JPH0618227A - 対象物の寸法測定方法および測定装置 - Google Patents
対象物の寸法測定方法および測定装置Info
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- JPH0618227A JPH0618227A JP5083139A JP8313993A JPH0618227A JP H0618227 A JPH0618227 A JP H0618227A JP 5083139 A JP5083139 A JP 5083139A JP 8313993 A JP8313993 A JP 8313993A JP H0618227 A JPH0618227 A JP H0618227A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 22
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/245—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using a plurality of fixed, simultaneously operating transducers
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- Optics & Photonics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 １つの測定チャネルにより測定信号を処理す
ることのできる対象物の寸法測定方法および装置を提供
する。 【構成】 複数の方向（ｘ，ｙ）にて対象物（３）の寸
法を測定する方法であって、それぞれ１つの光ビーム
（１２、１３）が測定すべき方向で対象物上に偏向さ
れ、該光ビームの対象物による遮断の持続時間から、当
該対象物の寸法を推定する測定方法において、各方向毎
に１つの光ビームが別個の対物レンズ（８、９）により
案内されるようにする。
ることのできる対象物の寸法測定方法および装置を提供
する。 【構成】 複数の方向（ｘ，ｙ）にて対象物（３）の寸
法を測定する方法であって、それぞれ１つの光ビーム
（１２、１３）が測定すべき方向で対象物上に偏向さ
れ、該光ビームの対象物による遮断の持続時間から、当
該対象物の寸法を推定する測定方法において、各方向毎
に１つの光ビームが別個の対物レンズ（８、９）により
案内されるようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の方向にて対象物
の寸法を測定する方法であって、それぞれ１つの光ビー
ムが測定すべき方向で対象物上に偏向され、該光ビーム
の対象物による遮断の持続時間から、当該対象物の寸法
を推定する測定方法に関する。
の寸法を測定する方法であって、それぞれ１つの光ビー
ムが測定すべき方向で対象物上に偏向され、該光ビーム
の対象物による遮断の持続時間から、当該対象物の寸法
を推定する測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の方法ないし装置は公知である。
この場合対象物は次のように構成される。すなわち、既
知の速度ないし既知の速度経過を有する平行（テレセン
トリック）な光ビームが測定フィールドを通るように偏
向され、それにより光ビーム中断の持続時間および位置
から、対象物の寸法および場合により位置を推測できる
ようにするのである。
この場合対象物は次のように構成される。すなわち、既
知の速度ないし既知の速度経過を有する平行（テレセン
トリック）な光ビームが測定フィールドを通るように偏
向され、それにより光ビーム中断の持続時間および位置
から、対象物の寸法および場合により位置を推測できる
ようにするのである。
【０００３】対象物を複数の方向、一般的には２つの直
交する方向（ｘ，ｙ）で寸法検出するために、偏向機構
（例えば回転ミラーまたは振動ミラー）により偏向され
た光ビームが平行な光ビームを形成するための対物レン
ズを通ってビームスプリッタに供給される。このビーム
スプリッタから同時に２つの光ビームが傾斜したミラー
系を介して測定フィールドに到達する。ここで２つの光
ビームは同期して２つの直交方向に偏向される。この構
成は１つの光源と１つの対物レンズしか必要としないが
大きな欠点がある。すなわち、光ビームを２つの光ビー
ムへ分割し、それらをミラー系を介して測定フィールド
に供給するため、測定装置を小型に構成することができ
ない。また、１つの共通の対物レンズを通過した１つの
光ビームから発生した２つの光ビームが理想的にフォー
カシングされるように光学系を構成および調整すること
は困難でコストがかかる。しかし最低限寸法でも正確な
測定を行うためには、対象物個所において光ビームの非
常に正確なフォーカシングが必要である。ビームスプリ
ッタおよびミラー系の前に配置された共通の対物レンズ
は対象物および測定装置ケーシングの窓から比較的離れ
ている。この窓を通って光ビームは測定フィールドに入
射する。そのため、対象物にフォーカシングされた光ビ
ームは窓の通過の際に既に比較的に小さな横断面を有す
る。それにより、この窓の汚れが場合により大きな障害
的影響を光ビームに及ぼす。既に述べたように、２つの
光ビームは同期して測定フィールドを通過する。すなわ
ち、光通過に相応する測定信号は実質的に同期して発生
し、別個の測定チャネルで処理しなければならない。
交する方向（ｘ，ｙ）で寸法検出するために、偏向機構
（例えば回転ミラーまたは振動ミラー）により偏向され
た光ビームが平行な光ビームを形成するための対物レン
ズを通ってビームスプリッタに供給される。このビーム
スプリッタから同時に２つの光ビームが傾斜したミラー
系を介して測定フィールドに到達する。ここで２つの光
ビームは同期して２つの直交方向に偏向される。この構
成は１つの光源と１つの対物レンズしか必要としないが
大きな欠点がある。すなわち、光ビームを２つの光ビー
ムへ分割し、それらをミラー系を介して測定フィールド
に供給するため、測定装置を小型に構成することができ
ない。また、１つの共通の対物レンズを通過した１つの
光ビームから発生した２つの光ビームが理想的にフォー
カシングされるように光学系を構成および調整すること
は困難でコストがかかる。しかし最低限寸法でも正確な
測定を行うためには、対象物個所において光ビームの非
常に正確なフォーカシングが必要である。ビームスプリ
ッタおよびミラー系の前に配置された共通の対物レンズ
は対象物および測定装置ケーシングの窓から比較的離れ
ている。この窓を通って光ビームは測定フィールドに入
射する。そのため、対象物にフォーカシングされた光ビ
ームは窓の通過の際に既に比較的に小さな横断面を有す
る。それにより、この窓の汚れが場合により大きな障害
的影響を光ビームに及ぼす。既に述べたように、２つの
光ビームは同期して測定フィールドを通過する。すなわ
ち、光通過に相応する測定信号は実質的に同期して発生
し、別個の測定チャネルで処理しなければならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
欠点を回避することである。
欠点を回避することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】これは本発明により、各
方向毎に１つの光ビームが別個の対物レンズを通って案
内されるように構成して解決される。
方向毎に１つの光ビームが別個の対物レンズを通って案
内されるように構成して解決される。
【０００６】この場合、対物レンズは対象物にできるだ
け近接して配置され得るか、またはケーシング窓のすぐ
近くに配置され得る。ここにおいては光ビームはまだ大
きな横断面を有しておらず、汚れによって影響を受ける
ことはほとんどない。
け近接して配置され得るか、またはケーシング窓のすぐ
近くに配置され得る。ここにおいては光ビームはまだ大
きな横断面を有しておらず、汚れによって影響を受ける
ことはほとんどない。
【０００７】有利には、別個の光源から発することので
きる２つの光ビームは既に別個に可動偏向機構により案
内される。これによりビームスプリッタが省略される。
しかし光学系全体を各個別の光ビーム毎に別個に最適調
整し、これにより対象物の個所での理想的で正確なフォ
ーカシングが可能になる。このようにして測定精度を格
段に上昇させることができる。同時に小型の構成が得ら
れる。
きる２つの光ビームは既に別個に可動偏向機構により案
内される。これによりビームスプリッタが省略される。
しかし光学系全体を各個別の光ビーム毎に別個に最適調
整し、これにより対象物の個所での理想的で正確なフォ
ーカシングが可能になる。このようにして測定精度を格
段に上昇させることができる。同時に小型の構成が得ら
れる。
【０００８】光ビームの偏向は次のように時間的間隔を
おいて行うことができる。すなわち、異なる方向でのそ
れぞれの測定を時間的間隔をおいて行うのである。これ
により測定信号をただ１つの測定チャネルで処理するこ
とができる。
おいて行うことができる。すなわち、異なる方向でのそ
れぞれの測定を時間的間隔をおいて行うのである。これ
により測定信号をただ１つの測定チャネルで処理するこ
とができる。
【０００９】本発明の測定装置の実施例を以下説明す
る。
る。
【００１０】
【実施例】図１には測定装置のケーシング１が配置され
ている。このケーシングには測定機構がある。測定ケー
シングは通路２を有し、この通路２はほぼ台形の横断面
を有する。この通路を通って測定対象物３、例えばワイ
ヤ、ケーブル、光導波体またはその他の連続製品を搬送
することができる。しかし相応してもちろん、定置の対
象物を測定することもできる。ケーシングは通路２に４
つの窓４〜７を有する。これらの窓により、光ビームは
それぞれ２つの対向する窓を通って測定フィールドへ入
射することができる。これは図１に示されている。下側
測定窓５と６の直ぐ後方にはそれぞれ１つの対物レンズ
８ないし９が配置されている。装置は２つのレーザ源、
有利には半導体レーザ１０と１１を有する。レーザはそ
れぞれ１つの図示しないコリメータを有し、それぞれ１
つの光ビーム１２ないし１３をモータにより駆動可能な
８面ミラー１５に投射する。このミラーから光ビーム
は、位置固定されたミラー１６ないし１７を介して対物
レンズ８ないし９に偏向される。対物レンズでは、実質
的にミラー１５の点で偏向された光ビームが平行な光ビ
ーム、すなわち常に相互に平行な光ビームに屈折され
る。測定フィールドでは光ビーム１２と１３は相互に直
交する。これにより対象物３の寸法を２つの座標方向ｘ
とｙで検出することができる。窓４と７の後方にはそれ
ぞれ１つの集光系１８ないし１９が配置されている。集
光系は入射した光ビームを１つの光電変換器２０ないし
２１に投影する。変換器２０と２１は、図示しない測定
電子回路の共通の入力側と接続されている。測定電子回
路は後で説明するように、入力された測定信号を処理す
る。
ている。このケーシングには測定機構がある。測定ケー
シングは通路２を有し、この通路２はほぼ台形の横断面
を有する。この通路を通って測定対象物３、例えばワイ
ヤ、ケーブル、光導波体またはその他の連続製品を搬送
することができる。しかし相応してもちろん、定置の対
象物を測定することもできる。ケーシングは通路２に４
つの窓４〜７を有する。これらの窓により、光ビームは
それぞれ２つの対向する窓を通って測定フィールドへ入
射することができる。これは図１に示されている。下側
測定窓５と６の直ぐ後方にはそれぞれ１つの対物レンズ
８ないし９が配置されている。装置は２つのレーザ源、
有利には半導体レーザ１０と１１を有する。レーザはそ
れぞれ１つの図示しないコリメータを有し、それぞれ１
つの光ビーム１２ないし１３をモータにより駆動可能な
８面ミラー１５に投射する。このミラーから光ビーム
は、位置固定されたミラー１６ないし１７を介して対物
レンズ８ないし９に偏向される。対物レンズでは、実質
的にミラー１５の点で偏向された光ビームが平行な光ビ
ーム、すなわち常に相互に平行な光ビームに屈折され
る。測定フィールドでは光ビーム１２と１３は相互に直
交する。これにより対象物３の寸法を２つの座標方向ｘ
とｙで検出することができる。窓４と７の後方にはそれ
ぞれ１つの集光系１８ないし１９が配置されている。集
光系は入射した光ビームを１つの光電変換器２０ないし
２１に投影する。変換器２０と２１は、図示しない測定
電子回路の共通の入力側と接続されている。測定電子回
路は後で説明するように、入力された測定信号を処理す
る。
【００１１】図１の装置の基本的作用は既に説明した。
ミラー１５の回転により光ビーム１２と１３は周期的に
偏向され、測定フィールドを通過する。光ビームが２つ
の方向ｘとｙで対象物３により遮断される持続時間か
ら、２つの方向での対象物の寸法を推定することができ
る。固有のコリメータを有するそれぞれ１つの光源の光
ビームをミラー１５と対物レンズ８および９を介して別
個に案内するため、２つの光学系を相互に依存しないで
最適に調整することが可能である。このようにしてレー
ザビームを対象物３の個所で高精度にフォーカシングす
ることができ、実際の構成では８０μｍ〜３２ｍｍの寸
法を１つの同じ装置により十分な精度で測定することが
できる。
ミラー１５の回転により光ビーム１２と１３は周期的に
偏向され、測定フィールドを通過する。光ビームが２つ
の方向ｘとｙで対象物３により遮断される持続時間か
ら、２つの方向での対象物の寸法を推定することができ
る。固有のコリメータを有するそれぞれ１つの光源の光
ビームをミラー１５と対物レンズ８および９を介して別
個に案内するため、２つの光学系を相互に依存しないで
最適に調整することが可能である。このようにしてレー
ザビームを対象物３の個所で高精度にフォーカシングす
ることができ、実際の構成では８０μｍ〜３２ｍｍの寸
法を１つの同じ装置により十分な精度で測定することが
できる。
【００１２】図１から既にわかるように、光源１０およ
び１１からの２つのレーザビーム１２と１３は共通の軸
線を対向する側からミラー１５に到来する。しかしミラ
ーの回転軸に対して所定の偏心度を有している。この状
態は図２および図３に拡大して示されている。従い、２
つのレーザビーム１２と１３の光学軸２２は８面ミラー
１５の回転軸に対して偏心度ｅを有している。ここで図
２は、レーザビーム１２が上方へミラー１６および対物
レンズ８を介して測定フィールドへ反射されるミラー１
５の位置を示す。一方レーザビーム１３は下方へ反射さ
れ、作用しない。図２の位置は、ミラー１５がそのゼロ
位置から１０．５°だけ回転した位置に相応し、入射ビ
ームと出射ビーム１２と１３の間の角度は従い２１°に
なる。図３には、ミラー１５がそのゼロ位置から３４．
５°回転した反対の状態が示されている。すなわち、今
度はレーザビーム１３がミラー１７および対物レンズ９
を介して測定フィールドへ偏向され、一方レーザビーム
１２は作用しない。ここでは、測定フィールドへのビー
ム通過は、図２および図３に示された角度二等分線に対
して入射および出射ビーム毎に対称に８°に制限されて
いるとする。この関係は図４に示されている。ここでは
測定装置に対象物は存在しないとする。従い、変換器２
０および２１の光パルスないし出力パルスはそれぞれ８
°の回転角度の間発生する。ここでこれらのパルスは、
位置１０．５°、３４．５°および５５．５°に対して
対称である。図４からわかるように、これらのパルスは
偏心度ｅのため規則的な間隔では発生せず、順次連続す
る１つのパルス対間の間隔は２４°であり、一方次のパ
ルスまでの間隔は２１°しかない。相応してパルス間隔
は１６°ないし１３°である。この状態から次の利点が
得られる。すなわち、寸法ｘに対するそれぞれの測定パ
ルスと、寸法ｙに対する測定パルスとの間に時間間隔が
あるため、唯１つの評価電子回路を使用することができ
る。しかも、測定パルスの一方の群（ｘ，ｙ）の順次連
続する２つの測定パルス間と次の群の最初のパルス
（ｘ）との間には異なる大きさの間隔が生じるから、共
通の測定チャネルで計算した値ｘとｙを相応の指示器な
いし相応の評価回路または制御回路に供給するために
は、１つの簡単な論理回路だけで十分である。
び１１からの２つのレーザビーム１２と１３は共通の軸
線を対向する側からミラー１５に到来する。しかしミラ
ーの回転軸に対して所定の偏心度を有している。この状
態は図２および図３に拡大して示されている。従い、２
つのレーザビーム１２と１３の光学軸２２は８面ミラー
１５の回転軸に対して偏心度ｅを有している。ここで図
２は、レーザビーム１２が上方へミラー１６および対物
レンズ８を介して測定フィールドへ反射されるミラー１
５の位置を示す。一方レーザビーム１３は下方へ反射さ
れ、作用しない。図２の位置は、ミラー１５がそのゼロ
位置から１０．５°だけ回転した位置に相応し、入射ビ
ームと出射ビーム１２と１３の間の角度は従い２１°に
なる。図３には、ミラー１５がそのゼロ位置から３４．
５°回転した反対の状態が示されている。すなわち、今
度はレーザビーム１３がミラー１７および対物レンズ９
を介して測定フィールドへ偏向され、一方レーザビーム
１２は作用しない。ここでは、測定フィールドへのビー
ム通過は、図２および図３に示された角度二等分線に対
して入射および出射ビーム毎に対称に８°に制限されて
いるとする。この関係は図４に示されている。ここでは
測定装置に対象物は存在しないとする。従い、変換器２
０および２１の光パルスないし出力パルスはそれぞれ８
°の回転角度の間発生する。ここでこれらのパルスは、
位置１０．５°、３４．５°および５５．５°に対して
対称である。図４からわかるように、これらのパルスは
偏心度ｅのため規則的な間隔では発生せず、順次連続す
る１つのパルス対間の間隔は２４°であり、一方次のパ
ルスまでの間隔は２１°しかない。相応してパルス間隔
は１６°ないし１３°である。この状態から次の利点が
得られる。すなわち、寸法ｘに対するそれぞれの測定パ
ルスと、寸法ｙに対する測定パルスとの間に時間間隔が
あるため、唯１つの評価電子回路を使用することができ
る。しかも、測定パルスの一方の群（ｘ，ｙ）の順次連
続する２つの測定パルス間と次の群の最初のパルス
（ｘ）との間には異なる大きさの間隔が生じるから、共
通の測定チャネルで計算した値ｘとｙを相応の指示器な
いし相応の評価回路または制御回路に供給するために
は、１つの簡単な論理回路だけで十分である。
【００１３】実施例は最も頻繁な適用、すなわち２つの
座標方向での測定に相応するが、基本的に３次元での測
定も可能である。その場合、回転多面偏向ミラー１５の
代わりに、振動ミラーを設けることができよう。振動ミ
ラーは両側で反射し、２つのレーザビーム１２と１３を
交互にミラー１６ないし１７に偏向する。
座標方向での測定に相応するが、基本的に３次元での測
定も可能である。その場合、回転多面偏向ミラー１５の
代わりに、振動ミラーを設けることができよう。振動ミ
ラーは両側で反射し、２つのレーザビーム１２と１３を
交互にミラー１６ないし１７に偏向する。
【００１４】
【発明の効果】本発明により、１つの測定チャネルによ
り測定信号を処理することのできる対象物の寸法測定が
得られる。
り測定信号を処理することのできる対象物の寸法測定が
得られる。
【図１】本発明の実施例の模式図である。
【図２】本発明を説明するための拡大図である。
【図３】本発明を説明するための拡大図である。
【図４】本発明を説明するための線図である。
３ 対象物 ８、９ 対物レンズ １２、１３ 光ビーム １５ ミラー
Claims (10)
- 【請求項１】 複数の方向（ｘ，ｙ）にて対象物（３）
の寸法を測定する方法であって、 それぞれ１つの光ビーム（１２、１３）が測定すべき方
向で対象物上に偏向され、 該光ビームの対象物による遮断の持続時間から、当該対
象物の寸法を推定する測定方法において、 各方向毎に１つの光ビームが別個の対物レンズ（８、
９）を通って案内されることを特徴とする測定方法。 - 【請求項２】 光ビーム（１２、１３）を共通の偏向機
構、例えば回転ミラーまたは振動ミラー（１５）を介し
て案内する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 光ビーム（（１２、１３）を時間的にず
らして対象物（３）に案内し、 測定結果を共通のチャネルで評価する請求項１または２
記載の方法。 - 【請求項４】 １つの測定シリーズのすべての方向にお
ける順次連続する測定間の時間的間隔が、１つのシリー
ズの最後の測定と次のシリーズの最初の測定との間の時
間的間隔から異なるように選択する請求項２または３記
載の方法。 - 【請求項５】 光源（１０、１１）、例えば半導体レー
ザから光ビームを１つの共通の光学軸（２２）で対向す
る側から回転多面ミラー（１５）へ案内し、その際光学
軸（２２）はミラー（１５）の回転軸（２３）に対して
偏心している請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 各測定方向（ｘ，ｙ）毎にそれぞれ１つ
の別個の対物レンズ（８、９）が光ビーム（１２、１
３）に配属されている請求項１記載の方法を実施するた
めの装置。 - 【請求項７】 対物レンズ（８、９）は測定窓（５、
６）の直ぐ後方に配置されている請求項６記載の装置。 - 【請求項８】 それぞれ１つの光源（１０、１１）、例
えば半導体レーザは、各測定方向（ｘ，ｙ）に対するコ
リメータを有している請求項６または７記載の装置。 - 【請求項９】 それぞれ１つの光源（１０、１１）が、
偏向機構、例えば回転可能なミラーまたは振動されるミ
ラー(１５)の対向する側に配置されており、 前記ミラーは少なくとも２つの対向する鏡面を有する請
求項８記載の装置。 - 【請求項１０】 光ビーム（１１、１２）を時間的にず
らして測定フィールドへ偏向するための装置が設けられ
ている請求項６から９までのいずれか１記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH01189/92-6 | 1992-04-10 | ||
| CH1189/92A CH683370A5 (de) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Abmessung eines Objekts. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0618227A true JPH0618227A (ja) | 1994-01-25 |
| JP3731903B2 JP3731903B2 (ja) | 2006-01-05 |
Family
ID=4204590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08313993A Expired - Fee Related JP3731903B2 (ja) | 1992-04-10 | 1993-04-09 | 対象物の寸法測定方法および測定装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5383022A (ja) |
| EP (1) | EP0565090B1 (ja) |
| JP (1) | JP3731903B2 (ja) |
| AT (1) | ATE163476T1 (ja) |
| CA (1) | CA2093551C (ja) |
| CH (1) | CH683370A5 (ja) |
| DE (1) | DE59308168D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016515828A (ja) * | 2013-04-08 | 2016-06-02 | インターナショナル トバコ マシーネリー ポーランド エスピー．ゼット オー．オー． | タバコ産業で使用される機械の中を転送されるマルチセグメントロッド内の回転したセグメントの検出方法及び装置 |
Families Citing this family (48)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5481361A (en) * | 1993-05-19 | 1996-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of and device for measuring position coordinates |
| DE4343548A1 (de) * | 1993-12-20 | 1995-06-22 | Agie Ag Ind Elektronik | Optische Meßvorrichtung |
| US5661561A (en) * | 1995-06-02 | 1997-08-26 | Accu-Sort Systems, Inc. | Dimensioning system |
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