JPH06184599A

JPH06184599A - 難燃性炭化水素洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH06184599A
Application number: JP35492392A
Authority: JP
Inventors: Michiaki Torii; 迪明鳥居; Keiji Endo; 圭治遠藤
Original assignee: Nippon Petrochemicals Co Ltd
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 1992-12-18
Filing date: 1992-12-18
Publication date: 1994-07-05

Abstract

(57)【要約】【目的】衣類や樹脂加工物や精密機械、電気、電子部
品、あるいはハンダフラックス等の汚れの除去性、安全
性に優れかつ環境汚染がない難燃性炭化水素洗浄剤組成
物を開発する。【構成】下記の（Ａ）〜（Ｃ）の成分からなることを
特徴とする難燃性炭化水素洗浄剤組成物により目的を達
成できる。（Ａ）成分の沸点が沸点１５０から３００℃
の範囲内にある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金
属触媒により圧力１０〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、温度１０
０〜３００℃の条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオ
ライトからなる分子篩を用いて該灯油留分中のｎ−パラ
フィン類の少なくとも一部を分離、除去することにより
得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質
的にナフタリン及びビフェニルを含まない沸点１５０〜
２４０℃の範囲にある成分を主とする炭化水素留分１０
０重量部、（Ｂ）水１０〜６０重量部、（Ｃ）界面活性
剤水重量の２０〜１２０重量％。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は難燃性の洗浄剤組成物に
関する。さらに詳しくは、難燃性に加え環境汚染性がな
く後処理が容易な洗浄剤組成物であって、強力な洗浄力
を有する洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、樹脂加工品や精密機械部品の洗浄
やプリント基板のハンダ用フラックスを除去するために
はケロシン、ベンゼン、キシレン、などの炭化水素系溶
剤；トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、トリ
クロロエタンなどの塩索系溶剤；トリクロロトリフルオ
ロエタンなどのフロン系溶剤；オルソケイ酸ソーダや苛
性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系の洗浄
剤などが使用されている。特に機械などの部品にはその
高洗浄性、難燃性によりフロン系溶剤または塩素系溶剤
が使用されている。また、近年、環境汚染が少なくかつ
安全性の高い洗浄剤として、リモネン、ピネン、ジテル
ペン等のようなテルペン類や環式炭化水素を主とする洗
浄剤も提案されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの洗浄
剤の多くは、汚れ除去性、耐劣化性及び低毒性という洗
浄剤組成物に要求される条件の全てを満たすようなもの
ではなかった。すなわち、塩素系およびフロン系の溶剤
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染などに大き
な問題を有しており、また炭化水素系溶剤、特にベンゼ
ン、キシレンなどは毒性が高く、労働安全法上の有害物
に指定されている化合物であるため、これらを取り扱う
作業の危険性及び煩雑さを考慮した場合、洗浄剤として
用いることは好ましくない。

【０００４】一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比べ
て危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力におい
て数段劣っている。またリモネンに代表されるテルベン
類は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物であるが、
使用時に劣化し易く、耐久性が問題であるばかりではな
く、天然物由来のために安定品質の物が得にくく、高価
でかつ供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実用的
ではない。また近年、ナフテン系炭化水素を洗浄に使う
例もあるが、これらは洗浄性という点では優れているも
のの引火点が低く火気に対して危険である。よって、本
発明は上述のような従来技術の持つ欠点を改良し、衣類
や樹脂加工物や精密機械、電気、電子部品、あるいはハ
ンダフラックス等の汚れの除去性、安全性に優れかつ環
境汚染のない洗浄剤組成物を安価に提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる困難な実状におい
て、本発明者らは上記問題点を解決すべく鋭意研究を行
った結果、特定の炭化水素留分と界面活性剤または有機
溶剤を介して水を混合する事により本発明を完成するに
至った。また、本発明者らは上記炭化水素留分が石油化
学工業に於ける特定のプロセスにおいて副生する炭化水
素留分を用いたものであるきわめて安価に提供できるこ
とを見いだした。すなわち本発明は、下記の（Ａ）〜
（Ｃ）の成分からなることを特徴とする難燃性炭化水素
洗浄剤組成物を提供するものである。（Ａ）成分の沸点が沸点１５０から３００℃の範囲内に
ある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒によ
り圧力１０〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、温度１００〜３００
℃の条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトから
なる分子篩を用いて該灯油留分中のｎ−パラフィン類の
少なくとも一部を分離、除去することにより得られる残
油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタ
リン及びビフェニルを含まない沸点１５０〜２４０℃の
範囲にある成分を主とする炭化水素留分１０
０重量部（Ｂ）水１０〜６０重量部（Ｃ）界面活性剤水重量の２０〜１２０重量％

