JPH061706A - 抗菌剤の製造方法 - Google Patents
抗菌剤の製造方法Info
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- JPH061706A JPH061706A JP3309362A JP30936291A JPH061706A JP H061706 A JPH061706 A JP H061706A JP 3309362 A JP3309362 A JP 3309362A JP 30936291 A JP30936291 A JP 30936291A JP H061706 A JPH061706 A JP H061706A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 合成樹脂に混合して使用するに適し、しかも
安全性に優れた抗菌剤の製造方法を提供すること。 【構成】 酢酸銀、亜硫酸ナトリウムおよびチオ硫酸ナ
トリウムの反応物溶液に、シリカゲルを浸漬して、シリ
カゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチオスルフ
ァト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、温度５０
℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除去し
更に１２時間真空乾燥した。こうして得られた銀錯塩を
担持したシリカゲル、メチルアルコール、テトラエトキ
シシランおよびイオン交換水を、温度５０℃、約３００
０Ｐａ以下にて溶媒成分の除去を行うと同時にシリカコ
ーティングを施し、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下に
て１２時間真空乾燥させ、抗菌剤を得た。
安全性に優れた抗菌剤の製造方法を提供すること。 【構成】 酢酸銀、亜硫酸ナトリウムおよびチオ硫酸ナ
トリウムの反応物溶液に、シリカゲルを浸漬して、シリ
カゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチオスルフ
ァト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、温度５０
℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除去し
更に１２時間真空乾燥した。こうして得られた銀錯塩を
担持したシリカゲル、メチルアルコール、テトラエトキ
シシランおよびイオン交換水を、温度５０℃、約３００
０Ｐａ以下にて溶媒成分の除去を行うと同時にシリカコ
ーティングを施し、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下に
て１２時間真空乾燥させ、抗菌剤を得た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性金属をシリカゲ
ルに担持させた抗菌剤の製造方法に関するものである。
ルに担持させた抗菌剤の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、台所や風呂場等の水回りでは、合
成樹脂製品が多く使用されている。しかし、これらの合
成樹脂製品表面には、雑菌等が発生し、不衛生であり、
また見苦しいといった問題があった。これに対して、従
来は、合成樹脂に抗菌剤を混合して雑菌等の繁殖を防止
する方法がとられていた。合成樹脂に混合される抗菌剤
としては、合成樹脂内に混合しても充分強力な抗菌作用
を示すものとして、主に有機窒素系抗菌剤が使用されて
いた。
成樹脂製品が多く使用されている。しかし、これらの合
成樹脂製品表面には、雑菌等が発生し、不衛生であり、
また見苦しいといった問題があった。これに対して、従
来は、合成樹脂に抗菌剤を混合して雑菌等の繁殖を防止
する方法がとられていた。合成樹脂に混合される抗菌剤
としては、合成樹脂内に混合しても充分強力な抗菌作用
を示すものとして、主に有機窒素系抗菌剤が使用されて
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、有機窒素系
抗菌剤は、抗菌作用が強力すぎて人体や自然環境に対す
る悪影響があるといった問題があった。一方、抗菌作用
が弱く安全な抗菌剤を用いた場合は、合成樹脂製品の表
