JPH0619034A - Silver halide photographic sensitive material and photographic picture forming method using same material - Google Patents
Silver halide photographic sensitive material and photographic picture forming method using same materialInfo
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調なハロ
ゲン化銀写真感光材料に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material, and more particularly to an ultrahigh contrast silver halide photographic light-sensitive material used for photolithography.
【0002】[0002]
【従来の技術】ヒドラジン化合物をハロゲン化銀写真乳
剤や現像液に添加することは、米国特許第3,730,
727号(アスコルビン酸とヒドラジンとを組合せた現
像液)、同3,227,552号(直接ポジカラー像を
得るための補助現像薬としてヒドラジンを使用)、同
3,386,831号(ハロゲン化銀感材の安定剤とし
て脂肪族カルボン酸のβ−モノ−フェニルヒドラジドを
含有)、同2,419,975号や、ミース(Mees)著
ザ・セオリー・オブ・フォトグラフィック・プロセス
(The Theory of Photographic Process) 第3版(19
66年)281頁等で知られている。これらの中で、特
に、米国特許第2,419,975号では、ヒドラジン
化合物の添加により硬調なネガチブ画像を得ることが、
開示されている。同特許明細書には塩臭化銀乳剤にヒド
ラジン化合物を添加し、12.8というような高いpH
の現像液で現像すると、ガンマ(γ)が10をこえる極
めて硬調な写真特性が得られることが記載されている。
しかし、pHが13に近い強アルカリ現像液は、空気酸
化され易く不安定で、長時間の保存や使用に耐えない。
ヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀感光材料を、より
低いpHの現像液で現像し、硬調な画像を作成する工夫
が試みられている。特開平1−179939、および特
開平1−179940には、ハロゲン化銀乳剤粒子に対
する吸着基を有する造核現像促進剤と、同じく吸着基を
有する造核剤とを含む感材を用いて、pH11.0以下
の現像液で現像する処理方法が記載されている。しかし
ながら、吸着基を有する化合物は、ハロゲン化銀乳剤に
添加すると、ある限界量を越えると感光性を損ったり、
現像を抑制したり、あるいは他の有用な吸着性添加物の
作用を妨げたりする害を有するため、使用量が制限さ
れ、充分な硬調性を発現できない。US4998604
号、およびUS4994365号には、エチレンオキシ
ドの繰り返し単位を有するヒドラジン化合物、およびピ
リジニウム基を有するヒドラジン化合物が開示されてい
る。しかしながら、これらの実施例で明らかなように、
硬調性が充分でなく、実用的な現像処理条件で硬調性と
必要なDmaxを得ることは困難である。一方、特開昭61
−47,943、及び特開昭61−47949にはチオ
ヒダントイン類より選ばれる増感色素と、ヒドラジン類
とを含む感材が開示されている。しかしながら、これら
の組合せを含む感材はpH11以上の高いpHの現像液
で始めて硬調化する。本発明で意図するpH11以下の
低いpHの現像液では硬調化しない。以上の様に、従来
知られている感材では、pH11以下の現像液で充分な
硬調性を得るには、不充分であった。The addition of hydrazine compounds to silver halide photographic emulsions and developers is described in US Pat. No. 3,730,
No. 727 (developer combining ascorbic acid and hydrazine), No. 3,227,552 (using hydrazine as an auxiliary developing agent for directly obtaining a positive color image), No. 3,386,831 (silver halide) Β-mono-phenylhydrazide of aliphatic carboxylic acid as a stabilizer for the light-sensitive material), No. 2,419,975, and The Theory of Photographic Process by Mees. Process) Third Edition (19
66) 281 pages and the like. Among these, in particular, in US Pat. No. 2,419,975, it is possible to obtain a high-tone negative image by adding a hydrazine compound.
It is disclosed. In the patent specification, a hydrazine compound was added to a silver chlorobromide emulsion to obtain a high pH of 12.8.
It is described that when developed with the developing solution of No. 2, extremely high photographic characteristics with a gamma (γ) of more than 10 can be obtained.
However, a strong alkaline developer having a pH close to 13 is easily oxidized by air and is unstable, and cannot withstand long-term storage and use.
Attempts have been made to develop a high-contrast image by developing a silver halide light-sensitive material containing a hydrazine compound with a developer having a lower pH. In JP-A-1-179939 and JP-A-1-179940, a photosensitive material containing a nucleation development accelerator having an adsorptive group for silver halide emulsion grains and a nucleating agent also having an adsorptive group was used to obtain a pH of 11 A processing method of developing with a developing solution of 0.0 or less is described. However, when a compound having an adsorbing group is added to a silver halide emulsion, the photosensitivity may be impaired if the amount exceeds a certain limit.
Since it has a harmful effect of suppressing development or hindering the action of other useful adsorptive additives, the amount used is limited and sufficient contrast cannot be exhibited. US4998604
And US Pat. No. 4,994,365 disclose hydrazine compounds having a repeating unit of ethylene oxide and hydrazine compounds having a pyridinium group. However, as is evident in these examples,
The contrast is not sufficient, and it is difficult to obtain the contrast and the required Dmax under practical development processing conditions. On the other hand, JP-A-61
-47,943 and JP-A-61-47949 disclose a sensitizing material containing a sensitizing dye selected from thiohydantoins and hydrazines. However, a light-sensitive material containing these combinations is hardened only when a high pH developer having a pH of 11 or higher is used. A developer having a low pH of 11 or less as intended in the present invention does not cause a high contrast. As described above, the conventionally known light-sensitive material was insufficient to obtain sufficient contrast with a developer having a pH of 11 or less.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、第1に安定な現像液を用いてガンマが10を越える
極めて硬調なネガ階調の写真性を得ることができるハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。本発明の
第2の目的は、pH11以下の現像液で硬調化できるハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, firstly, the object of the present invention is to obtain a silver halide photograph capable of obtaining a very hard negative tone photographic property with a gamma of more than 10 using a stable developing solution. To provide a light-sensitive material. A second object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material which can be made to have a high contrast with a developer having a pH of 11 or less.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、支
持体上に、少なくとも一つの感光性ハロゲン化銀乳剤層
を有し、該層および/又は、隣接する親水性コロイド層
に、一般式(I)で表わされるヒドラジン誘導体の少な
くとも一種と一般式(II)又は一般式(III) で表わされ
る化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料により達成された。The above object of the present invention is to have at least one light-sensitive silver halide emulsion layer on a support, which layer and / or an adjacent hydrophilic colloid layer, This is achieved by a silver halide photographic light-sensitive material characterized by containing at least one hydrazine derivative represented by the formula (I) and at least one compound represented by the general formula (II) or the general formula (III).
【0005】[0005]
【化6】 [Chemical 6]
【0006】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
わし、さらにその置換基の一部として−O−(CH2 C
H2 O)n −、−O−(CH2 CH(CH3)O)n −ま
たは−O−(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただ
しnは3以上の整数)の部分構造を含有するか、あるい
は置換基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有
するか、あるいは置換基の一部として−S−基を含有す
る基である。G1 は−CO−基、−COCO−基、−C
S−基、−C(=NG2 R2)−基、−SO−基、−SO
2 −基または−P(O)(G2 R2)−基を表わす。G2 は
単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(R2)−
基を表わし、R2 は脂肪族基、芳香族基または水素原子
を表わし、分子内に複数のR2 が存在する場合それらは
同じあっても異なっても良い。A1 、A2 の一方は水素
原子であり、他方は水素原子またはアシル基、アルキル
またはアリールスルホニル基を表わす。In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and --O-(CH 2 C) is used as a part of the substituent.
H 2 O) n -, - O- (CH 2 CH (CH 3) O) n - or -O- (CH 2 CH (OH) CH 2 O) n - moiety of (where n is an integer of 3 or more) It is a group containing a structure, a quaternary ammonium cation as a part of the substituent, or an -S- group as a part of the substituent. G 1 is -CO- group, -COCO- group, -C
S- groups, -C (= NG 2 R 2 ) - group, -SO- group, -SO
2 - group or -P (O) (G 2 R 2) - represents a group. G 2 is a simple bond, —O— group, —S— group or —N (R 2 ) —
R 2 represents a group, R 2 represents an aliphatic group, an aromatic group or a hydrogen atom, and when there are plural R 2 in the molecule, they may be the same or different. One of A 1 and A 2 is a hydrogen atom, and the other is a hydrogen atom or an acyl group, an alkyl or arylsulfonyl group.
【0007】[0007]
【化7】 [Chemical 7]
【0008】式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表
わす。Xは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子から選ばれた原子または原子群よりなる2価の
連結基を表わす。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミ
ノ基、アンモニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、
アミノ基は置換されていてもよい。mは1、2又は3を
表わし、nは0又は1を表わす。In the formula, Y represents a group adsorbing to silver halide. X is a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom,
It represents a divalent linking group consisting of an atom or a group of atoms selected from a sulfur atom. A represents a divalent linking group. B represents an amino group, an ammonium group and a nitrogen-containing heterocycle,
The amino group may be substituted. m represents 1, 2 or 3, and n represents 0 or 1.
【0009】[0009]
【化8】 [Chemical 8]
【0010】式中、R1 、R2 は各々水素原子又は脂肪
族残基を表わす。R1 とR2 は互に結合して環を形成し
てもよい。R3 は二価の脂肪族基を表わす。Xは窒素、
酸素もしくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。
nは0または1を表わす。Mが1価の基であるときx=
1、Mが2価の基であるときx=1/2である。Mは水
素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、四級アンモ
ニウム塩、四級ホスホニウム塩又は、アミジノ基を表わ
す。In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. R 3 represents a divalent aliphatic group. X is nitrogen,
It represents a divalent heterocycle containing an oxygen or sulfur atom.
n represents 0 or 1. When M is a monovalent group, x =
When 1 and M are divalent groups, x = 1/2. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, or an amidino group.
【0011】一般式(1) についてさらに詳細に説明す
る。一般式(1) において、R1 で表される脂肪族基は好
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1
〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。こ
のアルキル基は置換基を有している。一般式(1) におい
て、R1 で表される芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジ
ン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なかでも
ベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に好ま
しいものはアリール基である。The general formula (1) will be described in more detail. In the general formula (1), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly 1 carbon atom
To 20 straight, branched or cyclic alkyl groups. This alkyl group has a substituent. In the general formula (1), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring and an isoquinoline ring. Of these, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.
【0012】R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ており、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタ
ン基(アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシ
カルボニルアミノ基)、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子(例えばF、Cl、Br)、シアノ基、−
SO3 M’、−COOM’(M’は水素原子、アルカリ
金属、4級アンモニウム、アルカリ土類金属)、アリー
ルオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンア
ミド基、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換
基としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましく
は炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは
炭素数1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭
素数1〜30のアルキル基で置換されたアミノ基)、ア
シルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40を
持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜4
0のもの)などである。The aliphatic group or aromatic group of R 1 is substituted, and a typical substituent is, for example, an alkyl group,
Aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, alkoxy group, aryl group, substituted amino group, ureido group, urethane group (alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group), aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, Arylthio group, sulfonyl group, sulfinyl group, hydroxy group,
Halogen atom (for example, F, Cl, Br), cyano group,-
SO 3 M ', - COOM' (M ' is a hydrogen atom, an alkali metal, quaternary ammonium, alkaline earth metal), an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a carbonamido group, a sulfonamido group , A phosphoric acid amide group and the like, and preferable substituents are a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms), Alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), substituted amino group (preferably amino group substituted with an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms), acylamino group (preferably having 2 to 40 carbon atoms) , Sulfonamide group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 40 carbon atoms), phosphoric acid amide (Preferably 1 to 4 carbon atoms
0) and so on.