【０００６】以下に本発明の（Ａ）成分の炭化水素混合
物の詳細について述べる。本発明に於いては、沸点１５
０〜３００℃の範囲にある灯油留分を芳香族の核水素添
加用金属触媒により水素添加する。この触媒は従来知ら
れている芳香族核の水素添加用金属触媒であればいずれ
でも好ましく使用できる。例えば、ニッケル、酸化ニッ
ケル、ニッケル／珪藻土、ラネーニッケル、ニッケル／
銅、白金、酸化白金、白金／活性炭、白金／ロジウム、
白金／リチウム／アルミナ、ロジウム／活性炭、パラジ
ウム、コバルト、ラネーコバルト、ルテニウム、ニッケ
ル／タングステン、硫化タングステン／硫化ニッケル／
アルミナ、コバルト／モリブデン等が良好に使用でき
る。水素圧力は１０〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、また温度は
１００〜３００℃で行う。１０ｋｇ／ｃｍ² より低い圧
力または１００℃より低い温度では水素添加反応が十分
進まず、また１００ｋｇ／ｃｍ² より高い圧力または、
３００℃より高い温度では分解反応などの副反応が優先
するのでいずれも好ましくない。反応形式はバッチ式、
あるいは連続・流通式などのいずれの方法も取り得る。

【０００７】ここで上記の水素添加により灯油留分中の
芳香族炭化水素は核水素化されナフテン類となるが、通
常は含まれる芳香族炭化水素の１００％が核水素添加さ
れることはなく上述の触媒の種類、反応条件などに応じ
て、ある程度の量の芳香族炭化水素が水素添加されずに
残留するものである。また水素添加処理にはしばしば副
反応として分解、異性化などをともない、これらの反応
に係る生成物も水素添加された灯油留分に必然的に含ま
れることとなる。

【０００８】上述の水素添加処理について、灯油留分を
合成ゼオライトからなる分子篩を用いて、少なくとも一
部を分離・除去し残油を得る。分子篩を用いて、気相ま
たは液層で吸・脱着を繰り返すことにより炭化水素混合
物からｎ−パラフィン類を分離、取得する方法は、従来
から以下のようにｎ−パラフィン類の製造方法として工
業的に広く実施されている。

【０００９】即ち、例えば５Ａに調整された多数の孔を
持つ合成ゼオライトから成る分子篩を固定床として、ｎ
−パラフィン類の吸・脱着を交互に行い、ｎ−パラフィ
ンを吸着した分子篩を脱着用の低分子パラフィンで洗い
ｎ−パラフィン類を脱着させ、混入した脱着用低分子量
パラフィンは蒸留によって分離し、再循環させるモレッ
クス法、同じく５Ａの孔を有する合成ゼオライトからな
る分子篩による吸・脱着を利用して気相でｎ−パラフィ
ン類を吸着させ、その脱着は低分子量パラフィンで洗い
流すＴＳＦ法（テキサコ・セレクティブ・フィニッシン
グ法）、同じく５Ａの合成ゼオライトからなる分子篩を
用いるが、ｎ−パラフィン類の分子篩への吸・脱着は加
圧、減圧を交互に繰り返すことにより行われるアイソシ
ーブ型、さらに蒸気相・液床相を組み合わせた方法で、
ｎ−パラフィン類の５Ａの孔を有する合成ゼオライトか
らなる分子篩への吸着を、吸着装置中の液床で連続的に
行い、その脱着は再生装置中で吸着より高い温度で操作
し、再生された分子篩は再生装置から吸着装置へ戻して
再循環させるエッソ法等がある。これら５Ａの孔を有す
る合成ゼオライトからなる分子篩を用いるいずれの方法
によってもｎ−パラフィン類を分離することができる。

