JPH06154351A - 偏向静磁場による荷電重粒子線のビーム拡大装置 - Google Patents
偏向静磁場による荷電重粒子線のビーム拡大装置Info
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- JPH06154351A JPH06154351A JP31052392A JP31052392A JPH06154351A JP H06154351 A JPH06154351 A JP H06154351A JP 31052392 A JP31052392 A JP 31052392A JP 31052392 A JP31052392 A JP 31052392A JP H06154351 A JPH06154351 A JP H06154351A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】より簡便な荷電重粒子線のビーム拡大装置を提
供すること。 【構成】荷電粒子線ビームにエネルギー分布を形成する
第１の分布形成手段と、前記エネルギー分布を有する荷
電粒子線ビームが入射され、前記荷電粒子線ビームの有
するエネルギーの相違に基づき前記荷電粒子線ビームを
第１方向に直線状に拡大する第１の偏向電磁石手段と、
前記第１の偏向電磁石手段から出力される拡大された前
記荷電粒子線ビームが入射され、前記拡大された荷電粒
子線ビームの有するエネルギーを均一にする第１の均一
手段とを具備する。
供すること。 【構成】荷電粒子線ビームにエネルギー分布を形成する
第１の分布形成手段と、前記エネルギー分布を有する荷
電粒子線ビームが入射され、前記荷電粒子線ビームの有
するエネルギーの相違に基づき前記荷電粒子線ビームを
第１方向に直線状に拡大する第１の偏向電磁石手段と、
前記第１の偏向電磁石手段から出力される拡大された前
記荷電粒子線ビームが入射され、前記拡大された荷電粒
子線ビームの有するエネルギーを均一にする第１の均一
手段とを具備する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、偏向静磁場による荷電
重粒子線のビーム拡大装置に関する。
重粒子線のビーム拡大装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】放射線による治療は、癌治療において重
要な位置を占めてきた。ところで、このために使用する
放射線としては、従来からのＸ線、ガンマ線、電子線等
の他に、最近研究が盛んになってきた陽子線や重イオン
線がある。陽子線や重イオン線による放射線治療におい
て、照射すべき患者の病巣は、例えば１５cm×１５cm程
度の断面積を有している。ところが、加速器から得られ
る陽子線、重イオン線は、そのままでは細いビームであ
るので、特定の大きさの断面積を有する病巣を照射する
ためにはビームの断面積の拡大が必要である。
要な位置を占めてきた。ところで、このために使用する
放射線としては、従来からのＸ線、ガンマ線、電子線等
の他に、最近研究が盛んになってきた陽子線や重イオン
線がある。陽子線や重イオン線による放射線治療におい
て、照射すべき患者の病巣は、例えば１５cm×１５cm程
度の断面積を有している。ところが、加速器から得られ
る陽子線、重イオン線は、そのままでは細いビームであ
るので、特定の大きさの断面積を有する病巣を照射する
ためにはビームの断面積の拡大が必要である。
【０００３】この様な加速器から出てくるビームを患者
に適するように変化させる技術を照射野形成と呼んでい
る。この中で、特に上記のようなビームの進行方向に垂
直な方向にビームを拡大するための技術をビーム拡大と
呼んでいる。
に適するように変化させる技術を照射野形成と呼んでい
る。この中で、特に上記のようなビームの進行方向に垂
直な方向にビームを拡大するための技術をビーム拡大と
呼んでいる。
【０００４】ビーム拡大のため、従来、散乱体を用いる
方式と、ビームを走査する方式が用いられてきた。散乱
体方式は、原子核の周りの電場により重荷電粒子の方向
が少しずつ曲げられることを利用してビームの断面積を
拡大するものである。また、ビーム走査方式は、比較的
細いビームを電磁石の磁場を変動させることにより走査
し、時間平均として大きな断面積のビームを得る方式で
ある。
方式と、ビームを走査する方式が用いられてきた。散乱
体方式は、原子核の周りの電場により重荷電粒子の方向
が少しずつ曲げられることを利用してビームの断面積を
拡大するものである。また、ビーム走査方式は、比較的
