JPH06155457A - 遠心噴霧装置 - Google Patents
遠心噴霧装置Info
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- JPH06155457A JPH06155457A JP4315366A JP31536692A JPH06155457A JP H06155457 A JPH06155457 A JP H06155457A JP 4315366 A JP4315366 A JP 4315366A JP 31536692 A JP31536692 A JP 31536692A JP H06155457 A JPH06155457 A JP H06155457A
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- Japan
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- rotary disc
- particle size
- fluid
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- Prior art date
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B9/00—Making granules
- B29B9/10—Making granules by moulding the material, i.e. treating it in the molten state
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B9/00—Making granules
- B29B9/12—Making granules characterised by structure or composition
- B29B2009/125—Micropellets, microgranules, microparticles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Glanulating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
［目的］ 粒度分布のシャープな微粒子粉体を得るため
の遠心噴霧装置。 ［構成］ 上部からの駆動軸によって回転する下面が下
方に凹である回転円盤の下方の中心部に、下方より流体
を供給する遠心噴霧装置。
の遠心噴霧装置。 ［構成］ 上部からの駆動軸によって回転する下面が下
方に凹である回転円盤の下方の中心部に、下方より流体
を供給する遠心噴霧装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は回転円盤による流体の遠
心噴霧装置に関し、更に詳細には粒度分布のシャープな
微粒子を得るための遠心噴霧装置に関する。
心噴霧装置に関し、更に詳細には粒度分布のシャープな
微粒子を得るための遠心噴霧装置に関する。
【０００２】
【従来技術および発明が解決しようとする課題】回転円
盤上に溶液、融液、スラリー、エマルジョン等の流体を
供給し、遠心力でこれを噴霧し液滴を形成し、これを乾
燥または冷却固化して、主に球状の粉体を得ることは広
く行われている。この造粒方法は特に回転円盤の回転速
度を変える等の方法で、比較的容易に平均粒度を変えら
れる利点がある。しかしながら粒度分布をシャープにす
ることと、微粒子粉体を得ることについては未だ課題を
残している。
盤上に溶液、融液、スラリー、エマルジョン等の流体を
供給し、遠心力でこれを噴霧し液滴を形成し、これを乾
燥または冷却固化して、主に球状の粉体を得ることは広
く行われている。この造粒方法は特に回転円盤の回転速
度を変える等の方法で、比較的容易に平均粒度を変えら
れる利点がある。しかしながら粒度分布をシャープにす
ることと、微粒子粉体を得ることについては未だ課題を
残している。
【０００３】粒度分布をシャープにすることは、事業上
重要なことである。なぜなら一般にこのような粉体の用
途においては、粒度分布を指定されることが多く、得ら
れた粉体の粒度分布が広いと分級せざるを得ず、分級に
よって目的の粒度から外れた部分が使用できず無駄とな
る。また、一般に粉体は微粒子のもの程市場価格が高く
なる傾向にある。
重要なことである。なぜなら一般にこのような粉体の用
途においては、粒度分布を指定されることが多く、得ら
れた粉体の粒度分布が広いと分級せざるを得ず、分級に
よって目的の粒度から外れた部分が使用できず無駄とな
る。また、一般に粉体は微粒子のもの程市場価格が高く
なる傾向にある。
【０００４】回転円盤による遠心噴霧で粒度分布のシャ
ープな微粉を得るためには、供給される流体を円盤上全
面に、均一な厚みのフィルム状に広げることが有効であ
る。しかし、回転円盤上に供給された液体は、供給され
