JPH06185672A - 真空用ゲート弁装置 - Google Patents
真空用ゲート弁装置Info
- Publication number
- JPH06185672A JPH06185672A JP4340718A JP34071892A JPH06185672A JP H06185672 A JPH06185672 A JP H06185672A JP 4340718 A JP4340718 A JP 4340718A JP 34071892 A JP34071892 A JP 34071892A JP H06185672 A JPH06185672 A JP H06185672A
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- JP
- Japan
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- valve
- seal member
- valve plate
- gas
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- Sealing With Elastic Sealing Lips (AREA)
- Sealing Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は真空用ゲート弁装置に関し、特に、
弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部材の長寿命
化を計ることを特徴とする。 【構成】 本発明による真空用ゲート弁装置は、弁箱
(1)に設けられたガス流路(10)を介してシール部材(8)に
不活性ガスを供給することにより、シール部材(8)と腐
蝕性ガスとの接触を避け、シール部材(8)の劣化を防止
するようにした構成である。
弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部材の長寿命
化を計ることを特徴とする。 【構成】 本発明による真空用ゲート弁装置は、弁箱
(1)に設けられたガス流路(10)を介してシール部材(8)に
不活性ガスを供給することにより、シール部材(8)と腐
蝕性ガスとの接触を避け、シール部材(8)の劣化を防止
するようにした構成である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空用ゲート弁装置に関
し、特に、弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部
材の長寿命化を計るための新規な改良に関する。
し、特に、弁板のシール部材の劣化を防止し、シール部
材の長寿命化を計るための新規な改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、用いられていたこの種の真空用ゲ
ート弁装置としては、一般に、弁板に設けられたシール
部材としてのＯリングを用い、このＯリングをシート面
に密合させることにより、開口の閉弁を行っていた。
ート弁装置としては、一般に、弁板に設けられたシール
部材としてのＯリングを用い、このＯリングをシート面
に密合させることにより、開口の閉弁を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空用ゲート弁
装置は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、従来、一般に、真空用
ゲート弁に用いられていたシール材は、フッ素ゴムＯリ
ングであり、これを半導体製造装置などのガス反応プロ
セス設備に使用した場合、プロセスガスに晒されて非常
に短時間に腐蝕を受け、シールが不可能となって、頻繁
に取り替えなければならない。近年、カルレッツ（米国
のデュポン社の商標）などの高耐食性のシール材が用い
られるようになっているが、従来のＯリングよりも若干
の延命効果に止まっているにすぎないのが現状である。
装置は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、従来、一般に、真空用
ゲート弁に用いられていたシール材は、フッ素ゴムＯリ
ングであり、これを半導体製造装置などのガス反応プロ
セス設備に使用した場合、プロセスガスに晒されて非常
に短時間に腐蝕を受け、シールが不可能となって、頻繁
に取り替えなければならない。近年、カルレッツ（米国
のデュポン社の商標）などの高耐食性のシール材が用い
られるようになっているが、従来のＯリングよりも若干
の延命効果に止まっているにすぎないのが現状である。
【０００４】本発明は以上のような課題を解決するため
になされたもので、特に、弁板のシール部材の劣化を防
止し、シール部材の長寿命化を計るようにした真空用ゲ
ート弁装置を提供することを目的とする。
になされたもので、特に、弁板のシール部材の劣化を防
止し、シール部材の長寿命化を計るようにした真空用ゲ
ート弁装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による真空用ゲー
ト弁装置は、弁箱の開口に連通するシート面に、弁板の
シール部材を密合させて前記開口を閉弁するようにした
真空用ゲート弁装置において、前記弁箱に設けられたガ
ス流路を介して前記シール部材に不活性ガスを供給する
ようにした構成である。
ト弁装置は、弁箱の開口に連通するシート面に、弁板の