【００１０】一般にｎ−パラフィンの分離においては、
理論的にはｎ−パラフィン類のみが分離するはずのとこ
ろ、その方法によっては、ｎ−パラフィン類以外の炭化
水素もｎ−パラフィン類に随伴して分離され、その結果
として得られた残油中のｎ−パラフィン類以外の成分の
含有量が変化することがある。このような点を考慮する
と、工業的にｎ−パラフィン類を分離する方法には尿素
結晶を利用する方法もあるが、本発明の方法としては、
５Ａの孔を有する合成ゼオライトからなる分子篩を用い
る上記の如き方法が適当である。

【００１１】上記の如くしてｎ−パラフィン類を水素添
加処理した灯油留分から分離し、残油を得る。次にこの
残油を精密蒸留する。これは、例えば２本以上の蒸留塔
からなる精密蒸留装置を用い、第１塔の塔頂から軽質炭
化水素を除去し、第２塔またはそれ以後の塔の塔頂から
目的とする留分が製造される。もちろん、蒸留段数など
の分配効率が適当であれば、１本の蒸留塔からなる精密
蒸留装置の塔頂および塔底からそれぞれ軽質炭化水素お
よび重質炭化水素を除去し、塔央より目的とする留分を
製造することもできる。なお、この精密蒸留は、次に述
べる第２段の核水素添加の後に行ってもよい。上記精密
蒸留装置により、沸点１５０〜２４０℃の範囲にある成
分を主とする炭化水素留分を得る。

【００１２】本発明の炭化水素留分の成分の沸点は上記
範囲にあることが必要であって、この範囲をはずれると
各成分の存在およびその含有量のバランスが崩れ初期の
目的を達成し得なくなるため好ましくない。すなわち、
上記沸点範囲よりも低い沸点の成分では、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等の有害な芳香族炭化水素を多く含む
こととなり好ましくない。更に２４０℃を越える沸点の
成分では、沸点が高くなりすぎて洗浄後の乾燥性が劣る
ようになり、残存臭も強くなってくるために好ましくな
い。上記炭化水素留分は、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどは実質的に含まずその他の芳香族炭化水素含有量
が少なく、特に実質的にナフタレン及びビフェニルを含
まない。しかしながら本発明に於いては、より高い安全
性を所望して、例えば実質的に全ての種類の芳香族炭化
水素を含まないようにするためには、前記残油に対し第
二段階の水素添加処理を行い、実質的に芳香族炭化水素
を含まない留分を得ることもできる。

【００１３】ここに上記の残油に対する第二段階で行う
水素添加は、前記第一段階の水素添加と同様に行うこと
ができる。あるいは、より穏やかに条件即ち、より低い
温度またはより低い圧力の条件下で核水素添加してもよ
い。第二段で使われる核水素添加用金属触媒は、第一段
のものと同じものである必要は必ずしもない。即ち、同
一でもまた異なる触媒であってもよい。いずれにして
も、前述の水素添加条件から適宜に選択すればよい。次
に第二段の核水素添加の後、前述のように必要に応じて
精密蒸留する。上記精密蒸留装置により、沸点１５０〜
２４０℃の範囲にある成分を主とする炭化水素留分を得
る。

【００１４】本発明は上記のようにして得られた炭化水
素留分と水を混合することによりなる。上記の（Ａ）成
分の炭化水素留分と（Ｂ）成分の水とは（Ｃ）成分の界
面活性剤を介して充分に乳化または、溶解していなくて
はならない。水は硬度の低いものを使うことが好まし
い。水の量は１０〜６０重量部がよい。１０重量部未満
であれば難燃の効果がなく、６０重量部を超えれば焼却
処分がしにくくなるほか、洗浄性も悪くなる。

【００１５】本発明の（Ｃ）成分の界面活性剤としては
カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両イオン系いず
れも使用できるが、特に洗浄面への影響が少ないという
点で非イオン系界面活性剤が最も良い。例えば、ステア
リン酸グリセライド、ポリオキシアルキレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエー
テル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、
ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテル、ポリ
オキシアルキレンソルビタン脂肪酸エーテル、ポリオキ
シルアルキレンアルキルアミン、ソルビタン酸脂肪酸エ
ステル、ポリオキシアルキレン、アルキルフェノール縮
合物などが好ましく、そのなかでも平均ＨＬＢ４〜１５
の非イオン性界面活性剤が特に優れた効果を発現する。
ここで、ポリオキシアルキレンとしては、エチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイドまたはブチレンオキサイ
ドの重合体または共重合体が好ましい。

【００１６】界面活性剤の量としては水の重量の２０〜
１２０重量％、好ましくは４０〜８０重量％がよい。２
０重量％未満では十分に乳化、または溶解せずに相分離
を起こしてしまい、１２０重量％を超えれば界面活性剤
の残留の問題や後洗いの問題が生じる。

【００１７】本発明は更に両親媒性の溶剤を加えること
により洗浄性を上げ、界面活性剤の量を減らすことがで
きる。本発明の両親媒性の溶剤としては、炭素数３〜１
８の脂肪族系アルコール、エステル、エーテル、一般式
Ｒ−ＯＣ_n Ｈ_2nＯＨ（Ｒは脂肪族炭化水素を示し、ｎは
１，２，３の整数を示す）の化合物、非プロトン性極性
溶媒からなる群から選ばれる一種または二種以上の溶剤
の混合物をいう。

【００１８】上記脂肪族アルコールとしては、例えば、
プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ｔ−ブタノ
ール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、ラウ
リルアルコール、オレイルアルコール、ゲルベアルコー
ルやオキソ法によって合成されるアルコール等の天然及
び合成で得られる各種アルコールが挙げられる。

【００１９】エステルとしては酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、プロピオン酸エチ
ル、ピロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、プロ
ピオン酸ペンチル、プロピオン酸ヘキシル、酪酸メチ
ル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、酪酸ペン
チル、酪酸ヘキシル等がある。

【００２０】エーテルとしてはジメチルエーテル、ジエ
チルエーテル、シプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、ジペンチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチ
ルプロピルエーテル、メチルペンチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、エチルペン
チルエーテル、プロピルブチルエーテル、プロピルペン
チルエーテル、ブチルペンチルエーテル、グリセリンメ
チルエーテル等がある。

【００２１】一般式Ｒ−ＯＣ_n Ｈ_2nＯＨ（Ｒは炭素数１
〜６の脂肪族炭化水素を示し、ｎは１，２，３，４の整
数を示す）で表される化合物としては、例えばヒドロキ
シジメチルエーテル、ヒドロキシメチルエチルエーテ
ル、ヒドロキシメチルプロピルエーテル、ヒドロキシメ
チルイソプロピルエーテル、ヒドロキシメチルブチルエ
ーテル、ヒドロキシメチルペンチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、ペンチルセロソルブ、３ヒドロキシプ
ロピルメチルエーテル、３ヒドロキシプロピルエチルエ
ーテル、３ヒドロキシジプロピルエーテル、３ヒドロキ
シプロピルイソプロピルエーテル、３ヒドロキシプロピ
ルペンチルエーテル、４ヒドロキシブチルメチルエーテ
ル、４ヒドロキシブチルエチルエーテル等がある。

