JPH0618446A - Ｘ線光学系の調整方法 - Google Patents
Ｘ線光学系の調整方法Info
- Publication number
- JPH0618446A JPH0618446A JP17462992A JP17462992A JPH0618446A JP H0618446 A JPH0618446 A JP H0618446A JP 17462992 A JP17462992 A JP 17462992A JP 17462992 A JP17462992 A JP 17462992A JP H0618446 A JPH0618446 A JP H0618446A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- optical system
- laser beam
- optical axis
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高分解能Ｘ線検査システムに関し，光学系の
高精度の調整方法の提供を目的とする。 【構成】 １）Ｘ線非破壊検査システムにおいて，Ｘ線
焦点位置を通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビー
ムをセッティングし，該レーザビームを光軸として光学
系の調整を行う，２）センサの中心にレーザビームが入
射するように光学部品をセッティングする，３）光軸上
にセッティングした物体にミラーを貼付するか，または
その物体の代わりにダミーのミラーを設置して，レーザ
ビームが該ミラーで反射し，もとの発射した位置に戻る
ように該物体の傾きを調整して光軸に垂直にセッティン
グする，４）前記ターゲット表面に金属膜を被着する，
５）前記ターゲット表面に金属膜を被着し，その上に透
過型蛍光板を貼付するように構成する。
高精度の調整方法の提供を目的とする。 【構成】 １）Ｘ線非破壊検査システムにおいて，Ｘ線
焦点位置を通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビー
ムをセッティングし，該レーザビームを光軸として光学
系の調整を行う，２）センサの中心にレーザビームが入
射するように光学部品をセッティングする，３）光軸上
にセッティングした物体にミラーを貼付するか，または
その物体の代わりにダミーのミラーを設置して，レーザ
ビームが該ミラーで反射し，もとの発射した位置に戻る
ように該物体の傾きを調整して光軸に垂直にセッティン
グする，４）前記ターゲット表面に金属膜を被着する，
５）前記ターゲット表面に金属膜を被着し，その上に透
過型蛍光板を貼付するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は実装部品の検査装置，特
に表面実装部品の半田付け工程後の検査装置に用いるＸ
線光学系の調整方法に関する。
に表面実装部品の半田付け工程後の検査装置に用いるＸ
線光学系の調整方法に関する。
【０００２】近年，電子機器の小型化に伴い，使用する
プリント板の実装密度が高くなっており，また，フリッ
プチップ実装の場合のように外観では検査ができない影
の部分の検査を行う必要が生じている。
プリント板の実装密度が高くなっており，また，フリッ
プチップ実装の場合のように外観では検査ができない影
の部分の検査を行う必要が生じている。
【０００３】通常のＸ線システムは，Ｘ線を蛍光板等で
光に変換した後，光学的センサによって検出する方法が
とられている。この方法は，光学系の光軸に対する垂直
出し，レンズの中心出し，フォーカスの調整等の操作が
必要である。
光に変換した後，光学的センサによって検出する方法が
とられている。この方法は，光学系の光軸に対する垂直
出し，レンズの中心出し，フォーカスの調整等の操作が
必要である。
【０００４】
【従来の技術】図９(A),(B) はＸ線検査システムの説明
図である。図９(A) において，Ｘ線源１からＸ線を円錐
状に照射する。ＦはＸ線焦点位置である。Ｘ線はサンプ
ルの透過率が異なるため，Ｘ線センサ（Ｘ線 I.I. ；Ｘ
線イメージインテンシファイヤ）91上にＸ線の強度分布
をつくる。このとき, 影絵の原理によりサンプルの像は
センサ上に拡大投影される。
図である。図９(A) において，Ｘ線源１からＸ線を円錐
状に照射する。ＦはＸ線焦点位置である。Ｘ線はサンプ
ルの透過率が異なるため，Ｘ線センサ（Ｘ線 I.I. ；Ｘ
線イメージインテンシファイヤ）91上にＸ線の強度分布
をつくる。このとき, 影絵の原理によりサンプルの像は
センサ上に拡大投影される。
【０００５】いま，Ｘ線源からサンプルまでの距離を
ａ，サンプルからセンサまでの距離をｂとすると，投影
される像の幾何学的拡大率Ｍは Ｍ＝（ａ＋ｂ）／ａ となる。これより分かるように，サンプルをＸ線源に近
づけるほど拡大率は大きくなる。
ａ，サンプルからセンサまでの距離をｂとすると，投影
される像の幾何学的拡大率Ｍは Ｍ＝（ａ＋ｂ）／ａ となる。これより分かるように，サンプルをＸ線源に近