面付近での抗菌剤の濃度が充分高くなるように調製しな
いと抗菌効果が得られないという問題があった。
抗菌剤は、抗菌作用が強力すぎて人体や自然環境に対す
る悪影響があるといった問題があった。一方、抗菌作用
が弱く安全な抗菌剤を用いた場合は、合成樹脂製品の表
面付近での抗菌剤の濃度が充分高くなるように調製しな
いと抗菌効果が得られないという問題があった。
【０００４】上述のように、合成樹脂等に混合して使用
するに適した、安全な抗菌剤は、未だ開発されていなか
った。本願は、上記課題を解決し、合成樹脂に混合して
使用するに適し、しかも安全性に優れた抗菌剤の製造方
法を提供することを目的とする。
するに適した、安全な抗菌剤は、未だ開発されていなか
った。本願は、上記課題を解決し、合成樹脂に混合して
使用するに適し、しかも安全性に優れた抗菌剤の製造方
法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の抗菌剤の製造方
法は、銀錯塩を含有する溶液にシリカゲルを浸漬して、
シリカゲルに銀錯塩を担持させた後、エバポレーターを
用いて溶媒成分を蒸発させ除去し、更に真空乾燥し、得
られたシリカゲルにコーティングを施すことを要旨とす
る。
法は、銀錯塩を含有する溶液にシリカゲルを浸漬して、
シリカゲルに銀錯塩を担持させた後、エバポレーターを
用いて溶媒成分を蒸発させ除去し、更に真空乾燥し、得
られたシリカゲルにコーティングを施すことを要旨とす
る。
【０００６】銀錯塩を含む溶液とは、例えば、チオスル
ファト銀錯塩溶液が使用可能である。その他、銀のシア
ノ錯塩溶液またはアンミン錯塩溶液などの利用も可能で
ある。チオスルファト銀錯塩溶液は、例えば、以下のよ
うにして調製する。即ち、純水またはイオン交換水３０
ｍｌを４０℃に加熱し、それに酢酸銀０．２３２ｇを加
え４０〜５０℃で約５分間攪拌した後濾過し、未溶解の
酢酸銀を除去する。あるいは、酢酸銀がすべて溶解する
まで強攪拌しても良い。こうして得られた溶液に、安定
剤として亜硫酸ナトリウム１．０ｇを攪拌しながら加え
る。亜硫酸ナトリウムを加えて白く濁った溶液が透明に
なるまで攪拌する。その後、チオ硫酸ナトリウム０．６
６ｇを加えて攪拌し、チオスルファト銀錯塩溶液とす
る。
ファト銀錯塩溶液が使用可能である。その他、銀のシア
ノ錯塩溶液またはアンミン錯塩溶液などの利用も可能で
ある。チオスルファト銀錯塩溶液は、例えば、以下のよ
うにして調製する。即ち、純水またはイオン交換水３０
ｍｌを４０℃に加熱し、それに酢酸銀０．２３２ｇを加
え４０〜５０℃で約５分間攪拌した後濾過し、未溶解の
酢酸銀を除去する。あるいは、酢酸銀がすべて溶解する
まで強攪拌しても良い。こうして得られた溶液に、安定
剤として亜硫酸ナトリウム１．０ｇを攪拌しながら加え
る。亜硫酸ナトリウムを加えて白く濁った溶液が透明に
なるまで攪拌する。その後、チオ硫酸ナトリウム０．６
６ｇを加えて攪拌し、チオスルファト銀錯塩溶液とす
る。
【０００７】こうして得られた、チオスルファト銀錯塩
溶液約３０ｍｌにたいして、平均粒子径１０μ以下のシ
リカゲルを５．０ｇ加えて、１０分間攪拌し、シリカゲ
ルに銀錯塩を担持させる。シリカゲルとしては、例えば
製品名「サイロイド＃５５」（富士デヴィソン化学
（株）社製）等が利用可能であり、平均粒子径が１〜１
０μｍ程度の物が好ましい。
溶液約３０ｍｌにたいして、平均粒子径１０μ以下のシ
リカゲルを５．０ｇ加えて、１０分間攪拌し、シリカゲ
ルに銀錯塩を担持させる。シリカゲルとしては、例えば
製品名「サイロイド＃５５」（富士デヴィソン化学
（株）社製）等が利用可能であり、平均粒子径が１〜１
０μｍ程度の物が好ましい。
【０００８】この後、チオスルファト銀錯塩溶液とシリ
カゲルとの混合物を、エバポレーターに入れて溶媒成分
を蒸発させ除去する。エバポレーターとしては、例え
ば、ロータリーエバポレーターのように、減圧下にて、
内容物を混合しながら溶媒成分を蒸発させれるものが適
しており、製品名「ロータリーエバポレーターＲＥ４
７」（ヤマト科学（株）製）等が利用可能である。溶媒
成分の除去は、約３０００Ｐａ以下程度において、温度
５０〜７０℃程度で行うのが好ましい。
カゲルとの混合物を、エバポレーターに入れて溶媒成分
を蒸発させ除去する。エバポレーターとしては、例え
ば、ロータリーエバポレーターのように、減圧下にて、
内容物を混合しながら溶媒成分を蒸発させれるものが適
しており、製品名「ロータリーエバポレーターＲＥ４