【００２２】非プロトン性極性溶媒としてはスルフォラ
ン、炭酸プロピレン等が毒性がなく好ましい。

【００２３】本発明はエチレングリコール、プロピレン
グリコール、トリエチレングリコール、グリセリン等の
多価アルコールおよびこれらの混合物を含有すればさら
に洗浄力を高めるものである。その量は０．００１〜
０．５重量部が望ましい。含量が０．００１重量部未満
であるとそれらを入れた効果が少なく０．５重量部を超
えると相分離を起こしてしまう。

【００２４】また、本発明の洗浄剤組成物には、その効
果を損なわない範囲で、必要に応じてさらに各種アルコ
ール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機酸、防腐
剤、防錆剤、消泡剤、酸化防止剤、酵素等を配合しても
よい。

【００２５】本発明の洗浄剤組成物は、プリント基板の
ハンダ付け後、付着残存するハンダ用フラックスの洗
浄、プラスチック成型品の塗装前の洗浄に特に優れた効
果を有するものであるが、他の電気機器や精密機器の部
品、あるいはそれらの治工具類の洗浄にも使用できる。

【００２６】更に本発明の組成物により洗浄する場合、
従来公知の方法により洗浄することができる。例えば、
先ず本発明の洗浄剤組成物を入れた超音波洗浄槽で超音
波洗浄し、ついで本発明の洗浄剤組成物で満たした液浴
槽に浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物によりシ
ャワー洗浄するなどの方法を連続的に行うことにより効
果的に行うことができる。

【００２７】本発明の洗浄剤組成物で洗浄後、後洗いす
る事が好ましい。後洗いに使用する液体としては、ナフ
テン系オイル、他の炭化水素溶剤、イソプロピルアルコ
ール、水、あるいは本発明の洗浄剤組成物の成分の一つ
である沸点１５０から３００℃の範囲にある灯油留分
を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力１０〜
１００ｋｇ／ｃｍ² 、温度１００〜３００℃の条件で、
核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を
用いて該灯油留分中のｎ−パラフィン類の少なくとも一
部を分離、除去することにより得られる残油を、精密蒸
留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフ
ェニル等の芳香族炭化水素を含まない沸点１５０〜２４
０℃の範囲にある成分を主とする炭化水素留分ですすい
でもよい。さらに、もし、フロン系の溶剤で洗浄する必
要があっても本発明の洗浄剤と併用して使えば従来より
も極めて少ない量で用を足すことができる。また、表面
の酸化の心配のない被洗浄物、酸化する事が望ましい被
洗浄物は本発明の洗浄剤で洗浄した後にオゾン、紫外線
で洗浄すると良い。

【００２８】

【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。（炭化水素留分の製造−１）原油の蒸留によって得られ
た沸点範囲１５０〜３００℃の灯油留分（パラフィン類
６０重量％、ナフテン類２０重量％、芳香族２０重量
％）を２８０℃、９０ｋｇ／ｃｍ² の条件下、触媒とし
て芳香族炭化水素の核水素化用であるＮｉ−Ｗ触媒を用
いて、核水素添加し、得られた生成物をモレックス法に
より、合成ゼオライトからなる５オングストロームの孔
を有する分子篩を充填した分離塔に供給してｎ−パラフ
ィン類を分離した。得られたｎ−パラフィン類が減少し
た残油留分を次に２塔の精密蒸留装置を用いて精密蒸留
する事により沸点１７７〜２００℃の炭化水素留分を得
た。この溶剤の組成および性状を表１に示す。

【００２９】（炭化水素成分の製造例−２）炭化水素成
分の製造例−１の工程中に得られたｎ−パラフィン類が
減少した残油留分を２００℃、５０ｋｇ／ｃｍ² の条件
下で、ニッケル系触媒を用いて第２段階の水素添加処理
を施し、得られた生成物を２塔の精密蒸留装置を用いて
精密蒸留して、沸点１７７〜２００℃の炭化水素留分を
得た。この溶剤の組成および性状を表１に示す。