シール部材を密合させて前記開口を閉弁するようにした
真空用ゲート弁装置において、前記弁箱に設けられたガ
ス流路を介して前記シール部材に不活性ガスを供給する
ようにした構成である。
【０００６】また、本発明による真空用ゲート装置は、
弁箱の開口に連通するシート面に、弁板のシール部材を
密合させて前記開口を閉弁するようにした真空用ゲート
弁装置において、前記弁板に設けられたガス流路を介し
て前記シール部材に不活性ガスを供給するようにした構
成である。
弁箱の開口に連通するシート面に、弁板のシール部材を
密合させて前記開口を閉弁するようにした真空用ゲート
弁装置において、前記弁板に設けられたガス流路を介し
て前記シール部材に不活性ガスを供給するようにした構
成である。
【０００７】さらに詳細には、前記弁箱に設けられたボ
ンネットフランジと、前記ボンネットフランジに設けら
れ弁棒を有する弁板駆動装置とを有し、前記弁板は前記
弁棒に接続された構成である。
ンネットフランジと、前記ボンネットフランジに設けら
れ弁棒を有する弁板駆動装置とを有し、前記弁板は前記
弁棒に接続された構成である。
【０００８】
【作用】本発明による真空用ゲート弁装置においては、
弁箱又は弁板に形成されたガス流路を介して、弁板と開
口のシート面近傍の弁箱内面との間に形成された間隙に
対して不活性ガスを供給するため、この間隙に供給した
不活性ガスがシール部材の近傍に不活性ガス層を形成
し、真空チャンバ（図示せず）に供給されている腐蝕性
のプロセスガスとシール部材との接触を断つことができ
る。従って、このプロセスガスによるシール部材の腐蝕
を長期間にわたって防止し、シール部材の長寿命化を達
成することができる。
弁箱又は弁板に形成されたガス流路を介して、弁板と開
口のシート面近傍の弁箱内面との間に形成された間隙に
対して不活性ガスを供給するため、この間隙に供給した
不活性ガスがシール部材の近傍に不活性ガス層を形成
し、真空チャンバ（図示せず）に供給されている腐蝕性
のプロセスガスとシール部材との接触を断つことができ
る。従って、このプロセスガスによるシール部材の腐蝕
を長期間にわたって防止し、シール部材の長寿命化を達
成することができる。
【０００９】
【実施例】以下、図面と共に本発明による真空用ゲート
弁装置の好適な実施例について詳細に説明する。図１か
ら図５迄は本発明による真空用ゲート弁装置を示すもの
で、図１は正面図、図２は図１の一部断面を含む正面
図、図３は図１の横断面図、図４は図１の要部の拡大斜
視図、図５は図３の他の実施例を示す断面図である。
弁装置の好適な実施例について詳細に説明する。図１か
ら図５迄は本発明による真空用ゲート弁装置を示すもの
で、図１は正面図、図２は図１の一部断面を含む正面
図、図３は図１の横断面図、図４は図１の要部の拡大斜
視図、図５は図３の他の実施例を示す断面図である。
【００１０】実施例１．図１から図４において符号１で
示されるものは、半導体製造装置のチャンバ（図示せ
ず）に接続して設けられる弁箱であり、この弁箱１には
開口２が形成されていると共に、この弁箱１の上部１ａ
には、油圧、空圧及びモータ等の何れかの手段からなる
弁板駆動装置３を有するボンネットフランジ４が載置し
て設けられている。
示されるものは、半導体製造装置のチャンバ（図示せ
ず）に接続して設けられる弁箱であり、この弁箱１には
開口２が形成されていると共に、この弁箱１の上部１ａ
には、油圧、空圧及びモータ等の何れかの手段からなる
弁板駆動装置３を有するボンネットフランジ４が載置し
て設けられている。
【００１１】前記弁板駆動装置３に設けられ矢印Ａの方
向に沿って往復移動する弁棒５の下端にはほぼ台形状を
なす弁板６が設けられており、この弁板６は前記開口２
を開閉弁できるように構成されている。
向に沿って往復移動する弁棒５の下端にはほぼ台形状を
なす弁板６が設けられており、この弁板６は前記開口２
を開閉弁できるように構成されている。
【００１２】前記弁板６の外面６ａは、前記弁箱１の弁
座７に設けられたシート面７ａに対面し、この外面６ａ
に設けられたＯリング等からなるシール部材８が前記シ
ート面７ａと密合するように構成されており、前記開口
２はこの弁板６のシール部材８がシート面７ａに密合す
ることによって閉弁される。
座７に設けられたシート面７ａに対面し、この外面６ａ
に設けられたＯリング等からなるシール部材８が前記シ
ート面７ａと密合するように構成されており、前記開口
２はこの弁板６のシール部材８がシート面７ａに密合す
ることによって閉弁される。
【００１３】前記弁板６の板面６ａと前記シート面７ａ
近傍の弁座内面との間には所定の間隔を有する間隙９が
形成されており、この間隙９は前記弁箱１および弁座７
に形成された複数のガス流路１０に連通している。
近傍の弁座内面との間には所定の間隔を有する間隙９が
形成されており、この間隙９は前記弁箱１および弁座７
に形成された複数のガス流路１０に連通している。
【００１４】前記ガス流路１０は前記弁箱１の側部１ｂ
に設けられたガス分岐管１１を介してガス導入管１２に
接続され、このガス導入管１２は図示しない不活性ガス
のガス源１３に接続されている。なお、前記各ガス流路
１０は前記シール部材８の近傍位置から不活性ガスを注
入できるように配設されている。
に設けられたガス分岐管１１を介してガス導入管１２に
接続され、このガス導入管１２は図示しない不活性ガス
のガス源１３に接続されている。なお、前記各ガス流路
１０は前記シール部材８の近傍位置から不活性ガスを注