７」（ヤマト科学（株）製）等が利用可能である。溶媒
成分の除去は、約３０００Ｐａ以下程度において、温度
５０〜７０℃程度で行うのが好ましい。
【０００９】その後、得られたシリカゲルを更に真空乾
燥する。真空乾燥には、上記と同じエバポレーターを用
いることが可能であり、約３０００Ｐａ以下程度におい
て、温度５０〜７０℃程度で行うのが好ましい。こうし
て得られた銀錯塩を担持したシリカゲルに、コーティン
グを施す。コーティング材料としては、有機珪素化合物
が適しており、例えば、以下のようにしてコーティング
を施す。まず、エチルアルコール１ｍｌとテトラエトキ
シシラン（あるいはテトラメトキシシラン）１ｍｌとを
プラスティック容器に入れ、速やかに攪拌する。ここ
へ、銀錯塩を担持したシリカゲル１ｇをいれ、攪拌した
後、純水０．２ｍｌを加え、湯煎にかけ、６０℃で３０
分間攪拌し、テトラエトキシシランの加水分解が終了し
た後、過剰の水分やアルコール分を真空乾燥により蒸発
させて、シリカコーティングを施した抗菌剤を得る。
燥する。真空乾燥には、上記と同じエバポレーターを用
いることが可能であり、約３０００Ｐａ以下程度におい
て、温度５０〜７０℃程度で行うのが好ましい。こうし
て得られた銀錯塩を担持したシリカゲルに、コーティン
グを施す。コーティング材料としては、有機珪素化合物
が適しており、例えば、以下のようにしてコーティング
を施す。まず、エチルアルコール１ｍｌとテトラエトキ
シシラン（あるいはテトラメトキシシラン）１ｍｌとを
プラスティック容器に入れ、速やかに攪拌する。ここ
へ、銀錯塩を担持したシリカゲル１ｇをいれ、攪拌した
後、純水０．２ｍｌを加え、湯煎にかけ、６０℃で３０
分間攪拌し、テトラエトキシシランの加水分解が終了し
た後、過剰の水分やアルコール分を真空乾燥により蒸発
させて、シリカコーティングを施した抗菌剤を得る。
【００１０】また、上記コーティングを施す工程におい
て、有機珪素化合物を含有する溶液に上記シリカゲルを
浸漬し、湯煎にかける代わりに、テトラエトキシシラン
の加水分解が終了した後、過剰の水分やアルコール分を
エバポレーターで蒸発させることによりシリカコーティ
ングを施し、更に真空乾燥してもよい。シリカコーティ
ング及び真空乾燥には、前述と同じエバポレーターを用
いることが可能である。シリカコーティングは、約３０
００Ｐａ以下程度において、温度５０〜７０℃程度で行
うのが好ましい。また、真空乾燥も、約３０００Ｐａ以
下程度において、温度５０〜７０℃程度で行うのが好ま
しい。
て、有機珪素化合物を含有する溶液に上記シリカゲルを
浸漬し、湯煎にかける代わりに、テトラエトキシシラン
の加水分解が終了した後、過剰の水分やアルコール分を
エバポレーターで蒸発させることによりシリカコーティ
ングを施し、更に真空乾燥してもよい。シリカコーティ
ング及び真空乾燥には、前述と同じエバポレーターを用
いることが可能である。シリカコーティングは、約３０
００Ｐａ以下程度において、温度５０〜７０℃程度で行
うのが好ましい。また、真空乾燥も、約３０００Ｐａ以
下程度において、温度５０〜７０℃程度で行うのが好ま
しい。
【００１１】
【作用】本発明の抗菌剤の製造方法によれば、シリカゲ
ルに銀錯塩を担持させて更にコーティングを施した抗菌
剤を得られるため、この抗菌剤を合成樹脂製品に混合し
て用いれば、抗菌剤が合成樹脂製品の表面付近で銀錯塩
を徐放し、長期間優れた抗菌効果が得られる。また、銀
錯塩溶液にシリカゲルを浸漬した後、エバポレーターを
用いて溶媒成分を除去して、シリカゲルに銀錯塩を担持
させるため、銀錯塩溶液中の銀錯塩のほぼ全量をシリカ
ゲルに担持させることができる。そのため、シリカゲル
への銀錯塩の担持量を多くすることができ、合成樹脂に
混合して用いた場合に、合成樹脂表面に充分高濃度の銀
錯塩、即ち抗菌性成分を提供することが出来る。従っ
て、抗菌性成分として毒性の低い銀錯塩を使用しても、
合成樹脂に混合した場合に充分な抗菌効果を得られるよ
うな抗菌剤を製造することが出来る。また、抗菌性成分
として毒性の低い銀錯塩を使用しているため、安全な抗
菌剤を製造できる。
ルに銀錯塩を担持させて更にコーティングを施した抗菌
剤を得られるため、この抗菌剤を合成樹脂製品に混合し
て用いれば、抗菌剤が合成樹脂製品の表面付近で銀錯塩
を徐放し、長期間優れた抗菌効果が得られる。また、銀
錯塩溶液にシリカゲルを浸漬した後、エバポレーターを
用いて溶媒成分を除去して、シリカゲルに銀錯塩を担持
させるため、銀錯塩溶液中の銀錯塩のほぼ全量をシリカ
ゲルに担持させることができる。そのため、シリカゲル
への銀錯塩の担持量を多くすることができ、合成樹脂に
混合して用いた場合に、合成樹脂表面に充分高濃度の銀
錯塩、即ち抗菌性成分を提供することが出来る。従っ
て、抗菌性成分として毒性の低い銀錯塩を使用しても、
合成樹脂に混合した場合に充分な抗菌効果を得られるよ
うな抗菌剤を製造することが出来る。また、抗菌性成分
として毒性の低い銀錯塩を使用しているため、安全な抗
菌剤を製造できる。
【００１２】
【実施例】以下本発明を、実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実
施例の記述内容に限定されるものではない。 ［実施例１］イオン交換水６０ｍｌを４０℃に加熱し、
それに酢酸銀０．４６４ｇを加え４０〜５０℃で約５分
間攪拌した後濾紙（Ｎｏ．２）で濾過し、未溶解の酢酸
銀を除去する。こうして得られた溶液に、亜硫酸ナトリ
ウム２．０ｇを攪拌しながら加えた。亜硫酸ナトリウム
を加えて白く濁った溶液が透明になるまで攪拌し、その
後、チオ硫酸ナトリウム１．３２ｇを加えて攪拌し、シ
リカゲル（製品名「サイロイド＃５５」：富士デヴィソ
ン化学（株）社製）を１０．０ｇ加えて、１０分間攪拌
し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチ
オスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、ロ
ータリーエバポレーター（製品名「ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７」：ヤマト科学（株）製）に入れて温度
５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除
去した。その後、得られたシリカゲルを更にロータリー
エバポレーターにて温度５０℃、約３０００Ｐａ以下の
もとで１２時間真空乾燥した。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実
施例の記述内容に限定されるものではない。 ［実施例１］イオン交換水６０ｍｌを４０℃に加熱し、
それに酢酸銀０．４６４ｇを加え４０〜５０℃で約５分
間攪拌した後濾紙（Ｎｏ．２）で濾過し、未溶解の酢酸
銀を除去する。こうして得られた溶液に、亜硫酸ナトリ
ウム２．０ｇを攪拌しながら加えた。亜硫酸ナトリウム
を加えて白く濁った溶液が透明になるまで攪拌し、その
後、チオ硫酸ナトリウム１．３２ｇを加えて攪拌し、シ
リカゲル（製品名「サイロイド＃５５」：富士デヴィソ
ン化学（株）社製）を１０．０ｇ加えて、１０分間攪拌
し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチ
オスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、ロ
ータリーエバポレーター（製品名「ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７」：ヤマト科学（株）製）に入れて温度
５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除
去した。その後、得られたシリカゲルを更にロータリー
エバポレーターにて温度５０℃、約３０００Ｐａ以下の
もとで１２時間真空乾燥した。
【００１３】こうして得られた銀錯塩を担持したシリカ
ゲルに、以下のようにしてコーティングを施した。ま
ず、メチルアルコール１０ｍｌとテトラエトキシシラン
１０ｍｌと銀錯塩を担持したシリカゲル１０ｇとイオン
交換水０．２ｍｌとをロータリーエバポレーターにいれ
て、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分の除
去を行うと同時にシリカコーティングを施す。固化した
ものをロータリーエバポレーターにて、温度５０℃、約
３０００Ｐａ以下にて１２時間真空乾燥させ、抗菌剤を
得た。 ［実施例２］シリカゲルとして、Ｂ型シリカゲル（製品
名「サイロイド＃Ｂ」：富士デヴィソン（株）社製）を
用いて、実施例１と同様にして抗菌剤を得た。 ［比較例１］亜硫酸ナトリウム０．２４５ｇとチオ硫酸
ナトリウム０．１６３ｇとを溶解した水溶液を用いて、
亜硫酸ナトリウムとチオ硫酸ナトリウムとの混合物をシ
リカゲルに担持させたものを抗菌剤とした。 ［ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定］上記実施例１及
び２と比較例１の抗菌剤を試料として、以下の方法で最
小発育阻止濃度を測定した。即ち、任意濃度に各試料を
添加した寒天平板培地に接種用菌液を接種・培養し、発
育が阻止された抗菌剤の最低濃度を、各種微生物に対す
る試料の最小発育阻止濃度とした。結果を表１に示す。
ゲルに、以下のようにしてコーティングを施した。ま
ず、メチルアルコール１０ｍｌとテトラエトキシシラン
１０ｍｌと銀錯塩を担持したシリカゲル１０ｇとイオン
交換水０．２ｍｌとをロータリーエバポレーターにいれ
て、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分の除
去を行うと同時にシリカコーティングを施す。固化した
ものをロータリーエバポレーターにて、温度５０℃、約
３０００Ｐａ以下にて１２時間真空乾燥させ、抗菌剤を
得た。 ［実施例２］シリカゲルとして、Ｂ型シリカゲル（製品
名「サイロイド＃Ｂ」：富士デヴィソン（株）社製）を
用いて、実施例１と同様にして抗菌剤を得た。 ［比較例１］亜硫酸ナトリウム０．２４５ｇとチオ硫酸
ナトリウム０．１６３ｇとを溶解した水溶液を用いて、
亜硫酸ナトリウムとチオ硫酸ナトリウムとの混合物をシ
リカゲルに担持させたものを抗菌剤とした。 ［ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定］上記実施例１及
び２と比較例１の抗菌剤を試料として、以下の方法で最
小発育阻止濃度を測定した。即ち、任意濃度に各試料を
添加した寒天平板培地に接種用菌液を接種・培養し、発
育が阻止された抗菌剤の最低濃度を、各種微生物に対す
る試料の最小発育阻止濃度とした。結果を表１に示す。
【００１４】但し、寒天平板培地の調整、接種用菌液の
調整、及び培養は、以下のようにして行った。 ・寒天平板培地の調製 滅菌精製水で、試料の２００，０００ｐｐｍ，１００，
０００ｐｐｍ，５０，０００ｐｐｍ，２５，０００ｐｐ
ｍ，１２，５００ｐｐｍ，６，２５０ｐｐｍ，３，１３
０ｐｐｍ，１，５６０ｐｐｍ，７８０ｐｐｍ，３９０ｐ
ｐｍ，２００ｐｐｍ，１００ｐｐｍ，５０ｐｐｍ，２５
ｐｐｍ，１２．５ｐｐｍ懸濁液を調製した。次に、溶解
後５０〜６０℃となった感受性測定用培地［ミューラー
ヒントン（Ｍｕｅｌｌｅｒ−Ｈｉｎｔｏｎ）寒天培地
（ＤＩＦＣＯ社製）］に、上記の各懸濁液を培地の１／
９量加えて、充分に混合した後、シャーレに分けて固化
させ、寒天平板培地とした。 ・接種用菌液の調製 増菌用培地［ミューラー ヒントン ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒ−ＨｉｎｔｏｎＢｒｏｔｈ）（ＤＩＦＣＯ社
製）］にて、３５℃で一夜培養した試験菌株の菌液を同
培地で希釈し、１ｍｌ当りの菌数が約１０6になるよう
に調製した。但し、試験菌株としては、以下のものを利
用した。
調整、及び培養は、以下のようにして行った。 ・寒天平板培地の調製 滅菌精製水で、試料の２００，０００ｐｐｍ，１００，
０００ｐｐｍ，５０，０００ｐｐｍ，２５，０００ｐｐ
ｍ，１２，５００ｐｐｍ，６，２５０ｐｐｍ，３，１３
０ｐｐｍ，１，５６０ｐｐｍ，７８０ｐｐｍ，３９０ｐ
ｐｍ，２００ｐｐｍ，１００ｐｐｍ，５０ｐｐｍ，２５
ｐｐｍ，１２．５ｐｐｍ懸濁液を調製した。次に、溶解
後５０〜６０℃となった感受性測定用培地［ミューラー
ヒントン（Ｍｕｅｌｌｅｒ−Ｈｉｎｔｏｎ）寒天培地
（ＤＩＦＣＯ社製）］に、上記の各懸濁液を培地の１／
９量加えて、充分に混合した後、シャーレに分けて固化
させ、寒天平板培地とした。 ・接種用菌液の調製 増菌用培地［ミューラー ヒントン ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒ−ＨｉｎｔｏｎＢｒｏｔｈ）（ＤＩＦＣＯ社
製）］にて、３５℃で一夜培養した試験菌株の菌液を同
培地で希釈し、１ｍｌ当りの菌数が約１０6になるよう
に調製した。但し、試験菌株としては、以下のものを利
用した。
【００１５】大腸菌：エスケリチャ コーライ（Ｅｓｃ
ｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ） ＩＦＯ ３３０１］ 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） １２７
３２ ・培養 接種用菌液を寒天平板培地に、ニクロム線ループ（内径
約１ｍｍ）で２ｃｍ程度画線塗抹し、３５℃で１日間培
養した。
ｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ） ＩＦＯ ３３０１］ 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） １２７
３２ ・培養 接種用菌液を寒天平板培地に、ニクロム線ループ（内径
約１ｍｍ）で２ｃｍ程度画線塗抹し、３５℃で１日間培
養した。
【００１６】
【表１】
【００１７】表１から明らかなように、実施例１及び２
の抗菌剤を混合した寒天平板培地では、抗菌性成分とし
て毒性の低い銀錯塩を使用しているにもかかわらず、比
較例１の抗菌剤を混合した寒天平板培地よりもはるかに
低い混合濃度で菌の発育を阻止することが出来た。 ［合成樹脂混合の抗黴抗菌試験］上記実施例１及び２で
製造した抗菌剤を、不飽和ポリエステル樹脂成形時に、
樹脂１００重量部に対し抗菌剤５重量部の割合で均一に
混合分散させて成形した。一方、比較例２として、抗菌
剤を混合しない樹脂を成形した。
の抗菌剤を混合した寒天平板培地では、抗菌性成分とし
て毒性の低い銀錯塩を使用しているにもかかわらず、比
較例１の抗菌剤を混合した寒天平板培地よりもはるかに
低い混合濃度で菌の発育を阻止することが出来た。 ［合成樹脂混合の抗黴抗菌試験］上記実施例１及び２で
製造した抗菌剤を、不飽和ポリエステル樹脂成形時に、
樹脂１００重量部に対し抗菌剤５重量部の割合で均一に
混合分散させて成形した。一方、比較例２として、抗菌
剤を混合しない樹脂を成形した。
【００１８】上記、実施例１及び２の抗菌剤を混合した
合成樹脂成形物と、比較例２の合成樹脂成形物につい
て、以下に示す抗黴抗菌試験を行った。結果を表２に示
す。 ・抗黴試験 日本工業規格のカビ抵抗性試験（ＪＩＳ Ｚ ２９１
１）の繊維製品用防黴試験によるハローテスト法に従っ
て行った。用いたカビは、クラドスポリウム クラドス
ポリオイデス（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏ
ｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ），ケトミウム グロボサム（Ｃ
ｈａｅｔｏｍｉｕｍ ｇｌｏｂｏｓｕｍ），ペニシリウ
ム シトリナム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｃｉｔｒｉ
ｎｕｍ），アスペルギルス ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｉｌ
ｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）である。１４日後に評価を行っ
た。 ・抗菌試験 上記ハローテスト法に従って、行った。菌は、エスケリ
チャ コーライ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌ
ｉ），スタフィロコッカス オーレオス（Ｓｔａｐｈｙ
ｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ），バチラス サブチ
ラス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ）を用い
た。７日後に評価を行った。
合成樹脂成形物と、比較例２の合成樹脂成形物につい
て、以下に示す抗黴抗菌試験を行った。結果を表２に示
す。 ・抗黴試験 日本工業規格のカビ抵抗性試験（ＪＩＳ Ｚ ２９１
１）の繊維製品用防黴試験によるハローテスト法に従っ
て行った。用いたカビは、クラドスポリウム クラドス
ポリオイデス（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏ
ｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ），ケトミウム グロボサム（Ｃ
ｈａｅｔｏｍｉｕｍ ｇｌｏｂｏｓｕｍ），ペニシリウ
ム シトリナム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｃｉｔｒｉ
ｎｕｍ），アスペルギルス ニゲル（Ａｓｐｅｒｇｉｌ
ｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）である。１４日後に評価を行っ
た。 ・抗菌試験 上記ハローテスト法に従って、行った。菌は、エスケリ
チャ コーライ（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌ
ｉ），スタフィロコッカス オーレオス（Ｓｔａｐｈｙ
ｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ），バチラス サブチ
ラス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｕｂｔｉｌｉｓ）を用い
た。７日後に評価を行った。
【００１９】
【表２】
【００２０】表２から明らかなように、実施例１及び２
の抗菌剤を混合した合成樹脂成形物は、抗菌剤を混合し
ない比較例２に比べて、合成樹脂表面における黴及び菌
の発生を抑制する力が優れている。また、チオスルファ
ト銀錯塩を銀成分が実施例１，２と同量となるように、
単独で上記合成樹脂に配合して、経時変化を観察したと
ころ、実施例１，２の方が長期にわたって抗黴抗菌効果
を発揮した。
の抗菌剤を混合した合成樹脂成形物は、抗菌剤を混合し
ない比較例２に比べて、合成樹脂表面における黴及び菌
の発生を抑制する力が優れている。また、チオスルファ
ト銀錯塩を銀成分が実施例１，２と同量となるように、
単独で上記合成樹脂に配合して、経時変化を観察したと
ころ、実施例１，２の方が長期にわたって抗黴抗菌効果
を発揮した。
【００２１】上述のように、本実施例１及び２によって
製造された抗菌剤は、抗菌効果が優れている。また、合
成樹脂に混合して成形した場合に、合成樹脂成形物の表
面における黴及び菌の繁殖を抑制する効果が優れてい
る。また、銀錯塩溶液からシリカゲルを濾別するのでは
なく、エバポレーターを用いて溶媒成分を除去している
ため、シリカゲルに対する銀錯塩の担持量を銀錯塩溶液
の濃度によって正確に調節できる。また、濾別する方法
に比べて、不要な銀錯塩溶液の廃液が出ることもなく、
製造工程上都合がよい。
製造された抗菌剤は、抗菌効果が優れている。また、合
成樹脂に混合して成形した場合に、合成樹脂成形物の表
面における黴及び菌の繁殖を抑制する効果が優れてい
る。また、銀錯塩溶液からシリカゲルを濾別するのでは
なく、エバポレーターを用いて溶媒成分を除去している
ため、シリカゲルに対する銀錯塩の担持量を銀錯塩溶液
の濃度によって正確に調節できる。また、濾別する方法
に比べて、不要な銀錯塩溶液の廃液が出ることもなく、
製造工程上都合がよい。
【００２２】また、本実施例１及び２によって製造され
た抗菌剤は、合成樹脂成形物に混合するほか、塗料に混
合してステンレス表面などに塗布して用いてもよい。
た抗菌剤は、合成樹脂成形物に混合するほか、塗料に混
合してステンレス表面などに塗布して用いてもよい。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
合成樹脂に混合して使用するに適し、しかも安全性に優
れた抗菌剤の製造方法を提供できる。
合成樹脂に混合して使用するに適し、しかも安全性に優
れた抗菌剤の製造方法を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西野 敦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 矢口 和彦 愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1846番地 富士デヴィソン化学株式会社内 (72)発明者 山本 耕造 愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1846番地 富士デヴィソン化学株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 銀錯塩を含有する溶液にシリカゲルを浸
漬して、シリカゲルに銀錯塩を担持させた後、エバポレ
ーターを用いて溶媒成分を蒸発させ除去し、更に真空乾
燥し、得られたシリカゲルにコーティングを施すことを
特徴とする抗菌剤の製造方法。 - 【請求項２】 上記コーティングを施す工程が、有機珪
素化合物を含有する溶液に上記シリカゲルを浸漬し、エ
バポレーターを用いて溶媒成分を除去することによりシ
リカコーティングを施し、更に真空乾燥することを特徴
とする請求項１記載の抗菌剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3309362A JPH07108845B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 抗菌剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3309362A JPH07108845B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 抗菌剤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH061706A true JPH061706A (ja) | 1994-01-11 |
| JPH07108845B2 JPH07108845B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=17992091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3309362A Expired - Fee Related JPH07108845B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 抗菌剤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07108845B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5902284A (en) * | 1996-06-14 | 1999-05-11 | Olympus Optical Co., Ltd. | Medical indwelling tube |
| US6908629B2 (en) | 2001-11-27 | 2005-06-21 | Gem Of The North Pty Ltd | Pesticide composition containing finely ground amorphous silica |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283204A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-14 | Shinagawa Nenryo Kk | 抗菌性アルミノケイ酸塩 |
| JPH02292201A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-03 | Yoshio Ichikawa | 抗菌性シリカゲルおよび抗菌性樹脂 |
-
1991
- 1991-11-25 JP JP3309362A patent/JPH07108845B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283204A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-14 | Shinagawa Nenryo Kk | 抗菌性アルミノケイ酸塩 |
| JPH02292201A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-03 | Yoshio Ichikawa | 抗菌性シリカゲルおよび抗菌性樹脂 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5902284A (en) * | 1996-06-14 | 1999-05-11 | Olympus Optical Co., Ltd. | Medical indwelling tube |
| US6908629B2 (en) | 2001-11-27 | 2005-06-21 | Gem Of The North Pty Ltd | Pesticide composition containing finely ground amorphous silica |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07108845B2 (ja) | 1995-11-22 |
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