JPH0618716A

JPH0618716A - カラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JPH0618716A
Application number: JP17538292A
Authority: JP
Inventors: Kuniyasu Matsui; 邦容松井; Fumiaki Matsushima; 文明松島; Taeko Nakano; 多恵子中野
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1992-07-02
Filing date: 1992-07-02
Publication date: 1994-01-28

Abstract

(57)【要約】【目的】電解により荷電する界面活性剤を用いて顔料
を分散したミセルコロイド水溶液中で電解することによ
り、導電体上に顔料膜を形成するという薄膜形成方法を
用い、モザイクパターンを有するカラーフィルターを提
供することにある。【構成】該顔料コロイド水溶液中で電解する前に、Ｒ
ＧＢを成膜するためのパターンをそれぞれ、レジストで
パターニングし、レジストを部分マスクとして用いるこ
とを特徴とし、またレジストに黒色レジストを用い、ブ
ラックマトリックストして用いることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示体に用いるカ
ラーフィルターに関している。

【０００２】

【従来の技術】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子お
よび電界により荷電する界面活性剤および支持電解質を
基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲んだ
顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、このミセルを電
解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料
薄膜を形成するという薄膜形成方法を用いて、ＲＧＢ３
原色からなるカラーフィルターを製造し、これを液晶パ
ネル用のカラーフィルターとして使用することを特願し
ている（特開平２−２４６０３号公報）。ところで上記
薄膜形成方法により作製したカラーフィルターは、図２
に示したように、基板上に形成した透明電極を用いて、
その上に顔料薄膜を形成し、該顔料薄膜を電解形成する
ために用いた電極を液晶駆動用としても用いることを特
徴としている。顔料薄膜の下部に液晶駆動電極が位置し
ていることから、我々は便宜上、電極下付け構造と呼ん
でいるが、該電極下付け構造のカラーフィルターを用い
て作製した液晶パネルの電気光学的特性は、パネルに液
晶駆動電圧を印加しても、電極上のカラーフィルターに
より電圧降下が起こるために、電極を顔料薄膜上に形成
する電極上付け構造のカラーフィルターを用いた液晶パ
ネルと比較すると、液晶に電圧が印加されて、液晶が立
ち上がり始める電圧、すなわちスレッショルド電圧が、
高くなってしまう。特にアクティブマトリックスタイプ
の液晶パネルでは、スイッチング素子を駆動させるため
に高い電圧が必要であり、液晶駆動用のＩＣの耐電圧の
点から、その上にスレッショルド電圧が高くなることは
問題であり、スレッショルド電圧は下げる必要がある。
また、色調の良い、ポジ表示を行う場合には、コントラ
ストを取るために、電圧が印可された状態で、完全なＢ
ｌａｃｋ状態にしなければならないが、そのためには、
ネガ表示よりも高い電圧が必要となり、この点からもス
レッショルド電圧は下げる必要がある。

【０００３】このような理由から、究極的には電極上に
は液晶しかない構造が望ましい。しかしながら電極上付
け構造は、製造歩留まりが悪く、またコストの点からも
電極下付け構造と比較しても高くなるという欠点から、
電極下付け構造で特性の向上の期待できるカラーフィル
ターが望まれていた。ここで電極下付け方式の当該カラ
ーフィルターは、従来の染色方式、顔料分散方式、ある
いは電着方式に比べ、顔料膜層を半分以下の膜厚にでき
るため、液晶駆動性は向上し、電極下付け構造ながら、
電極上付け構造と同等の特性のよいパネルを作製でき
た。

【０００４】しかしながら、本方式によるカラーフィル
ターは、駆動電極をそのまま、顔料膜成膜用電極として
用いているために、ＲＧＢのカラーフィルターパターン
は、ストライプ構造となってしまう。例えば図５のよう
なパターンである。図５のパターンは、パソコン等に用
いる６インチクラス以上の中〜大型画面では、解像度と
しては問題ないが、現在液晶テレビとして用いられてい
る、３から４インチクラスでは、解像度が低下し、画質
が低下してしまう。そこで、一般には図１のような、い
わゆるモザイクパターンが主流となっている。このよう
なモザイクパターンは、本方式によるような成膜方式で
は、原理的に製造不可能である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前述のように、液晶テ
レビのような小型液晶パネル用のカラーフィルターとし
て、本方式を用いた場合、高解像度、高画質化に必要な
モザイク状のカラーフィルターを製造することは、原理
的に不可能である。しかしながら従来の本方式に用いて
いた、図５のようなストライプパターンを用いると、解
像度が悪くなり、画質が低下する。さらに、顔料膜が薄
膜化されていても、電圧ロスは皆無ではないため、画質
向上のため、前記電極上付け構造に匹敵する特性を得る
ことも課題であった。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ーの製造方法は、水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子
および電界により荷電する界面活性剤および支持電解質
を基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲ん
だ顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、このミセルを
電解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔
料薄膜を形成するというカラーフィルターの製造方法に
おいて、ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を、透明基板上に形成するため
の第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、ポジレジストを塗布
し、ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第三の工程、ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第四の工程、ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第五の工程、ｇ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、ｈ）レジストを剥離する第七の工程、からなることを特
徴とする。

【０００７】また、上記のカラーフィルターの製造方法
において、ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、ポジレジスト、また
はネガレジストを塗布し、ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第三の工程、ｅ）工程ｄ）の後、レジストを剥離する第三の工程、ｆ）工程ｂ）ｃ）ｄ）ｅ）を繰り返すことにより、一色
目の顔料膜を形成した以外の部分において、二色目を形
成する第四の工程、ｇ）工程ｂ）ｃ）ｄ）を繰り返すことにより、一色目及
び二色目の顔料膜を形成した以外の部分において、三色
目を形成する第五の工程、ｈ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、ｉ）レジストを剥離する第七の工程、としてもよい。

【０００８】ここで、三色目を形成するためのパターン
を作製する際に用いるレジストとして、黒色レジストを
用いるとさらに工程が簡略化できる。

【０００９】またさらに、上記製造工程において、最初
から、レジストの代わりとして、黒色レジストを用いて
もよい。すなわち、その場合は、ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のパターンを
持った電極を透明基板上に形成するための第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、染料あるいは顔料を
分散あるいは溶解した、ポジタイプの黒色レジストを塗
布し、ｃ）露光、現像により任意のパターンを電極上に形成す
る第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像した電極パターン上
に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形成する第
三の工程、ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第四の工程、ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第五の工程、ｇ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、からなる
ことを特徴とする。

【００１０】この方法では特に、その後、該黒色レジス
トをそのままブラックマトリックスとして使用すること
を特徴とする。

【００１１】またこの場合、第六の工程ｇ）の透明導電
層を形成する工程を省略してもよい。

【００１２】

【作用】本発明の目的とするところは、従来は、本方式
では製造が不可能であった、モザイクパターンを有する
カラーフィルターの製造を可能とし、小型の液晶テレビ
等に使用しても、高画質が得られるカラーフィルターを
提供すること、及び、顔料膜上に、導電性物質を成膜す
ることにより、顔料微粒子の堆積膜であるポーラスな顔
料膜の内部に、導電性物質が含まれ、下電極２と顔料膜
３が、電気的に導通し、通常絶縁物である顔料に導電性
を付与できる結果、前記電極上付け構造に匹敵する特性
を持つカラーフィルターを提供できることにある。その
場合、成膜後にレジスト剥離を行うことで、顔料膜同士
は導通せず、また下電極同士も導通せず、顔料膜のみに
導電性を付与でき、ＭＩＭパネル用カラーフィルターと
して用いることができる。また、ＴＦＴパネル用カラー
フィルターとして用いる場合には、カラーフィルター層
側は特にパターニングした電極を必要としないため、全
面に導電性を付与すればよく、そのため、特にレジスト
を剥離する必要はない。さらに、工程で使用するレジス
トをそのままブラックマトリックスとし、工程の短い製
法を提供することを目的としている。

【００１３】

【実施例】

（実施例１）ガラス基板上に、透明電極であるＩＴＯ膜
を形成し、図３に示すような電極パターンにＩＴＯをパ
ターニングした。

【００１４】この電極上に、以下の方法により顔料膜を
形成し、カラーフィルターを作製した。

【００１５】（１）この基板全面にポジレジスト（東京
応化製ＯＦＰＲ８００）を塗布し、摂氏９０度でプリベ
ーク後、この基板に図４のパターンを有するマスクを用
いて、露光現像を行った。

【００１６】（２）現像後の基板を用いて、以下の顔料
コロイド水溶液中で電解を行った。

【００１７】モノクロロ銅フタロシアニン２０ｍＭ（青色顔料）フェロセニルＰＥＧ１ｍＭ（レドックス反応性をもつ界面活性剤／同仁化学製）ＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．４Ｖの定電位で１０分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外に、青色の膜が形成された。

【００１８】（３）摂氏１００度で３０分焼成し、１０
％ＫＯＨ水溶液中でレジストを剥離した。

【００１９】（４）次にまた、（１）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンを１
画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００２０】（５）（２）と同様にして二色目として
赤色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。

【００２１】ジアントラキノリルレッド２０ｍＭ（赤色顔料）フェロセニルＰＥＧ２ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩＴＯ
電極をを＋極に接し、カソードとしてステンレス基板を
使用し、＋０．９Ｖの定電位で３０分間電解を行った。
この結果基板上のレジストでマスクされているところ以
外（青色膜部も含む）に、赤色の膜が形成された。

【００２２】（６）摂氏１００度で３０分焼成した後、
１０％ＫＯＨ水溶液中でレジストを剥離した。

【００２３】（７）次にまた、（４）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンをさ
らに１画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００２４】（８）（５）と同様にして三色目として
緑色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。

【００２５】臭素化塩化銅フタロシアニン２０ｍＭ（緑色顔料）フェロセニルＰＥＧ１．５ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．５Ｖの定電位で１５分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外（青色、赤色膜部も含む）に、緑色の膜が形成さ
れた。

【００２６】（９）摂氏１００度で３０分焼成した。

【００２７】（１０）該ＲＧＢ形成基板上の全面に、ス
パッタにより、透明導電膜であるＩＴＯを形成した。

【００２８】（１１）１０％ＫＯＨ水溶液中でレジスト
を剥離した。

【００２９】以上のような手順で、ＲＧＢ３色のパター
ンがモザイク状に配列され、かつ導電性を有するカラー
フィルターを形成することができた。

【００３０】（実施例２）実施例１記載のカラーフィル
ターの製造方法において、工程（７）において、通常の
ポジレジストのかわりに、黒色の顔料レジストを用いて
カラーフィルターを作製した。また、工程（１１）は省
略し、その他の工程は、実施例１と全く同様とした。そ
の結果実施例１と同じ工数で、ブラックマトリックスを
形成したカラーフィルターを作製できた。

【００３１】（実施例３）ガラス基板上に、透明電極で
あるＩＴＯ膜を形成し、図３に示すような電極パターン
にＩＴＯをパターニングした。

【００３２】この電極上に、以下の方法により顔料膜を
形成し、カラーフィルターを作製した。

【００３３】（１）この基板全面にポジレジストを塗布
し、摂氏９０度でプリベーク後、この基板に図４のパタ
ーンを有するマスクを用いて、露光現像を行った。

【００３４】（２）現像後の基板を用いて、以下の顔料
コロイド水溶液中で電解を行った。

【００３５】モノクロロ銅フタロシアニン２０ｍＭ（青色顔料）フェロセニルＰＥＧ１ｍＭ（レドックス反応性をもつ界面活性剤／同仁化学製）ＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．４Ｖの定電位で１０分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外に、青色の膜が形成された。

【００３６】（３）摂氏９０度で１０分焼成した。

【００３７】（４）次にまた、（１）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンを１
画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００３８】（５）（２）と同様にして二色目として
赤色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。

【００３９】ジアントラキノリルレッド２０ｍＭ（赤色顔料）フェロセニルＰＥＧ２ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩＴＯ
電極をを＋極に接し、カソードとしてステンレス基板を
使用し、＋０．９Ｖの定電位で３０分間電解を行った。
この結果基板上のレジストでマスクされているところ以
外（青色膜部も含む）に、赤色の膜が形成された。

【００４０】（６）摂氏９０度で１０分焼成した。

【００４１】（７）次にまた、（４）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンをさ
らに１画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００４２】（８）（５）と同様にして三色目として
緑色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。

【００４３】臭素化塩化銅フタロシアニン２０ｍＭ（緑色顔料）フェロセニルＰＥＧ１．５ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．５Ｖの定電位で１５分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外（青色、赤色膜部も含む）に、緑色の膜が形成さ
れた。

【００４４】（９）摂氏１００度で３０分焼成した。

【００４５】（１０）該ＲＧＢ形成基板上の全面に、蒸
着により、透明導電膜であるＺｎＯを形成した。

【００４６】（１１）７％ＫＯＨ水溶液中でレジストを
剥離した。

【００４７】以上のような手順で、ＲＧＢ３色のパター
ンがモザイク状に配列され、かつ導電性を有するカラー
フィルターを形成することができた。

【００４８】（実施例４）図３に示すような電極パター
ンにＩＴＯをパターニングした。

【００４９】この電極上に、以下の方法により該顔料コ
ロイド水膜を形成し、カラーフィルターを作製した。

【００５０】（１）この基板全面に黒色ポジレジストを
塗布し、摂氏９０度でプリベーク後、この基板に図４の
パターンを有するマスクを用いて、露光現像を行った。

【００５１】（２）現像後の基板を用いて、以下の顔料
コロイド水溶液中で電解を行った。

【００５２】モノクロロ銅フタロシアニン２０ｍＭ（青色顔料）フェロセニルＰＥＧ１ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩＴＯ
電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板を使
用し、＋０．４Ｖの定電位で１０分間電解を行った。こ
の結果基板上の黒色レジストでマスクされているところ
以外に、青色の膜が形成された。

【００５３】（３）摂氏９０度で１０分焼成した。

【００５４】（４）次にまた、（１）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンを１
画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００５５】（５）（２）と同様にして二色目として
赤色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。

【００５６】ジアントラキノリルレッド２０ｍＭ（赤色顔料）フェロセニルＰＥＧ２ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．９Ｖの定電位で３０分間電解を行っ
た。この結果基板上の黒色レジストでマスクされている
ところ、及び、青色膜部以外に、赤色の膜が形成され
た。

【００５７】（６）摂氏９０度で１０分焼成した。

【００５８】（７）次にまた、（４）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンをさ
らに１画素分横にスライドさせたマスクを用いた。

【００５９】（８）（５）と同様にして三色目の膜と
して緑色の膜を形成した。この際、該顔料コロイド水溶
液として、次の組成の物を用いた。

【００６０】臭素化塩化銅フタロシアニン２０ｍＭ（緑色顔料）フェロセニルＰＥＧ１．５ｍＭＬｉＢｒ（支持塩）０．１Ｍ具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．５Ｖの定電位で１５分間電解を行っ
た。この結果基板上の黒色レジストでマスクされている
ところ、及び、青色、赤色膜部以外に、緑色の膜が形成
された。

【００６１】（９）摂氏１００度で３０分焼成した。

【００６２】以上のような手順で、ＲＧＢ３色を有する
カラーフィルターを形成することができた。さらに、パ
ターニング用レジストとして用いた黒色レジストを、そ
のままブラックマトリックスとして用いることができ
た。

【００６３】（実施例５）実施例１で作製したカラーフ
ィルターを用いて、アクティブマトリックスタイプのＭ
ＩＭ型液晶パネルを作製した。この結果、電極上付け並
の性能が図２のような電極下付け構造で得られ、なおか
つモザイクパターンにより従来のものと比べて高解像度
のパネルが作製できた。

【００６４】（実施例６）実施例２で作製したカラーフ
ィルターを用いて、アクティブマトリックスタイプのＴ
ＦＴ型液晶パネルを作製した。この結果、本発明のカラ
ーフィルターを、ＴＦＴパネルにも用いることができる
ことがわかった。

【００６５】（実施例７）実施例３で作製したカラーフ
ィルターを用いて、アクティブマトリックスタイプのＭ
ＩＭ型液晶パネルを作製した。この結果、電極上付け並
の性能が図２のような電極下付け構造で得られ、なおか
つモザイクパターンにより従来のものと比べて高解像度
のパネルが作製できた。

【００６６】（実施例８）実施例４で作製したカラーフ
ィルターを用いて、アクティブマトリックスタイプのＭ
ＩＭ型液晶パネルを作製した。この結果、電極上付け並
の性能が図２のような電極下付け構造で得られ、なおか
つモザイクパターンにより従来のものと比べて高解像度
のパネルが作製できた。

【００６７】

【発明の効果】以上のように、本発明のカラーフィルタ
ーの製造方法を用いて、これを作製し、液晶テレビのよ
うな小型液晶パネル用のカラーフィルターとして、これ
を用いた場合、高解像度、高画質化に必要なモザイク状
のカラーフィルターを製造することができ、従来のスト
ライプ状のカラーフィルターを用いた液晶パネルと比較
して、明らかに、高解像度、高画質のパネルが作製でき
た。なおかつ、本カラーフィルターの製造方法に使用し
た薄膜形成方法の特色を活かし、低価格、高歩留まり、
高画質であることはいうまでもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明で作製したモザイク状カラーフィルタ
ーパターン図。

【図２】本発明のカラーフィルターを用いた電極下付
け構造の液晶パネル断面図。

【図３】実施例で用いた顔料膜成膜用ＩＴＯ電極パタ
ーン図。

【図４】実施例で用いたカラーフィルター作製用フォ
トマスク図。

【図５】従来のストライプ状パターンを有するカラー
フィルター図。

【符号の説明】

１カラーフィルター基板２カラーフィルター側電極３顔料薄膜４オーバーコート樹脂層５液晶層６対向基板側電極７対向基板８シール材９光透過部１０光遮光部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子お
よび電界により荷電する界面活性剤および支持電解質を
基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲んだ
顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、このミセルを電
解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料
薄膜を形成するというカラーフィルターの製造方法にお
いて、ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、ポジレジストを塗布
し、ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第三の工程、ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第四の工程、ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第五の工程、ｇ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、ｈ）レジストを剥離する第七の工程、からなることを特
徴とする、カラーフィルターの製造方法。
【請求項２】請求項１記載のカラーフィルターの製造
方法において、ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、ポジレジスト、また
はネガレジストを塗布し、ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する工程、ｅ）工程ｄ）の後、レジストを剥離する第三の工程、ｆ）工程ｂ）ｃ）ｄ）ｅ）を繰り返すことにより、一色
目の顔料膜を形成した以外の部分において、二色目を形
成する第四の工程、ｇ）工程ｂ）ｃ）ｄ）を繰り返すことにより、一色目及
び二色目の顔料膜を形成した以外の部分において、三色
目を形成する第五の工程、ｈ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、ｉ）レジストを剥離する第七の工程、からなることを特
徴とする、カラーフィルターの製造方法。
【請求項３】請求項２記載のカラーフィルターの製造
方法において、工程ｇ）で、三色目を形成するためのパ
ターンを作製する際に用いるレジストとして、黒色レジ
ストを用いることを特徴とする、カラーフィルターの製
造方法。
【請求項４】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子お
よび電界により荷電する界面活性剤および支持電解質を
基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲んだ
顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、このミセルを電
解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料
薄膜を形成するというカラーフィルターの製造方法にお
いて、ａ）電解し、薄膜を形成するための所定のパターンを持
った電極を透明基板上に形成するための第一の工程、ｂ）該電極を形成した基板全面に、染料あるいは顔料を
分散あるいは溶解した、ポジタイプの黒色レジストを塗
布し、ｃ）露光、現像により任意のパターンを電極上に形成す
る第二の工程、ｄ）第二の工程で、レジストを現像した電極パターン上
に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形成する第
三の工程、ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第四の工程、ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第五の工程、ｇ）全面に透明導電層を形成する第六の工程、ｈ）その後、該黒色レジストをそのままブラックマトリ
ックスとして使用することを特徴とする、カラーフィル
ターの製造方法。
【請求項５】請求項４記載のカラーフィルターの製造
方法において、第六の工程ｇ）の透明導電層を形成する
工程を省略することを特徴とする、カラーフィルターの
製造方法。