JPH06150828A - プラズマディスプレイパネルの障壁構造 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁構造Info
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- JPH06150828A JPH06150828A JP4316099A JP31609992A JPH06150828A JP H06150828 A JPH06150828 A JP H06150828A JP 4316099 A JP4316099 A JP 4316099A JP 31609992 A JP31609992 A JP 31609992A JP H06150828 A JPH06150828 A JP H06150828A
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- plasma display
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 障壁端部の跳ね上がり現象を防止し、歩留り
のよいプラズマディスプレイパネルの障壁構造を提供す
る。 【構成】 一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該
絶縁板の内側に相対向して交差するアノード電極群とカ
ソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフォトリソグ
ラフィ法による障壁を形成したプラズマディスプレイパ
ネルにおいて、該障壁を多層構造とすると共に、該障壁
の上層と下層との組成を変え、かつ焼成時における該下
層と前記絶縁板との密着性を強くした構成よりなる。
のよいプラズマディスプレイパネルの障壁構造を提供す
る。 【構成】 一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配し、該
絶縁板の内側に相対向して交差するアノード電極群とカ
ソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフォトリソグ
ラフィ法による障壁を形成したプラズマディスプレイパ
ネルにおいて、該障壁を多層構造とすると共に、該障壁
の上層と下層との組成を変え、かつ焼成時における該下
層と前記絶縁板との密着性を強くした構成よりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネルの障壁構造に係り、より詳細には、障壁の端部の
跳ね上がりを防止できるようにしたプラズマディスプレ
イパネルの障壁構造に関する。
パネルの障壁構造に係り、より詳細には、障壁の端部の
跳ね上がりを防止できるようにしたプラズマディスプレ
イパネルの障壁構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネルは、アノー
ド電極３が形成される前面板１と、カソード電極４が形
成される背面板２の二枚の絶縁板１，２の内側に障壁５
が形成された構成よりなる（図１参照）。すなわち、直
交するカソード電極群とアノード電極群と、該電極間に
光のクロストークを防ぎ、画面のコントラストを作るた
めの黒色の障壁５を設け、該電極内部に希ガスを封入
し、絶縁板１，２に形成された両電極３，４の交差部が
１つの画素に対応する構成とされている。
ド電極３が形成される前面板１と、カソード電極４が形
成される背面板２の二枚の絶縁板１，２の内側に障壁５
が形成された構成よりなる（図１参照）。すなわち、直
交するカソード電極群とアノード電極群と、該電極間に
光のクロストークを防ぎ、画面のコントラストを作るた
めの黒色の障壁５を設け、該電極内部に希ガスを封入
し、絶縁板１，２に形成された両電極３，４の交差部が
１つの画素に対応する構成とされている。
【０００３】そして、このプラズマディスプレイパネル
は、放電空間中で放電時に気体ガス原子を電子により励
起させ、この励起された原子が基底状態に戻ることによ
り光を発生させている。ところで、この励起状態にある
原子の寿命は、約１０-8ｓｅｃ程度であるが、特定のも
のは、１〜１０ｍｓｅｃ程度の寿命をもつものもある。
そして、後者は、放電中にゆっくり拡散し、障壁等の構
造物に衝突して、そこで再結合し消滅する。長寿命の励
起された原子は、電子の衝突により容易に電離され、イ
オン電子を生成するため、空間中にこれが多数存在する
ほど電離が起こり易くなり、放電を安定させ、また放電
電圧を低下するのに効果がある。このため、放電空間は
広いほど有利となるため、画素面積を小さくし、かつ放
