JPH06162989A - イオン注入装置 - Google Patents

イオン注入装置

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JPH06162989A
JPH06162989A JP4335438A JP33543892A JPH06162989A JP H06162989 A JPH06162989 A JP H06162989A JP 4335438 A JP4335438 A JP 4335438A JP 33543892 A JP33543892 A JP 33543892A JP H06162989 A JPH06162989 A JP H06162989A
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JP
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ion
ion beam
deflection electrode
electrode
downstream side
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JP4335438A
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Yoshiaki Agawa
阿川  義昭
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Ulvac Inc
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Abstract

(57)【要約】 [目的] 不純物除去装置においてイオンビームをイオ
ン加速管の軸心に平行、且つ最大電流となるように調節
可能なイオン注入装置を提供すること。 [構成] 下流側偏向電極部14の中心軸上にファラデ
ーカップ20が位置し得るようにモータ24、これによ
って駆動される駆動ロッド25を配設させる。ファラデ
ーカップ20が受けるイオン電流を電流計28により測
定する。この電流が最大となるように電極14aに印加
する電圧を調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はイオン注入装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】図8は従来例のイオン注
入装置を示すものであるが、高電圧ターミナル2はほぼ
直方形状を呈しており、これはシールドボックス1によ
りその全体は遮蔽されており、この一側面とシールドボ
ックス1の対向する内壁面との間に公知の構造の加速管
3が取り付けられており、またこれと並列に同じく同側
面と対向するシールドボックス1の内壁面との間に排気
管4が取り付けられている。高電圧ターミナル2は、図
示せずともシールドボックス1の床面上に複数の絶縁支
柱により支持されており、またこの底面とシールドボッ
クス1の床面との間には高電圧ターミナル2に高電圧、
例えば400kVを印加するための、例えばコッククロ
フトウォルトン型でなる高電圧発生装置が設けられてお
り、且つ高電圧ターミナル2内には図示するように円弧
状の質量分離磁石5やイオン源6などを配設している
が、これらに電力を供給するための電力供給装置は同じ
く高電圧ターミナル2とシールドボックス1の床面との
間に配設されている。イオン源6は真空ポンプ7により
排気されるが、大気側には更にメインとしての真空ポン
プ8が配設されており、これにより排気管4を介し、且
つ高電圧ターミナル2内の分岐管10を介してバックア
ップされ、高電圧ターミナル2内の補助的な真空ポンプ
7により、所定の減圧度にイオン源6とこれと質量分離
磁石5とを接続している真空配管9と更に質量分離磁石
5と同真空配管9の端部を介して接続され、図2でその
詳細が示される不純物除去装置11、更にはこれに配管
11aを介して接続されるイオン加速管3内などを所望
の減圧下に排気する。分岐管10と補助的な真空ポンプ
7とはベローズQ1 により接続され、また不純物除去装
置11と分岐管10とはベローズQ2 により接続され、
これらを介して真空ポンプ7、8によりそれぞれの装置
が所定の減圧度に排気される。また、加速管3の外周部
には公知のように等間隔で取り付けられた金属フープ3
aが取り付けられており、また同様にして排気管4の外
周部にも加速管3の金属フープ3aに対向して、同じ数
の金属フープ4aが取り付けられている。
【0003】次に図9を参照して不純物除去装置11の
詳細に付いて説明する。尚、図8に対応する部分につい
ては同一の符号を付すものとする。
【0004】不純物除去装置11は断面が円形の本体1