づけるほど拡大率は大きくなる。
【０００６】従来のＸ線検査システムは分解能が低く数
10μｍの程度であり，幾何学的拡大率が小さく, 高精度
の光学系の調整を必要としなかった。ところが，プリン
ト板の高密度化に伴って, 被検査部品が小型化し，微小
な分解能を必要とするようになってきた。
10μｍの程度であり，幾何学的拡大率が小さく, 高精度
の光学系の調整を必要としなかった。ところが，プリン
ト板の高密度化に伴って, 被検査部品が小型化し，微小
な分解能を必要とするようになってきた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図９(B) は高分解能Ｘ
線検査システム（理想的な系）の説明図である。図にお
いて，Ｘ線像を大きな拡大率で蛍光板に投影し，その像
を光学的 I.I.(イメージインテンシファイヤ）92で増幅
した後, 光学的センサ（CCD カメラ)７に入力する。
線検査システム（理想的な系）の説明図である。図にお
いて，Ｘ線像を大きな拡大率で蛍光板に投影し，その像
を光学的 I.I.(イメージインテンシファイヤ）92で増幅
した後, 光学的センサ（CCD カメラ)７に入力する。
【０００８】このような光学系では以下の条件が必要と
なる。図10(A) 〜(C) は光学系の調整条件の説明図であ
る。 図10(A) ：蛍光面全体での幾何学的拡大率を同一にする
必要があるため，被検査サンプル平面とＸ線センサ（蛍
光板）とを平行にする。
なる。図10(A) 〜(C) は光学系の調整条件の説明図であ
る。 図10(A) ：蛍光面全体での幾何学的拡大率を同一にする
必要があるため，被検査サンプル平面とＸ線センサ（蛍
光板）とを平行にする。
【０００９】図10(B) ：解像度の低下を抑えるためレン
ズの中心軸と光学軸を一致させる。 図10(C) ：(C) Ｘ線量の効率を向上し，Ｘ線強度のばら
つき等の影響を抑えるため，Ｘ線照射の強度分布におけ
るＸ線量が最も強い点を光学系の中心にする。
ズの中心軸と光学軸を一致させる。 図10(C) ：(C) Ｘ線量の効率を向上し，Ｘ線強度のばら
つき等の影響を抑えるため，Ｘ線照射の強度分布におけ
るＸ線量が最も強い点を光学系の中心にする。
【００１０】ところが，従来のＸ線光学系においては，
精度良く上記の条件を満たすように調整する方法はなか
った。また，透過型Ｘ線源のターゲットは反射効率が悪
く，レーザ光を反射させることが困難であった。そこ
で，ターゲット付近にミラーを設置することが考えられ
るがターゲット面に平行に精度よく設置しなければなら
ず，また，ミラー自身の吸収，散乱があるため，Ｘ線照
射強度の分布を乱す原因となり，Ｘ線を照射してＸ線照
射強度の分布を観測しながら，その分布の中心に光軸を
とることは困難であった。
精度良く上記の条件を満たすように調整する方法はなか
った。また，透過型Ｘ線源のターゲットは反射効率が悪
く，レーザ光を反射させることが困難であった。そこ
で，ターゲット付近にミラーを設置することが考えられ
るがターゲット面に平行に精度よく設置しなければなら
ず，また，ミラー自身の吸収，散乱があるため，Ｘ線照
射強度の分布を乱す原因となり，Ｘ線を照射してＸ線照
射強度の分布を観測しながら，その分布の中心に光軸を
とることは困難であった。
【００１１】本発明は高分解能Ｘ線検査システムにおい
て上記の光学系の調整条件を満たした高精度の調整方法
の提供を目的とする。
て上記の光学系の調整条件を満たした高精度の調整方法
の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は， １）Ｘ線非破壊検査システムにおいて，Ｘ線焦点位置を
通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビームをセッテ
ィングし，該レーザビームを光軸として光学系の調整を
行うＸ線光学系の調整方法，あるいは ２）センサの中心にレーザビームが入射するように光学
部品をセッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調
整方法，あるいは ３）光軸上にセッティングした物体にミラーを貼付する
か，またはその物体の代わりにダミーのミラーを設置し
て，レーザビームが該ミラーで反射し，もとの発射した
位置に戻るように該物体の傾きを調整して光軸に垂直に
セッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調整方
法，あるいは ４）前記ターゲット表面に金属膜を被着した前記１）記
載のＸ線光学系の調整方法，あるいは ５）前記ターゲット表面に金属膜を被着し，その上に透
過型蛍光板を貼付した前記１記載のＸ線光学系の調整方
法により達成される。
通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビームをセッテ
ィングし，該レーザビームを光軸として光学系の調整を
行うＸ線光学系の調整方法，あるいは ２）センサの中心にレーザビームが入射するように光学
部品をセッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調
整方法，あるいは ３）光軸上にセッティングした物体にミラーを貼付する
か，またはその物体の代わりにダミーのミラーを設置し
て，レーザビームが該ミラーで反射し，もとの発射した
位置に戻るように該物体の傾きを調整して光軸に垂直に
セッティングする前記１）記載のＸ線光学系の調整方
法，あるいは ４）前記ターゲット表面に金属膜を被着した前記１）記
載のＸ線光学系の調整方法，あるいは ５）前記ターゲット表面に金属膜を被着し，その上に透
過型蛍光板を貼付した前記１記載のＸ線光学系の調整方
法により達成される。
【００１３】
【作用】本発明では，Ｘ線検査システムの光学系の光軸
を合わせるときに，Ｘ線焦点位置からターゲットに垂直
な軸をレーザで求め，これを基にして光軸を合わせる。
すなわち，センサ，レンズ等の中心をこの軸上に置き，
且つ各々をこの軸に垂直になるように調整する。
を合わせるときに，Ｘ線焦点位置からターゲットに垂直
な軸をレーザで求め，これを基にして光軸を合わせる。
すなわち，センサ，レンズ等の中心をこの軸上に置き，
且つ各々をこの軸に垂直になるように調整する。
【００１４】この際，図７のようにターゲットの表面に
金属膜を被着し，反射率を上げ，ここにレーザを垂直に
照射することにより光軸を得ている。
金属膜を被着し，反射率を上げ，ここにレーザを垂直に
照射することにより光軸を得ている。
【００１５】
【実施例】図１は本発明の実施例全体の構成図である。
図において，１はＸ線源，２はHeNeレーザ, ３はハーフ
ミラー，４は観測カメラ，５は蛍光板，６はレンズ，７
はCCD カメラ, ８は蛍光板，レンズ，CCD カメラのステ
ージコントローラ，９はI/O 回路, 10は画像入力(2)
部, 11は画像入力(1) 部, 12はメモリ, 13はCPU, 14は
バスである。
図において，１はＸ線源，２はHeNeレーザ, ３はハーフ
ミラー，４は観測カメラ，５は蛍光板，６はレンズ，７
はCCD カメラ, ８は蛍光板，レンズ，CCD カメラのステ
ージコントローラ，９はI/O 回路, 10は画像入力(2)
部, 11は画像入力(1) 部, 12はメモリ, 13はCPU, 14は
バスである。
【００１６】上記構成の光学系において，光軸のセッテ
ィングおよび光学系の調整方法を以下に説明する。図２
(A) 〜(D) は本発明の第１の実施例の説明図である。
ィングおよび光学系の調整方法を以下に説明する。図２
(A) 〜(D) は本発明の第１の実施例の説明図である。
【００１７】この実施例は，光学部品を中心軸に垂直に
設置するため，センサの中心にレーザビームが入射する
ように光学系を調整する方法である。 (1) まず，Ｘ線検査システムのセンサ（CCD エリアセン
サ) にレーザビームが入射するようにセンサを設置す
る。 (2) ここで, センサからの画像入力を行い, 入力画像の
最大値がセンサ内のどの座標（ｘ，ｙ）であるかを検出
する。 (3）この最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサの中心座標
（ｘ0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセン
サの中心にくるように，センサをステージにより移動さ
せる。
設置するため，センサの中心にレーザビームが入射する
ように光学系を調整する方法である。 (1) まず，Ｘ線検査システムのセンサ（CCD エリアセン
サ) にレーザビームが入射するようにセンサを設置す
る。 (2) ここで, センサからの画像入力を行い, 入力画像の
最大値がセンサ内のどの座標（ｘ，ｙ）であるかを検出
する。 (3）この最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサの中心座標
（ｘ0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセン
サの中心にくるように，センサをステージにより移動さ
せる。
【００１８】以上の光軸調整のフロー図を図３に示す。
次に, このシステムにおいて，レンズをその中心を光軸
上に且つ光軸に垂直に設置する方法を説明する。
次に, このシステムにおいて，レンズをその中心を光軸
上に且つ光軸に垂直に設置する方法を説明する。
【００１９】図２(A) ：上記光軸調整により, センサの
中心にレーザビームが入力するようにセットされてい
る。 図２(B) ：光軸上にレンズを移動する。レンズの中心と
光軸が大きく離れているときはレーザビームはセンサエ
リアから外れてしまうため, ビームの位置はつかめない
が, このときはレンズを同じ方向に移動し続ける。
中心にレーザビームが入力するようにセットされてい
る。 図２(B) ：光軸上にレンズを移動する。レンズの中心と
光軸が大きく離れているときはレーザビームはセンサエ
リアから外れてしまうため, ビームの位置はつかめない
が, このときはレンズを同じ方向に移動し続ける。
【００２０】図２(C) ：レーザビームがセンサエリア内
に入力された場合は，センサのセット時と同様に, その
画像中の最大値の座標（ｘ，ｙ）を求める。このとき,
最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサエリアの中心座標（ｘ
0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセンサエ
リアの中心にくるように，レンズを移動させる。
に入力された場合は，センサのセット時と同様に, その
画像中の最大値の座標（ｘ，ｙ）を求める。このとき,
最大値の座標（ｘ，ｙ）がセンサエリアの中心座標（ｘ
0 ，ｙ0 ）からずれている場合には，最大値がセンサエ
リアの中心にくるように，レンズを移動させる。
【００２１】図２(D) ：レーザビームがセンサエリアの
中心にくると, レーザビームは真っ直ぐにセンサの中心
に入力する。このレンズの調整方法のフローも図３と略
同様である。
中心にくると, レーザビームは真っ直ぐにセンサの中心
に入力する。このレンズの調整方法のフローも図３と略
同様である。
【００２２】図４は本発明の第２の実施例の説明図であ
る。この実施例は蛍光板（または蛍光板ホルダ）の垂直
出しを行っている。図ではハーフミラー３を使ってＸ線
源のターゲットに垂直なレーザ光がセットされている。
まず，垂直出しを行う光学部品（図では蛍光板ホルダ）
にミラーを貼付する。 次に，観測カメラによりハーフ
ミラーを観測し，初めにハーフミラーを透過して蛍光板
方向に進むレーザビームがハーフミラー中の位置Ｐ1 か
ら発射していることを検出する。このレーザビームがミ
ラーから反射してハーフミラー中の位置Ｐ2 に到達して
いることを観測する。このＰ1 とＰ2 が重なるように蛍
光板ホルダの水平垂直両方向の傾きを調整する。
る。この実施例は蛍光板（または蛍光板ホルダ）の垂直
出しを行っている。図ではハーフミラー３を使ってＸ線
源のターゲットに垂直なレーザ光がセットされている。
まず，垂直出しを行う光学部品（図では蛍光板ホルダ）
にミラーを貼付する。 次に，観測カメラによりハーフ
ミラーを観測し，初めにハーフミラーを透過して蛍光板
方向に進むレーザビームがハーフミラー中の位置Ｐ1 か
ら発射していることを検出する。このレーザビームがミ
ラーから反射してハーフミラー中の位置Ｐ2 に到達して
いることを観測する。このＰ1 とＰ2 が重なるように蛍
光板ホルダの水平垂直両方向の傾きを調整する。
【００２３】以上により, 蛍光板の垂直度を精度よくと
ることができる。図５は本発明の第３の実施例の説明図
である。図において，Ｘ線源は透過型を用い，図７に示
されるようにターゲット（ベリリウム）表面には金属膜
を被着し，反射効率を良くしたものを使用している。
ることができる。図５は本発明の第３の実施例の説明図
である。図において，Ｘ線源は透過型を用い，図７に示
されるようにターゲット（ベリリウム）表面には金属膜
を被着し，反射効率を良くしたものを使用している。
【００２４】HeNeレーザから照射されたレーザ光はハー
フミラーを通してその半分はターゲット面に照射され
る。ターゲット面に照射されたレーザ光は金属膜により
効率良く反射した後，ハーフミラーを介してそのレーザ
光の半分はレーザ照射口の方に戻り，他の光は光学系セ
ンサの方向に照射する。
フミラーを通してその半分はターゲット面に照射され
る。ターゲット面に照射されたレーザ光は金属膜により
効率良く反射した後，ハーフミラーを介してそのレーザ
光の半分はレーザ照射口の方に戻り，他の光は光学系セ
ンサの方向に照射する。
【００２５】このとき，レーザ照射口に戻ってきたレー
ザスポットがレーザ照射口に重なる場合は，レーザ光が
ターゲット面に対して垂直に照射されていることにな
る。したがって，これがずれている場合はレーザビーム
をミラー８で調節し，レーザスポットがレーザ照射口に
重なるようにすることにより，Ｘ線焦点位置から発し，
ターゲット面に垂直なレーザビーム（光軸）を得ること
ができる。
ザスポットがレーザ照射口に重なる場合は，レーザ光が
ターゲット面に対して垂直に照射されていることにな
る。したがって，これがずれている場合はレーザビーム
をミラー８で調節し，レーザスポットがレーザ照射口に
重なるようにすることにより，Ｘ線焦点位置から発し，
ターゲット面に垂直なレーザビーム（光軸）を得ること
ができる。
【００２６】このとき，蛍光板にレーザ光を透過するも
の，例えばプラスチックシンチレータを設置して，Ｘ線
照射を開始し，蛍光板上にできるＸ線の強度分布をカメ
ラで観測する。そしてガウス分布状のＸ線強度分布の中
心にレーザ光が照射されるようにする。
の，例えばプラスチックシンチレータを設置して，Ｘ線
照射を開始し，蛍光板上にできるＸ線の強度分布をカメ
ラで観測する。そしてガウス分布状のＸ線強度分布の中
心にレーザ光が照射されるようにする。
【００２７】図６は本発明の第４の実施例の説明図であ
る。図において，ターゲットの表面に金属膜を被着した
後，プラスチックシンチレータやCaF 等のレーザ光を透
過する蛍光板を貼付する。このようにすれば上記の蛍光
板にプラスチックシンチレータを設置した場合と同様に
レーザ光を反射することができ, またこのＸ線透過型蛍
光板によってＸ線焦点位置を知ることができるので，直
接，ガウス分布状のＸ線強度分布の中心に光学系の中心
がくるように光軸を設定できる。
る。図において，ターゲットの表面に金属膜を被着した
後，プラスチックシンチレータやCaF 等のレーザ光を透
過する蛍光板を貼付する。このようにすれば上記の蛍光
板にプラスチックシンチレータを設置した場合と同様に
レーザ光を反射することができ, またこのＸ線透過型蛍
光板によってＸ線焦点位置を知ることができるので，直
接，ガウス分布状のＸ線強度分布の中心に光学系の中心
がくるように光軸を設定できる。
【００２８】図８(A),(B) はＸ線源の断面図である。図
の(A) は透過型Ｘ線源，(B) は反射型Ｘ線源である。透
過型Ｘ線源は反射型Ｘ線源に比べてベリリウムウインド
ウとターゲットの間隔がない分だけサンプルをＸ線焦点
に近づけることができ拡大率を大きくとれるので，実施
例ではこれを使用した。
の(A) は透過型Ｘ線源，(B) は反射型Ｘ線源である。透
過型Ｘ線源は反射型Ｘ線源に比べてベリリウムウインド
ウとターゲットの間隔がない分だけサンプルをＸ線焦点
に近づけることができ拡大率を大きくとれるので，実施
例ではこれを使用した。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば, ターゲット面に垂直な
レーザ光をセットし，この軸を基準にして光学系を組む
ことによりＸ線検査システムの光学系の精度向上に寄与
することができた。
レーザ光をセットし，この軸を基準にして光学系を組む
ことによりＸ線検査システムの光学系の精度向上に寄与
することができた。
【００３０】また，ターゲット表面に金属膜を被着させ
ることにより，簡単にターゲット表面に垂直なレーザビ
ームを得ることができ，これを光軸として光学系の調整
に用いることができる。
ることにより，簡単にターゲット表面に垂直なレーザビ
ームを得ることができ，これを光軸として光学系の調整
に用いることができる。
【図１】 本発明の実施例全体の構成図
【図２】 本発明の第１の実施例の説明図
【図３】 光軸調整のフロー図
【図４】 本発明の第２の実施例の説明図
【図５】 本発明の第３の実施例の説明図
【図６】 本発明の第４の実施例の説明図
【図７】 第３，４実施例のターゲットの説明図
【図８】 Ｘ線源の断面図
【図９】 Ｘ線検査システムの説明図
【図10】 光学系の調整条件の説明図
１ Ｘ線源 ２ HeNeレーザ ３ ハーフミラー ４ 観測カメラ ５ 蛍光板 ６レンズ ７ CCD カメラ ８ 蛍光板，レンズ，CCD カメラのステージコントロー
ラ ９ I/O 回路 10 画像入力(2) 部 11 画像入力(1) 部 12 メモリ 13 CPU, 14 バス
ラ ９ I/O 回路 10 画像入力(2) 部 11 画像入力(1) 部 12 メモリ 13 CPU, 14 バス
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線非破壊検査システムにおいて，Ｘ線
焦点位置を通りＸ線源のターゲットに垂直にレーザビー
ムをセッティングし，該レーザビームを光軸として光学
系の調整を行うことを特徴とするＸ線光学系の調整方
法。 - 【請求項２】 センサの中心にレーザビームが入射する
ように光学部品をセッティングすることを特徴とする請
求項１記載のＸ線光学系の調整方法。 - 【請求項３】 光軸上にセッティングした物体にミラー
を貼付するか，またはその物体の代わりにダミーのミラ
ーを設置して，レーザビームが該ミラーで反射し，もと
の発射した位置に戻るように該物体の傾きを調整して光
軸に垂直にセッティングすることを特徴とする請求項１
記載のＸ線光学系の調整方法。 - 【請求項４】 前記ターゲット表面に金属膜を被着した
ことを特徴とする請求項１記載のＸ線光学系の調整方
法。 - 【請求項５】 前記ターゲット表面に金属膜を被着し，
その上に透過型蛍光板を貼付したことを特徴とする請求
項１記載のＸ線光学系の調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462992A JPH0618446A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Ｘ線光学系の調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462992A JPH0618446A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Ｘ線光学系の調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0618446A true