電空間を広くする工夫が期待されている。
は、放電空間中で放電時に気体ガス原子を電子により励
起させ、この励起された原子が基底状態に戻ることによ
り光を発生させている。ところで、この励起状態にある
原子の寿命は、約１０-8ｓｅｃ程度であるが、特定のも
のは、１〜１０ｍｓｅｃ程度の寿命をもつものもある。
そして、後者は、放電中にゆっくり拡散し、障壁等の構
造物に衝突して、そこで再結合し消滅する。長寿命の励
起された原子は、電子の衝突により容易に電離され、イ
オン電子を生成するため、空間中にこれが多数存在する
ほど電離が起こり易くなり、放電を安定させ、また放電
電圧を低下するのに効果がある。このため、放電空間は
広いほど有利となるため、画素面積を小さくし、かつ放
電空間を広くする工夫が期待されている。
【０００４】ところで、このプラズマディスプレイパネ
ルにおいて、その放電空間を形成する障壁は、近年、フ
ォトリソグラフィ法を用いて形成されている。このフォ
トリソグラフィ法は、光に感じる物質を絶縁板上に塗布
して、該光のエネルギーを遮蔽するパターンを前もって
準備し、該遮蔽マスクを通過したエネルギーを試料上に
照射してパターンを形成する方法である。そして、この
方法によれば、１００μｍ以下のライン幅およびライン
間隔をもち、かつ１００μｍ以上の障壁高さを有するプ
ラズマディスプレイパネルを得ることができる。
ルにおいて、その放電空間を形成する障壁は、近年、フ
ォトリソグラフィ法を用いて形成されている。このフォ
トリソグラフィ法は、光に感じる物質を絶縁板上に塗布
して、該光のエネルギーを遮蔽するパターンを前もって
準備し、該遮蔽マスクを通過したエネルギーを試料上に
照射してパターンを形成する方法である。そして、この
方法によれば、１００μｍ以下のライン幅およびライン
間隔をもち、かつ１００μｍ以上の障壁高さを有するプ
ラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【０００５】そして、このフォトリソグラフィ法による
プラズマディスプレイパネルの障壁形成法は、具体的に
は、 セラミック粉末に紫外線硬化樹脂を混合した障壁形
成のためのスリップをアノード電極の形成された絶縁板
上にコーティングする工程、 該コーティング層の障壁形成に必要な部分のみを露
光マスクで露光し硬化させる工程、 の工程を一回ないし数回に繰り返し、必要高さ
の形成層を得る工程、 以上の形成層を現像してパターニングし非露光部を
溶出する工程、 紫外線硬化された部分を焼成する工程、 の五工程を経て障壁を形成する構成よりなる。
プラズマディスプレイパネルの障壁形成法は、具体的に
は、 セラミック粉末に紫外線硬化樹脂を混合した障壁形
成のためのスリップをアノード電極の形成された絶縁板
上にコーティングする工程、 該コーティング層の障壁形成に必要な部分のみを露
光マスクで露光し硬化させる工程、 の工程を一回ないし数回に繰り返し、必要高さ
の形成層を得る工程、 以上の形成層を現像してパターニングし非露光部を
溶出する工程、 紫外線硬化された部分を焼成する工程、 の五工程を経て障壁を形成する構成よりなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このフォトリ
ソグラフィ法による障壁形成法の場合、次のような課題
がある。すなわち、 障壁パターンは、ライン幅が細いため基板ガラスと
の密着力（密着面積）が弱く、該障壁の焼成の際に、該
障壁ラインの長さ方向の収縮に耐えられず、パターン端
部が跳ね上がるという現象が発生する場合がある。 該パターンは、パネル封着時に欠落し、該欠落した
パターンがパネル上に残り、画素をつぶしてしまい、歩
留りが低下する。 等の課題がある。
ソグラフィ法による障壁形成法の場合、次のような課題
がある。すなわち、 障壁パターンは、ライン幅が細いため基板ガラスと
の密着力（密着面積）が弱く、該障壁の焼成の際に、該
障壁ラインの長さ方向の収縮に耐えられず、パターン端
部が跳ね上がるという現象が発生する場合がある。 該パターンは、パネル封着時に欠落し、該欠落した
パターンがパネル上に残り、画素をつぶしてしまい、歩
留りが低下する。 等の課題がある。
【０００７】本発明は、上述した課題に対処して創案し
たものであって、その目的とする処は、障壁端部の跳ね
上がり現象を防止し、歩留りのよいプラズマディスプレ
イパネルの障壁構造を提供することにある。
たものであって、その目的とする処は、障壁端部の跳ね
上がり現象を防止し、歩留りのよいプラズマディスプレ
イパネルの障壁構造を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そして、上記目的を達成
