JPH0618924A - 液晶表示装置の基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶表示装置の基板の製造方法に関し、製造
プロセス中に帯電した電荷が放電して起こるＴＦＴの破
壊の防止を目的とする。 【構成】 基板１に配設された画素電極２と、その画素
電極２のそれぞれに印加する電圧を断続させるＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）３と、一端部がＴＦＴ３のそれぞ
れに接続され、他端部が入力端子４をなして基板１の周
縁部に並設された走査バスライン５とデータバスライン
６を有する液晶表示装置の基板の製造方法において、前
記入力端子４の隣接同士を近接して電気容量結合させる
ように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の基板の製
造方法に係わり、ＴＦＴを設けた基板を製造する際に、
走査バスラインやデータバスラインのそれぞれの入力端
子を電気容量結合して同電位にし、かつ直流的には分離
されている液晶表示装置の基板の製造方法に関する。

【０００２】近年、半導体装置を中心とした電子デバイ
スの長足な進展によって、電子機器の小型化が促進され
ているが、機械と人間のインタフェースの要素デバイス
の１つである表示装置においても、液晶表示装置が、大
きくて重くて、特に可搬形には向かないＣＲＴ表示装置
に替わる新しい表示装置として注目されている。

【０００３】液晶表示装置は、かつて、動作速度が遅く
コントラストも低くカラー化も難しく駆動回路も複雑
で、大型のパネル型表示装置としてはとても実用になら
ないと評価されていた。しかし、昨今の新しい液晶材料
と駆動方式の開発、液晶表示パネルの製造技術の改良な
どの革新的な進展によって、ＣＲＴ表示装置に劣らない
表示性能をもった表示装置になりつつある。

【０００４】しかし、大型で表示容量の大きな液晶表示
素子においては、表示欠陥を如何に少なくして歩留りを
向上させるかが大きな課題となっており、製造技術的に
まだまだ検討の余地がある。

【０００５】

【従来の技術】液晶表示パネルは、２枚のガラス板に挟
んだ粘稠な液晶の中で大きな分子を動かして、偏光など
の光学的効果を利用して表示装置を得ようとするもの
で、一般には応答が遅い。従って、液晶表示装置は、動
画のような動きの速い表示には向かないといわれてい
た。

【０００６】ところが、ＴＮ（捻じれネマチック）液晶
とかＳＴＮ（超捻じれネマチック）液晶と呼ばれる新し
い液晶材料とその配向方式が開発されたり、ＴＦＴ（薄
膜トランジスタ) を画素ごとに配列したいわゆるアクテ
ィブマトリックス方式が実現したりして、液晶表示装置
の機能がＣＲＴ表示装置に迫ってきている。

【０００７】ところで、液晶表示装置の基本構成は、二
枚の基板の間に液晶を挟んで電圧を断続し、液晶分子の
配向を変えて光を透過したり遮蔽したりするものであ
る。図３は液晶表示装置のＴＦＴを設けた基板の一例の
平面図で、図中、１は基板、２は画素電極、３はＴＦ
Ｔ、3aはソース、3bはゲート、3cはドレイン、４は入力
端子、4cは短絡部、５は走査バスライン、６はデータバ
スラインである。

【０００８】ＴＦＴを用いたアクティブマトリックス方
式の液晶表示装置においては、一方の基板１には、ガラ
ス板の表面に透明なＩＴＯ（Ｉndium Ｔin Ｏxide）膜
で構成されたドット状の画素となる画素電極２を設けら
れ、その画素電極２をＴＦＴ３でスイッチングする構成
になっている。他方の基板は、こゝでは図示してない
が、ガラス板全面に透明電極を設けた共通電極の構成に
なっている。

【０００９】ＴＦＴ３は例えば画素に対応する格子状に
並設された数万〜数十万個の画素電極２のそれぞれに少
なくとも１個ずつ設けられており、画素電極２がソース
3aに接続され、ゲート3bが走査バスライン５に、ドレイ
ン3cがデータバスライン６にそれぞれ連なっている。液
晶の駆動方式によっては、ソース3aとドレイン3cが逆に
接続されている場合もある。

【００１０】走査バスライン５とデータバスライン６
は、それぞれの画素電極２の間を直交しながら基板１の
周縁部まで引き出され、図示してない駆動回路に接続す
るための入力端子４となっている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板１は膜
形成やホトリソグラフィなどのいろいろな製造プロセス
を経て形成されるが、それぞれのプロセスが施される際
の後には、基板１が常に清浄に保たれている。そのた
め、基板１は高い絶縁性をもっており、いろいろな製造
プロセスを経る際に例えば、摩擦、接触、剥離といった
いろいろな作用を受けて、帯電することが避けられな
い。

【００１２】この帯電は、絶縁性の基板１の上に電気的
に浮いた状態で形成されている画素電極２や走査バスラ
イン５、データバスライン６などに静電荷として蓄積さ
れて帯電電位が上昇していく。そして、特に隣接部分の
パターンが長い走査バスライン５やデータバスライン６
同士間の帯電電位の電位差が放電破壊電圧に達すると、
バスライン５、６同士間で放電が起こる。その結果、Ｔ
ＦＴ３が破壊されたりバスライン５、６が断線したりし
てまうことが間々生じる。

【００１３】そこで、走査バスライン５とデータバスラ
イン６が同電位になるように入力端子４の先端を短絡部
4cで共通に接続し、このような不具合な放電が起こるこ
とを防いでいる。そして、基板１を作る一連の製造プロ
セスが終了した時点で短絡部4cを切断して、バスライン
５、６を個々に分離している。

【００１４】ところが、このように走査バスライン５と
データバスライン６が共通に接続さていると、基板１の
製造プロセスの途中で、バスライン５、６の断線検査と
かＴＦＴ３の特性検査などができないという問題があっ
た。

【００１５】そこで本発明は、基板を製造する際に、走
査バスラインやデータバスラインのそれぞれの入力端子
を電気容量結合し、ＴＦＴが破壊しない程度の低い放電
を起こしてバスライン間を同電位にし、かつ直流的には
分離されている液晶表示装置の基板の製造方法を提供す
ることを目的としている。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、基板
に配設された画素電極と、該画素電極のそれぞれに印加
する電圧を断続させるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）と、
一端部が該ＴＦＴのそれぞれに接続され、他端部が入力
端子をなして該基板の周縁部に並設された走査バスライ
ンとデータバスラインを有する液晶表示装置の基板の製
造方法において、前記入力端子の隣接同士を近接して電
気容量結合させるように構成された液晶表示装置の基板
の製造方法によって解決される。

【００１７】

【作用】ＴＦＴを用いたアクティブマトリックス型の液
晶表示装置のＴＦＴを形成する基板において、従来の製
造方法においてはバスライン同士が共通に接続されてい
たが、本発明においては、それぞれのバスラインが絶縁
されているようにしている。

【００１８】すなわち、隣接するそれぞれのバスライン
の入力端子同士が、先端部に数μｍの隙間を介して近接
するようにしている。そして、その隙間が電気容量とな
って隣接する入力端子同士が電気容量結合しているよう
にしている。この近接した部分は基板の製造後切除す
る。

【００１９】そうすると、基板を製造するプロセスの中
で、基板が帯電を起こしたときＴＦＴが破壊しない程度
の低電圧で放電してバスライン間が同電位となる。そし
て、ＴＦＴが破壊するような強い放電を防ぐことができ
る。

【００２０】

【実施例】図１は本発明の一実施例の主要部の斜視図、
図２は本発明の他の実施例の主要部の斜視図である。図
において、１は基板、２は画素電極、３はＴＦＴ、４は
入力端子、4aは拡幅部、4bは電極隙間、５は走査バスラ
イン、６はデータバスライン、７は結合電極、7aは結合
部、８は切断線である。

【００２１】基板１はガラス板からなり、その上にＩＴ
Ｏ膜からなる透明な画素電極２が格子状に配設されてい
る。それぞれの画素電極２にはＴＦＴ３が設けられてお
り、画素電極２に印加される電圧を断続するようになっ
ている。

【００２２】ＴＦＴ３には直交する走査バスライン５と
データバスライン６の一端部が接続されて駆動されるよ
うになっている。また、２種類のバスライン５、６の他
端部は入力端子４になっており、基板１の周縁部に拡開
して並設されている。

【００２３】実施例：１ 図１において、走査バスライン５とデータバスライン６
のそれぞれの入力端子４の先端部が幅広くなって拡幅部
4aを形成している。そして、隣接同士が例えば２〜10μ
ｍの微小な電極隙間4bをもって近接している。

【００２４】この電極隙間4bが電気容量（静電容量）と
なって、それぞれの入力端子４を容量結合させるように
なっている。そして、バスライン５、６のそれぞれのラ
イン間で絶縁破壊を起こす程度に電位差が生じると、こ
の電極隙間4bで起こる放電によってライン間が同電位と
なる。

【００２５】こうして、電極隙間4bは、ＴＦＴ３が破壊
するような強い放電を起こさない程度の低電圧において
は直流的に遮断されており、それぞれのバスライン５、
６は絶縁状態にある。従って、基板１の製造プロセスの
途中で、それぞれのバスライン５、６を駆動しながら、
それぞれのラインの断線検査やＴＦＴ３の特性検査など
を行うことができる。なお、拡幅部4aから先方は、基板
１の製造プロセスが終了したあと、切断線８に沿って切
り落とす。

【００２６】実施例：２ 図２において、走査バスライン５とデータバスライン６
のそれぞれの入力端子４の先端部に、結合電極７が設け
られている。この結合電極７は、結合部7aが櫛形状に突
き出た構成になっており、この結合部7aがそれぞれの入
力端子４の隙間に入り込んで、入力端子４との間に電極
隙間4bが形成され、この電極隙間4bが電気容量となって
いる。

【００２７】こうして、実施例１と同様に、入力端子４
の隣接同士は、ＴＦＴ３が破壊するような強い放電が起
こらないうちに放電が起って同電位になるように容量結
合している。従って、基板１の製造プロセスの途中で、
それぞれのバスライン５、６を駆動しながら、それぞれ
のラインの断線検査やＴＦＴ３の特性検査などを行うこ
とができる。なお、結合電極７は、基板１の製造プロセ
スが終了したあと、切断線８に沿って切り落とす。

【００２８】

【発明の効果】本発明においては、ＴＦＴを駆動するそ
れぞれのバスライン間を容量結合させ、ＴＦＴが破壊し
ない程度の弱い放電でバスライン間を同電位にする。そ
して、蓄積した静電荷による強い放電によってＴＦＴが
破壊することを防いでいる。しかも、それぞれのバスラ
イン間は直流的に絶縁されているので、プロセスの途中
で電気的な検査を行うことができる。

【００２９】その結果、ＴＦＴを設けた基板の製造方法
の効率化を図ることが可能となり、今後ますます用途の
拡大が期待されるアクティブマトリックス型の液晶表示
装置の進展に対して、本発明は寄与するところが大であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例の主要部の斜視図である。

【図２】 本発明の他の実施例の主要部の斜視図であ
る。

【図３】 液晶表示装置のＴＦＴを設けた基板の一例の
平面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 画素電極 ３ ＴＦＴ ４ 入力端子 4a 拡幅部 4b
電極隙間 ５ 走査バスライン ６ データバスライン ７ 結合電極 7a 結合部 ８ 切断線

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板(1) に配設された画素電極(2) と、
   該画素電極(2) のそれぞれに印加する電圧を断続させる
   ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）(3) と、一端部が該ＴＦＴ
   (3) のそれぞれに接続され、他端部が入力端子(4) をな
   して該基板(1) の周縁部に並設された走査バスライン
   (5) とデータバスライン(6) を有する液晶表示装置の基
   板の製造方法において、 前記入力端子(4) の隣接同士を近接して電気容量結合さ
   せることを特徴とする液晶表示装置の基板の製造方法。
2. 【請求項２】 前記入力端子(4) の先端部に拡幅部(4a)
   を設けて、該拡幅部(4a)の隣接同士を近接して電気容量
   結合させ、 次いで、前記拡幅部(4a)を前記基板(1) の製造後に切除
   する請求項１記載の液晶表示装置の基板の製造方法。
3. 【請求項３】 結合電極(7) を有する請求項１記載の液
   晶表示装置の製造方法において、 前記結合電極(7) が有する櫛歯状に突き出した結合部(7
   a)を前記入力端子(4)のそれぞれの間隙に設けて、該入
   力端子(4) の隣接同士を電気容量結合させ、 次いで、前記結合電極(7) を前記基板(1) の製造後に切
   除する請求項１記載の液晶表示装置の基板の製造方法。