【0013】R1 の脂肪族基、芳香族基またはそれらの
置換基の一部には−O−(CH2 CH2 O)n −、O
(CH2 CH(CH3 )O)n −、または−O−(CH
2 CH(OCH2 O)n −(nは3以上の整数であり、
3以上15以下の整数が好ましい)を含有しているか、
あるいは4級アンモニウムカチオン(カウンターアニオ
ンの例としてはフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレ
ンスルホン酸イオン、アニオンの例としてはSO3 - 、
COO- などがある)を含有しているか、あるいは−S
−を含有している。R1 は好ましくは以下の一般式(I
a)、一般式(Ib)、一般式(Ic)、一般式(I
d)または一般色(Ie)で表わされる。Some of the aliphatic groups, aromatic groups or their substituents of R 1 are --O-(CH 2 CH 2 O) n- , O.
(CH 2 CH (CH 3) O) n -, or -O- (CH
2 CH (OCH 2 O) n - (n is an integer of 3 or more,
3 or more and 15 or less is preferable),
Alternatively quaternary ammonium cation (fluorine ion Examples of a counter anion, chloride, bromide, iodide ion, toluenesulfonate ion, naphthalene sulfonic acid ion, examples of the anion SO 3 -,
COO - if they contain, etc.), or -S
-Contains. R 1 is preferably of the general formula (I
a), general formula (Ib), general formula (Ic), general formula (I
d) or general color (Ie).
【0014】[0014]
【化9】 [Chemical 9]
【0015】式中、L1 、L2 は-CONR7- 基、-NR7CONR
8-基、-SO2NR7-基または-NR7SO2NR8- 基を表わし、それ
ぞれ同じであっても異なっていても良い。R7 およびR
8 は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
6〜10のアリール基を表わし、水素原子が好ましい。
mおよびpは0または1である。R3 、R4 は2価の脂
肪族基または芳香族基であり、好ましくはアルキレン
基、アリーレン基またはそれらと-O- 基、-CO-基、-S-
基、-SO-基、-SO2- 基、-NR9- 基(R9 は一般式(I
a)、(Ib)、(Ic)のR7 と同義)を組み合わせ
ることによってつくられる2価の基である。脂肪族基と
しは、アルキレン基がより好ましく、芳香族基としては
アリーレン基がより好ましい。R5 は脂肪族基、芳香族
基あるいはそれらの組み合わされたものであり、特にア
ルキレン基またはアリーレン基のついたアルキレン基が
好ましい。R3 、R4 およびR5 は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR1の置換基として列挙し
たものがあてはまる。In the formula, L 1 and L 2 are -CONR 7 -groups, -NR 7 CONR
It represents an 8 -group, a -SO 2 NR 7 -group or a -NR 7 SO 2 NR 8 -group, which may be the same or different. R 7 and R
8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably a hydrogen atom.
m and p are 0 or 1. R 3 and R 4 are a divalent aliphatic group or an aromatic group, and preferably an alkylene group, an arylene group or their groups, an —O— group, a —CO— group and a —S— group.
Group, -SO- group, -SO 2 -group, -NR 9 -group (R 9 is represented by the general formula (I
a), (Ib), and (Ic) have the same meanings as R 7 ) and are a divalent group. An alkylene group is more preferred as the aliphatic group, and an arylene group is more preferred as the aromatic group. R 5 is an aliphatic group, an aromatic group or a combination thereof, and an alkylene group or an alkylene group with an arylene group is particularly preferable. R 3 , R 4 and R 5 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 .
【0016】一般式(Ia)、(Ib)においてZ1 は
含窒素芳香環を形成するために必要な原子群を表わす。
Z1 と窒素原子で形成される含窒素複素芳香環の好まし
い例としてはピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン
環、ピラジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロ
ール環、オキサゾール環、チアゾール環およびこれらの
ベンゾ縮合環の他、プテリジン環、ナフチリジン環など
を挙げることができる。一般式(Ia)、(Ib)、
(Ic)においてp=1のときX- は対アニオン(例え
ばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオ
ン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸
イオン)を表わす。p=0のときはZ1 あるいはR6 が
SO3 - 基またはCOO- 基を有し、分子内塩を形成す
る。一般式(Ib)、(Ic)、(Id)または(I
e)においてR6 は脂肪族基または芳香族基を表わす。
好ましくはR6 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数
6〜20のアリール基である。一般式(Ic)における
3つのR6 はそれぞれ同じであっても異なっても良く、
また互いに結合して環を形成しても良いが好ましくは環
を形成していないものである。Z1 およびR6 は置換さ
れていても良く、好ましい置換基としてはR1 の置換基
として列挙したものがあてはまる。一般式(Id)にお
いてL3 は-CH2CH2O- 基、-CH2CH(CH3)O- 基、または-C
H2CH(OH)CH2O- 基を表わし、nは一般式(1) と同義であ
る。In the general formulas (Ia) and (Ib), Z 1 represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing aromatic ring.
Preferable examples of the nitrogen-containing heteroaromatic ring formed by Z 1 and a nitrogen atom include a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring and benzo-condensation thereof. Other than the ring, a pteridine ring, a naphthyridine ring and the like can be mentioned. Formulas (Ia), (Ib),
In (Ic), when p = 1, X − represents a counter anion (eg, fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion, toluenesulfonate ion, naphthalenesulfonate ion). When p = 0, Z 1 or R 6 has a SO 3 − group or a COO − group and forms an inner salt. Formula (Ib), (Ic), (Id) or (I
R 6 in e) represents an aliphatic group or an aromatic group.
R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. The three R 6 s in formula (Ic) may be the same or different,
Further, they may be bonded to each other to form a ring, but preferably they do not form a ring. Z 1 and R 6 may be substituted, and preferable substituents include those listed as the substituents for R 1 . In formula (Id), L 3 is a —CH 2 CH 2 O— group, a —CH 2 CH (CH 3 ) O— group, or a —C
Represents a H 2 CH (OH) CH 2 O- group, and n has the same meaning as in formula (1).
【0017】一般式(1) におけるG1 としては-CO-基、
-SO2- 基が好ましく、-CO-基が最も好ましい。A1 、A
2 としては水素原子が好ましい。G 1 in the general formula (1) is a —CO— group,
The -SO 2 -group is preferred, and the -CO- group is most preferred. A 1 , A
2 is preferably a hydrogen atom.
【0018】一般式(I)においてR2 で表わされるア
ルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル
基であり、アリール基としては単環または2環のアリー
ル基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1
が-CO-基の場合、R2 で表わされる基のうち好ましいも
のは、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリ
フルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メ
タンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメ
チル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシ
ベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、
3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミ
ドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−
ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に水
素原子が好ましい。R2 は置換されていても良く、置換
基としては、R1 に関して列挙した置換基が適用でき
る。又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子から分裂さ
せ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を生成させ
る環化反応を生起するようなものであってもよく、その
例としては例えば特開昭63−29751号に化合物2
8、37、40として記載のものが挙げられる。The alkyl group represented by R 2 in the general formula (I) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group (for example, a benzene ring). Including). G 1
Is a -CO- group, preferred among the groups represented by R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, Phenylsulfonylmethyl group etc.), aralkyl group (eg o-hydroxybenzyl group etc.), aryl group (eg phenyl group,
3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-
(Eg, a hydroxymethylphenyl group), and a hydrogen atom is particularly preferable. R 2 may be substituted, and as the substituent, the substituents listed for R 1 can be applied. Further, R 2 disrupts the portion of the G 1 -R 2 from the remainder molecule may be such as to rise to cyclization reaction to form a cyclic structure containing a -G 1 -R 2 moiety of atoms Examples thereof include compound 2 in JP-A-63-29751.
Those described as 8, 37, 40 are mentioned.
【0019】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に
対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、ア
ルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノ
キシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことが
できる。またポリマーとして例えば特開平1−1005
30号に記載のものが挙げられる。R 1 or R 2 of the general formula (I) may have a ballast group or a polymer, which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler, incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, and is selected from, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. You can Further, as a polymer, for example, JP-A-1-1005
Those described in No. 30 are mentioned.
【0020】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4,385,108号、
同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。R 1 or R 2 in the general formula (I) may be one in which a group for enhancing adsorption to the surface of silver halide grains is incorporated. Examples of the adsorptive group include U.S. Pat. No. 4,385,108 such as thiourea group, heterocyclic thioamide group, mercaptoheterocyclic group, and triazole group.
4,459,347, JP-A-59-195,233.
No. 59-200, 231, 59-201, 04
No. 5, No. 59-201, 046, No. 59-201, 0
No. 47, No. 59-201, No. 048, No. 59-201,
049, 61-170, 733, 61-27.
0,744, 62-948, 63-234,2.
44, 63-234, 245, 63-234,
The groups described in No. 246 are mentioned.
【0021】本発明に用いられる一般式(I)の化合物
のうち特に好ましいものは、一般式(Ib)及び一般式
(Ic)で表わされる化合物である。更に好ましいのは
一般式(Ic)で表わされる化合物である。Of the compounds of the general formula (I) used in the present invention, particularly preferred are the compounds of the general formula (Ib) and the general formula (Ic). More preferred are compounds represented by formula (Ic).
【0022】本発明の一般式(I)の化合物は例えば特
開昭61−213,847号、同62−260,153
号、米国特許第4,684,604号、特願昭63−9
8,803号、米国特許第3,379,529号、同
3,620,746号、同4,377,634号、同
4,332,878号、特開昭49−129,536
号、同56−153,336号、同56−153,34
2号、米国特許4,988,604号、同4,994,
365号などに記載されている方法を利用することによ
り合成できる。以下に本発明に用いられる化合物を列記
するが本発明はこれに限定されるものではない。The compounds of the general formula (I) of the present invention are disclosed, for example, in JP-A-61-213,847 and JP-A-62-260,153.
U.S. Pat. No. 4,684,604, Japanese Patent Application No. 63-9.
8,803, U.S. Pat. Nos. 3,379,529, 3,620,746, 4,377,634, 4,332,878, and JP-A-49-129,536.
No. 56-153,336, No. 56-153,34
2, U.S. Pat. Nos. 4,988,604 and 4,994.
It can be synthesized by utilizing the method described in No. 365 or the like. The compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
【0023】[0023]
【化10】 [Chemical 10]
【0024】[0024]
【化11】 [Chemical 11]
【0025】[0025]
【化12】 [Chemical 12]
【0026】[0026]
【化13】 [Chemical 13]
【0027】[0027]
【化14】 [Chemical 14]
【0028】[0028]
【化15】 [Chemical 15]
【0029】[0029]
【化16】 [Chemical 16]
【0030】[0030]
【化17】 [Chemical 17]
【0031】[0031]
【化18】 [Chemical 18]
【0032】[0032]
【化19】 [Chemical 19]
【0033】[0033]
【化20】 [Chemical 20]
【0034】[0034]
【化21】 [Chemical 21]
【0035】[0035]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0036】[0036]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0037】本発明の一般式(1) の化合物の添加量とし
てはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6ないし5×1
0-2モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モル
ないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。The addition amount of the compound of the general formula (1) of the present invention is 1 × 10 −6 to 5 × 1 per mol of silver halide.
It is preferably contained in an amount of 0 -2 mol, and particularly preferably in the range of 1 x 10 -5 mol to 2 x 10 -2 mol.
【0038】一般式(II)について説明する。Yが表わ
すハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素複素環化合
物があげられる。Yが含窒素複素環化合物を表わす場合
は一般式(II)の化合物は下記一般式(II−a)で表わ
される。The general formula (II) will be described. Examples of the group represented by Y that is adsorbed on the silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds. When Y represents a nitrogen-containing heterocyclic compound, the compound of general formula (II) is represented by the following general formula (II-a).
【0039】[0039]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0040】式中、lは0または1を表わし、mは1、
2または3を表わし、nは0または1を表わす。
〔(X)n −A−B〕m は前記一般式(II)におけるそ
れと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される5また
は6員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。In the formula, l represents 0 or 1, m is 1,
2 or 3, and n represents 0 or 1.
[(X) n -AB] m has the same meaning as in formula (II) above, and Q represents a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom,
It represents a group of atoms necessary for forming a 5- or 6-membered heterocycle composed of at least one kind of sulfur atom.
The heterocycle may be fused with a carbon aromatic ring or a heteroaromatic ring.
【0041】Qによって形成される複素環としては例え
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール
類、トリアジン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ
ン類等があげられる。Mは水素原子、アルカリ金属原子
(例えばナトリウム原子、カリウム原子、等)、アンモ
ニウム基(例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチル
ベンジルアンモニウム基、等)、アルカリ条件下でM=
Hまたはアルカリ金属原子となりうる基(例えばアセチ
ル基、シアノエチル基、メタンスルホニルエチル基、
等)を表わす。The heterocycle formed by Q is, for example, a substituted or unsubstituted indazole, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzthiazole, imidazole, thiazole, oxazole, triazole, Examples thereof include tetrazoles, azaindenes, pyrazoles, indoles, triazines, pyrimidines, pyridines and quinolines. M is a hydrogen atom, an alkali metal atom (eg, sodium atom, potassium atom, etc.), an ammonium group (eg, trimethylammonium group, dimethylbenzylammonium group, etc.), and M = under alkaline conditions.
H or a group which can be an alkali metal atom (eg, acetyl group, cyanoethyl group, methanesulfonylethyl group,
Etc.).
【0042】また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト
基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチ
ル基、シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオ
エチル基、等)、アリール基(例えばフェニル基、4−
メタンスルホンアミドフェニル基、4−メチルフェニル
基、3,4−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、
アルケニル基(例えばアリル基、等)、アラルキル基
(例えばベンジル基、4−メチルベンジル基、フェネチ
ル基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基、等)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、
4−メトキシフェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例
えばメチルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ
基)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基)、スル
ホニル基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニ
ル基、p−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル
基(例えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル
基、フェニルカルバモイル基、等)、スルファモイル基
(例えば無置換スルファモイル基、メチルスルファモイ
ル基、フェニルスルファモイル基、等)、カルボンアミ
ド基(例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等)、
スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベ
ンゼンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド
基、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、
ベンゾイルオキシ基、等)、スルホニルオキシ基(例え
ばメタンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例え
ば無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレ
イド基、フェニルウレイド基、等)、チオウレイド基
(例えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド
基、等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル
基、等)、ヘテロ環基(例えば1−モルホリノ基、1−
ピペリジノ基、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−
チエニル基、1−ピラゾリル基、1−イミダゾリル基、
2−テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
等)、オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニル
アミノ基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フェノ
キシカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルオキシカ
ルボニルアミノ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミ
ノ基、ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、ア
ニリノ基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン酸
またはその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよ
い。Further, these heterocycles include a nitro group, a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), a mercapto group, a cyano group, and a substituted or unsubstituted alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group). , T-butyl group, cyanoethyl group, methoxyethyl group, methylthioethyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, 4-
Methanesulfonamidophenyl group, 4-methylphenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, naphthyl group, etc.),
Alkenyl group (eg, allyl group, etc.), aralkyl group (eg, benzyl group, 4-methylbenzyl group, phenethyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group,
4-methoxyphenoxy group, etc.), alkylthio group (eg methylthio group, ethylthio group, methoxyethylthio group), arylthio group (eg phenylthio group), sulfonyl group (eg methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group) , Etc.), carbamoyl group (eg, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, unsubstituted sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, phenylsulfamoyl group, etc.), carbonamide A group (eg, acetamide group, benzamide group, etc.),
Sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, p-toluenesulfonamide group, etc.), acyloxy group (eg, acetyloxy group,
Benzoyloxy group, etc.), sulfonyloxy group (eg methanesulfonyloxy group, etc.), ureido group (eg unsubstituted ureido group, methylureido group, ethylureido group, phenylureido group, etc.), thioureido group (eg nothing Substituted thioureido group, methylthioureido group, etc.), acyl group (eg acetyl group, benzoyl group, etc.), heterocyclic group (eg 1-morpholino group, 1-
Piperidino group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-
Thienyl group, 1-pyrazolyl group, 1-imidazolyl group,
2-tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group,
Etc.), oxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, etc.), oxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, 2-ethylhexyloxycarbonylamino group, etc.), amino group (eg Unsubstituted amino group, dimethylamino group, methoxyethylamino group, anilino group, etc.), carboxylic acid or salt thereof, sulfonic acid or salt thereof, hydroxy group and the like.
【0043】Xが表わす2価の連結基としては、例え
ば、−S−、−O−、−N(R1)−、−C(O)O−、
−OC(O)−、−C(O)N(R2)−、−N(R3)C
(O)−、−SO2 N(R4)−、−N(R5)SO2 −、
−N(R6)C(O)N(R7)−、−N(R8)C(S)N
(R9)−、−N(R10)C(O)O−、−SO2 −、−
C(O)−、−(O)S(O)O−、−O(O)S
(O)−、等があげられるが、これらの連結基はQとの
間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、1−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R 6 、R
7 、R8 、R9 およびR10は水素原子、それぞれ置換も
しくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、n−ブチル基、等)、置換もしくは無
置換のアリール基(例えばフェニル基、2−メチルフェ
ニル基、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例
えばプロペニル基、1−メチルビニル基、等)、または
置換もしくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、等)を表わす。As the divalent linking group represented by X, for example,
For example, -S-, -O-, -N (R1)-, -C (O) O-,
-OC (O)-, -C (O) N (R2)-, -N (R3) C
(O)-, -SO2N (RFour)-, -N (RFive) SO2-,
-N (R6) C (O) N (R7)-, -N (R8) C (S) N
(R9)-, -N (RTen) C (O) O-, -SO2-,-
C (O)-,-(O) S (O) O-, -O (O) S
(O)-, etc., but these linking groups are
A linear or branched alkylene group (eg methylene
Group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexyl group
Group, a 1-methylethylene group, etc.)
You may stay. R1, R2, R3, RFour, RFive, R 6, R
7, R8, R9And RTenIs a hydrogen atom,
Or unsubstituted alkyl groups (eg methyl, ethyl
Group, propyl group, n-butyl group, etc.), substituted or not
Substituted aryl groups (eg phenyl, 2-methylphene)
Nyl group, etc.), substituted or unsubstituted alkenyl group (eg
A propenyl group, a 1-methylvinyl group, etc.), or
A substituted or unsubstituted aralkyl group (eg benzyl
Group, phenethyl group, etc.).
【0044】Aは2価の連結基を表わし、2価の連結基
としては直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、1−メチルエチレン基、等)、直鎖または分岐
のアルケニレン基(例えばビニレン基、1−メチルビニ
レン基、等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例え
ばベンジリデン基、等)、アリーレン基(例えばフェニ
レン、ナフチレン、等)等が挙げられる。Aで表わされ
る上記の基はXとAは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。Bの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式
(II−b)で表わされるものである。A represents a divalent linking group, and as the divalent linking group, a linear or branched alkylene group (for example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, hexylene group, 1-methylethylene group, Etc.), linear or branched alkenylene groups (eg vinylene group, 1-methylvinylene group, etc.), linear or branched aralkylene groups (eg benzylidene group, etc.), arylene groups (eg phenylene, naphthylene, etc.), etc. Is mentioned. In the above groups represented by A, X and A may be further substituted with any combination. The substituted or unsubstituted amino group of B is represented by the general formula (II-b).
【0045】[0045]
【化25】 [Chemical 25]
【0046】式中、R11、R12は同一であっても異なっ
てもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数
1〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル
基を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−オクチル
基、アリル基、3−ブテニル基、ベンジル基、1−ナフ
チルメチル基、等)、分岐(例えばiso プロピル基、t
−オクチル基、等)または環状(例えばシクロヘキシル
基、等)、でもよい。In the formula, R 11 and R 12 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group or an aralkyl group. The group is a straight chain (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-octyl group, allyl group, 3-butenyl group, benzyl group, 1-naphthylmethyl group, etc.), branched (for example, iso propyl group, t
-Octyl group, etc.) or cyclic (eg cyclohexyl group, etc.).
【0047】又、R11とR12は連結して環を形成しても
よく、その中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(例え
ば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和の
ヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、例え
ばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙
げることができる。又、R11、R12の置換基としては例
えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子であ
る。)、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基など)、炭素数20以下のアルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基など)、炭素数20以下の単環式の
アリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−トリルオ
キシ基など)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭
素数20以下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル
基(例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など)、スルファモイル基(例えばスルファモイル
基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノス
ルホニル基、ピペリジノスルホニル基など)、炭素数2
0以下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミ
ノ基など)、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド
基、p−トルエンスルホンアミド基など)、炭素数20
以下のカルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド
基、フェニルカルボンアミド基など)、炭素数20以下
のウレイド基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレ
イド基など)、アミノ基などが挙げられる。Bのアンモ
ニウム基は一般式(II−c)で表わされるものである。R 11 and R 12 may be linked to each other to form a ring, which may be a saturated ring containing one or more hetero atoms (eg, oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, etc.). It may be cyclized so as to form a heterocycle, and examples thereof include a pyrrolidyl group, a piperidyl group, and a morpholino group. Examples of the substituents of R 11 and R 12 include a carboxyl group, a sulfo group, a cyano group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom), a hydroxy group, an alkoxycarbonyl having 20 or less carbon atoms. Group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, etc.), alkoxy group having 20 or less carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, benzyloxy group,
Phenethyloxy group, etc.), monocyclic aryloxy group having 20 or less carbon atoms (eg, phenoxy group, p-tolyloxy group, etc.), acyloxy group having 20 or less carbon atoms (eg, acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), carbon Number 20 or less acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, benzoyl group, mesyl group, etc.), carbamoyl group (eg, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl Group (eg, sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, piperidinosulfonyl group, etc.), carbon number 2
0 or less acylamino group (for example, acetylamino group, propionylamino group, benzoylamino group, mesylamino group, etc.), sulfonamide group (ethylsulfonamide group, p-toluenesulfonamide group, etc.), carbon number 20
The following carbonamide groups (eg, methylcarbonamide group, phenylcarbonamide group, etc.), ureido groups having 20 or less carbon atoms (eg, methylureido group, phenylureido group, etc.), amino groups and the like can be mentioned. The ammonium group of B is represented by the general formula (II-c).
【0048】[0048]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0049】式中、R13、R14、R15は上述の一般式
(II−b)におけるR11およびR12と同様の基であり、
Z- はアニオンを表わし、例えばハライドイオン(例え
ばCl - 、Br- 、I- など)、スルホナートイオン
(例えばトリフルオロメタンスルホナート、パラトルエ
ンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラクロロベ
ンゼンスルホナートなど)、スルファトイオン(例えば
エチルスルファート、メチルスルファートなど)、パー
クロラート、テトラフルオロボラートなどが挙げられ
る。pは0または1を表わし、化合物が分子内塩を形成
する場合は0である。Where R13, R14, R15Is the above general formula
R in (II-b)11And R12Is a group similar to
Z-Represents an anion, for example, a halide ion (for example,
If Cl -, Br-, I-Etc.), sulfonate ion
(Eg trifluoromethanesulfonate, paratoluene
Sulfonate, benzene sulfonate, parachlorobe
Benzene, etc.), sulfato ion (eg,
Ethyl sulfate, methyl sulfate, etc.), Par
Examples include chlorate and tetrafluoroborate.
It p represents 0 or 1, and the compound forms an inner salt
When it does, it is 0.
【0050】Bの含窒素ヘテロ環は、少なくとも1つ以
上の窒素原子を含んだ5または6員環であり、それらの
環は置換基を有していてもよく、また他の環と縮合して
いてもよい。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリ
ル基、ピリジル基、チアゾリル基などが挙げられる。The nitrogen-containing heterocycle represented by B is a 5- or 6-membered ring containing at least one or more nitrogen atoms, and these rings may have a substituent or are condensed with another ring. May be. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include an imidazolyl group, a pyridyl group and a thiazolyl group.
【0051】一般式(II)のうち好ましいものとして
は、下記一般式(II−m)、(II−n)、(II−o)ま
たは(II−p)で表わされる化合物が挙げられる。Among the general formula (II), preferred are the compounds represented by the following general formula (II-m), (II-n), (II-o) or (II-p).
【0052】[0052]
【化27】 [Chemical 27]
【0053】式中、−(X)n −A−B、M、mは前記
一般式(II−a)のそれと同義である。Z1 、Z2 およ
びZ3 は前記一般式(II−a)における−(X)n −A
−Bと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以
下のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ
基、ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基
を表わし、その置換基としては前記一般式(II−b)に
おけるR11、R12の置換基の中から選ぶことができる。
但しZ1 、Z2 及びZ3 の内の少なくとも1つは−
(X)n −A−Bと同義である。またこれら複素環は一
般式(II)の複素環に適用される置換基で置換されても
よい。次に一般式(II)で表わされる化合物例を示すが
本発明はこれに限定されるものではない。In the formula,-(X) n -A-B, M and m have the same meanings as those in formula (II-a). Z 1 , Z 2 and Z 3 are — (X) n —A in the general formula (II-a).
Has the same meaning as -B, or represents a halogen atom, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms (for example, a methoxy group), a hydroxy group, a hydroxyamino group, a substituted or unsubstituted amino group, and the substituent has the above general formula. It can be selected from the substituents of R 11 and R 12 in (II-b).
However, at least one of Z 1 , Z 2 and Z 3 is-
(X) has the same meaning as n- AB. Further, these heterocycles may be substituted with a substituent applied to the heterocycle of the general formula (II). Next, examples of the compound represented by the general formula (II) are shown, but the present invention is not limited thereto.
【0054】[0054]
【化28】 [Chemical 28]
【0055】[0055]
【化29】 [Chemical 29]
【0056】[0056]
【化30】 [Chemical 30]
【0057】[0057]
【化31】 [Chemical 31]
【0058】[0058]
【化32】 [Chemical 32]
【0059】一般式(III)において、R1 、R2 は
各々水素原子又は脂肪族残基を表わす。R1 とR2 は互
に結合して環を形成してもよい。R3 は二価の脂肪族基
を表わす。Xは窒素、酸素もしくは硫黄原子を含む二価
のヘテロ環を表わす。nは0または1を表わす。Mが一
価の基であるときx=1、Mが2価の基であるときx=
1/2である。Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ
土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又
はアミジノ基を表わす。R1 、R2 の脂肪族残基として
は、各々炭素1〜12のアルキル基、アルケニル基およ
びアルキニル基が好ましくそれぞれ適当な基で置換され
ていてもよい。アルキル基としては、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル
基、ドデシル基、イソプロピル基、sec −ブチル基、シ
クロヘキシル基などである。アルケニル基としては例え
ばアリル基、2−ブテニル基、2−ヘキセニル基、2−
オクテニル基などである。アルキル基としては例えばプ
ロパルギル基、2−ペンチニル基などがある。置換基と
しては、フェニル基、置換フェニル基、アルコキシ基、
アルキルチオ基、ヒドロキシ基、−COOM’、−SO
3 M’(M’は水素原子、アルカリ金属(Na、Kな
ど)、NH4 、アルカリ土類金属)、アルキルアミノ
基、アミド基等である。R1 とR2 とで環を形成する場
合としては、炭素又は窒素・酸素の組合せからなる5員
又は6員の炭素環又はヘテロ環で、特に飽和の環が好ま
しく、例えばピロリジル、ピペリジル、モルホリル、ピ
ペラジル、4−メチル−ピペラジル、などがあげられ
る。R1 とR2 として特に好ましいものは炭素原子数1
〜3のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。R
3 の二価の脂肪族基としては−R4 −又は−R4 S−が
好ましい。ここでR 4 は二価の脂肪族残基で、好ましく
は炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもので、例えば−C
H2 −、−CH2 CH2 −、−(CH2)3 −、−(CH
2)4 −、−(CH2)6 −、−CH2 CH=CHCH
2 −、−CH2 C=CCH2 −、−CH2CH(CH3)
CH2 −などである。R4 の好ましい炭素数としては2
〜4のもので、R4 としてさらに好ましくは−CH2 C
H2 −及び−CH2 CH2 CH2 である。なお(X)n
のnが0のときのR3 は−R4 −だけを表わす。In the general formula (III), R1, R2Is
Each represents a hydrogen atom or an aliphatic residue. R1And R2Are mutual
To form a ring. R3Is a divalent aliphatic group
Represents X is divalent containing nitrogen, oxygen or sulfur atom
Represents a heterocycle of. n represents 0 or 1. M is one
When it is a valent group, x = 1, when M is a divalent group, x =
It is 1/2. M is hydrogen atom, alkali metal, alkali
Earth metal, quaternary ammonium salt, quaternary phosphonium salt or
Represents an amidino group. R1, R2As an aliphatic residue of
Are alkyl groups, alkenyl groups and
And alkynyl groups are preferably each substituted with a suitable group.
May be. As the alkyl group, for example, a methyl group,
Ethyl, propyl, butyl, hexyl, decyl
Group, dodecyl group, isopropyl group, sec-butyl group,
For example, a chlorhexyl group. For example, as an alkenyl group
For example, allyl group, 2-butenyl group, 2-hexenyl group, 2-
Such as an octenyl group. Examples of alkyl groups include
Examples include lopargyl group and 2-pentynyl group. With substituents
Then, a phenyl group, a substituted phenyl group, an alkoxy group,
Alkylthio group, hydroxy group, -COOM ', -SO
3M '(M' is a hydrogen atom, an alkali metal (such as Na or K
DO), NHFour, Alkaline earth metals), alkylamino
Groups, amide groups and the like. R1And R2A field that forms a ring with
In total, 5 members consisting of carbon or a combination of nitrogen and oxygen
Or a 6-membered carbocyclic or heterocyclic ring, particularly a saturated ring is preferred.
, For example pyrrolidyl, piperidyl, morpholyl, pi
Perazyl, 4-methyl-piperazyl, etc. can be mentioned.
It R1And R2Particularly preferred as is having 1 carbon atom
And an alkyl group of 3 to 3, more preferably an ethyl group. R
3The divalent aliphatic group of is -RFour-Or-RFourS-
preferable. Where R FourIs a divalent aliphatic residue, preferably
Is a saturated or unsaturated one having 1 to 6 carbon atoms, for example, -C
H2-, -CH2CH2-,-(CH2)3-,-(CH
2)Four-,-(CH2)6-, -CH2CH = CHCH
2-, -CH2C = CCH2-, -CH2CH (CH3)
CH2-And so on. RFourThe preferred carbon number of is 2
~ 4, RFourMore preferably as -CH2C
H2-And-CH2CH2CH2Is. (X)n
R when n is 03Is -RFour-Represents only.
【0060】Xのヘテロ環としては、窒素、酸素又は硫
黄を含む5及び6員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オ
キサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、
ベンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾ
ールとチアジアゾールが好ましい。The hetero ring of X may be a 5- or 6-membered hetero ring containing nitrogen, oxygen or sulfur, which may be condensed with the benzene ring. The heterocycle is preferably an aromatic one, for example, tetrazole, triazole, thiadiazole, oxadiazole, imidazole, thiazole, oxazole, benzimidazole, benzothiazole,
Benzoxazole and the like. Of these, tetrazole and thiadiazole are particularly preferable.
【0061】Mのアルカリ金属としては、Na+ 、
K+ 、Li+ などである。アルカリ土類金属としては、
Ca++、Mg++、などがある。Mの四級アンモニウム塩
としては、炭素数4〜30からなるもので、例えば(C
H3)4 N+ 、(C2 H5)4 N+ 、(C4 H9)4 N+ 、C
6 H5 CH2 N+ (CH3)3 、C16H33N+ (CH3)3
などである。四級ホスホニウム塩としては、(C4 H9)
4 P+ 、C16H3 P+ (CH3)3 、C6 H3 CH2 P+
(CH3)などである。As the alkali metal of M, Na + ,
K + , Li + and the like. As an alkaline earth metal,
There are Ca ++ , Mg ++ , and the like. The quaternary ammonium salt of M is one having 4 to 30 carbon atoms, for example, (C
H 3) 4 N +, ( C 2 H 5) 4 N +, (C 4 H 9) 4 N +, C
6 H 5 CH 2 N + (CH 3 ) 3 , C 16 H 33 N + (CH 3 ) 3
And so on. Examples of the quaternary phosphonium salt include (C 4 H 9 ).
4 P + , C 16 H 3 P + (CH 3 ) 3 , C 6 H 3 CH 2 P +
(CH 3 ) and the like.
【0062】一般式(III) で表わされる化合物の無機酸
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあ
り、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンス
ルホン酸塩などがある。以下に一般式(III) で表わされ
る化合物の具体例を挙げる。The inorganic acid salt of the compound represented by the general formula (III) includes, for example, hydrochloride, sulfate and phosphate, and the organic acid salt includes acetate, propionate, methanesulfonate and benzene. Examples include sulfonates and p-toluenesulfonates. Specific examples of the compound represented by formula (III) are shown below.
【0063】[0063]
【化33】 [Chemical 33]
【0064】[0064]
【化34】 [Chemical 34]
【0065】[0065]
【化35】 [Chemical 35]
【0066】[0066]
【化36】 [Chemical 36]
【0067】[0067]
【化37】 [Chemical 37]
【0068】これらの一般式〔II〕及び[III] の添加量
は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが1.0
×10-3〜0.5g/m2、好ましくは5.0×10-3〜
0.3g/m2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促
進剤は適当な溶媒(H2 O、メタノールやエタノールな
どのアルコール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、
メチルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添加され
る。これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。The optimum addition amount of these general formulas [II] and [III] is 1.0 depending on the kind of the compound.
× 10 −3 to 0.5 g / m 2 , preferably 5.0 × 10 −3 to
It is desirable to use it in the range of 0.3 g / m 2 . These accelerators are suitable solvents (H 2 O, alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide,
Methyl cellosolve etc.) and added to the coating solution. You may use these additives together in multiple types.
【0069】次に一般式(IV)の増感色素について説
明する。一般式(IV)Next, the sensitizing dye of the general formula (IV) will be described. General formula (IV)
【0070】[0070]
【化38】 [Chemical 38]
【0071】式中、V1 、V3 は水素原子または電子吸
引性基を表わし、V2 、V4 は電子吸引性基を表わす。
R1 、R2 、R3 およびR4 は同一でも異なっていても
よく総炭素数10以下の置換されてもよいアルキル基ま
たはアルケニル基を表わし、R1 、R2 、R3 またはR
4 のうち少なくとも一つはスルホ基またはカルボキシ基
を有する基である。X1 は電荷を中和するに必要な対イ
オンを表わす。nは0または1を表わし、分子内塩の場
合は0である。In the formula, V 1 and V 3 represent hydrogen atoms or electron withdrawing groups, and V 2 and V 4 represent electron withdrawing groups.
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different and represent an alkyl group or an alkenyl group having a total carbon number of 10 or less, which may be substituted, and R 1 , R 2 , R 3 or R 4
At least one of 4 is a group having a sulfo group or a carboxy group. X 1 represents a counter ion necessary for neutralizing the charge. n represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt.
【0072】V1 、V3 またはV2 、V4 の電子吸引性
基として好ましい基は、ハロゲン原子、低級パーフルオ
ロアルキル基(総炭素数5以下がより好ましく、例え
ば、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロ
エチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基
が挙げられる)、アシル基(総炭素数8以下が好まし
く、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル
基、メシチル基、ベンゼンスルホニル基が挙げられ
る)、アルキルスルファモイル基(総炭素数5以下がよ
り好ましく、例えば、メチルスルファモイル基、エチル
スルファモイル基が挙げられる)、カルボキシ基、アル
コキシカルボニル基(総炭素数5以下が好ましく、例え
ば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基が挙げられる)およびシアノ基等が
挙げられる。Preferred groups as the electron-withdrawing group for V 1 , V 3 or V 2 , V 4 are a halogen atom and a lower perfluoroalkyl group (more preferably a total carbon number of 5 or less, for example, a trifluoromethyl group, 2 , 2,2-trifluoroethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group), acyl group (total carbon number is preferably 8 or less, for example, acetyl group, propionyl group, benzoyl group, mesityl Group, a benzenesulfonyl group), an alkylsulfamoyl group (more preferably a total carbon number of 5 or less, and examples thereof include a methylsulfamoyl group and an ethylsulfamoyl group), a carboxy group, an alkoxycarbonyl group ( The total carbon number is preferably 5 or less, and examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. ) And a cyano group.
【0073】R1 、R2 、R3 およびR4 のアルキル
基、アルケニル基としては総炭素数が18以下が好まし
い。アルキル基、アルケニル基の置換基としては、スル
ホ基、カルボキシ基の他に、ハロゲン原子(例えばフッ
素、塩素、臭素)、ヒドロキシ基、炭素数8以下のアル
コキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基
(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニ
ル基)、炭素数10以下の単環式のアリールオキシ基
(例えばフェノキシ基、p−トリルオキシ基)、炭素数
3以下のアシルオキシ基(例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基)、カルバモイル基
(例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイ
ル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル
基)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、
N,N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホ
ニル基、ピペリジノスルホニル基)、炭素数10以下の
アリール基(例えばフェニル基、4−クロロフェニル
基、4−メチルフェニル基、α−ナフチル基)等が挙げ
られる。The alkyl group and alkenyl group of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 preferably have a total carbon number of 18 or less. As the substituent of the alkyl group or the alkenyl group, in addition to the sulfo group and the carboxy group, a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine), a hydroxy group, an alkoxycarbonyl group having 8 or less carbon atoms or an aryloxycarbonyl group (eg, methoxy group) Carbonyl group, ethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group), monocyclic aryloxy group having 10 or less carbon atoms (eg, phenoxy group, p-tolyloxy group), acyloxy group having 3 or less carbon atoms (eg, acetyl). Group, propionyl group, benzoyl group, mesyl group), carbamoyl group (for example, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group, piperidinocarbonyl group), sulfamoyl group (for example, sulfamoyl group,
N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, piperidinosulfonyl group), aryl groups having 10 or less carbon atoms (eg, phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4-methylphenyl group, α-naphthyl group), etc. Is mentioned.
【0074】R1 、R2 、R3 およびR4 のうち少なく
とも一つはスルホ基またはカルボキシ基で置換されたア
ルキル基またはアルケニル基であり、より好ましくはス
ルホアルキル基である。R1 、R2 、R3 およびR4 の
うち少なくとも一つは、炭素数3以下のアルコキシ基に
よって置換されたアルキル基であることが好ましく、更
には2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、3
−メトキシプロピル基、3−エトキシプロピル基であ
る。At least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is an alkyl group or an alkenyl group substituted with a sulfo group or a carboxy group, more preferably a sulfoalkyl group. At least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is preferably an alkyl group substituted with an alkoxy group having 3 or less carbon atoms, and further a 2-methoxyethyl group or a 2-ethoxyethyl group. Three
-Methoxypropyl group and 3-ethoxypropyl group.
【0075】以下に一般式(IV)で表される増感色素
の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。Specific examples of the sensitizing dye represented by the general formula (IV) are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0076】[0076]
【化39】 [Chemical Formula 39]
【0077】[0077]
【化40】 [Chemical 40]
【0078】[0078]
【化41】 [Chemical 41]
【0079】[0079]
【化42】 [Chemical 42]
【0080】本発明では、上記の増感色素の凝集体が形
成されることが好ましく、上記の中でも特にJ凝集体を
形成しやすい増感色素を用いることが好ましい。また、
例えば特公昭49−46932号公報、特開昭58−2
8738号、米国特許3776738号等に記載されて
いるJ凝集体を強化する化合物(例えば水溶性臭化物、
ビスピリジニウム塩、含メルカプトヘテロ環スルホン化
物、アルカリ金属塩)を併用することが好ましい。これ
らの化合物はハロゲン化銀1モル当り10-5〜1モルの
範囲で使用される。In the present invention, it is preferable to form an aggregate of the above-mentioned sensitizing dye, and it is particularly preferable to use a sensitizing dye that easily forms the J-aggregate among the above. Also,
For example, JP-B-49-46932 and JP-A-58-2
8738, U.S. Pat. No. 3,776,738, and other compounds that enhance J aggregates (eg, water-soluble bromide,
It is preferable to use a bispyridinium salt, a mercapto-heterocyclic sulfonated compound, an alkali metal salt) together. These compounds are used in the range of 10 -5 to 1 mol per mol of silver halide.
【0081】本発明に用いる一般式(IV)の増感色素
の添加量は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により
異なるが、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6〜8×1
0-3モルの範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒
子サイズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロゲン化
銀粒子の表面積1m2 当り、2×10-7〜3.5×10
-6モルの添加量範囲が好ましく、特に6.5×10-7〜
2.0×10-6モルの添加量範囲が好ましい。The addition amount of the sensitizing dye of the general formula (IV) used in the present invention varies depending on the shape and size of the silver halide grains, but is 4 × 10 −6 to 8 × 1 per mol of silver halide.
It is used in the range of 0 -3 mol. For example, when the silver halide grain size is 0.2 to 1.3 μm, 2 × 10 −7 to 3.5 × 10 per 1 m 2 of surface area of the silver halide grain.
-6 mol addition amount range is preferred, especially 6.5 × 10 -7 ~
The addition amount range of 2.0 × 10 −6 mol is preferable.
【0082】本発明の感光材料に用いられる各種添加
剤、現像処理方法等に関しては、前記の他に特に制限は
無く、例えば下記箇所に記載されたものを好ましく用い
ることが出来る。 項 目 該当箇所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12 その製法 行目から同第21頁左下欄14行目、特開平2− 12236号公報第7頁右上欄19行目から同第 8頁左下欄12行目、および特願平3−1895 32号に記載のセレン増感法。 2)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行 目から同右下欄4行目、同2−103535号公 報第16頁右下欄3行目から同第17頁左下欄2 0行目、さらに特開平1−112235号、同2 −124560号、同3−7928号、特願平3 −189532号及び同3−411064号に記 載の分光増感色素。 3)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目 から同右下欄7行目、及び特開平2−18542 号公報第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄 18行目。 4)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 9行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄 1行目から5行目、さらに特開平1−23753 8号公報に記載のチオスルフィン酸化合物。 5)ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄1 2行目から同20行目。 6)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6 行目から同第19頁左上欄1行目。 7)マット剤、滑り剤、 特開平2−103536号公報第19頁左上欄1 可塑剤 5行目から同第19頁右上欄15行目。 8)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5 行目から同第17行目。 9)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1 行目から同18行目の染料、同2−294638 号公報及び特願平3−185773号に記載の固 体染料。 10)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目 から20行目。 11)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号及び特開平1−11 8832号公報に記載の化合物。 12)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で 表される化合物(特に化合物例1ないし50)、 同3−174143号公報第3頁ないし第20頁 に記載の一般式(R−1)、(R−2)、(R− 3)、化合物例1ないし75、さらに特願平3− 69466号、同3−15648号に記載の化合 物。 13)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の 化合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 14)ジヒドロキシ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から ベンゼン類 第12頁左下欄の記載、及びEP452772A 号公報に記載の化合物。 15)現像液及び現像方法 特開平2−103536号公報第19頁右上欄1 6行目から同第21頁左上欄8行目。There are no particular restrictions on the various additives and development processing methods used in the light-sensitive material of the present invention in addition to the above, and those described in the following sections can be preferably used. Item Relevant part 1) Silver halide emulsion and JP-A-2-97937, page 20, lower right column 12, from its production line to page 21, lower left column, line 14, JP-A-2-12236, page 7 The selenium sensitization method described in the upper right column, line 19 to the same, page 8, lower left column, line 12 and Japanese Patent Application No. 3-189532. 2) Spectral sensitizing dyes JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right column, line 4; and JP-A 2-103535, page 16, lower right column, line 3 to page 17 Spectral sensitizing dyes described in the lower left column, line 20, and further in JP-A Nos. 1-112235, 2-124560, 3-79928, and Japanese Patent Application Nos. 3-189532 and 3-411064. 3) Surfactant JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7 and JP-A-2-18542, page 2, left lower column, line 13 to page 4, right Bottom line, line 18. 4) Antifoggant JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, further JP-A 1-23753 A thiosulfinic acid compound described in JP-B-8. 5) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 6) Compound having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1 7) Matting agent, slip agent, JP-A-2-103536, page 19, upper left column 1, plasticizer, line 5 to page 19, upper right column, line 15 8) Hardener JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17 thereof. 9) Dyes Dyes in the lower right column, lines 1 to 18 of JP-A-2-103536, solid dyes described in JP-A-2-294638 and JP-A-3-185773. 10) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 11) Black spot prevention agent Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A No. 1-118832. 12) Redox compound A compound represented by the formula (I) in JP-A-2-301743 (particularly compound examples 1 to 50), a general formula (page 3 to page 20 in JP-A 3-174143). R-1), (R-2), (R-3), compound examples 1 to 75, and compounds described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648. 13) Monomethine compounds Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (particularly compound examples II-1 to II-26). 14) Dihydroxy Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column, benzenes, page 12, lower left column, and EP452772A. 15) Developer and developing method JP-A-2-103536, page 19, upper right column, line 16 to page 21, upper left column, line 8
【0083】[0083]
【実施例】以下実施例により、本発明を詳しく説明す
る。The present invention will be described in detail with reference to the following examples.
【0084】実施例−1 <ハロゲン化銀乳剤の作り方> 乳剤−A 0.37モルの硝酸銀水溶液と、完成乳剤の銀1モルあ
たり1.0×10-7モルに相当する(NH4)3 RhCl
6 と2×10-7モルのK3 IrCl6 、0.15モルの
臭化カリウムと0.23モルの塩化ナトリウムを含むハ
ロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶
液に、攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法
により添加し、平均粒子サイズ0.20μm、塩化銀含
有率60モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成
を行なった。続いて同様に0.63モルの硝酸銀水溶液
と、0.25モルの臭化カリウムと、0.41モルの塩
化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェット
法により、20分間かけて添加した。その後銀1モル当
たり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョン
を行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5
に調整し、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン
酸ナトリウム7mgおよびチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩
化金酸8mgを加え、60℃で45分間加熱し、化学増感
処理を施し、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgおよび
防腐剤としてプロキセルを加えた。得られた粒子は平均
粒子サイズ0.28μm、塩化銀含量60モル%の塩臭
化銀立方体粒子であった。(変動係数9%)Example-1 <How to make a silver halide emulsion> Emulsion-A 0.37 mol of silver nitrate aqueous solution, and (NH 4 ) 3 corresponding to 1.0 × 10 −7 mol per mol of silver in the finished emulsion. RhCl
An aqueous solution of halogen salt containing 6 and 2 × 10 −7 mol of K 3 IrCl 6 , 0.15 mol of potassium bromide and 0.23 mol of sodium chloride, sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione. Nucleation is carried out by adding a double jet method at 45 ° C. for 12 minutes to a gelatin aqueous solution containing the above to obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.20 μm and a silver chloride content of 60 mol%. It was Then, similarly, a 0.63 mol silver nitrate aqueous solution, a 0.25 mol potassium bromide, and a 0.41 mol sodium chloride containing halogen salt aqueous solution were added over 20 minutes by the double jet method. Thereafter, 1 × 10 −3 mol of KI solution was added to 1 mol of silver, conversion was carried out, and the product was washed with water by the flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin was added, pH 6.5, pAg 7.5.
In addition, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate, 5 mg of sodium thiosulfate and 8 mg of chloroauric acid were added per 1 mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C. for 45 minutes to be chemically sensitized and treated with 4-hydroxy- as a stabilizer. 150 mg of 6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene and proxel as preservative were added. The obtained grains were cubic silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.28 μm and a silver chloride content of 60 mol%. (Coefficient of variation 9%)
【0085】<塗布試料の作成>塩化ビニリデン共重合
体からなる下塗層(0.5μm)を有するポリエチレン
テレフタレートフィルム(150μm)支持体上に、支
持体側から順次に、EM、PCの層構成になるように、
塗布し、試料No.101〜112を作成した。以下に各
層の調製法及び塗布量を示す。 (乳剤層)前記乳剤−Aをゼラチンと共に40℃で溶解
した後、増感色素S−1を3.6×10-4モル/モルA
g、下記化合物(イ)2.5mg/m2、2,6−ジヒドロ
キシルアミノ−4−N,Nジエチルアミノ−1,3,5
−トリアジン2.0mg/m2、8−クロロ−5−ヒドロキ
シキノリン5mg/m2、下記化合物(ロ)50mg/m2、ゼ
ラチンに対して20wt%のポリエチルアクリレート、ゼ
ラチンに対して15wt%の下記化合物(ニ)、ゼラチン
硬化剤として、ゼラチンに対して3.8wt%の下記化合
物(ハ)、及び表−1に示す様に、前記一般式(I)、
一般式(II)及び一般式(III) の化合物を添加して、A
g3.6g/m2となる様にして塗布した。このとき、塗
布ゼラチン量は1.8g/m2であった。<Preparation of Coating Sample> On a polyethylene terephthalate film (150 μm) support having an undercoat layer (0.5 μm) made of a vinylidene chloride copolymer, a layer structure of EM and PC was sequentially formed from the support side. So that
Apply sample No. 101-112 were created. The preparation method and coating amount of each layer are shown below. (Emulsion layer) The emulsion-A was dissolved together with gelatin at 40 ° C., and then the sensitizing dye S-1 was added at 3.6 × 10 −4 mol / mol A.
g, the following compound (a) 2.5 mg / m 2 , 2,6-dihydroxylamino-4-N, N diethylamino-1,3,5
-Triazine 2.0 mg / m 2 , 8-chloro-5-hydroxyquinoline 5 mg / m 2 , the following compound (b) 50 mg / m 2 , 20 wt% polyethyl acrylate based on gelatin, 15 wt% based on gelatin The following compound (d), 3.8 wt% of the following compound (c) with respect to gelatin as a gelatin hardening agent, and the general formula (I), as shown in Table 1,
The compounds of the general formula (II) and the general formula (III) are added to
It was applied so that the coating amount would be 3.6 g / m 2 . At this time, the coated gelatin amount was 1.8 g / m 2 .
【0086】[0086]
【化43】 [Chemical 43]
【0087】[0087]
【表1】 [Table 1]
【0088】(表面保護層)ゼラチン溶液にポリメチル
メタクリレート分散物(平均粒子サイズ5μm)、更に
次の界面活性剤(ホ、ヘ)を添加して、ゼラチン1.0
g/m2、ポリメチルメタクリレートとして0.5g/m2
となる様に塗布した。(Surface protection layer) A polymethylmethacrylate dispersion (average particle size 5 μm) and the following surfactants (e, f) were added to a gelatin solution to prepare gelatin 1.0
g / m 2 , 0.5 g / m 2 as polymethylmethacrylate
Was applied so that
【0089】[0089]
【化44】 [Chemical 44]
【0090】本実施例で用いた現像液処方を下記に示
す。 現像液処方 ハイドロキノン 30.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3 水酸化ナトリウム 10.0 亜硫酸カリウム 60.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0 炭酸ナトリウム 11.0 臭化カリウム 10.0 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホ ン酸 0.3 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンス ルホン酸ナトリウム 0.2 トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0 水を加えて1リットル (pH10.5)The developer formulation used in this example is shown below. Developer formulation Hydroquinone 30.0 g N-methyl-p-aminophenol 0.3 Sodium hydroxide 10.0 Potassium sulfite 60.0 Ethylenediaminetetraacetic acid disodium 1.0 Sodium carbonate 11.0 Potassium bromide 10.0 5- Methylbenzotriazole 0.4 2-Mercaptobenzimidazole-5-sulphonic acid 0.3 Sodium 3- (5-mercaptotetrazole) benzene sulfonate 0.2 Sodium toluenesulfonate 8.0 1 liter with water added (pH 10 .5)
【0091】写真特性の評価 1.センシトメトリー階調(γ) タングステン感光計を用い色温度3200°Kのフィル
ター及びステップウェッジを通して露光した後、FG−
710F自動現像機(富士写真フイルム社製)を用い
て、34℃30″現像し、次いで定着、水洗、乾燥を順
次行なった。定着液は、富士写真フイルム社製GR−F
1を用いた。又、前記処方の現像液を自動現像機に入れ
たまま、1週間経時した後、上記と同様にして露光現像
処理を行なった。 γ=光学濃度差(3.0−0.3)÷△logE 式中△logEは、(光学濃度3.0を与えるのに必要な露
光量(logE3.0)と光学濃度0.3を与えるのに必要
な露光量(logE0.3)の差を意味する。Evaluation of Photographic Properties 1. Sensitometric gradation (γ) After exposure through a filter having a color temperature of 3200 ° K and a step wedge using a tungsten sensitometer, FG-
Using a 710F automatic developing machine (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), development was carried out at 34 ° C. for 30 ″, followed by fixing, washing with water and drying in order. The fixing solution was GR-F manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
1 was used. Further, after the developer of the above formulation was kept in the automatic developing machine for 1 week, it was exposed and developed in the same manner as above. γ = optical density difference (3.0−0.3) ÷ ΔlogE where ΔlogE is (exposure amount (logE3.0) required to give optical density 3.0 and optical density 0.3) Means the difference in exposure dose (logE0.3) required for
【0092】2.実技Dmax 写植ペーパー上に線巾40μの画像が入った原稿を作成
した。線巾は、原稿を反射型ミクロデンシトメーターで
線巾方向にスキャンすることにより測定した。このとき
線の光学濃度は、0.6であった。この原稿を大日本ス
クリーン(株)製反射型製版カメラC−690(オート
コンパニカ)を用いて、撮影画像の線巾(白ヌケ)が4
0μとなる様に露光量を調節し、撮影した後、前記1.
と同様にして現像処理した。2. Practical skill Dmax A manuscript containing an image with a line width of 40μ was created on a typesetting paper. The line width was measured by scanning the original in the line width direction with a reflective microdensitometer. At this time, the optical density of the line was 0.6. The line width (white clear) of this manuscript was 4 using a reflection type plate-making camera C-690 (auto companica) manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.
The exposure amount was adjusted so as to be 0 μ, and after photographing, the above 1.
It was developed in the same manner as in.
【0093】表−1の結果から、一般式(I)の化合物
を単独で用いた場合Fresh 性能としては、添加量をふや
すことにより階調が硬くなり、Dmも高く良好な性能を示
している。しかし、1Week経時(疲労液)では、軟調化
し、Dmも下がってしまい、特に一般式(I)の化合物を
ふやした試料では、黒ポツが多く発生し、実用不可な性
能となってしまう。一方、本発明の試料103、10
6、109及び112では、一般式(I)の化合物が少
ない添加量で硬調、高Dmが得られ、疲労液で処理した場
合でも、硬調、高Dmを維持できかつ黒ポツも少なく良好
な性能が得られることがよく分かる。From the results in Table 1, when the compound of the general formula (I) is used alone, as the Fresh performance, the gradation becomes harder by increasing the addition amount, and the Dm is high and the performance is good. . However, after 1 week (fatigue liquid), the tone becomes soft and the Dm also decreases, and particularly in the sample containing the compound of the general formula (I), black spots often occur, resulting in impractical performance. On the other hand, samples 103 and 10 of the present invention
In Nos. 6, 109 and 112, high contrast and high Dm were obtained with a small addition amount of the compound of the general formula (I), and even when treated with a fatigue liquid, the high contrast and high Dm could be maintained, and black spots were few and good performance was obtained. It is well understood that
【0094】実施例−2 <塗布試料の作成>実施例−1の乳剤層の一般式
(I)、(II)及び(III) の化合物種及び添加量を表−
2に示すように変更した他は、実施例−1と全く同様に
して、試料201〜215を作成した。本実施例で用い
た比較化合物を以下に示す。Example-2 <Preparation of coating sample> The types and addition amounts of the compounds of formulas (I), (II) and (III) in the emulsion layer of Example-1 are shown in the table.
Samples 201 to 215 were prepared in exactly the same manner as in Example-1 except that the changes were made as shown in FIG. The comparative compounds used in this example are shown below.
【0095】[0095]
【表2】 [Table 2]
【0096】[0096]
【化45】 [Chemical formula 45]
【0097】表−2の結果から、試料No.210及び2
11では、Fresh の硬調化効果が小さく、疲労液では増
感し、軟調化してしまう。試料No.214及び215で
は、Fresh 、1weekとも硬調でDmも高いが、疲労液(1
week)での増感が大きい。本発明の試料No.202〜2
09では、いずれもFresh 、1weekとも硬調性、高Dmを
維持し、疲労液での感度変化が小さく、安定性が良いこ
とが分かる。From the results in Table 2, sample No. 210 and 2
In No. 11, the effect of freshening the contrast of the fresh image is small, and it is sensitized by the fatigue solution and becomes soft. Sample No. In 214 and 215, the freshness and hardness of both 1 week and Dm are high, but the fatigue fluid (1
Greater sensitization in week). Sample No. of the present invention 202-2
It can be seen that in Sample No. 09, both Fresh and 1 week maintain high contrast and high Dm, the sensitivity change in the fatigue solution is small, and the stability is good.
【0098】実施例−3 実施例−1の乳剤層の一般式(I)、(II)および
(III)の化合物種および添加量を表3に示すように
変更した以外は実施例−1と同様にして、試料301〜
313を作製した。評価も実施例−1と同様にして行っ
た。Example-3 Example-1 and Example-1 except that the compound species of the general formulas (I), (II) and (III) and the addition amount in the emulsion layer of Example-1 were changed as shown in Table 3. Similarly, samples 301 to
313 was produced. The evaluation was performed in the same manner as in Example-1.
【0099】[0099]
【表3】 [Table 3]
【0100】表3の結果から、試料番号302、30
5、311では十分な硬調性がえられないが、本発明の
試料ではいずれも硬調で高い実技Dmaxが得られてお
り、疲労液での黒ポツも少ないことがわかる。From the results of Table 3, sample numbers 302 and 30
No sufficient hardness can be obtained with Nos. 5 and 311. However, it can be seen that all the samples of the present invention have a high contrast and a high practical skill Dmax, and there are few black spots in the fatigue liquid.
【0101】実施例−4 (乳剤の調製)0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モル
あたり1.5×10-7モルに相当するK2 Rh(H
2 O)Cl5 および2×10-7モルに相当するK3 Ir
Cl6 を含み、0.04Mの臭化カリウムと0.09M
の塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナト
リウムと1,3−ジメチル−2−イミダゾリンチオンを
含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながら38℃で12
分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ
0.14μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子
を得ることにより、核形成を行った。続いて同様に、
0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.26Mの臭化カリウ
ムと0.65Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液をダブルジェット法により20分かけて添加し、その
後、1×10-3モルのKI水溶液を加えてコンバージョ
ンを行なった。続いてイソブテンとマレイン酸モノナト
リウム塩のコポリマーを沈降剤として用い、フロキュレ
ーション法により水洗した。その後、銀1モル当りゼラ
チン40gを加え、銀1モル当りベンゼンチオスルホン
酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mg、塩
化金酸8mg、チオシアン酸カリウム200mgおよび
チオ硫酸ナトリウム5mgを加え60℃で45分間加熱
し、化学増感を施した。次いで、安定剤として4−ヒド
ロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン150m
gを加え、更に防腐剤としてプロキセル100mgを加
えた。得られた乳剤は、平均粒子サイズ0.25μm、
塩化銀含有率69.9モル%の沃塩臭化銀立方体粒子で
あった(粒子サイズの変動係数10%)。Example 4 (Preparation of Emulsion) A 0.13 M silver nitrate aqueous solution and K 2 Rh (H) corresponding to 1.5 × 10 −7 mol per mol of silver were prepared.
2 O) Cl 5 and K 3 Ir equivalent to 2 × 10 −7 mol
Contains Cl 6 , 0.04M potassium bromide and 0.09M
The aqueous solution of halogen salt containing sodium chloride in a gelatin aqueous solution containing sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolinethione at 12 ° C with stirring at 38 ° C.
Nucleation was performed by adding by a double jet method for a minute to obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.14 μm and a silver chloride content of 70 mol%. Then similarly,
A 0.87 M silver nitrate aqueous solution and a halogen salt aqueous solution containing 0.26 M potassium bromide and 0.65 M sodium chloride were added by the double jet method over 20 minutes, and then a 1 × 10 −3 mol KI aqueous solution was added. Was added for conversion. Subsequently, a copolymer of isobutene and monosodium maleate was used as a precipitant and washed with water by a flocculation method. Then, 40 g of gelatin was added per mol of silver, 7 mg of sodium benzenethiosulfonate, 2 mg of benzenesulfinic acid, 8 mg of chloroauric acid, 200 mg of potassium thiocyanate and 5 mg of sodium thiosulfate were added per mol of silver, and the mixture was heated at 60 ° C. for 45 minutes. , Chemically sensitized. Next, 4-hydroxy-1,3,3a, 7-tetrazaindene 150m as a stabilizer
g, and then 100 mg of proxel as a preservative. The resulting emulsion has an average grain size of 0.25 μm,
It was a silver iodochlorobromide cubic grain having a silver chloride content of 69.9 mol% (variation coefficient of grain size: 10%).
【0102】(塗布試料の作製) (乳剤層)前記ハロゲン化銀乳剤をゼラチンとともに4
0℃で溶解した後、増感色素を表4に示すように添加し
た。次いで化合物(a)1.1×10-5モル/m2 、化
合物(b)1.0×10-5モル/m2 、化合物(c)
5.0×10-6モル/m2 、ハイドロキノン25mg/
m2 、化合物(d)8.9×10-6モル/m2 、表4に
示す一般式(I)のヒドラジン化合物2×10-5モル/
m2 および本発明の一般式(II)または(III)の
化合物、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム3mg
/m2 、化合物(e)10mg/m2 、化合物(f)の
水溶性ラテックス600mg/m2 、メチルアクリレー
トと2−アクリルアミド−2−メチルプロバンスルホン
酸ナトリウム塩とアセトアセトキシエチルメタクリレー
トのラテックス共重合体(重合比88:5:7)200
mg/m2 、更に硬膜剤として化合物(g)をゼラチン
に対して3重量%およびビス−ビニルスルホニルメタン
をゼラチンに対して1重量%添加した。溶液のpHは
5.8に調整した。この液を塩化ビニリデン共重合体か
らなる下塗り層(0.5μm)を有するポリエチレンテ
レフタレートフィルム(厚み150μm)支持体上に、
銀量3.2g/m2 、ゼラチン量2.0g/m2 になる
ように塗布した。(Preparation of coating sample) (Emulsion layer) The above silver halide emulsion was mixed with gelatin in 4 parts.
After dissolution at 0 ° C., sensitizing dyes were added as shown in Table 4. Then, compound (a) 1.1 × 10 −5 mol / m 2 , compound (b) 1.0 × 10 −5 mol / m 2 , compound (c)
5.0 × 10 -6 mol / m 2 , hydroquinone 25 mg /
m 2 , compound (d) 8.9 × 10 -6 mol / m 2 , hydrazine compound of general formula (I) shown in Table 4 2 × 10 -5 mol / m 2
m 2 and the compound of the general formula (II) or (III) of the present invention, sodium dodecylbenzenesulfonate 3 mg
/ M 2 , compound (e) 10 mg / m 2 , water-soluble latex of compound (f) 600 mg / m 2 , methyl acrylate, 2-acrylamido-2-methylprobansulfonic acid sodium salt and acetoacetoxyethylmethacrylate latex copolymerization Combined (Polymerization ratio 88: 5: 7) 200
mg / m 2 , and further 3% by weight of the compound (g) as a hardening agent to gelatin and 1% by weight of bis-vinylsulfonylmethane to gelatin were added. The pH of the solution was adjusted to 5.8. This solution was applied onto a polyethylene terephthalate film (thickness 150 μm) support having an undercoat layer (0.5 μm) made of a vinylidene chloride copolymer,
The amount of silver was 3.2 g / m 2 , and the amount of gelatin was 2.0 g / m 2 .
【0103】[0103]
【化46】 [Chemical formula 46]
【0104】これらの乳剤層の上に保護層として、ゼラ
チン1.0mg/m2 、平均粒子サイズ3.5μmの不
定形な二酸化珪素マット剤40mg/m2 、メタノール
シリカ0.1g/m2 、ポリアクリルアミド100mg
/m2 、ハイドロキノン150mg/m2 、シリコーン
オイル20mg/m2 、および塗布助剤として化合物
(h)5mg/m2 とドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム25mg/m2 からなる塗布液を塗布し、表4に
示すような試料を作製した。On these emulsion layers, as a protective layer, 1.0 mg / m 2 of gelatin, 40 mg / m 2 of amorphous silicon dioxide matting agent having an average particle size of 3.5 μm, 0.1 g / m 2 of methanol silica, Polyacrylamide 100 mg
/ M 2 , hydroquinone 150 mg / m 2 , silicone oil 20 mg / m 2 , and a coating solution containing 5 mg / m 2 of the compound (h) as a coating aid and 25 mg / m 2 of sodium dodecylbenzenesulfonate, and Table 4 A sample as shown in was prepared.
【0105】なお、支持体のバック面の塗布層は以下に
示す通りであった。 (バック層処方) ゼラチン 3 g/m2 ポリエリルアクリレートラテックス 2 g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 化合物(f) ゼラチンに対して3重量% SnO2 /Sb(重量比90/10、平均粒径0.20μm)200mg/m2 染料(a) 50mg/m2 染料(b) 100mg/m2 染料(c) 50mg/m2 The coating layer on the back surface of the support was as shown below. (Back Layer Formulation) Gelatin 3 g / m 2 Polyeryl acrylate latex 2 g / m 2 sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Compound (f) 3 wt% SnO 2 / Sb (weight ratio 90) based on gelatin / 10, average particle size 0.20 μm) 200 mg / m 2 dye (a) 50 mg / m 2 dye (b) 100 mg / m 2 dye (c) 50 mg / m 2
【0106】[0106]
【化47】 [Chemical 47]
【0107】 (バック保護層) ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートNa塩 15mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 (Back protective layer) Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 4.5 μm) 30 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate Na salt 15 mg / m 2 p-dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2
【0108】性能評価 1.センシトメトリー 感度、階調(γ) 実施例−1のセンシトメトリー階調評価法と同様にし
て、露光現像処理した。感度は濃度1.5を与える露光
量の相対値で表した。数値が大きい程感度が高いことを
意味する。γは実施例−1と同じ定義である。 2.実技Dmax 実施例−1と同様にして評価した。 3.セーフライト性 タングステン40W白熱灯を用い、富士写真フイルム株
式会社製造のNo.6フィルターを介して、試料から5
0cm離れたところから0〜30分光照射を行った後、
前記センシトメトリーと同条件で現像処理し、セーフラ
イト光照射時間に対してカブリ上昇が始まる時間との対
比を調べ、下記のように5段階で評価した。5分以内の
光照射でカブリが発生するものを1、5〜10分の光照
射でカブリが発生するものを2、10〜20分の光照射
でカブリが発生するものを3、20〜25分の光照射で
カブリが発生するものを4、25分以上の光照射でカブ
リが発生しなかったものを5とした。結果を表4に示し
た。Performance Evaluation 1. Sensitometry Sensitivity, Gradation (γ) Exposure and development were performed in the same manner as in the sensitometric gradation evaluation method of Example-1. The sensitivity was represented by the relative value of the exposure amount that gives a density of 1.5. The larger the value, the higher the sensitivity. γ has the same definition as in Example-1. 2. Practical skill Dmax Evaluation was carried out in the same manner as in Example-1. 3. Safelight Property Using No. 40 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. using a tungsten 40W incandescent lamp. 5 from the sample through 6 filters
After performing 0 to 30 spectral irradiation from 0 cm away,
Development processing was performed under the same conditions as in the sensitometry, and the comparison between the safelight light irradiation time and the time at which the fog rise started was examined, and the evaluation was made in the following five grades. Fog is generated by light irradiation within 5 minutes is 1, fog is generated by light irradiation of 5 to 10 minutes is 2, fog is generated by light irradiation of 10 to 20 minutes is 3, 20 to 25 Fog was generated by light irradiation for 4 minutes, and 4 was not fogged by light irradiation for 25 minutes or more. The results are shown in Table 4.
【0109】[0109]
【表4】 [Table 4]
【0110】[0110]
【化48】 [Chemical 48]
【0111】表4の結果から、本発明試料は、いずれも
階調が15以上で硬調であり、実技Dmaxも十分に高
いことがわかる。中でも試料番号410、412、41
4、416はいずれもγが20以上でDmaxも高く、
試料番号404、406、408に比べてセーフライト
性も良好であることがわかる。From the results shown in Table 4, it is understood that all the samples of the present invention have a gradation of 15 or more and are in a high contrast, and the practical skill Dmax is sufficiently high. Among them, sample numbers 410, 412, 41
4 and 416 have γ of 20 or more and high Dmax,
It can be seen that the safelight property is better than that of sample numbers 404, 406, and 408.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成5年5月20日[Submission date] May 20, 1993
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0109[Correction target item name] 0109
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0109】[0109]
【表4】 [Table 4]
Claims (5)
ロゲン化銀乳剤層を有し、該層および/又は、隣接する
親水性コロイド層に、一般式(I)で表わされるヒドラ
ジン誘導体の少なくとも一種と一般式(II)又は一般式
(III) で表わされる化合物の少なくとも一種を含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 【化1】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表わし、さらに
その置換基の一部として−O−(CH2 CH2 O)
n −、−O−(CH2 CH(CH3)O)n −または−O
−(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただしnは3
以上の整数)の部分構造を含有するか、あるいは置換基
の一部として4級アンモニウムカチオンを含有するか、
あるいは置換基の一部として−S−基を含有する基であ
る。G1 は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、
−C(=NG2 R2)−基、−SO−基、−SO2 −基ま
たは−P(O)(G2 R2)−基を表わす。G2 は単なる
結合手、−O−基、−S−基または−N(R2)−基を表
わし、R2 は脂肪族基、芳香族基または水素原子を表わ
し、分子内に複数のR2 が存在する場合それらは同じあ
っても異なっても良い。A1 、A2 の一方は水素原子で
あり、他方は水素原子またはアシル基、アルキルまたは
アリールスルホニル基を表わす。 【化2】 式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表わ
す。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミノ基、アンモ
ニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、アミノ基は置
換されていてもよい。mは1、2又は3を表わし、nは
0又は1を表わす。 【化3】 式中、R1 、R2 は各々水素原子又は脂肪族残基を表わ
す。R1 とR2 は互に結合して環を形成してもよい。R
3 は二価の脂肪族基を表わす。Xは窒素、酸素もしくは
硫黄原子を含む二価のヘテロ環を表わす。nは0または
1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土
類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩又
は、アミジノ基を表わす。1. A support having at least one photosensitive silver halide emulsion layer, and at least one of the hydrazine derivatives represented by the general formula (I) in the layer and / or the adjacent hydrophilic colloid layer. One and general formula (II) or general formula
A silver halide photographic light-sensitive material containing at least one compound represented by formula (III). [Chemical 1] In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and as a part of the substituent, —O— (CH 2 CH 2 O).
n -, - O- (CH 2 CH (CH 3) O) n - or -O
- (CH 2 CH (OH) CH 2 O) n - ( wherein n is 3
Whether it contains a partial structure of (the above integer) or contains a quaternary ammonium cation as a part of the substituent,
Alternatively, it is a group containing an -S- group as a part of the substituent. G 1 is a -CO- group, a -COCO- group, a -CS- group,
-C (= NG 2 R 2) - represents the group - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P (O) (G 2 R 2). G 2 is a single bond, -O- group, -S- group, or -N (R 2) - represents a group, R 2 represents an aliphatic group, an aromatic group or a hydrogen atom, a plurality in the molecule R If two are present they may be the same or different. One of A 1 and A 2 is a hydrogen atom, and the other is a hydrogen atom or an acyl group, an alkyl or arylsulfonyl group. [Chemical 2] In the formula, Y represents a group adsorbed on silver halide. X represents a divalent linking group consisting of an atom or a group of atoms selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. A represents a divalent linking group. B represents an amino group, an ammonium group and a nitrogen-containing heterocycle, and the amino group may be substituted. m represents 1, 2 or 3, and n represents 0 or 1. [Chemical 3] In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an aliphatic residue. R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring. R
3 represents a divalent aliphatic group. X represents a divalent heterocycle containing a nitrogen, oxygen or sulfur atom. n represents 0 or 1. M represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, a quaternary ammonium salt, a quaternary phosphonium salt, or an amidino group.
pH9.6〜11.0の現像液を用いて現像処理するこ
とを特徴とする写真画像形成方法。2. A photographic image forming method, which comprises subjecting the silver halide photographic light-sensitive material of claim 1 to development processing using a developer having a pH of 9.6 to 11.0.
アミン化合物を含まず、かつ、pH9.6〜11.0の
現像液を用いて現像処理することを特徴とする写真画像
形成方法。3. A photographic image forming method, which comprises subjecting the silver halide photographic light-sensitive material of claim 1 to development processing using a developing solution containing no amine compound and having a pH of 9.6 to 11.0.
又は一般式(Ic)で表わされることを特徴とする請求
項1のハロゲン化銀写真感光材料。 【化4】 式中、L1 、L2 は−CONR7 −基、−NR7 CON
R8 −基、−SO2 NR7 −基または−NR7 SO2 N
R8 −基を表わし、それぞれ同じであっても異なってい
ても良い。R7 およびR8 は水素原子または炭素数1〜
6のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基を表わ
し、水素原子が好ましい。mは0または1である。
R3 、R4 、R5 は2価の脂肪族基または芳香族基であ
る。一般式(Ib)におけるZ1 は、含窒素芳香環を形
成するために必要な原子群を表わす。X - は対アニオン
または分子内塩を形成する場合は対アニオン部分を表わ
す。R6は、脂肪族基または芳香族基を表わす。一般式
(Ic)における3つのR6 は、それぞれ同じであって
も異なっていても良く、また、互に結合して環を形成し
ても良い。4. R of the general formula (I)1Is the general formula (Ib)
Or a compound represented by formula (Ic)
Item 1. A silver halide photographic light-sensitive material of item 1. [Chemical 4]Where L1, L2Is -CONR7-Group, -NR7CON
R8-Group, -SO2NR7-Group or -NR7SO2N
R8Represents a group, each of which is the same or different
May be. R7And R8Is a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atoms
Represents an alkyl group having 6 or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms
However, a hydrogen atom is preferable. m is 0 or 1.
R3, RFour, RFiveIs a divalent aliphatic group or aromatic group
It Z in the general formula (Ib)1Forms a nitrogen-containing aromatic ring
Represents a group of atoms required for formation. X -Is a counter anion
Or, when forming an intramolecular salt, it represents a counter anion moiety.
You R6Represents an aliphatic group or an aromatic group. General formula
Three Rs in (Ic)6Are the same
May be different from each other, or may be bonded to each other to form a ring.
May be.
の色素により分光増感されていることを特徴とする請求
項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。一般式(IV) 【化5】 式中、V1 、V3 は水素原子または電子吸引性基を表わ
し、V2 、V4 は電子吸引性基を表わす。R1 、R2 、
R3 およびR4 は同一でも異なっていてもよく総炭素数
10以下の置換されてもよいアルキル基またはアルケニ
ル基を表わし、R1 、R2 、R3 またはR4 のうち少な
くとも一つはスルホ基またはカルボキシ基を有する基で
ある。X1 は電荷を中和するに必要な対イオンを表わ
す。nは0または1を表わし、分子内塩の場合は0であ
る。5. A silver halide emulsion having the following general formula (IV):
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, which is spectrally sensitized with the dye. General formula (IV): In the formula, V 1 and V 3 represent hydrogen atoms or electron withdrawing groups, and V 2 and V 4 represent electron withdrawing groups. R 1 , R 2 ,
R 3 and R 4 may be the same or different and each represents an alkyl group or an alkenyl group having a total carbon number of 10 or less, and at least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a sulfo group. A group having a group or a carboxy group. X 1 represents a counter ion necessary for neutralizing the charge. n represents 0 or 1, and is 0 in the case of an inner salt.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7423593A JPH0619034A (en) | 1992-03-31 | 1993-03-31 | Silver halide photographic sensitive material and photographic picture forming method using same material |
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| JPH0619034A true JPH0619034A (en) | 1994-01-28 |
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| JP (1) | JPH0619034A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0682288A1 (en) * | 1994-04-16 | 1995-11-15 | Kodak Limited | High contrast photographic silver halide material |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP7423593A patent/JPH0619034A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0682288A1 (en) * | 1994-04-16 | 1995-11-15 | Kodak Limited | High contrast photographic silver halide material |
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