【００３０】（炭化水素成分の製造例−３）原油の蒸留
によって得られた沸点範囲１５０〜３００℃の灯油留分
（パラフィン類６０重量％、ナフテン類２０重量％、芳
香族２０重量％）を２８０℃、９０ｋｇ／ｃｍ² の条件
下、触媒として芳香族炭化水素の核水素化用であるＮｉ
−Ｗ触媒を用いて、核水素添加し、得られた生成物をモ
レックス法により、合成ゼオライトからなる５オングス
トロームの孔を有する分子篩を充填した分離塔に供給し
てｎ−パラフィン類を分離した。得られたｎ−パラフィ
ン類が減少した残油留分を次に２塔の精密蒸留装置を用
いて精密蒸留する事により沸点２１０〜２４０℃の炭化
水素留分を得た。この溶剤の組成および性状を表１に示
す。

【００３１】（実施例１〜１２、比較例１〜４）表２に
示す処方で洗浄剤を調製した。実験は４ｃｍ×２ｃｍ×
５ｍｍガラス板または樹脂板（ポリプロピレン）に廃油
を均一に塗布したものをテストピースとした。実施例
１、７〜９においては樹脂板を用い、他はガラス板を用
いた。洗浄は２８ｋＨｚの超音波を用いて、液温３７℃
の条件で２分間行った後、布で洗浄剤を拭き取るか、あ
るいはさらに、水、イソプロピルアルコール、（Ａ）成
分の炭化水素成分で後洗浄した後、それらを拭き取り洗
浄性を評価した。廃油の洗浄度は目視により確認した。
難燃性は引火点測定装置を使い、開放系で表２の成分が
液温８０℃まで引火しなかったものを合格とした。

【００３２】なお表１、表２に使用した記号は以下の通
りである。Ｓ１：製造例−１の炭化水素成分Ｓ２：製造例−２の炭化水素成分Ｓ３：製造例−３の炭化水素成分Ｉ１：ラウリルエーテルＩ２：エチレンオキシド・プロピレンオキシドブロック
ポリマー（ＨＬＢ＝１０．１）Ｉ３：ソルビタン脂肪酸エーテル（ＨＬＢ＝１２．５）Ｉ４：ステアリン酸グリセライドＨ１：ヘキシルアルコールＨ２：プロピオン酸ヘキシルエステルＨ３：エチルブチルエーテルＨ４：３ヒドロキシプロピルメチルエーテルＨ５：炭酸プロピレン

【００３３】

【表１】

【００３４】

【表２】

【００３５】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物はロジンフラック
スの洗浄やプラスチック加工品の塗装前の洗浄などに優
れた効果を示すと共に難燃性にすぐれたものである。本
発明の洗浄剤組成物は衣類や樹脂加工物や精密機械、電
気、電子部品、あるいはハンダフラックス等の汚れの除
去性、安全性に優れかつ環境汚染がないので産業上の利
用価値が大きい。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ１１Ｄ 1:68 1:74 7:24）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の（Ａ）〜（Ｃ）の成分からなるこ
とを特徴とする難燃性炭化水素洗浄剤組成物。（Ａ）成分の沸点が沸点１５０から３００℃の範囲内に
ある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒によ
り圧力１０〜１００ｋｇ／ｃｍ² 、温度１００〜３００
℃の条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトから
なる分子篩を用いて該灯油留分中のｎ−パラフィン類の
少なくとも一部を分離、除去することにより得られる残
油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタ
リン及びビフェニルを含まない沸点１５０〜２４０℃の
範囲にある成分を主とする炭化水素留分１０
０重量部（Ｂ）水１０〜６０重量部（Ｃ）界面活性剤水重量の２０〜１２０重量％