JPH061558B2 - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPH061558B2 JPH061558B2 JP61026407A JP2640786A JPH061558B2 JP H061558 B2 JPH061558 B2 JP H061558B2 JP 61026407 A JP61026407 A JP 61026407A JP 2640786 A JP2640786 A JP 2640786A JP H061558 B2 JPH061558 B2 JP H061558B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- organic phosphorus
- phosphorus compound
- optical disk
- polycarbonate resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザ光の反射または透過により信号の記録
や、記録された信号の読み出しを行なう光ディスクに関
するものである。
や、記録された信号の読み出しを行なう光ディスクに関
するものである。
従来の技術 現在光ディスクとして、ディジタルオーディオディスク
（コンパクトディスク）や光学式ビデオディスクが市販
されている。これらは再生専用型の光ディスクであり、
予め情報がディスクの中に入っている。これらの再生専
用型の光ディスクが実用化されるにともない、情報記録
用としての追記型あるいは書換型の光ディスクの開発も
盛んに行なわれている。この追記型、書換型の光ディス
クは、画像、文書、データなどの情報の有望なメモリ媒
体となる可能性が大きい。
（コンパクトディスク）や光学式ビデオディスクが市販
されている。これらは再生専用型の光ディスクであり、
予め情報がディスクの中に入っている。これらの再生専
用型の光ディスクが実用化されるにともない、情報記録
用としての追記型あるいは書換型の光ディスクの開発も
盛んに行なわれている。この追記型、書換型の光ディス
クは、画像、文書、データなどの情報の有望なメモリ媒
体となる可能性が大きい。
これらの光ディスクの基板材料としては、ガラスあるい
は透明な樹脂が用いられるが、樹脂の場合には、一般に
次の様な性能が要求される。
は透明な樹脂が用いられるが、樹脂の場合には、一般に
次の様な性能が要求される。
(i)成形性が良好で金型の転写性が良好であること。
(ii)光線透過率が大きいこと。
(iii)光学的異方性（今後複屈折とよぶ）が小さいこ
と。
と。
(iv)機械的強度が良好なこと。
(v)耐候性に優れており初期の物理的物性をできるだけ
長時間保持すること。
長時間保持すること。
(vi)記録材料の密着性が良いこと。
光ディスク用樹脂としては、アクリル樹脂やポリカーボ
ネイト樹脂などの光学特性に優れた樹脂が用いられる。
ネイト樹脂などの光学特性に優れた樹脂が用いられる。
一方、蒸着材料についてみると、再生専用型の光ディス
クの場合には、ディスク基板の上にアルミニウムを蒸着
している。追記型、書換型の光ディスクの場合には、溶
融タイプ、相転移タイプ、光磁気タイプそれぞれに種々
の材料が、開発されている。前記したように、光ディス
ク基板は、これら記録膜に対して化学的に反応して腐食
するなどの悪影響を及ぼさない。すなわち、ブリード性
や揮発性が高く、記録膜の劣化を促進するものを含んで
いないことが必要である。
クの場合には、ディスク基板の上にアルミニウムを蒸着
している。追記型、書換型の光ディスクの場合には、溶
融タイプ、相転移タイプ、光磁気タイプそれぞれに種々
の材料が、開発されている。前記したように、光ディス
ク基板は、これら記録膜に対して化学的に反応して腐食
するなどの悪影響を及ぼさない。すなわち、ブリード性
や揮発性が高く、記録膜の劣化を促進するものを含んで
いないことが必要である。
発明が解決しようとする問題点 ポリカーボネイト樹脂中には通常、成形時での熱劣化
（熱分解）を抑える目的で有機リン化合物からなる酸化
防止剤が添加されている。しかし、この酸化防止剤その
ものは、記録膜に悪影響を及ぼす。特に高温多湿度雰囲
気中では、酸化防止剤が空気中の水分と反応して酸化物
質に変化し、この酸化物質が記録膜の劣化を促している
と考えられる。
（熱分解）を抑える目的で有機リン化合物からなる酸化
防止剤が添加されている。しかし、この酸化防止剤その
ものは、記録膜に悪影響を及ぼす。特に高温多湿度雰囲
気中では、酸化防止剤が空気中の水分と反応して酸化物
質に変化し、この酸化物質が記録膜の劣化を促している
と考えられる。
本発明は、ポリカーボネイト樹脂がディスク基板の上の
記録膜に悪影響を及ぼすという問題点を解決するもので
あり、記録膜に対して化学的に反応して腐食するなどの
悪影響を及ぼさない光ディスク用ポリカーボネイト樹脂
を用いた光ディスクを提供するものである。
記録膜に悪影響を及ぼすという問題点を解決するもので
あり、記録膜に対して化学的に反応して腐食するなどの
悪影響を及ぼさない光ディスク用ポリカーボネイト樹脂
を用いた光ディスクを提供するものである。
問題点を解決するための手段 本発明の光ディスクは、有機リン化合物をリン原子換算
で０．００２重量％以下含有する、平均分子量が１３０
００〜２２０００のビス（ヒドロキシフェニル）アルカ
ン系ポリカーボネイト樹脂からなる光ディスク基板とＴ
ｅとＯとＰｄの三成分からなる膜とから構成することに