細いビームを電磁石の磁場を変動させることにより走査
し、時間平均として大きな断面積のビームを得る方式で
ある。
【０００５】上述した従来の方式では次のような問題点
がある。
がある。
【０００６】散乱体方式で単一の散乱体を用いるもので
は、散乱の角度がほぼ正規分布になるので、ビームの広
さ方向の強度分布もほぼ正規分布となる。この正規分布
の一部のほぼ平坦な部分を利用するのでビームの利用効
率が悪く、また利用されなかった重荷電粒子による中性
子の発生が多いため、建築物の遮蔽壁を厚くしなければ
ならないなどの問題点がある。
は、散乱の角度がほぼ正規分布になるので、ビームの広
さ方向の強度分布もほぼ正規分布となる。この正規分布
の一部のほぼ平坦な部分を利用するのでビームの利用効
率が悪く、また利用されなかった重荷電粒子による中性
子の発生が多いため、建築物の遮蔽壁を厚くしなければ
ならないなどの問題点がある。
【０００７】この問題点を少なくするために、複数の散
乱体を用いる方法が使われているが、ビームの利用効率
を飛躍的に大きくすることは原理的に無理である。ま
た、重イオン線のように重い粒子では散乱そのものがあ
まり起こらないので、散乱体のみによるビーム断面積の
拡大には無理がある。
乱体を用いる方法が使われているが、ビームの利用効率
を飛躍的に大きくすることは原理的に無理である。ま
た、重イオン線のように重い粒子では散乱そのものがあ
まり起こらないので、散乱体のみによるビーム断面積の
拡大には無理がある。
【０００８】走査方式では、ビーム強度の一定性が問題
であり、パルスビームに対しては使用することができな
い。また、連続ビームに対してもビーム強度の時間的変
動があると線量が不均一になるので、ビーム強度の一定
性に対する要求が厳しく、このため加速器の性能に対す
る要求が大きくなるという問題点がある。
であり、パルスビームに対しては使用することができな
い。また、連続ビームに対してもビーム強度の時間的変
動があると線量が不均一になるので、ビーム強度の一定
性に対する要求が厳しく、このため加速器の性能に対す
る要求が大きくなるという問題点がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来のビーム拡大方式での課題を解決するためになされた
もので、より簡便な荷電重粒子線のビーム拡大装置を提
供することを目的とする。
来のビーム拡大方式での課題を解決するためになされた
もので、より簡便な荷電重粒子線のビーム拡大装置を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のビーム拡大装置は、荷電粒子線ビームにエネ
ルギー分布を形成する第１の分布形成手段と、前記エネ
ルギー分布を有する荷電粒子線ビームが入射され、前記
荷電粒子線ビームの有するエネルギーの相違に基づき前
記荷電粒子線ビームを第１方向に直線状に拡大する第１
の偏向電磁石手段と、前記第１の偏向電磁石手段から出
力される拡大された前記荷電粒子線ビームが入射され、
前記拡大された荷電粒子線ビームの有するエネルギーを
均一にする第１の均一手段とを具備することを特徴とす
る。
の本発明のビーム拡大装置は、荷電粒子線ビームにエネ
ルギー分布を形成する第１の分布形成手段と、前記エネ
ルギー分布を有する荷電粒子線ビームが入射され、前記
荷電粒子線ビームの有するエネルギーの相違に基づき前
記荷電粒子線ビームを第１方向に直線状に拡大する第１
の偏向電磁石手段と、前記第１の偏向電磁石手段から出
力される拡大された前記荷電粒子線ビームが入射され、
前記拡大された荷電粒子線ビームの有するエネルギーを
均一にする第１の均一手段とを具備することを特徴とす
る。
【００１１】また、本発明においては、前記第１の均一
手段からのビームを走査して、平面状のビームに拡大す
る手段を更に有してもよい。
手段からのビームを走査して、平面状のビームに拡大す
る手段を更に有してもよい。
【００１２】更にまた、本発明においては、前記第１の
均一手段からのビームにエネルギー分布を形成する第２
の分布形成手段と、前記第２の分布形成手段から荷電粒
子線ビームが入射され、前記荷電粒子線ビームの有する
エネルギーの相違に基づき前記荷電粒子線ビームを第１
方向とは異なる第２方向に直線状に拡大して平面状のビ
ームを出力する第２の偏向電磁石手段と、前記第２の偏
向電磁石手段から出力される平面状に拡大された前記荷
電粒子線ビームが入射され、前記平面状に拡大された荷
電粒子線ビームの有するエネルギーを均一にする第２の
均一手段とを更に具備してもよい。
均一手段からのビームにエネルギー分布を形成する第２
の分布形成手段と、前記第２の分布形成手段から荷電粒
子線ビームが入射され、前記荷電粒子線ビームの有する
エネルギーの相違に基づき前記荷電粒子線ビームを第１
方向とは異なる第２方向に直線状に拡大して平面状のビ
ームを出力する第２の偏向電磁石手段と、前記第２の偏
向電磁石手段から出力される平面状に拡大された前記荷
電粒子線ビームが入射され、前記平面状に拡大された荷
電粒子線ビームの有するエネルギーを均一にする第２の
均一手段とを更に具備してもよい。
【００１３】また、本発明は、前記第１の分布形成手段
の上流に配置され、前記荷電粒子線ビームを前記第１方
向とは異なる第２の方向に走査して、前記第１の分布形
成手段に導く走査手段を更に有してもよい。
の上流に配置され、前記荷電粒子線ビームを前記第１方
向とは異なる第２の方向に走査して、前記第１の分布形
成手段に導く走査手段を更に有してもよい。
【００１４】
【作用】上記ような構成を採用すれば、エネルギーの相
違に基づいて、荷電粒子線ビームを第１方向に直線状に
拡大できる。更にまた、ビームを第１の方向とは異なる
第２方向に走査できる手段、或いは第２方向に直線状に
拡大できる手段を設けるので、ビームを平面状に拡大で
き、平面状の照射野を形成することができる。従って、
加速器から得られる陽子線・重イオン線は、そのままで
は細いビームであるが、特定の大きさの断面を有する病
巣を照射できるように、ビームの断面積を拡大できる。
違に基づいて、荷電粒子線ビームを第１方向に直線状に
拡大できる。更にまた、ビームを第１の方向とは異なる
第２方向に走査できる手段、或いは第２方向に直線状に
拡大できる手段を設けるので、ビームを平面状に拡大で
き、平面状の照射野を形成することができる。従って、
加速器から得られる陽子線・重イオン線は、そのままで
は細いビームであるが、特定の大きさの断面を有する病
巣を照射できるように、ビームの断面積を拡大できる。
【００１５】
【実施例】以下図面を参照して本発明の偏向静磁場によ
る荷電重粒子線のビーム拡大装置の実施例を説明する。
る荷電重粒子線のビーム拡大装置の実施例を説明する。
【００１６】図１は第１実施例に係るビーム拡大装置の
概略図であり、ビーム拡大装置２は、図１の左側から入
射する細いビーム４を直線状に広げて直線状ビーム６を
作成する。このビーム拡大装置は、エネルギー分布作成
器８、偏向電磁石１０、エネルギー分布補正器１２とか
らなる。
概略図であり、ビーム拡大装置２は、図１の左側から入
射する細いビーム４を直線状に広げて直線状ビーム６を
作成する。このビーム拡大装置は、エネルギー分布作成
器８、偏向電磁石１０、エネルギー分布補正器１２とか
らなる。
【００１７】エネルギー分布作成器８は、場所により厚
さの不均一な素子であり、原子番号の低い物質、例えば
グラファイトやアクリル樹脂等の高分子物質からできて
いる。エネルギー分布作成器８は図２か図３か図４に示
すような構造をしていて、図２（ｂ）、図３（ｂ）はそ
れぞれ図２（ａ）、図３（ａ）のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線に
沿った断面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の側面図であ
る。荷電粒子線（細いビーム）４がエネルギー分布作成
器８を透過すると、荷電粒子線４のエネルギー損失が場
所により異なるので、荷電粒子のエネルギー分布ができ
る。
さの不均一な素子であり、原子番号の低い物質、例えば
グラファイトやアクリル樹脂等の高分子物質からできて
いる。エネルギー分布作成器８は図２か図３か図４に示
すような構造をしていて、図２（ｂ）、図３（ｂ）はそ
れぞれ図２（ａ）、図３（ａ）のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線に
沿った断面図、図４（ｂ）は図４（ａ）の側面図であ
る。荷電粒子線（細いビーム）４がエネルギー分布作成
器８を透過すると、荷電粒子線４のエネルギー損失が場
所により異なるので、荷電粒子のエネルギー分布ができ
る。
【００１８】このエネルギー分布を有する荷電粒子線４
が偏向電磁石１０に入射すると、荷電粒子線４が有する
エネルギーにより曲げられる程度が異なるので、図１に
示すような直線状に拡大されたビーム１４が得られる。
このビーム１４をエネルギー分布補正器１２に導いてそ
れを透過させ、エネルギー分布を小さくする。
が偏向電磁石１０に入射すると、荷電粒子線４が有する