するための手段としての本発明のプラズマディスプレイ
パネルの障壁構造は、一定の空間を隔てて一対の絶縁板
を配し、該絶縁板の内側に相対向して交差するアノード
電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフ
ォトリソグラフィ法による障壁を形成したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、該障壁を多層構造とすると共
に、該障壁の上層と下層との組成を変え、かつ焼成時に
おける該下層と前記絶縁板との密着性を強くした構成と
している。
するための手段としての本発明のプラズマディスプレイ
パネルの障壁構造は、一定の空間を隔てて一対の絶縁板
を配し、該絶縁板の内側に相対向して交差するアノード
電極群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフ
ォトリソグラフィ法による障壁を形成したプラズマディ
スプレイパネルにおいて、該障壁を多層構造とすると共
に、該障壁の上層と下層との組成を変え、かつ焼成時に
おける該下層と前記絶縁板との密着性を強くした構成と
している。
【０００９】また、本発明の他のプラズマディスプレイ
パネルの障壁構造は、前記発明において、障壁の上層と
下層の含有ガラス組成が異なり、かつ該下層の含有ガラ
ス組成の屈伏点が、上層の含有ガラス組成の屈伏点より
低く、該上層と下層の含有ガラス組成の屈伏点の差が、
１〜１００℃である構成、更に障壁のガラス組成が、下
層より上層に向けて段階的に変化した多層構造とした構
成としている。
パネルの障壁構造は、前記発明において、障壁の上層と
下層の含有ガラス組成が異なり、かつ該下層の含有ガラ
ス組成の屈伏点が、上層の含有ガラス組成の屈伏点より
低く、該上層と下層の含有ガラス組成の屈伏点の差が、
１〜１００℃である構成、更に障壁のガラス組成が、下
層より上層に向けて段階的に変化した多層構造とした構
成としている。
【００１０】
【作用】本発明のプラズマディスプレイパネルの障壁構
造は、アノード電極群とカソード電極群間に形成される
障壁を多層構造とし、かつ該障壁の上層と下層との組成
を変え、かつ焼成時における該下層と絶縁板との密着性
を強くしているので、該障壁の焼成の際、該上層がフリ
ーに収縮するものの、その下層が上層の収縮を規制し、
その跳ね上がりを抑制できるように作用する。
造は、アノード電極群とカソード電極群間に形成される
障壁を多層構造とし、かつ該障壁の上層と下層との組成
を変え、かつ焼成時における該下層と絶縁板との密着性
を強くしているので、該障壁の焼成の際、該上層がフリ
ーに収縮するものの、その下層が上層の収縮を規制し、
その跳ね上がりを抑制できるように作用する。
【００１１】また、障壁の下層の含有ガラスの屈伏点
を、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成した場
合は、焼成時の流動性を向上させ、該障壁が自重によ
り、絶縁板側に垂れ、該絶縁板と下層との密着性が強く
なって、その跳ね上がりを抑制できるように作用する。
を、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成した場
合は、焼成時の流動性を向上させ、該障壁が自重によ
り、絶縁板側に垂れ、該絶縁板と下層との密着性が強く
なって、その跳ね上がりを抑制できるように作用する。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照しながら、本発明を具体化
した実施例について説明する。ここに、図１〜図３は、
本発明の一実施例を示し、図１はプラズマディスプレイ
パネルの基本単位を示す模式図、図２はフォトリソグラ
フィ法によって障壁形成を行う工程を説明するための説
明図、図３は本実施例の障壁構造と、従来例の障壁構造
の相違を説明するための障壁端部の斜視図である。
した実施例について説明する。ここに、図１〜図３は、
本発明の一実施例を示し、図１はプラズマディスプレイ
パネルの基本単位を示す模式図、図２はフォトリソグラ
フィ法によって障壁形成を行う工程を説明するための説
明図、図３は本実施例の障壁構造と、従来例の障壁構造
の相違を説明するための障壁端部の斜視図である。
【００１３】本実施例のプラズマディスプレイパネル
は、概略すると、前面板１と後面板２の内側にアノード
電極３とカソード電極４が形成され、該両電極３，４間
に障壁５が形成され、かつ該両電極３，４間に希ガスが
封入され、両電極３，４の交差部が１つの画素に対応す
る構成とされている。
は、概略すると、前面板１と後面板２の内側にアノード
電極３とカソード電極４が形成され、該両電極３，４間
に障壁５が形成され、かつ該両電極３，４間に希ガスが
封入され、両電極３，４の交差部が１つの画素に対応す
る構成とされている。
【００１４】前面板１と後面板２は、ガラス板等よりな
る絶縁板であって、前面板１の内側には、アノード電極
３が平行に複数本設けられ、また後面板２の内側には、
カソード電極４が、アノード電極３と直交するように複
数本設けられている。ここで、カソード電極４は、Ｎ
ｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｄ等の導体金属、あるいはこれらの
合金が用いられ、更にこれらの金属に少量のガラスを混
入したペーストが用いられている。また、アノード電極
３は、酸化インジウム、酸化スズを蒸着した透明電極
（ＩＴＯ電極・Indium-Tin-Oxideの略）が用いられてい
る。
る絶縁板であって、前面板１の内側には、アノード電極
３が平行に複数本設けられ、また後面板２の内側には、
カソード電極４が、アノード電極３と直交するように複
数本設けられている。ここで、カソード電極４は、Ｎ
ｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｄ等の導体金属、あるいはこれらの
合金が用いられ、更にこれらの金属に少量のガラスを混
入したペーストが用いられている。また、アノード電極
３は、酸化インジウム、酸化スズを蒸着した透明電極
（ＩＴＯ電極・Indium-Tin-Oxideの略）が用いられてい
る。
【００１５】また、障壁５は、二層構造よりなり、下層
７と上層６とで、異なる絶縁ペーストを用いて形成して
いる。下層７の絶縁ペーストとしては、SiO2：１８重量
％、Al2O3 ：２重量％、Fe2O3 ：１０重量％、Cr2O3 ：
３重量％、MnO ：７重量％、CoO ：２重量％、PbO ：４
６重量％、B2O3：１２重量％からなる黒色セラミック粉
末：１００重量部に紫外線硬化樹脂：５０重量部および
溶剤を混合してスリップとしたものを用いている。ま
た、上層６の絶縁ペーストとしては、SiO2：１５重量
％、Al2O3 ：２０重量％、Fe2O3 ：１０重量％、Cr
2O3 ：３重量％、MnO ：７重量％、CoO ：２重量％、Pb
O ：３５重量％、B2O3：８重量％からなる黒色セラミッ
ク粉末：１００重量部に紫外線硬化樹脂：５０重量部お
よび溶剤を混合してスリップとしたものを用いている。
７と上層６とで、異なる絶縁ペーストを用いて形成して
いる。下層７の絶縁ペーストとしては、SiO2：１８重量
％、Al2O3 ：２重量％、Fe2O3 ：１０重量％、Cr2O3 ：
３重量％、MnO ：７重量％、CoO ：２重量％、PbO ：４
６重量％、B2O3：１２重量％からなる黒色セラミック粉
末：１００重量部に紫外線硬化樹脂：５０重量部および
溶剤を混合してスリップとしたものを用いている。ま
た、上層６の絶縁ペーストとしては、SiO2：１５重量
％、Al2O3 ：２０重量％、Fe2O3 ：１０重量％、Cr
2O3 ：３重量％、MnO ：７重量％、CoO ：２重量％、Pb
O ：３５重量％、B2O3：８重量％からなる黒色セラミッ
ク粉末：１００重量部に紫外線硬化樹脂：５０重量部お
よび溶剤を混合してスリップとしたものを用いている。
【００１６】そして、本実施例のプラズマディスプレイ
パネルの障壁構造は、障壁の下層７の含有ガラスの屈伏
点を、上層６の含有ガラスの屈伏点より低くして構成し
ていることより、焼成時の流動性を向上させ、障壁５が
自重により、絶縁板（アノード電極側）１側に垂れ、絶
縁板１と下層７との密着性が強くなって、その跳ね上が
りを抑制できる。また、下層７と上層６とでは、その含
有ガラス組成の屈伏点の差が、１〜１００℃あり、かつ
上層６に比べて下層７の含有ガラス組成の屈伏点が低く
されているので、障壁５をバランス良く焼成できる。す
なわち、下層７と上層６の含有ガラス組成の屈伏点の差
が、１００℃を超えると上層側と下層側の焼成時のパタ
ーンの保形性、緻密性の差が大きくなり、障壁５をバラ
ンス良く焼成できなくなる。
パネルの障壁構造は、障壁の下層７の含有ガラスの屈伏
点を、上層６の含有ガラスの屈伏点より低くして構成し
ていることより、焼成時の流動性を向上させ、障壁５が
自重により、絶縁板（アノード電極側）１側に垂れ、絶
縁板１と下層７との密着性が強くなって、その跳ね上が
りを抑制できる。また、下層７と上層６とでは、その含
有ガラス組成の屈伏点の差が、１〜１００℃あり、かつ
上層６に比べて下層７の含有ガラス組成の屈伏点が低く
されているので、障壁５をバランス良く焼成できる。す