8を備えており、この内部は上述したようにして真空ポ
ンプ7、8により、所定の減圧度に排気されているので
あるが、この内部には質量分離磁石5側、すなわちイオ
ンビームBの上流側に偏倚して平板状の一対の電極13
a、13bからなる上流側偏向電極部13、及びこれか
ら所定の距離をおいて下流側に、やはり平板状の一対の
電極14a、14bからなる下流側偏向電極部14を備
えており、上流側偏向電極部13において下方の電極1
3bは接地され、同様に下流側偏向電極部14の上方の
電極14aが接地されている。また上流側偏向電極部1
3の上方の電極13aは、電圧印加端子15を介して電
源17の−電位が印加される。また、下流側偏向電極部
14においても下方の電極14bは電圧印加端子16を
介して、同じく電源17の−電位が印加される。電圧印
加端子15、16は導線19により接続され、これを介
して上述の電源17に接続されている。なお、電圧印加
端子15、16は明示せずとも本体18とは電気的に絶
縁された構成を有するものとする。以下同様である。
【0005】電圧印加端子15、16は同一の構成(但
し、後者は前者より若干長い。)を有する。一方の電圧
印加端子15において、その筒部15aはコイルばねを
内蔵しており、これにより筒部15aに摺動自在に嵌合
しているピン15bを常に下方に付勢しており、従っ
て、電極13aはピン15bにより圧接して電源17の
−電位が印加されている。同様にして下流側偏向電極部
14の下方の電極14bに電圧を印加している電圧印加
端子16の筒部16aにもコイルばねを内蔵させてお
り、このばねの付勢力により筒部16aに摺動自在に嵌
合しているピン16bを電極14bに押圧している。
尚、上流側偏向電極部13、下流側偏向電極部14の電
極13a、13b間及び14a、14b間は同一距離で
ある。
【0006】従来のイオン注入装置は以上のように構成
されているのであるが、次にその作用にについて説明す
る。
【0007】まず、本装置の使用にあたり真空ポンプ7
及び8により、分岐管10、真空配管9などを介して所
定の減圧度に排気される。また、図示されていなくと
も、高電圧ターミナル2の下方に配設された高電圧発生
装置及び電力供給装置から高電圧ターミナル2に400
kVの高電圧が印加され、また質量分離磁石5、イオン
源6などには必要な電力が供給されている。他方、イオ
ン源6にはやはり図示しないタンクから材料が導入さ
れ、上述の電力供給装置から電力がイオン源、あるいは
図示しない引き出し電極などに電力が供給されると、イ
オン源6に導入された材料ガスは電源のパワーを得て分
離し、プラズマが形成される。このイオン源6に印加さ
れた+の電圧により、イオンが高電圧ターミナル2に印
加されている400kVの電位まで引き出され、質量分
離磁石5に入射したイオンはローレンツ力を受けて所定
の軌跡を描き、不純物除去装置11内に入射する。
【0008】不純物除去装置11内には上流側偏向電極
部13、下流側偏向電極部14が設けられているのであ
るが、これら一方の電極13a、14bには電源17の
共通の−電位が加えられているので、質量分離磁石5か
ら真空配管9を通って不純物除去装置11内に導入され
たイオンビームBは、上流側偏向電極部13で図示する
ように偏向され、更に所定の距離に配設された下流側偏
向電極部14内に至るのであるが、ここにおいても電極
14aには上流側の電極13aと同じ電位が加えられて
いることにより、今度は反対方向に偏向される。そし
て、これまでに真空中の残留粒子とイオンの衝突により
発生した、所望するイオンとエネルギー及び価数におい
て異なったイオン及び中性粒子などは、下流側偏向電極
部14から導出されるときには、既に除去されている。
よって、一定のエネルギーと価数を持った所望するイオ
ンのみが不純物除去装置11を通り加速管3内に入射さ
れる。
【0009】加速管3内に入射したイオンは、図示され
ていないが高電圧発生装置によって高電圧ターミナル2
に印加された400kVという電圧と、加速管3に入射
した所望のイオンの価数との積のエネルギーを持って、
グランド電位まで加速される。このようにして加速され
たイオンは、走査電極ユニット12内に配設されたX−
Yの一対づつ対向して配設されている電極に印加されて
いる、ある周波数の電圧によって偏向され、これより下
流側に配設されている試料表面上に照射されることにな
る。
【0010】従来のイオン注入装置は以上のように構成
され、且つ作用を行なうのであるが、以上の作用は理論
上考えられるものであり、実際には不純物除去装置11
内に配設されている上流側偏向電極部13及び下流側偏
向電極部14の偏向精度やその調整が不完全であり、計
算上の通過するべきイオンビームBの軌跡からそれた軌
跡で走行し、実際には入射電流に対する不純物除去装置
11を通過後のイオンビーム電流値が大巾に減少してい
ることがある。従来はこれを発見することも困難であっ
た。
【0011】また、このように理論上、計算上の軌跡と
イオンビームがずれていると、イオンビームが上流側偏
向電極部13、下流側偏向電極部14の電極板と衝突す
ることとなる。これが電極13a、13b、14a、1
4bを損傷することがある。あるいは、電極13a、1
3b、14a、14bに衝突するようなことがなくて
も、理論上のビーム軌跡と大きくずれることにより加速
管3にはこの軸心に沿って入射しなければ、この内部の
電極と衝突して二次電子を発生させることになる。その
結果多量のX線の発生を招くこととなる。これではこの
外部で作業している作業者に健康上の弊害を与えるのみ
ならず、正確なイオン照射ができなくなる。
【0012】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は上述の問題
に鑑みてなされ、試料に照射すべきイオンの軌跡を、理
論上の軌跡に一致させるようにすることができるイオン
注入装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】以上の目的は、質量分析
マグネットと、該質量分析マグネットから導出されるイ
オンビームを所定角度偏向させるための第1偏向電極
と、前記所定角度と等しい角度で反対方向に前記イオン
ビームを偏向させるための第2偏向電極と、該第2偏向
電極から導出される前記イオンビームのイオンを加速す
るための加速管とを備えたイオン注入装置において、前
記第2偏向電極と前記加速管との間にイオンビーム測定
器を設けたことを特徴とするイオン注入装置によって達
成される。
【0014】
【作用】イオンビーム測定器としてはイオン電流を測定
する機器、あるいはその形状や強度分布を測定する機器
などが考えられるが、下流側、すなわち第2偏向電極か
ら導出されたイオンビームをこれが受けると、電流値、
形状若しくは強度分布が検出され、この検出結果から計
算上のあるいは理論上の軌跡からイオンビームの中心が
どれだけずれているかを判定することができ、この判定
結果に基いて、例えば第2偏向電極または第1偏向電極
に加える電圧を調整することにより、理論上のイオンビ
ームの軌跡に一致させることができる。
【0015】
【実施例】次に、本発明のイオン注入装置について、図
1乃至図7を参照して説明する。尚、従来例に対応する
部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省
略する。
【0016】図1は第1実施例のイオン注入装置におけ
る不純物除去装置11Aを示すものであるが(他は従来
と同様)、図において第2偏向電極としての下流側偏向
電極部14の下流側で電極14a、14bの中心に、す
なわち計算上のイオンビームBの中心に対向し得るよう
にファラデーカップ20が設けられている。すなわちフ
ァラデーカップ20は公知の構造を有するのであるが、
ロッド25の先端部に固定されており、ロッド25は本
体18の外方に配設されたモータ24の駆動により矢印
aに示す方向に上下動する構成となっている。尚、モー
タ24は図示せずとも回転−直線運動変換機構を備えて
いるものとする。ロッド25は真空ベローズ23によ
り、大気と真空とを遮断する構造を備えており、ベロー
ズ23の下端部はロッド25に対してシール作用を行な
っている。モータ24は真空フランジ構造26を介して
本体18に固定されている。また、このモータ24と電
圧印加端子15との間には調整電圧印加端子40が取り
付けられており、これも上流側及び下流側の電圧印加端
子15、16と同様な構成を有するものであるが、その
筒部40aはコイルばねを有し、これによりピン40b
を摺動自在に嵌合させているが、これをそのばね力によ
り一方の偏向電極14aに圧接させている。また、この
端子40には−及び+の電位を切り換え可能で、且つそ
の大きさを調節自在な電源27を接続させている。
【0017】また、ファラデーカップ20は導線22を
介して電流導出端子21に接続され、これは本体18に
固定されており、更にこれは電流計28に接続されてい
る。
【0018】本発明の第1実施例によるイオン注入装置
は以上のように構成されているが、次にその作用につい
て説明する。
【0019】質量分離磁石5から導出されるイオンビー
ムBは上流側偏向電極部13により所定の角度に偏向さ
れた後、下流側偏向電極部14により反対側に偏向され
るのであるが、本実施例ではファラデーカップ20によ
りこのイオン電流が測定されることになっている。すな
わち、通常はファラデーカップ20は図示よりも本体1
8の上壁に近接した位置をとっている。すなわち、下流
側偏向電極14から導出されるイオンビームBの加速管
3への走行を妨害しないように構成されている。このイ
オン注入装置の駆動にあたっては、イオンビームBの軌
跡を調整しなければならないが、このためにファラデー
カップ20はモータ24の駆動により駆動ロッド23を
下方へと移動させる。これによりファラデーカップ20
を図示した位置に置く。
【0020】この状態でイオンビームBはファラデーカ
ップ20で受けられるが、その中心からのずれ、すなわ
ち計算上の軌跡からのずれに応じて、電流値は入射電
流、すなわち第1偏向電極13、すなわち上流側の電極
の上流側で測定された入射電流の大きさと比べて、ずれ
が大きくなるほどこれが小さくなる。理想的にはこれと
一致すれば良い。これを目標として、ファラデーカップ
20は上下方向に移動されるのであるが、この駆動と同
時に導線22を介して電流計28によりファラデーカッ
プ20により受けられたイオンビームの電流を測定す
る。そうしてこの電流が最大値となる位置、すなわち入
射電流と同値となる位置において、イオンビームBの中
心が一致しているのであるから、第2偏向電極14には
これからのずれに対応する電圧を印加すればよい。本実
施例では、これを調節するためにファラデーカップ20
を計算上のビームの位置に、すなわち中心線に沿って配
設し、ファラデーカップ20を上述のように上下に移動
することにより、計算上の軌跡からどれくらいのずれが
あるかを知ることができるのであるが、これに代えて図
示の位置において、下流側の偏向電極部14の上側の電
極14aに調整電圧印加端子40から+または−の電圧
を印加する。電極14aに調整電圧を印加することによ
り、上流側の偏向電極部13から走行してくるイオンビ
ームBの水平方向に曲がる角度を調節することができ、
例えば+の電位を大きくすることにより、更に水平方向
への曲がりを大きくし、あるいは−の電位を与えてこれ
を小さくすれば、上方への曲がり角度を調節することが
できる。このような調節により中心上に配設されたファ
ラデーカップ20に到達するイオンの個数の最大値、す
なわちイオン電流の最大値を得るように、−または+の
電位の大きさを調節する。この位置で電位を固定し、フ
ァラデーカップ20をモータ24の駆動により上方へと
移動させ、以下通常のイオン注入作用を行なう。すなわ
ち、イオン加速管3の下流側に配設された試料にイオン
を照射する。
【0021】本発明の実施例は以上のように構成され、
且つ作用を行なうので、イオンビームをイオン加速管3
の軸心に沿って導入することができ、これの下流側に配
設された試料には常に所望のイオンを最適条件で照射す
ることができる。
【0022】図2及び図3は本発明の第2実施例のイオ
ン注入装置における不純物除去装置11Bの要部を示す
ものであるが、第1実施例と同様な部分については同一
の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【0023】すなわち、本実施例によれば下流側偏向電
極部14の下流側には、これに近接してクォーツ(水
晶)の円板42が所定の角度でイオンビームBと直交す
る方向から面を傾けて取り付けられており、これは第1
実施例と同様にモータ44の駆動により、上下方向に真
空ベローズ23の伸縮により移動可能であるが、通常は
図示よりも上方の位置にあって、すなわち本体18の上
壁部に近接して配置されており、イオンビームBの加速
管3への進入を阻止しない位置にあり、このイオン注入
装置の使用開始にあたっては、イオンビームBの軌跡の
調節を行なわなければならいが、これに先立ちイオンビ
ームBを水平の軌跡に置く調節を行なう。また、本実施
例によれば、本体18の側壁部に観測窓50が配設され
ており、これを介して本体18内でクォーツ42を図示
した位置に置いたときにこれを観測することができる。
【0024】本実施例によればイオンビームBの調節作
用においては、モータ44の駆動によりベローズ23を
伸ばし、クォーツ42を図示した位置に置く。すなわ
ち、イオンビームBをビームの中心とこの円板42の中
心とを一致させる位置に置く。この位置決めは、例えば
ベローズが伸びるときに静止部にストッパを設け、そこ
で自動的に位置決めし、停止させるようにしておけばよ
い。この位置でイオンビームBを走行させると、イオン
ビームBがクォーツ42に衝突することによりこの部分
が発光する。ビームが当たった所で発光するので、ビー
ムの形状ならびにその中心位置が観測窓50により観測
できる。よって、このビームBの衝突したクォーツ42
上のスポットの位置の調節には、例えば円板の中心に何
らかの印をしておけば、この位置にあうように第1実施
例と同様に第2偏向電極部14の電極板14aに印加す
る+または−の電位を調節することにより、クォーツ4
2の中心に衝突するように調節することができる。この
調節後、電極14aに印加する電圧をこれに固定し、且
つクォーツ42を、イオンビームBの走行を阻害しない
上方へと移動させればよい。以上、第2実施例によって
も第1実施例と同様な効果を得ることは明らかである。
【0025】図4乃至図6は本発明の第3実施例による
イオン注入装置における不純物除去装置11Cの要部及
びその作用を示すものであるが、本実施例においても第
1実施例と対応する部分については同一の符号を付し、
その詳細な説明は省略する。
【0026】すなわち、本実施例では下流側偏向電極部
14の下流側に近接して、イオンビーム強度分布測定装
置Dが設けられているが、これはクランク状の針金52
を主要部として備えており、この上下端部は図5に明示
されるように、上下一対のベアリング61、62により
本体18に対し回動自在に配設されており、上側ベアリ
ング61を挿通する針金52の上方直線部52cとエン
コーダ付きモータ60の駆動軸と直結している。また下
側ベアリング62から突出する針金52の下方直線部5
2bは電気的に電流計70に接続されている。
【0027】以上のようなクランク状の針金52は理論
上、または計算上のイオンビームBの外形線に対し、図
6に示すような位置関係をある角度範囲で針金52との
間でとるように配設されており、従って図6のaとeは
180度間隔の各位置を示すものであるが、これらの位
置ではイオンビームBを切ることはなく、またこの角度
範囲内のb、c、dではエンコーダ付きモータ60の回
転によりイオンビームBの径が一定であるので、又、且
つほぼ円形であるのでcの角度位置をとるまでの間、エ
ンコーダ付きモータ60が等速回転をするものとすれ
ば、針金52がイオンビームBを横断しながらイオンイ
オンビームB中のイオンがこの針金52の直線部52a
を通って電流計70に至るように構成されており、イオ
ンイオンビームBの断面が理想的に図6に示すように円
形であり、且つエンコーダ付きモータ60が等速回転を
するものとすればほぼ正規分布に近い強度分布を示すは
ずである。
【0028】本実施例ではこのような関係を利用するこ
とにより、イオンイオンビームBの軌跡のずれを判定す
るようにしている。
【0029】すなわち、エンコーダ付きモータ60の回
転により、クランク状の針金52が図5に示すように実
線、一点鎖線、二点鎖線、三点鎖線及び四点鎖線で示す
ような角度位置をとるのであるが、これが図6のa〜e
に対応する位置であり、またエンコーダ付きモータ60
はその角度位置を検出して電流を測定するようにしてい
るので、もし図6で示すようなほぼ正規分布状の電流が
得られれば、イオンイオンビームBは計算上の軌跡、す
なわち水平線に一致しているものと判定することができ
るが、これからずれていればcの角度位置では最大値と
ならず、これよりずれた位置で最大値となるので、これ
によりそのずれの大きさを検出することができ、これに
応じて下流側の偏向電極部14の電極14aに印加する
電圧を調整することにより、図6で示すような強度分布
Hを得ることができる。すなわち、計算上のイオンビー
ムの軌跡に合わすことができる。
【0030】図7は本発明の第4実施例によるイオン注
入装置における不純物除去装置11Dを示すものである
が、上記実施例と対応する部分については同一の符号を
付し、その詳細な説明は省略する。
【0031】すなわち、本実施例によれば下流側偏向電
極部80の電極板80a、80bの距離d2 は上流側偏
向電極部13の電極13a、13b間の距離d1 より大
とされているが、それぞれの電極13a、80bには同
一の−電位が加えられており、下流側偏向電極部80の
電極80aには調整電圧印加端子85を介して可変電圧
電源90の+電位が印加されるように構成されている。
電源90の電位はその大きさが調整自在である。
【0032】本実施例においては下流側偏向電極部80
の電極80a、80b間の距離d2は上流側偏向電極部
13の電極13a、13b間d1 より大であるがため
に、上流側偏向電極部13により一定角度上側に曲げら
れたとしても、下流側偏向電極部80の下方の電極80
bにより、もし上側の電極80aが接地されていれば、
水平に向かう傾斜の大きさは小さくなるが、上側電極8
0aには+電位を調節自在な電源90が接続されている
ことにより、これによりイオンビームBを水平状態に置
くことができる。電極80aに印加される電源90から
の電位により、水平状態になるようにイオンイオンビー
ムBを調節することができるのであるが、上流側の電極
13a、13b間の距離d1 が相当小さく、これと同一
とすれば少しのずれがあっても、下流側偏向電極部80
のいずれかの電極80a、80bに衝突する可能性は大
となるのであるが、これを大とすることにより多少のず
れがあっても、電極80a、80bに衝突することな
く、イオンイオンビームBを安全に計算上の軌跡に置く
ことができる。その他の効果は上記実施例と同様である
ことは明らかである。
【0033】以上、本発明の各実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基いて種々の変形が可能である。
【0034】例えば、以上の実施例ではイオンイオンビ
ームBの測定を行なうのに、電流を測定する場合にはフ
ァラデーカップ20、イオンビームの位置または形状を
測定する場合にはクォーツ42、またイオンイオンビー
ムBの強度分布を測定する場合にはクランク形の針金5
2を用いたが、これらに限定することなく、公知の測定
器が使用可能であり、またイオンイオンビームBのパラ
メータとして他の特性を測定してもよく、またこの計算
上からのずれを補正するために、下流側で下流側偏向電
極部14の一方の電極に+または−の大きさの調節自在
の電位を印加するようにしたが、これに代えて電極を上
下動するように構成してもよく、この場合は従来と同様
に接地したままでイオンイオンビームBの軌跡を調節さ
せるようにしてもよい。
【0035】また、以上の実施例では下流側の偏向電極
の一方の電極に加える電位を変えるようにしたが、これ
に代えて上流側の偏向電極の一方の電極に印加する電圧
を調整するようにしてもよい。
【0036】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のイオン注入
装置によれば、不純物としてのイオンまたは中性粒子を
確実に除去することができながら、加速管の軸心に平行
にし、かつ最大電流としてイオンビームを試料へと到達
させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例によるイオン注入装置の要
部の縦断面図である。
【図2】本発明の第2実施例によるイオン注入装置の要
部の縦断面図である。
【図3】図2における[3]−[3]線方向断面図であ
る。
【図4】本発明の第3実施例によるイオン注入装置の要
部の概略縦断面図である。
【図5】図4の装置の更に要部の拡大斜視図である。
【図6】同実施例の作用を説明するための要部の各構成
要素とイオンビームBとの関係を示す模式図である。
【図7】本発明の第4実施例によるイオン注入装置の要
部の縦断面図である。
【図8】従来例のイオン注入装置の断面平面図である。
【図9】図8における要部の縦断面図である。
【符号の説明】
20 ファラデーカップ 21 電流導出端子 22 導線 24 モータ 25 ロッド 27 電源 28 電流計 40 調整電圧印加端子 42 クォーツ 43 ロッド 44 モータ 50 観測窓 52 針金 60 エンコーダ付きモータ 80 下流側偏向電極部 80a 電極 80b 電極 85 調整電圧印加端子 90 電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05H 7/08 9014−2G

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 質量分析マグネットと、該質量分析マグ
    ネットから導出されるイオンビームを所定角度偏向させ
    るための第1偏向電極と、前記所定角度と等しい角度で
    反対方向に前記イオンビームを偏向させるための第2偏
    向電極と、該第2偏向電極から導出される前記イオンビ
    ームのイオンを加速するための加速管とを備えたイオン
    注入装置において、前記第2偏向電極と前記加速管との
    間にイオンビーム測定器を設けたことを特徴とするイオ
    ン注入装置。
JP4335438A 1992-11-20 1992-11-20 イオン注入装置 Pending JPH06162989A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003504820A (ja) * 1999-07-08 2003-02-04 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド ビーム電流センサを使用してイオンビーム装置を位置合わせするための方法及び装置

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JP2003504820A (ja) * 1999-07-08 2003-02-04 バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド ビーム電流センサを使用してイオンビーム装置を位置合わせするための方法及び装置

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