エネルギーにより曲げられる程度が異なるので、図１に
示すような直線状に拡大されたビーム１４が得られる。
このビーム１４をエネルギー分布補正器１２に導いてそ
れを透過させ、エネルギー分布を小さくする。
【００１９】エネルギー分布補正器１２は、図３に示す
エネルギー分布作成器８と同じ構造を有していて、エネ
ルギーの大きい粒子がくる場所は厚くし、エネルギーの
小さい粒子が入射するところは薄くしている。
エネルギー分布作成器８と同じ構造を有していて、エネ
ルギーの大きい粒子がくる場所は厚くし、エネルギーの
小さい粒子が入射するところは薄くしている。
【００２０】この様なビーム拡大装置を用いれば、細い
ビーム４を第１方向に直線状に広げて直線状ビーム６を
作成でき、この直線状のビーム６を紙面に垂直な第２方
向にスキャンすると図５に示すようにビーム平面的に拡
大でき照射野１６を形成できる。
ビーム４を第１方向に直線状に広げて直線状ビーム６を
作成でき、この直線状のビーム６を紙面に垂直な第２方
向にスキャンすると図５に示すようにビーム平面的に拡
大でき照射野１６を形成できる。
【００２１】次に図６と図７とを参照して、本発明のビ
ーム拡大装置の第２実施例を説明する。図７は、図６を
図面左から見た側面図である。この実施例では、図１に
示すビーム拡大装置２に加えて、更に第２のビーム拡大
装置２０を設け、細いビーム４を図５に示すように平面
的に拡大している。即ち、第１のビーム拡大装置２によ
り図６に示されるように第１方向に拡大されたビーム６
を、第２の拡大装置２０により図７に示される第２方向
に拡大して、図５に示されるような平面的な照射野１６
を形成する。図６、図７に示されるように、第２方向は
第１方向に直交する方向である。
ーム拡大装置の第２実施例を説明する。図７は、図６を
図面左から見た側面図である。この実施例では、図１に
示すビーム拡大装置２に加えて、更に第２のビーム拡大
装置２０を設け、細いビーム４を図５に示すように平面
的に拡大している。即ち、第１のビーム拡大装置２によ
り図６に示されるように第１方向に拡大されたビーム６
を、第２の拡大装置２０により図７に示される第２方向
に拡大して、図５に示されるような平面的な照射野１６
を形成する。図６、図７に示されるように、第２方向は
第１方向に直交する方向である。
【００２２】第２ビーム拡大装置２０は、第１のビーム
拡大装置２と同様の構成を有し、ビーム６が入射するエ
ネルギー分布作成器２８と、偏向電磁石３０と、エネル
ギー分布補正器３２とからなる。第２ビーム拡大装置２
０は、第１のビーム拡大装置２から出てくる第１方向に
拡大されたビーム６を第２方向に拡大するように、第１
ビーム拡大装置２を９０度回転させた構成を有してい
る。エネルギー分布作成器２８とエネルギー分布補正器
３２は、エネルギー分布作成器８とエネルギービーム補
正器１２と同様に、図３或いは図４に示す構成を有して
いる。
拡大装置２と同様の構成を有し、ビーム６が入射するエ
ネルギー分布作成器２８と、偏向電磁石３０と、エネル
ギー分布補正器３２とからなる。第２ビーム拡大装置２
０は、第１のビーム拡大装置２から出てくる第１方向に
拡大されたビーム６を第２方向に拡大するように、第１
ビーム拡大装置２を９０度回転させた構成を有してい
る。エネルギー分布作成器２８とエネルギー分布補正器
３２は、エネルギー分布作成器８とエネルギービーム補
正器１２と同様に、図３或いは図４に示す構成を有して
いる。
【００２３】その他の構成は第１実施例と同様であるの
で、同一個所には同一符号を付して詳細な説明を省略す
る。この装置は、パルスビームを平面的に拡大するのに
も有効である。
で、同一個所には同一符号を付して詳細な説明を省略す
る。この装置は、パルスビームを平面的に拡大するのに
も有効である。
【００２４】次に図８と図９とを参照して、本発明のビ
ーム拡大装置の第３実施例を説明する。図９は、図８を
図面左から見た側面図である。この実施例では、入射ビ
ームを走査用電磁石４０で紙面に垂直な第２方向に走査
し、その走査されたビーム４４をエネルギー分布作成器
８に入射させる。そして、偏向電磁石１０を介してエネ
ルギー分布補正器１２に送り、図８の第１方向と図９の
第２方向に平面的にビームを拡大する。そして、図５に
示すような照射野１６を形成する。
ーム拡大装置の第３実施例を説明する。図９は、図８を
図面左から見た側面図である。この実施例では、入射ビ
ームを走査用電磁石４０で紙面に垂直な第２方向に走査
し、その走査されたビーム４４をエネルギー分布作成器
８に入射させる。そして、偏向電磁石１０を介してエネ
ルギー分布補正器１２に送り、図８の第１方向と図９の
第２方向に平面的にビームを拡大する。そして、図５に
示すような照射野１６を形成する。
【００２５】その他の構成は第１実施例と同様であるの
で、同一個所には同一符号を付してその詳細な説明を省
略する。
で、同一個所には同一符号を付してその詳細な説明を省
略する。
【００２６】この実施例によれば、偏向電磁石１０から
出力したビームをエネルギー分布補正器１２を介して直
接患者に送ることができるので、ビーム拡大装置の出力
部から患者までの距離を短くできる効果がある。
出力したビームをエネルギー分布補正器１２を介して直
接患者に送ることができるので、ビーム拡大装置の出力
部から患者までの距離を短くできる効果がある。
【００２７】以上実施例を基に本発明を説明してきた
が、本発明は上記実施例に限定されない。種々変形して
実施できる。
が、本発明は上記実施例に限定されない。種々変形して
実施できる。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、重荷電粒子線ビームの
拡大が可能であり、ビームの利用効率をほぼ１００％に
できる。
拡大が可能であり、ビームの利用効率をほぼ１００％に
できる。
【００２９】また、２組のエネルギー分布形成器・偏向
電磁石・エネルギー分布補正器を用いる場合には、パル
スビームに対してもビーム拡大が可能である。
電磁石・エネルギー分布補正器を用いる場合には、パル
スビームに対してもビーム拡大が可能である。
【００３０】１組のエネルギー分布形成器・偏向電磁石
・エネルギー分布補正器を用いて直線状に広げ、これを
走査用電磁石で走査する場合でも、既に直線状に拡大さ
れているので、加速器のビーム強度の一定性に対する要
求は従来の走査方式に比べて小さくなる。
・エネルギー分布補正器を用いて直線状に広げ、これを
走査用電磁石で走査する場合でも、既に直線状に拡大さ
れているので、加速器のビーム強度の一定性に対する要
求は従来の走査方式に比べて小さくなる。
【００３１】更に、エネルギー分布作成器に入射させる
前に、ビームを進行方向に対して直角に走査し、しかる
後にエネルギー分布を形成して、偏向電磁石により走査
方向と直角の方向に拡大すれば、ビーム拡大装置から患
者までの距離を短くできる。
前に、ビームを進行方向に対して直角に走査し、しかる
後にエネルギー分布を形成して、偏向電磁石により走査
方向と直角の方向に拡大すれば、ビーム拡大装置から患
者までの距離を短くできる。
【図１】本発明の第１実施例に係るビーム拡大装置の概
略図である。
略図である。
【図２】エネルギー分布作成器の構造を示す図であり、
（ａ）は平面図、（ｂ）はＡ−Ａ線に沿った断面図であ
る。
（ａ）は平面図、（ｂ）はＡ−Ａ線に沿った断面図であ
る。
【図３】エネルギー分布作成器の別の構造と、エネルギ
ー分布補正器の構造を示す図であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）はＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
ー分布補正器の構造を示す図であり、（ａ）は平面図、
（ｂ）はＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図４】エネルギー分布作成器の更に別の構造を示す図
であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図５】平面的に拡大されたビームの照射野を示す図で
ある。
ある。
【図６】本発明の第２実施例に係るビーム拡大装置の概
略図である。
略図である。
【図７】図６の装置を図面左から見た側面図である。
【図８】本発明の第３実施例に係るビーム拡大装置の概
略図である。
略図である。
【図９】図８の装置を図面左から見た側面図である。
２…ビーム拡大装置、４…細いビーム、６…直線状ビー
ム、８…エネルギー分布作成器、１０…偏向電磁石、１
２…エネルギー分布補正器、１４…拡大されたビーム
ム、８…エネルギー分布作成器、１０…偏向電磁石、１
２…エネルギー分布補正器、１４…拡大されたビーム
Claims (4)
- 【請求項１】 荷電粒子線ビームにエネルギー分布を形
成する第１の分布形成手段と、 前記エネルギー分布を有する荷電粒子線ビームが入射さ
れ、前記荷電粒子線ビームの有するエネルギーの相違に
基づき前記荷電粒子線ビームを第１方向に直線状に拡大
する第１の偏向電磁石手段と、 前記第１の偏向電磁石手段から出力される拡大された前
記荷電粒子線ビームが入射され、前記拡大された荷電粒
子線ビームの有するエネルギーを均一にする第１の均一
手段と、 を具備することを特徴とする偏向静磁場による荷電粒子
線ビーム拡大装置。 - 【請求項２】 前記第１の均一手段からのビームを走査
して、平面状のビームに拡大する手段を更に有すること
を特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記第１の均一手段からのビームにエネ
ルギー分布を形成する第２の分布形成手段と、 前記第２の分布形成手段から荷電粒子線ビームが入射さ
れ、前記荷電粒子線ビームの有するエネルギーの相違に
基づき前記荷電粒子線ビームを第１方向とは異なる第２
方向に直線状に拡大して平面状のビームを出力する第２
の偏向電磁石手段と、 前記第２の偏向電磁石手段から出力される平面状に拡大
された前記荷電粒子線ビームが入射され、前記平面状に
拡大された荷電粒子線ビームの有するエネルギーを均一
にする第２の均一手段と、 を更に具備することを特徴とする請求項１に記載の装
置。 - 【請求項４】 前記第１の分布形成手段の上流に配置さ
れ、前記荷電粒子線ビームを前記第１方向とは異なる第
２の方向に走査して、前記第１の分布形成手段に導く走
査手段を更に有することを特徴とする請求項１に記載の
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31052392A JPH0747051B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 偏向静磁場による荷電重粒子線のビーム拡大装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31052392A JPH0747051B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 偏向静磁場による荷電重粒子線のビーム拡大装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06154351A true JPH06154351A (ja) | 1994-06-03 |
| JPH0747051B2 JPH0747051B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=18006258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31052392A Expired - Lifetime JPH0747051B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 偏向静磁場による荷電重粒子線のビーム拡大装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747051B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1482519A2 (de) | 2003-05-26 | 2004-12-01 | GSI Gesellschaft für Schwerionenforschung mbH | Energiefiltereinrichtung |
| US7317192B2 (en) | 2003-06-02 | 2008-01-08 | Fox Chase Cancer Center | High energy polyenergetic ion selection systems, ion beam therapy systems, and ion beam treatment centers |
| US8658991B2 (en) | 2009-06-03 | 2014-02-25 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam irradiation apparatus utilized in medical field |
-
1992
- 1992-11-19 JP JP31052392A patent/JPH0747051B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0747051B2 (ja) | 1995-05-24 |
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