なわち、下層７と上層６の含有ガラス組成の屈伏点の差
が、１００℃を超えると上層側と下層側の焼成時のパタ
ーンの保形性、緻密性の差が大きくなり、障壁５をバラ
ンス良く焼成できなくなる。
【００１７】次に、本実施例の作用・効果を確認するた
めに、本実施例のプラズマディスプレイパネルの障壁構
造を、図２（ａ）〜（ｅ）に示すような方法で形成し、
従来例のプラズマディスプレイパネルの障壁構造と比較
した。なお、本実施例の障壁構造としては、前述した下
層用と上層用の二種類のスリップを製造し、下層用のス
リップを、アノード電極の形成された絶縁板（ガラス基
板）上に１０〜５０μｍ厚みになるように塗布し、第一
層を形成（図２ａ参照）すると共に、予め第一層の非露
光部８をマスク９により露光を防ぎながら、高圧水銀灯
を用いて紫外線照射し、露光部１０を硬化させ、次に、
この工程を繰り返して、第二層、第三層を積層し、乾燥
厚み：約１００μｍの形成層を得て（図２ｂ参照）、更
に、該第三層の上に、上層用のスリップを用い、第一層
〜第三層と同様にして、塗布・乾燥・露光を繰り返して
積層（第四層〜第六層）し、最終的に、総厚み：１９０
μｍの形成層（図２ｃ参照）とした後、該形成層の現像
を一度で行い、非露光部８を溶出することにより、パタ
ーニングを終了し、その後、これを５３０℃，１５分間
で焼成することで形成して、約１６０μｍの厚みの障壁
５としたものを用いた。ここで、コーティング（塗布）
方法としては、ドクターブレード法、ロールコーター法
等の何れを用いてもよい。これに対して、従来例のプラ
ズマディスプレイパネルの障壁構造としては、前述した
下層用のスリップを用いて、第一層〜第六層よりなる約
１６０μｍの厚みの障壁を用いた。
めに、本実施例のプラズマディスプレイパネルの障壁構
造を、図２（ａ）〜（ｅ）に示すような方法で形成し、
従来例のプラズマディスプレイパネルの障壁構造と比較
した。なお、本実施例の障壁構造としては、前述した下
層用と上層用の二種類のスリップを製造し、下層用のス
リップを、アノード電極の形成された絶縁板（ガラス基
板）上に１０〜５０μｍ厚みになるように塗布し、第一
層を形成（図２ａ参照）すると共に、予め第一層の非露
光部８をマスク９により露光を防ぎながら、高圧水銀灯
を用いて紫外線照射し、露光部１０を硬化させ、次に、
この工程を繰り返して、第二層、第三層を積層し、乾燥
厚み：約１００μｍの形成層を得て（図２ｂ参照）、更
に、該第三層の上に、上層用のスリップを用い、第一層
〜第三層と同様にして、塗布・乾燥・露光を繰り返して
積層（第四層〜第六層）し、最終的に、総厚み：１９０
μｍの形成層（図２ｃ参照）とした後、該形成層の現像
を一度で行い、非露光部８を溶出することにより、パタ
ーニングを終了し、その後、これを５３０℃，１５分間
で焼成することで形成して、約１６０μｍの厚みの障壁
５としたものを用いた。ここで、コーティング（塗布）
方法としては、ドクターブレード法、ロールコーター法
等の何れを用いてもよい。これに対して、従来例のプラ
ズマディスプレイパネルの障壁構造としては、前述した
下層用のスリップを用いて、第一層〜第六層よりなる約
１６０μｍの厚みの障壁を用いた。
【００１８】そして、本実施例の障壁構造と、従来例の
障壁構造とを比較した処、本実施例の障壁構造の場合、
図３（ａ）に示すように、障壁端部の跳ね上がりが認め
られなかったのに対して、従来例の障壁構造の場合、図
３（ｂ）に示すように、その障壁端部に焼成時における
収縮による跳ね上がりが認められた。これは、本実施例
の障壁構造の場合、障壁の下層の含有ガラスの屈伏点
が、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成してい
ることより、焼成時の流動性を向上させ、障壁が自重に
より、絶縁板（アノード電極側）側に垂れ、絶縁板と下
層との密着性が強く、また下層と上層との含有ガラス組
成の屈伏点の差を、１〜１００℃としていることより、
焼成時のパターンの保形性、緻密性の差を小さくでき、
かつ障壁がバランス良く焼成できていることによること
が確認できた。
障壁構造とを比較した処、本実施例の障壁構造の場合、
図３（ａ）に示すように、障壁端部の跳ね上がりが認め
られなかったのに対して、従来例の障壁構造の場合、図
３（ｂ）に示すように、その障壁端部に焼成時における
収縮による跳ね上がりが認められた。これは、本実施例
の障壁構造の場合、障壁の下層の含有ガラスの屈伏点
が、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成してい
ることより、焼成時の流動性を向上させ、障壁が自重に
より、絶縁板（アノード電極側）側に垂れ、絶縁板と下