よって得られる。
で０．００２重量％以下含有する、平均分子量が１３０
００〜２２０００のビス（ヒドロキシフェニル）アルカ
ン系ポリカーボネイト樹脂からなる光ディスク基板とＴ
ｅとＯとＰｄの三成分からなる膜とから構成することに
よって得られる。
作用 ポリカーボネイト樹脂に添加する有機リン化合物の添加
量をリン原子換算で０．００２重量％以下にすること、
膜の構成をＴｅとＯとＰｄの三成分とすることにより膜
の腐食化を抑えることができる。
量をリン原子換算で０．００２重量％以下にすること、
膜の構成をＴｅとＯとＰｄの三成分とすることにより膜
の腐食化を抑えることができる。
実施例 本発明において、該ビス（ヒドロキシフェニル）アルカ
ン類としては、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（この後ビスフェノールＡと略す）、２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２．２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２．２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどがあげられる。
また、ポリカーボネイト樹脂の平均分子量は１３０００
〜２２０００である必要がある。
ン類としては、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（この後ビスフェノールＡと略す）、２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２．２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２．２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタンなどがあげられる。
また、ポリカーボネイト樹脂の平均分子量は１３０００
〜２２０００である必要がある。
なお、平均分子量は通常の粘度法によって算出した値で
ある。平均分子量が２２０００以上のポリカーボネイト
樹脂を射出成形して光ディスク基板を得ようとした場
合、溶融粘度が高く、流動性が低下するために光ディス
ク基板の複屈折が大きくなる。一方、平均分子量が１３
０００以下のポリカーボネイト樹脂の場合には、機械的
な特性が著しく低下し、光ディスク基板にはなり得な
い。
ある。平均分子量が２２０００以上のポリカーボネイト
樹脂を射出成形して光ディスク基板を得ようとした場
合、溶融粘度が高く、流動性が低下するために光ディス
ク基板の複屈折が大きくなる。一方、平均分子量が１３
０００以下のポリカーボネイト樹脂の場合には、機械的
な特性が著しく低下し、光ディスク基板にはなり得な
い。
また、本発明に使用される有機リン化合物は、成形時で
の熱劣化（熱分解）を抑える目的で酸化防止剤として添
加されているものであり、下記構造式で表わされる亜リ
ン酸エステルまたはリン酸トリメチルが好ましい。
の熱劣化（熱分解）を抑える目的で酸化防止剤として添
加されているものであり、下記構造式で表わされる亜リ
ン酸エステルまたはリン酸トリメチルが好ましい。
上記構造式で表わされる亜リン酸エステルとしては、式
中のＲ１，Ｒ２がブチル基、ヘキシル基、デシル基、シ
クロヘキシル基のようなアルキル基、または、フェニル
基、ノニルフェニル基のようなアリル基であり、Ｒ
３が、水素原子または前記したアルキル基またはアリル
基からなる化合物で、その具体例としては、トリフェニ
ルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイ
ト、トリス（２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト、
ジデシル−モノフェニルホスファイトなどがあげられ
る。
中のＲ１，Ｒ２がブチル基、ヘキシル基、デシル基、シ
クロヘキシル基のようなアルキル基、または、フェニル
基、ノニルフェニル基のようなアリル基であり、Ｒ
３が、水素原子または前記したアルキル基またはアリル
基からなる化合物で、その具体例としては、トリフェニ
ルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイ
ト、トリス（２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイト、
ジデシル−モノフェニルホスファイトなどがあげられ
る。
これら有機リン化合物の添加量は、ポリカーボネイト樹
脂に対して、リン原子に換算して0.002重量％以下であ
る。記録膜の構成成分の中でＰｄが存在せず、ＴｅとＯ
のみの場合、すなわち通常のテルル系低酸化物の場合に
は、有機リン化合物の添加量は、リン原子換算で０．０
００４５重量％位の少ない量であっても記録膜に対して
悪影響を及ぼす。ところが、記録膜の構成成分にＰｄを
加えることにより有機リン化合物を前記のように、リン
原子換算で０．００２重量％まで添加することができ
る。しかし、さらに添加量が多いと記録膜に対して悪影
響を及ぼし始め、膜の劣化が促進される様になる。
脂に対して、リン原子に換算して0.002重量％以下であ
る。記録膜の構成成分の中でＰｄが存在せず、ＴｅとＯ
のみの場合、すなわち通常のテルル系低酸化物の場合に
は、有機リン化合物の添加量は、リン原子換算で０．０
００４５重量％位の少ない量であっても記録膜に対して
悪影響を及ぼす。ところが、記録膜の構成成分にＰｄを
加えることにより有機リン化合物を前記のように、リン
原子換算で０．００２重量％まで添加することができ
る。しかし、さらに添加量が多いと記録膜に対して悪影
響を及ぼし始め、膜の劣化が促進される様になる。
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
実施例１〜１３ 平均分子量が15000,17000,20000の３種類、有機リン化
合物として、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
トリス（2.4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
およびリン酸トリメチルの３種類、またはその添加量が
リン原子換算で0.00005,0.0005,0.001,0.002重量％の４
通りであるビスフェノールＡからのポリカーボネイト樹
脂のペレットを用いて、その片面に螺線状のプリグルー
ブを有する厚さ1.2mm、直径１２０mmのデータファイル
用光ディスク基板を射出成形し、この基板の複屈折を測
定した。また得られた光ディスク基板のプリグルーブ面
上にＴｅとＯとＰｄの三成分からなる記録膜を３００〜
５００Åの厚さに蒸着して光ディスクを得た。この光デ
ィスクの円周方向に沿って３０μm以上の長さを有する
ディスク欠陥が全ディスク表面に何個存在するかを測定
評価用デッキで調べた。さらに得られた光ディスクを８
０℃８０％ＲＨの雰囲気内に放置して所定時間後にＣＮ
比を測定した。これらの結果を第１表に示す。
合物として、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
トリス（2.4−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
およびリン酸トリメチルの３種類、またはその添加量が
リン原子換算で0.00005,0.0005,0.001,0.002重量％の４
通りであるビスフェノールＡからのポリカーボネイト樹
脂のペレットを用いて、その片面に螺線状のプリグルー
ブを有する厚さ1.2mm、直径１２０mmのデータファイル
用光ディスク基板を射出成形し、この基板の複屈折を測
定した。また得られた光ディスク基板のプリグルーブ面
上にＴｅとＯとＰｄの三成分からなる記録膜を３００〜
５００Åの厚さに蒸着して光ディスクを得た。この光デ
ィスクの円周方向に沿って３０μm以上の長さを有する
ディスク欠陥が全ディスク表面に何個存在するかを測定
評価用デッキで調べた。さらに得られた光ディスクを８
０℃８０％ＲＨの雰囲気内に放置して所定時間後にＣＮ
比を測定した。これらの結果を第１表に示す。
なお、比較として平均分子量が２５０００のもの、有機
リン化合物の添加量がリン原子換算で０．００５重量％
の場合、および記録膜の構成成分中、Ｐｄのない場合に
ついての結果も第１表に併記した。複屈折は日本光学工
業（株）製偏光顕微鏡にセナルモンコンペンセータを付
けて、光ディスク基板の直径１１０mmの部分を測定し
た。
リン化合物の添加量がリン原子換算で０．００５重量％
の場合、および記録膜の構成成分中、Ｐｄのない場合に
ついての結果も第１表に併記した。複屈折は日本光学工
業（株）製偏光顕微鏡にセナルモンコンペンセータを付
けて、光ディスク基板の直径１１０mmの部分を測定し
た。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、有機リン化合物をリン
原子換算で０．００２重量％以下含有する、平均分子量
が１３０００〜２２０００のビス（ヒドロキシフェニ
ル）アルカン系ポリカーボネイト樹脂からなる光ディス
ク基板と、ＴｅとＯとＰｄの三成分からなる膜とから構
成することによって膜に悪影響を及ぼすことがなく、複
屈折が良好で、かつＣＮ比の低下も少ない品質の優れた
光ディスクを得ることができる。
原子換算で０．００２重量％以下含有する、平均分子量
が１３０００〜２２０００のビス（ヒドロキシフェニ
ル）アルカン系ポリカーボネイト樹脂からなる光ディス
ク基板と、ＴｅとＯとＰｄの三成分からなる膜とから構
成することによって膜に悪影響を及ぼすことがなく、複
屈折が良好で、かつＣＮ比の低下も少ない品質の優れた
光ディスクを得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 徹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−289555（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−180553（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−68296（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−184639（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−155424（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】有機リン化合物をリン原子換算で0.002重
量％以下含有する、平均分子量が13000〜22000のビス
（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリカーボネイト樹