た位置からそのまま円盤上を周辺に向って流れ、従って
円盤上の一部のみが噴霧に利用されるだけであり、流れ
る流体の厚さも均一にはならない。これを防ぐために回
転円盤上に数個所から液体を供給したり、円盤の軸の周
囲にドーナツ状流体供給管を設けたりすることが行われ
ているが、満足すべきシャープな粒度分布を持った微粒
子粉体が得られていないのが現状である。
ープな微粉を得るためには、供給される流体を円盤上全
面に、均一な厚みのフィルム状に広げることが有効であ
る。しかし、回転円盤上に供給された液体は、供給され
た位置からそのまま円盤上を周辺に向って流れ、従って
円盤上の一部のみが噴霧に利用されるだけであり、流れ
る流体の厚さも均一にはならない。これを防ぐために回
転円盤上に数個所から液体を供給したり、円盤の軸の周
囲にドーナツ状流体供給管を設けたりすることが行われ
ているが、満足すべきシャープな粒度分布を持った微粒
子粉体が得られていないのが現状である。
【０００５】本発明の目的は、回転円盤上全体に流体を
均一に広げて噴霧し、均一な微液滴を作ることにより、
粒度分布のシャープな微粒子粉体を得ることにある。本
発明者は、流体を均一に広げるためには、遠心力がゼロ
である回転円盤の中心に液を供給すべきことに着目し、
しかも得られた粉体の回収の容易さから、円盤の回転駆
動装置は回転円盤の上方に設けるべきであることを考慮
して本発明に達したものである。
均一に広げて噴霧し、均一な微液滴を作ることにより、
粒度分布のシャープな微粒子粉体を得ることにある。本
発明者は、流体を均一に広げるためには、遠心力がゼロ
である回転円盤の中心に液を供給すべきことに着目し、
しかも得られた粉体の回収の容易さから、円盤の回転駆
動装置は回転円盤の上方に設けるべきであることを考慮
して本発明に達したものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、上部
よりの駆動軸によって回転する下面が下方に凹である回
転円盤の下面の中心部に、下方より流体を供給すること
を特徴とする回転円盤による遠心噴霧装置を提供するも
のである。
よりの駆動軸によって回転する下面が下方に凹である回
転円盤の下面の中心部に、下方より流体を供給すること
を特徴とする回転円盤による遠心噴霧装置を提供するも
のである。
【０００７】本発明に用いられるディスクは、遠心力に
よって流体が回転円盤下面上を流れるため、回転円盤の
下面は下方に凹である必要がある。回転円盤の周辺に
は、たとえばスプロケット状とする等各種の細工を加え
ることができる。
よって流体が回転円盤下面上を流れるため、回転円盤の
下面は下方に凹である必要がある。回転円盤の周辺に
は、たとえばスプロケット状とする等各種の細工を加え
ることができる。
【０００８】また回転円盤の上方及び／又は下方より加
熱あるいは冷却気体を吹き付けることができる。特に下
方より気体を吹き付ける場合は、気体供給管の中に流体
供給管を通すことができる。
熱あるいは冷却気体を吹き付けることができる。特に下
方より気体を吹き付ける場合は、気体供給管の中に流体
供給管を通すことができる。
【０００９】更に、回転円盤を円盤上部より電磁誘導加
熱すれば、最も有利に冷却造粒により粒度分布のシャー
プな微粒子粉体が得られる。
熱すれば、最も有利に冷却造粒により粒度分布のシャー
プな微粒子粉体が得られる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、回転円盤上全体に流体
が均一に広がるため、粒度分布のシャープな微粒子粉体
を作ることができる。
が均一に広がるため、粒度分布のシャープな微粒子粉体
を作ることができる。
【００１１】
【実施例】大川原化工機（株）製スプレードライヤーＯ
Ｃ−１６を用いて実施した。図１に示すようにディスク
１の上、下方向より２５０℃の熱窒素を吹きつけ、下方
の窒素吹込管中を通っている流体供給管より回転円盤
（１１０ｍｍφ）の中心に５ｋｇ／時で、２５０℃の溶
融ナイロンにオリゴマー（数平均分子量４０００）を供
給した。回転円盤は電磁誘導加熱によって３００℃に加
熱し、２５００ｒｐｍで回転させた。冷却用窒素の温度
は４０℃、窒素排出管での窒素温度は１００℃あった。
得られたナイロンにオリゴマー粉体は球状で、レーザー
粒度分布測定機（島津製作所（株）製ＳＡＬＤ１１０
０）によれば平均粒度２０μｍ、５μｍ〜２５μｍの粒
度の部分が８３重量％であった。
Ｃ−１６を用いて実施した。図１に示すようにディスク
１の上、下方向より２５０℃の熱窒素を吹きつけ、下方
の窒素吹込管中を通っている流体供給管より回転円盤
（１１０ｍｍφ）の中心に５ｋｇ／時で、２５０℃の溶
融ナイロンにオリゴマー（数平均分子量４０００）を供
給した。回転円盤は電磁誘導加熱によって３００℃に加
熱し、２５００ｒｐｍで回転させた。冷却用窒素の温度
は４０℃、窒素排出管での窒素温度は１００℃あった。
得られたナイロンにオリゴマー粉体は球状で、レーザー
粒度分布測定機（島津製作所（株）製ＳＡＬＤ１１０
０）によれば平均粒度２０μｍ、５μｍ〜２５μｍの粒
度の部分が８３重量％であった。
【００１２】
【比較例】回転円盤として、白熱電球の笠状であり、上
方より供給された流体が回転円盤分の穴を通り円盤下面
に流れるようになっている直径１１０ｍｍφの円盤を用
いた。図２のように回転円盤を取り付け、上方よりナイ
ロン１２オリゴマーを供給する以外実施例と同一の条件
でナイロンにオリゴマー粉体を得た。粉体は球状で実施
例１と同様の測定によれば、平均粒度７２μｍ、６０μ
ｍ〜８０μｍの粒度の部分は３２重量％であった。
方より供給された流体が回転円盤分の穴を通り円盤下面
に流れるようになっている直径１１０ｍｍφの円盤を用
いた。図２のように回転円盤を取り付け、上方よりナイ
ロン１２オリゴマーを供給する以外実施例と同一の条件
でナイロンにオリゴマー粉体を得た。粉体は球状で実施
例１と同様の測定によれば、平均粒度７２μｍ、６０μ
ｍ〜８０μｍの粒度の部分は３２重量％であった。
【図１】本発明の回転円盤による遠心噴霧装置の図。
【図２】上方より流体を供給する遠心噴霧装置の要部
図。
図。
１ 回転円盤 ２ モーター ３ 軸 ４ 電磁誘導加熱装置 ５ 上部熱窒素吹込管 ６ 下部熱窒素吹込管 ７ 流体供給管 ８ 冷却用窒素吹込管 ９ 窒素排出管 １０ 流体の流れる穴
Claims (1)
- 【請求項１】 上部からの駆動軸によって回転する下面
が下方に凹である回転円盤の下面の中心部に、下方より
流体を供給して遠心噴霧させることを特徴とする回転円
盤による遠心噴霧装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315366A JP3000323B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 遠心噴霧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4315366A JP3000323B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 遠心噴霧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06155457A true JPH06155457A (ja) | 1994-06-03 |
| JP3000323B2 JP3000323B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=18064551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4315366A Expired - Lifetime JP3000323B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 遠心噴霧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000323B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114602198A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-06-10 | 山东卫康生物医药科技有限公司 | 一种功能性壳寡糖制备用防粘壁离心式喷雾干燥装置 |
| JP2022543985A (ja) * | 2019-06-28 | 2022-10-17 | イージュール，アイエヌシー． | 処理システムの反応室の内側のアシストガス流 |
-
1992
- 1992-11-25 JP JP4315366A patent/JP3000323B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022543985A (ja) * | 2019-06-28 | 2022-10-17 | イージュール，アイエヌシー． | 処理システムの反応室の内側のアシストガス流 |
| CN114602198A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-06-10 | 山东卫康生物医药科技有限公司 | 一种功能性壳寡糖制备用防粘壁离心式喷雾干燥装置 |
| CN114602198B (zh) * | 2022-03-24 | 2023-11-24 | 山东卫康生物医药科技有限公司 | 一种功能性壳寡糖制备用防粘壁离心式喷雾干燥装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3000323B2 (ja) | 2000-01-17 |
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