層との密着性が強く、また下層と上層との含有ガラス組
成の屈伏点の差を、１〜１００℃としていることより、
焼成時のパターンの保形性、緻密性の差を小さくでき、
かつ障壁がバランス良く焼成できていることによること
が確認できた。
【００１９】ところで、本実施例の障壁構造にあって
も、障壁の下層の層厚みが、１０μｍより薄い場合は、
従来例の場合と同様に、下地の絶縁板との密着状態と余
り変化がなく、また１５０μｍを超えると、上層側を緻
密にした際に、下層側の保形性が悪くなることも確認で
きた。従って、好ましくは、二種類のスリップを用いた
障壁構造の場合、下層の厚みは、１０〜１５０μｍの範
囲が好ましいことを確認した。
も、障壁の下層の層厚みが、１０μｍより薄い場合は、
従来例の場合と同様に、下地の絶縁板との密着状態と余
り変化がなく、また１５０μｍを超えると、上層側を緻
密にした際に、下層側の保形性が悪くなることも確認で
きた。従って、好ましくは、二種類のスリップを用いた
障壁構造の場合、下層の厚みは、１０〜１５０μｍの範
囲が好ましいことを確認した。
【００２０】なお、本発明は、上述した実施例に限定さ
れるものでなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で変
形実施できる構成を含む。因みに、前述した実施例にお
いては、二種類のスリップを用いた構成で説明したが、
複数種類のスリップを用いた多層構造とした構成として
もよいことは当然である。また、前述した実施例では、
アノード電極側の絶縁板上に障壁を形成する例で示した
が、カソード電極側の絶縁板上に障壁を形成する場合に
おいても同等の効果を有する。
れるものでなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で変
形実施できる構成を含む。因みに、前述した実施例にお
いては、二種類のスリップを用いた構成で説明したが、
複数種類のスリップを用いた多層構造とした構成として
もよいことは当然である。また、前述した実施例では、
アノード電極側の絶縁板上に障壁を形成する例で示した
が、カソード電極側の絶縁板上に障壁を形成する場合に
おいても同等の効果を有する。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
のプラズマディスプレイパネルの障壁構造によれば、ア
ノード電極群とカソード電極群間に形成される障壁を多
層構造とし、かつ該障壁の上層と下層との組成を変え、
かつ焼成時における該下層と絶縁板との密着性を強くし
ているので、該障壁の焼成の際、該上層がフリーに収縮
するものの、その下層が上層の収縮を規制し、その跳ね
上がりを抑制できるという効果を有する。
のプラズマディスプレイパネルの障壁構造によれば、ア
ノード電極群とカソード電極群間に形成される障壁を多
層構造とし、かつ該障壁の上層と下層との組成を変え、
かつ焼成時における該下層と絶縁板との密着性を強くし
ているので、該障壁の焼成の際、該上層がフリーに収縮
するものの、その下層が上層の収縮を規制し、その跳ね
上がりを抑制できるという効果を有する。
【００２２】また、障壁の上層と下層の含有ガラスの屈
伏点を、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成し
た場合にあっては、焼成時の流動性を向上させ、該障壁
が自重により、絶縁板側に垂れ、該絶縁板と下層との密
着性が強くなって、その跳ね上がりを抑制できるという
効果を有する。
伏点を、上層の含有ガラスの屈伏点より低くして構成し
た場合にあっては、焼成時の流動性を向上させ、該障壁
が自重により、絶縁板側に垂れ、該絶縁板と下層との密
着性が強くなって、その跳ね上がりを抑制できるという
効果を有する。
【図１】プラズマディスプレイパネルの基本単位を示す
模式図である。
模式図である。
【図２】フォトリソグラフ法によって障壁形成を行う工
程を説明するための説明図である。
程を説明するための説明図である。
【図３】本実施例の障壁構造と、従来例の障壁構造の相
違を説明するための障壁端部の斜視図である。
違を説明するための障壁端部の斜視図である。
１・・・前面板、２・・・後面板、３・・・アノード電
極、４・・・カソード電極、５・・・障壁、６・・・上
層、７・・・下層、８・・・非露光部、９・・・マス
ク、１０・・・露光部
極、４・・・カソード電極、５・・・障壁、６・・・上
層、７・・・下層、８・・・非露光部、９・・・マス
ク、１０・・・露光部
Claims (3)
- 【請求項１】 一定の空間を隔てて一対の絶縁板を配
し、該絶縁板の内側に相対向して交差するアノード電極
群とカソード電極群を設け、かつ該両電極群間にフォト
リソグラフィ法による障壁を形成したプラズマディスプ
レイパネルにおいて、該障壁を多層構造とすると共に、
該障壁の上層と下層との組成を変え、かつ焼成時におけ
る該下層と前記絶縁板との密着性を強くしたことを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの障壁構造。 - 【請求項２】 障壁の上層と下層の含有ガラス組成が異
なり、かつ該下層の含有ガラス組成の屈伏点が、上層の
含有ガラス組成の屈伏点より低く、該上層と下層の含有
ガラス組成の屈伏点の差が、１〜１００℃である請求項
１に記載のプラズマディスプレイパネルの障壁構造。 - 【請求項３】 障壁のガラス組成が、下層より上層に向
けて段階的に変化する多層構造とした請求項２に記載の
プラズマディスプレイパネルの障壁構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4316099A JP2876047B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4316099A JP2876047B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150828A true JPH06150828A (ja) | 1994-05-31 |
| JP2876047B2 JP2876047B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=18073233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4316099A Expired - Lifetime JP2876047B2 (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | プラズマディスプレイパネルの障壁の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876047B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100464301B1 (ko) * | 1998-04-13 | 2005-04-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가스방전 표시소자 격벽 제조방법 |
| JP2007012415A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Toray Ind Inc | パネルディスプレイ部材の製造方法 |
| KR100718995B1 (ko) * | 2004-09-02 | 2007-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법 |
| KR100743714B1 (ko) * | 2005-04-21 | 2007-07-30 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP4316099A patent/JP2876047B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100464301B1 (ko) * | 1998-04-13 | 2005-04-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가스방전 표시소자 격벽 제조방법 |
| KR100718995B1 (ko) * | 2004-09-02 | 2007-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 플라즈마디스플레이 패널의 제조방법 |
| KR100743714B1 (ko) * | 2005-04-21 | 2007-07-30 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| JP2007012415A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Toray Ind Inc | パネルディスプレイ部材の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2876047B2 (ja) | 1999-03-31 |
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