入できるように配設されている。
【００１５】前述の構成において、例えば、図示しない
半導体製造装置に前記弁箱１が接続され、閉弁状態で図
示しない半導体用ウェハ上への薄膜形成のために使用さ
れる腐蝕性ガスが注入されて開口２及び弁板６等がこの
腐蝕性ガス雰囲気下に存在する状態で、前記ガス流路１
０から半導体製造プロセスに悪影響のない性質の不活性
ガス（例えば、窒素ガス）を前記間隙９に注入すると、
各シール部材８の近傍に不活性ガス層（図示せず）が形
成され、この不活性ガス層によって各シール部材８と前
記腐蝕性ガスとの接触が断たれる。
半導体製造装置に前記弁箱１が接続され、閉弁状態で図
示しない半導体用ウェハ上への薄膜形成のために使用さ
れる腐蝕性ガスが注入されて開口２及び弁板６等がこの
腐蝕性ガス雰囲気下に存在する状態で、前記ガス流路１
０から半導体製造プロセスに悪影響のない性質の不活性
ガス（例えば、窒素ガス）を前記間隙９に注入すると、
各シール部材８の近傍に不活性ガス層（図示せず）が形
成され、この不活性ガス層によって各シール部材８と前
記腐蝕性ガスとの接触が断たれる。
【００１６】従って、各シール部材８の腐蝕性ガスによ
る劣化は極めて良好に防止され、従来構成に比較する
と、各シール部材８の交換時期を大幅に延期することが
可能となった。また、図３、図４では弁板６の一方の側
に不活性ガスを供給する構造となっているが、弁板６の
両側へ供給することも同様に可能である。
る劣化は極めて良好に防止され、従来構成に比較する
と、各シール部材８の交換時期を大幅に延期することが
可能となった。また、図３、図４では弁板６の一方の側
に不活性ガスを供給する構造となっているが、弁板６の
両側へ供給することも同様に可能である。
【００１７】実施例２．また、図５に示す実施例２の構
成においては、前記弁板６の中心位置に前記ガス分岐管
１１に接続された連絡ガス流路１０ａが形成され、この
連絡ガス流路１０ａが弁板６に形成された各ガス流路１
０に連通されている。
成においては、前記弁板６の中心位置に前記ガス分岐管
１１に接続された連絡ガス流路１０ａが形成され、この
連絡ガス流路１０ａが弁板６に形成された各ガス流路１
０に連通されている。
【００１８】前記各ガス流路１０は、弁板６と弁座７の
シート面７ａ近傍の弁座内面との間に形成された間隙９
に連通しており、前記ガス分岐管１１に接続された不活
性ガスのガス源１３（図４と同様）からの不活性ガスが
各ガス流路１０を介して前記間隙９に供給されることに
より、前述の実施例１と同様の作用によって、シール部
材８の劣化を防止することができる。なお、前述の図５
の実施例２の場合、ガス分岐管１１とガス源１３との間
は、弁板６が往復移動するが故に柔軟性のあるフレキシ
ブルガス管（図示せず）を介して接続されている。ま
た、実施例１と同一部分には同一符号を付し、その説明
は省略している。
シート面７ａ近傍の弁座内面との間に形成された間隙９
に連通しており、前記ガス分岐管１１に接続された不活
性ガスのガス源１３（図４と同様）からの不活性ガスが
各ガス流路１０を介して前記間隙９に供給されることに
より、前述の実施例１と同様の作用によって、シール部
材８の劣化を防止することができる。なお、前述の図５
の実施例２の場合、ガス分岐管１１とガス源１３との間
は、弁板６が往復移動するが故に柔軟性のあるフレキシ
ブルガス管（図示せず）を介して接続されている。ま
た、実施例１と同一部分には同一符号を付し、その説明
は省略している。
【００１９】
【発明の効果】本発明による真空用ゲート弁装置は、以
上のように構成されているため、次のような効果を得る
ことができる。すなわち、弁板と弁座間に形成された間
隙内に不活性ガスを供給し、シール部材の近傍に形成し
た不活性ガス層によってシール部材と腐蝕性ガスとの接
触を避けることができ、シール部材の劣化を効果的に防
止し、その交換時期を従来構成よりも大幅に延期させて
半導体製造装置等の信頼性を大幅に向上できる。
上のように構成されているため、次のような効果を得る
ことができる。すなわち、弁板と弁座間に形成された間
隙内に不活性ガスを供給し、シール部材の近傍に形成し
た不活性ガス層によってシール部材と腐蝕性ガスとの接
触を避けることができ、シール部材の劣化を効果的に防
止し、その交換時期を従来構成よりも大幅に延期させて
半導体製造装置等の信頼性を大幅に向上できる。
【図１】本発明による真空用ゲート弁装置を示す正面図
である。
である。
【図２】図１の一部断面を含む正面図である。
【図３】図１の横断面図である。
【図４】図１の要部の拡大斜視図である。
【図５】図３の他の実施例を示す断面図である。
１ 弁箱 ２ 開口 ３ 弁板駆動装置 ４ ボンネットフランジ ５ 弁棒 ６ 弁板 ７ａ シート面 ８ シール部材 １０ ガス流路
Claims (3)
- 【請求項１】 弁箱(1)の開口(2)に連通するシート面(7
a)に、弁板(6)のシール部材(8)を密合させて前記開口
(2)を閉弁するようにした真空用ゲート弁装置におい
て、前記弁箱(1)に設けられたガス流路(10)を介して前
記シール部材(8)に不活性ガスを供給するように構成し
たことを特徴とする真空用ゲート弁装置。 - 【請求項２】 弁箱(1)の開口(2)に連通するシート面(7
a)に、弁板(6)のシール部材(8)を密合させて前記開口
(2)を閉弁するようにした真空用ゲート弁装置におい
て、前記弁板(6)に設けられたガス流路(10)を介して前
記シール部材(8)に不活性ガスを供給するように構成し
たことを特徴とする真空用ゲート弁装置。 - 【請求項３】 前記弁箱(1)に設けられたボンネットフ
ランジ(4)と、前記ボンネットフランジ(4)に設けられ弁
棒(5)を有する弁板駆動装置(3)とを有し、前記弁板(6)
は前記弁棒(5)に接続された構成よりなることを特徴と
する請求項１又は２記載の真空用ゲート弁装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340718A JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340718A JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06185672A true JPH06185672A (ja) | 1994-07-08 |
| JP2637027B2 JP2637027B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=18339652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4340718A Expired - Lifetime JP2637027B2 (ja) | 1992-12-21 | 1992-12-21 | 真空用ゲート弁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637027B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5703652A (en) * | 1995-07-28 | 1997-12-30 | Sony Corporation | Information signal encoding system and method for adaptively encoding an information signal |
| US6602346B1 (en) | 2000-08-22 | 2003-08-05 | Novellus Systems, Inc. | Gas-purged vacuum valve |
| CN100341111C (zh) * | 2003-03-11 | 2007-10-03 | 东京毅力科创株式会社 | 半导体处理系统用闸阀及真空容器 |
| CN113074156A (zh) * | 2021-04-15 | 2021-07-06 | 华北电力大学 | 一种加装接触密封的液压换向阀 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62199572U (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-18 | ||
| JP3059575U (ja) * | 1998-12-02 | 1999-07-09 | 株式会社ジヌンジャパン | カップホルダー等の物入れを備えた野外用家具 |
-
1992
- 1992-12-21 JP JP4340718A patent/JP2637027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62199572U (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-18 | ||
| JP3059575U (ja) * | 1998-12-02 | 1999-07-09 | 株式会社ジヌンジャパン | カップホルダー等の物入れを備えた野外用家具 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5703652A (en) * | 1995-07-28 | 1997-12-30 | Sony Corporation | Information signal encoding system and method for adaptively encoding an information signal |
| US6602346B1 (en) | 2000-08-22 | 2003-08-05 | Novellus Systems, Inc. | Gas-purged vacuum valve |
| US7585370B2 (en) | 2000-08-22 | 2009-09-08 | Novellus Systems, Inc. | Gas-purged vacuum valve |
| US7754014B2 (en) | 2000-08-22 | 2010-07-13 | Novellus Systems, Inc. | Gas-purged vacuum valve |
| CN100341111C (zh) * | 2003-03-11 | 2007-10-03 | 东京毅力科创株式会社 | 半导体处理系统用闸阀及真空容器 |
| CN113074156A (zh) * | 2021-04-15 | 2021-07-06 | 华北电力大学 | 一种加装接触密封的液压换向阀 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2637027B2 (ja) | 1997-08-06 |
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