脂からなる光ディスク基板とＴｅとＯとＰｄの三成分か
らなる膜とから構成される光ディスク。 - 【請求項２】有機リン化合物が下記構造式で表わされる
亜リン酸エステルであることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の光ディスク。 〔ただしＲ１，Ｒ２はアルキル基またはアリル基、Ｒ３
は水素原子、アルキル基またはアリル基を示す。〕 - 【請求項３】有機リン化合物がリン酸トリメチルである
ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の光デ
ィスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61026407A JPH061558B2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61026407A JPH061558B2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62184638A JPS62184638A (ja) | 1987-08-13 |
| JPH061558B2 true JPH061558B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=12192699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61026407A Expired - Lifetime JPH061558B2 (ja) | 1986-02-07 | 1986-02-07 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061558B2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-07 JP JP61026407A patent/JPH061558B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62184638A (ja) | 1987-08-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002117580A (ja) | 光ディスク基板および光ディスク | |
| US6921784B2 (en) | Polycarbonate-based molding material and optical disk substrates | |
| JP3417949B2 (ja) | 光ディスク基板 | |
| JPWO1997022649A1 (ja) | 光ディスク基板 | |
| KR900004755B1 (ko) | 광 디스크 | |
| JPH061558B2 (ja) | 光デイスク | |
| JPH0734268B2 (ja) | 光デイスク | |
| JP4323458B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP4399079B2 (ja) | 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および光ディスク基板 | |
| JP2002348367A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂およびそれからの成形品 | |
| JP3100862B2 (ja) | 光ディスク基板および光ディスク | |
| JPS62184639A (ja) | 光デイスク | |
| JP2011016900A (ja) | 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料、光学情報記録媒体基板および光学情報記録媒体 | |
| JP4435752B2 (ja) | 光ディスク基板 | |
| JP3768903B2 (ja) | 光ディスク基板および光ディスク | |
| JP2006328106A (ja) | 芳香族ポリカーボネート共重合体および該共重合体からなる光学用成形材料 | |
| JP4435753B2 (ja) | 光ディスク基板 | |
| JPS62148559A (ja) | デイスク用ポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 | |
| JP2004118966A (ja) | 光ディスク | |
| JPS61287923A (ja) | 光デイスク | |
| JP4733964B2 (ja) | 低複屈折性芳香族ポリカーボネート共重合体、及びそれより形成された光ディスク基板 | |
| JP3727230B2 (ja) | 光ディスク基板および光ディスク | |
| JP4422863B2 (ja) | 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および該材料よりなる光ディスク基板 | |
| JP2003064247A (ja) | ポリカーボネート樹脂組成物およびディスク基板 | |
| JP2001342337A (ja) | 光学用成形材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |