
る。第2のノズル30Bは、低圧水銀灯40の直下位置
にあるワークに向けて、ローラコンベア1の反搬送方向
からオゾンを噴出するようになっている。これらの第1
のノズル30A及び第2のノズル30Bは、低圧水銀灯
40に近接して設けられている。また、ワーク供給位置
Aには、ローラコンベア1上にワークを供給するための
蓋23Aが設けられており、ワーク取出位置Bには、ロ
ーラコンベア1上からワークを取り出すための蓋23B
が設けられている。
【0049】上記のように構成された有機物除去装置に
おいては、まず蓋23Aを開いて、ワークをローラコン
ベア1上に供給する。この状態では第1及び第2のノズ
ル30A、30Bからオゾンが噴出していない。そし
て、ワークが第1のノズル30Aに達すると、図示しな
いセンサが働いて、第1及び第2のノズル30A、30
Bからオゾンが噴出する。そうすると、まず第1のノズ
ル30Aから噴出したオゾンがワークの先端側に当た
り、さらにワークの後端側にも当たるようになる。この
際、オゾンはワークに沿ってワークの後端側から先端側
に流れる。このため、ワークの先端側には、オゾンの噴
流がワークに当たっている限り、オゾンに晒された状態
になる。すなわち、ワークの先端側は、十分にオゾンに
晒らされた状態になる。しかし、ワークの後端側は、オ
ゾンの噴流内に入るまでオゾンが直接当たることがない
から、十分にオゾンに晒されることがない。
おいては、まず蓋23Aを開いて、ワークをローラコン
ベア1上に供給する。この状態では第1及び第2のノズ
ル30A、30Bからオゾンが噴出していない。そし
て、ワークが第1のノズル30Aに達すると、図示しな
いセンサが働いて、第1及び第2のノズル30A、30
Bからオゾンが噴出する。そうすると、まず第1のノズ
ル30Aから噴出したオゾンがワークの先端側に当た
り、さらにワークの後端側にも当たるようになる。この
際、オゾンはワークに沿ってワークの後端側から先端側
に流れる。このため、ワークの先端側には、オゾンの噴
流がワークに当たっている限り、オゾンに晒された状態
になる。すなわち、ワークの先端側は、十分にオゾンに
晒らされた状態になる。しかし、ワークの後端側は、オ
ゾンの噴流内に入るまでオゾンが直接当たることがない
から、十分にオゾンに晒されることがない。
【0050】そして、ワークの移動とともに、今度は第
2のノズル30Bか噴出するオゾンがワークの先端側に
当たり始める。そして、ワークの先端側に当たったオゾ
ンは、ワークに沿って後端側に流れていく。このため、
ワークの後端側は、十分にオゾンに晒されたた状態にな
る。しかし、ワークの先端側は、オゾンの噴流内を過ぎ
るとオゾンが直接当たらなくなるので、十分にオゾンに
晒されることがない。そして、ワークが第2のノズル3
0Bから搬送方向に去ると、第1及び第2のノズル30
A、30Bからのオゾンの噴出が停止する。
2のノズル30Bか噴出するオゾンがワークの先端側に
当たり始める。そして、ワークの先端側に当たったオゾ
ンは、ワークに沿って後端側に流れていく。このため、
ワークの後端側は、十分にオゾンに晒されたた状態にな
る。しかし、ワークの先端側は、オゾンの噴流内を過ぎ
るとオゾンが直接当たらなくなるので、十分にオゾンに
晒されることがない。そして、ワークが第2のノズル3
0Bから搬送方向に去ると、第1及び第2のノズル30
A、30Bからのオゾンの噴出が停止する。
【0051】上記のように構成された有機物除去装置に
よれば、第1のノズル30A及び第2のノズル30Bを
設けているから、ワークの先端側も後端側も十分にオゾ
ンに晒すことができる。このため、熱伝達カバー80が
なくてもオゾンを有機物の酸化除去のために有効に使用
することのでき、ワーク上の有機物を均一にかつ十分に
除去することができる。その他は、第1及び第2実施例
と同様の作用効果を奏する。
よれば、第1のノズル30A及び第2のノズル30Bを
設けているから、ワークの先端側も後端側も十分にオゾ
ンに晒すことができる。このため、熱伝達カバー80が
なくてもオゾンを有機物の酸化除去のために有効に使用
することのでき、ワーク上の有機物を均一にかつ十分に
除去することができる。その他は、第1及び第2実施例
と同様の作用効果を奏する。
【0052】次に、上記第4実施例の有機物除去装置に
よる実験例を図14を参照して説明する。実験条件は次
の通りである。
よる実験例を図14を参照して説明する。実験条件は次
の通りである。
【0053】a.レジスト(フォトレジスト)は、OF
PR−800(商品名)東京応化(株)製を使用。b.
レジストの厚さは、1.2μm。c.レジストの付着し
た基板(ワーク)の加熱温度は、摂氏250度。d.ロ
ーラコンベア1の搬送速度は、50mm/min。e.
オゾン濃度は、140g/m3 。f.オゾン噴出量は、
40l/min。ただし、ノズル30が2つある場合に
は、各ノズル30から20l/minのオゾンを噴出
し、ノズル30が1つの場合には、1つのノズル30か
ら40l/minのオゾンを噴出する。g.低圧水銀灯
40は、500Wを1灯(U字状)である。
PR−800(商品名)東京応化(株)製を使用。b.
レジストの厚さは、1.2μm。c.レジストの付着し
た基板(ワーク)の加熱温度は、摂氏250度。d.ロ
ーラコンベア1の搬送速度は、50mm/min。e.
オゾン濃度は、140g/m3 。f.オゾン噴出量は、
40l/min。ただし、ノズル30が2つある場合に
は、各ノズル30から20l/minのオゾンを噴出
し、ノズル30が1つの場合には、1つのノズル30か
ら40l/minのオゾンを噴出する。g.低圧水銀灯
40は、500Wを1灯(U字状)である。
【0054】実験結果は、図14に示す通りである。す
なわち、レジスト膜減量は、本第4実施例100が0.
75μmであり、第1の比較例101が0.65μmで
あり、第2の比較例102が0.4μmである。したが
って、本第4実施例101の有機物除去装置が最も効率
良くレジストを除去することができる。ただし、第1の
比較例101は、オゾンを搬送方向に噴出する第2のノ
ズル30Aを設けたものであり、この点で本第4実施例
100と異なっている。また、第2の比較例102は、
第1のノズル30Aのみを設けたものであり、この点で
本第4実施例100と異なっている。
なわち、レジスト膜減量は、本第4実施例100が0.
75μmであり、第1の比較例101が0.65μmで
あり、第2の比較例102が0.4μmである。したが
って、本第4実施例101の有機物除去装置が最も効率
良くレジストを除去することができる。ただし、第1の
比較例101は、オゾンを搬送方向に噴出する第2のノ
ズル30Aを設けたものであり、この点で本第4実施例
100と異なっている。また、第2の比較例102は、
第1のノズル30Aのみを設けたものであり、この点で
本第4実施例100と異なっている。
【0055】次に、この発明の第5実施例を図15及び
図16を参照して説明する。ただし、図6〜図9に示し
た第2実施例、及び図13に示した第4実施例と共通す
る要素には同一の符号を付しその説明を簡略化する。図
15〜図16に示す有機物除去装置が図6〜図9図及び
図13に示す有機物除去装置と異なる主な点は、熱伝達
カバー80が第1のノズル30Aと第2のノズル30B
との間にのみ設けられている点である。
図16を参照して説明する。ただし、図6〜図9に示し
た第2実施例、及び図13に示した第4実施例と共通す
る要素には同一の符号を付しその説明を簡略化する。図
15〜図16に示す有機物除去装置が図6〜図9図及び
図13に示す有機物除去装置と異なる主な点は、熱伝達
カバー80が第1のノズル30Aと第2のノズル30B
との間にのみ設けられている点である。
【0056】すなわち、熱伝達カバー80は、第1のノ
ズル30Aと第2のノズル30Bとの間に、加熱ヒータ
70から少し浮いた状態で設けられている。その他は、
第2実施例の熱伝達カバー80と同様の構成になってい
るので説明を省略する。
ズル30Aと第2のノズル30Bとの間に、加熱ヒータ
70から少し浮いた状態で設けられている。その他は、
第2実施例の熱伝達カバー80と同様の構成になってい
るので説明を省略する。
【0057】上記のように構成された有機物除去装置に
おいては、第1のノズル30Aに達するまでに、加熱ヒ
ータ70によって、ワークが十分加熱される。そして、
第1のノズル30Aと第2のノズル30Bとの間では、
さらに低圧水銀灯40から放射される熱が加わり、ワー
クがさらに加熱されることになる。しかし、熱伝達ヒー
タ80によって、加熱ヒータ70からワークに達する熱
がある程度遮られるので、ワークが高温になり過ぎるこ
とがない。その他、第2実施例の熱伝達ヒータ80と同
様の作用効果を奏する。
おいては、第1のノズル30Aに達するまでに、加熱ヒ
ータ70によって、ワークが十分加熱される。そして、
第1のノズル30Aと第2のノズル30Bとの間では、
さらに低圧水銀灯40から放射される熱が加わり、ワー
クがさらに加熱されることになる。しかし、熱伝達ヒー
タ80によって、加熱ヒータ70からワークに達する熱
がある程度遮られるので、ワークが高温になり過ぎるこ
とがない。その他、第2実施例の熱伝達ヒータ80と同
様の作用効果を奏する。
【0058】
【発明の効果】この発明によれば、ワークホルダを有す
るものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンがワークホ
ルダの枠部に当たって、ワークの回りに滞留するように
なるので、ワーク及びその周囲でオゾン濃度を上昇させ
ることができ、ワーク上の有機物を効率良く酸化除去す
ることができる。すなわち、供給したオゾンを有機物の
酸化除去のために有効に使用することができる。
るものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンがワークホ
ルダの枠部に当たって、ワークの回りに滞留するように
なるので、ワーク及びその周囲でオゾン濃度を上昇させ
ることができ、ワーク上の有機物を効率良く酸化除去す
ることができる。すなわち、供給したオゾンを有機物の
酸化除去のために有効に使用することができる。
【0059】また、ワークホルダを搬送する搬送手段を
有するものにあっては、ワークホルダがオゾン噴出中に
入れば、ワークがオゾン噴出中に入らなくても、ワーク
ホルダの枠部に沿って、オゾンがワークに流れてくるの
で、ワークの先端部にも十分オゾンを当てることがで
き、ワーク先端部の有機物の酸化除去不足の改善を図る
ことができる。すなわち、ワーク上の有機物を均一に酸
化除去することができる。
有するものにあっては、ワークホルダがオゾン噴出中に
入れば、ワークがオゾン噴出中に入らなくても、ワーク
ホルダの枠部に沿って、オゾンがワークに流れてくるの
で、ワークの先端部にも十分オゾンを当てることがで
き、ワーク先端部の有機物の酸化除去不足の改善を図る
ことができる。すなわち、ワーク上の有機物を均一に酸
化除去することができる。
【0060】一方、加熱ヒータをワークの搬送面に接近
させたものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンが同ワ
ークを通り過ぎた直後に、加熱ヒータに当たるので、オ
ゾンをワークの回りに滞留させることができる。このた
め、ワーク及びその周囲でオゾン濃度を上昇させること
ができ、ワーク上の有機物を効率良く酸化除去すること
ができる。すなわち、供給したオゾンを有機物の酸化除
去のために有効に使用することができる。しかも、加熱
ヒータに当たって滞留するオゾンの中をワークが搬送手
段によって移動するので、ワークの先端部にも十分オゾ
ンを当てることができ、ワーク先端部の有機物の酸化除
去不足が生じるのを防止することができる。
させたものは、ワークの外側に吹き付けたオゾンが同ワ
ークを通り過ぎた直後に、加熱ヒータに当たるので、オ
ゾンをワークの回りに滞留させることができる。このた
め、ワーク及びその周囲でオゾン濃度を上昇させること
ができ、ワーク上の有機物を効率良く酸化除去すること
ができる。すなわち、供給したオゾンを有機物の酸化除
去のために有効に使用することができる。しかも、加熱
ヒータに当たって滞留するオゾンの中をワークが搬送手
段によって移動するので、ワークの先端部にも十分オゾ
ンを当てることができ、ワーク先端部の有機物の酸化除
去不足が生じるのを防止することができる。
【0061】さらに、熱伝達カバーや熱伝達ブロックを
搬送手段の搬送面に近接させたものも、上記と同様の作
用効果を奏する。
搬送手段の搬送面に近接させたものも、上記と同様の作
用効果を奏する。
【0062】また、オゾンが吹き付けられているワーク
に紫外線を照射する紫外線照射手段を有し、オゾンが吹
き付けられている加熱ヒータの部分に熱伝達カバーを有
するものにあっては、加熱カバーのない部分でワークを
十分加熱し、紫外線照射手段を有する部分でワークの温
度が高温になり過ぎるのを防止することができる。すな
わち、紫外線照射手段を有する部分では、紫外線照射手
段からの熱も加わるので、ワークが高温になりすぎる傾
向にあるが、熱伝達カバーが加熱ヒータからの熱をある
程度遮るので、ワークが高温になり過ぎるのを防止する
ことができる。ただし、その他の部分では、熱伝達カバ
ーがないので、ワークを十分に加熱することができる。
に紫外線を照射する紫外線照射手段を有し、オゾンが吹
き付けられている加熱ヒータの部分に熱伝達カバーを有
するものにあっては、加熱カバーのない部分でワークを
十分加熱し、紫外線照射手段を有する部分でワークの温
度が高温になり過ぎるのを防止することができる。すな
わち、紫外線照射手段を有する部分では、紫外線照射手
段からの熱も加わるので、ワークが高温になりすぎる傾
向にあるが、熱伝達カバーが加熱ヒータからの熱をある
程度遮るので、ワークが高温になり過ぎるのを防止する
ことができる。ただし、その他の部分では、熱伝達カバ
ーがないので、ワークを十分に加熱することができる。
【0063】さらに、第1のノズルと第2のノズルを設
けたものは、搬送方向からも反搬送方向からも、ワーク
にオゾンが吹き付けられることになる。そして、搬送方
向から吹き付けるオゾンは、ワークに沿ってその後端側
から先端側に向けて流れ、反搬送方向から吹き付けるオ
ゾンは、ワークに沿ってその先端側から後端側に向けて
流れる。このため、ワークの先端側も後端側も、長時
間、オゾンが当たるようになり、有機物を均一にかつ十
分に除去することができる。
けたものは、搬送方向からも反搬送方向からも、ワーク
にオゾンが吹き付けられることになる。そして、搬送方
向から吹き付けるオゾンは、ワークに沿ってその後端側
から先端側に向けて流れ、反搬送方向から吹き付けるオ
ゾンは、ワークに沿ってその先端側から後端側に向けて
流れる。このため、ワークの先端側も後端側も、長時
間、オゾンが当たるようになり、有機物を均一にかつ十
分に除去することができる。
【図1】この発明の第1実施例として示した有機物除去
装置の要部説明図。
装置の要部説明図。
【図2】同有機物除去装置のノズルの斜視説明図。
【図3】図1のIII −III 線に沿う断面説明図。
【図4】同有機物除去装置の全体構成のうち特に余熱部
を示す側面説明図。
を示す側面説明図。
【図5】同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物
除去部を示す側面説明図。
除去部を示す側面説明図。
【図6】この発明の第2実施例として示した有機物除去
装置の要部説明図。
装置の要部説明図。
【図7】図6のVII −VII 線に沿う断面説明図。
【図8】同有機物除去装置の全体構成のうち特に余熱部
を示す側面説明図。
を示す側面説明図。
【図9】同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物
除去部を示す側面説明図。
除去部を示す側面説明図。
【図10】第1及び第2実施例のノズルの他の例を示す
斜視説明図。
斜視説明図。
【図11】この発明の第3実施例として示した有機物除
去装置のワークホルダを示す斜視説明図。
去装置のワークホルダを示す斜視説明図。
【図12】同有機物除去装置の有機物除去部を示す斜視
説明図。
説明図。
【図13】本発明の第4実施例として示した有機物除去
装置の側面説明図。
装置の側面説明図。
【図14】同有機物除去装置の実験結果を示した説明
図。
図。
【図15】本発明の第5実施例として示した有機物除去
装置の側面説明図。
装置の側面説明図。
【図16】図15のK−K線に沿う断面説明図。
1 搬送装置(ローラコンベア) 20 加熱ヒータ 20a 加熱面 30 ノズル 30A 第1のノズル 30B 第2のノズル 40 紫外線照射手段(低圧水銀灯) 80 熱伝達カバー 90 ワークホルダ 92 枠部(平面部) PL 搬送面(パスライン)
Claims (10)
- 【請求項1】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、 前記ワークの周縁部から外側に広がる枠部を有するワー
クホルダを設けたことを特徴とする有機物除去装置。 - 【請求項2】 ワークホルダを搬送する搬送手段と、こ
の搬送手段によってワークホルダと共に搬送されてきた
ワークを加熱する加熱ヒータと、この加熱ヒータで加熱
されたワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具備した
ことを特徴とする請求項1記載の有機物除去装置。 - 【請求項3】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、 前記ワークを搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱す
る加熱ヒータと、この加熱ヒータで加熱されたワークに
オゾンを吹き付けるノズルとを具備してなり、前記加熱
ヒータは、その加熱面が前記搬送手段の搬送面に近接す
るように設けられていることを特徴とする有機物除去装
置。 - 【請求項4】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、 前記ワークを搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱す
る加熱ヒータと、この加熱ヒータの加熱面を覆い、加熱
面からの熱によって高温になる熱伝達カバーと、この熱
伝達カバーで加熱されたワークにオゾンを吹き付けるノ
ズルとを具備してなり、前記熱伝達カバーは、前記搬送
手段の搬送面に近接するように設けられていることを特
徴とする有機物除去装置。 - 【請求項5】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、 前記ワークを搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱す
る加熱ヒータと、この加熱ヒータの加熱面に密着するよ
うに設けられた熱伝達ブロックと、この熱伝達ブロック
で加熱されたワークにオゾンを吹き付けるノズルとを具
備してなり、前記熱伝達ブロックは、前記加熱面に密着
する面と反対側の放熱面が前記搬送手段の搬送面に近接
するように設けられていることを特徴とする有機物除去
装置。 - 【請求項6】 ノズルからオゾンが吹き付けられている
ワークに紫外線を照射する紫外線照射手段を設けたこと
を特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4
又は請求項5記載の有機物除去装置。 - 【請求項7】 ノズルからオゾンが吹き付けられている
ワークに紫外線を照射する紫外線照射手段を設けてな
り、熱伝達カバーは、前記紫外線照射手段から紫外線が
照射される加熱ヒータの部分に設けられていることを特
徴とする請求項4記載の有機物除去装置。 - 【請求項8】 ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、 前記ワークを搬送する搬送手段と、前記ワークを加熱す
る加熱ヒータと、この加熱ヒータで加熱されたワークに
オゾンを吹き付けるノズルとを具備してなり、前記ノズ
ルは、前記搬送手段の搬送方向からワークにオゾンを吹
き付ける第1のノズルと、反搬送方向からワークにオゾ
ンを吹き付ける第2のノズルとにより構成されているこ
とを特徴とする有機物除去装置。 - 【請求項9】 ワークにオゾンを吹き付けるノズルは、
搬送手段の搬送方向からワークにオゾンを吹き付ける第
1のノズルと、反搬送方向からワークにオゾンを吹き付
ける第2のノズルとにより構成されていることを特徴と
する請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、請求項
5、請求項6又は請求項7記載の有機物除去装置。 - 【請求項10】 第1のノズル及び第2のノズルの間
に、ワークに紫外線を照射する紫外線照射手段を設けた
ことを特徴とする請求項8又は請求項9記載の有機物除
去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4262358A JPH06140369A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-30 | 有機物除去装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24218892 | 1992-09-10 | ||
| JP4-242188 | 1992-09-10 | ||
| JP4262358A JPH06140369A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-30 | 有機物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06140369A true JPH06140369A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=26535653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4262358A Pending JPH06140369A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-30 | 有機物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06140369A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010150315A1 (ja) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | パイオニア株式会社 | 光ディスクの製造方法および光ディスクの製造ライン |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4262358A patent/JPH06140369A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010150315A1 (ja) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | パイオニア株式会社 | 光ディスクの製造方法および光ディスクの製造ライン |
| JPWO2010150315A1 (ja) * | 2009-06-25 | 2012-12-06 | パイオニア株式会社 | 光ディスクの製造方法および光ディスクの製造ライン |
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