JPH0618446A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=15981940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17462992A Withdrawn JPH0618446A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | Ｘ線光学系の調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0618446A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109799079A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种多光谱相机的共光轴校调装置和方法 |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP17462992A patent/JPH0618446A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109799079A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种多光谱相机的共光轴校调装置和方法 |
| CN109799079B (zh) * | 2019-03-29 | 2024-04-09 | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 | 一种多光谱相机的共光轴校调装置和方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7417721B2 (en) | Defect detector and defect detecting method | |
| JP5276643B2 (ja) | 弱い光及び蛍光の光の用途において信号対ノイズ比、解像度、又は合焦品質を犠牲にすることなく検査速度を最適化するための方法 | |
| US6862097B2 (en) | Three-dimensional shape measuring method, and three-dimensional shape measuring apparatus | |
| JPH07113966B2 (ja) | 二次元画像処理方法および装置 | |
| EP0646768A2 (en) | Confocal optical microscope and length measuring device using this microscope | |
| KR20100025496A (ko) | 유리 시트 형태 결정 시스템 및 방법 | |
| JP2928277B2 (ja) | 投影露光方法及びその装置 | |
| JP2001124530A (ja) | 立体形状検出方法及び装置、並びに検査方法及び装置 | |
| CN112946673A (zh) | 一种激光测距方法、对焦方法、激光测距系统及对焦系统 | |
| JPH09329422A (ja) | 高さ測定方法及び装置 | |
| CN112731773B (zh) | 一种电子束曝光机、调焦方法及装置 | |
| US6370221B2 (en) | Method of setting a position of an object of measurement in layer thickness measurement by X-ray fluorescence | |
| JPH0618446A (ja) | Ｘ線光学系の調整方法 | |
| JPH05118999A (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| CN117368244A (zh) | 一种用于微聚焦x射线散射的样品台 | |
| JPH04162337A (ja) | 電子線装置 | |
| JPH0618447A (ja) | Ｘ線焦点位置の検出方法 | |
| CN111220095A (zh) | 一种用于高精度检测发散光束光轴垂直度的方法及装置 | |
| JP2000193434A (ja) | 異物検査装置 | |
| RU2421949C1 (ru) | Лазерный центратор для рентгеновского излучателя | |
| JP7692878B2 (ja) | 光透過性板状体の欠陥検査方法 | |
| JPH10221270A (ja) | 異物検査装置 | |
| JP2597711B2 (ja) | ３次元位置測定装置 | |
| JPH07190735A (ja) | 光学式測定装置およびその測定方法 | |
| JPH05267117A (ja) | マスクと基板間のギャップ検出・設定方法およびその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |