JPH06192151A - クメンヒドロペルオキシドの二段階分解 - Google Patents
クメンヒドロペルオキシドの二段階分解Info
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- JPH06192151A JPH06192151A JP5222977A JP22297793A JPH06192151A JP H06192151 A JPH06192151 A JP H06192151A JP 5222977 A JP5222977 A JP 5222977A JP 22297793 A JP22297793 A JP 22297793A JP H06192151 A JPH06192151 A JP H06192151A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/08—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by decomposition of hydroperoxides, e.g. cumene hydroperoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/53—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of hydroperoxides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クメンヒドロペルオキシドからフェノール及
びアセトンを製造するための二段階方法に関する。 【構成】 第１段階においてクメンヒドロペルオキシド
を分解し、そして前記第１段階の生成物を第２段階にお
ける水素化にゆだねることを含んで成る改良された２段
階方法であり；残留クメンヒドロペルオキシドは、アセ
トン及び／又は第１段階に戻る第２段階の流出物の一部
の再循環を伴って又は伴わないで、第２段階において分
解され得；クメンはまた所望には再循環される。
びアセトンを製造するための二段階方法に関する。 【構成】 第１段階においてクメンヒドロペルオキシド
を分解し、そして前記第１段階の生成物を第２段階にお
ける水素化にゆだねることを含んで成る改良された２段
階方法であり；残留クメンヒドロペルオキシドは、アセ
トン及び／又は第１段階に戻る第２段階の流出物の一部
の再循環を伴って又は伴わないで、第２段階において分
解され得；クメンはまた所望には再循環される。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、第１段階においてクメンヒドロ
ペルオキシド（ＣＨＰ）を分解し、そして前記第１段階
の生成物を第２段階における水素化にゆだねることを含
んで成る、クメンヒドロペルオキシドからフェノール及
びアセトンを製造するための改良された２段階方法であ
り；残留クメンヒドロペルオキシドは、アセトン及び／
又は第１段階に戻る第２段階の流出物の一部の再循環を
伴って又は伴わないで、第２段階において分解され得；
クメンはまた所望には再循環される。
ペルオキシド（ＣＨＰ）を分解し、そして前記第１段階
の生成物を第２段階における水素化にゆだねることを含
んで成る、クメンヒドロペルオキシドからフェノール及
びアセトンを製造するための改良された２段階方法であ
り；残留クメンヒドロペルオキシドは、アセトン及び／
又は第１段階に戻る第２段階の流出物の一部の再循環を
伴って又は伴わないで、第２段階において分解され得；
クメンはまた所望には再循環される。
【０００２】
【発明の背景】クメンの酸化及びその得られるクメンヒ
ドロペルオキシドの触媒的分解によりフェノールを製造
する方法は、良く知られており、そしてベンゼンの塩素
化又はスルホン化に基づくフェノール工程のほとんどを
置換している。１年当たり５ビリオンポンド以上のフェ
ノール容量がこの技術に基づいて世界において現在利用
されている。
ドロペルオキシドの触媒的分解によりフェノールを製造
する方法は、良く知られており、そしてベンゼンの塩素
化又はスルホン化に基づくフェノール工程のほとんどを
置換している。１年当たり５ビリオンポンド以上のフェ
ノール容量がこの技術に基づいて世界において現在利用
されている。
【０００３】典型的な方法は、クメン酸化セクション、
ＣＨＰ濃縮操作、十分なバック−ミックス反応器におい
て一般的に行なわれる酸触媒された分解反応及び生成物
の中和及び回収セクションから成る。
ＣＨＰ濃縮操作、十分なバック−ミックス反応器におい
て一般的に行なわれる酸触媒された分解反応及び生成物
の中和及び回収セクションから成る。
【０００４】生成物の収率及び純度を高めるための多く
の改良が、特許文献に開示されて来た。また、多くの開
示された方法は、環境規制のために現在ほとんど所望さ
れない硫酸又は他の無機酸に取って代わるために不均質
触媒の使用を記載する。いくらかの改良がまた、廃棄物
からのフェノール、クメン及びα−メチルスチレン（Ａ
ＭＳ）の回収において行なわれて来た。
の改良が、特許文献に開示されて来た。また、多くの開
示された方法は、環境規制のために現在ほとんど所望さ
れない硫酸又は他の無機酸に取って代わるために不均質
触媒の使用を記載する。いくらかの改良がまた、廃棄物
からのフェノール、クメン及びα−メチルスチレン（Ａ
ＭＳ）の回収において行なわれて来た。
【０００５】種々の酸触媒を用いる方法は、アメリカ特
許第２，７１８，１７２号；第２，６２６，２８１号；
第３，１８７，０５２号；第３，３７６，３５２号；第
４，０１６，２１３号；第４，２０９，４６５号；第
４，２６７，３８０号；第４，７４３，５７３号：第
４，８７０，２１７号；第４，８４９，３８７号；第
４，４９０，５６５号；第４，４９０，５６６号；第
４，８９８，９８７号；及び第４，８９８，９９５号に
記載される。不均質触媒性分解は、固定層反応器又はバ
ック−ミックススラリー反応器のいづれかで行なわれる
べきである。分解反応の高い発熱性及びその比較的高い
反応速度の結果として、この反応のためには固定層反応
器の使用はかなり困難である。他方、バック−ミックス
スラリー反応器の使用は、それ自体の問題、すなわち触
媒回収及び再循環、触媒磨砕及び高い転換での質量移行
制限を有する。さらに、触媒不活性化が、無制御反応を
導びく、反応器における不安定レベルのＣＨＰを誘導す
る。
許第２，７１８，１７２号；第２，６２６，２８１号；
第３，１８７，０５２号；第３，３７６，３５２号；第
４，０１６，２１３号；第４，２０９，４６５号；第
４，２６７，３８０号；第４，７４３，５７３号：第
４，８７０，２１７号；第４，８４９，３８７号；第
４，４９０，５６５号；第４，４９０，５６６号；第
４，８９８，９８７号；及び第４，８９８，９９５号に
記載される。不均質触媒性分解は、固定層反応器又はバ
ック−ミックススラリー反応器のいづれかで行なわれる
べきである。分解反応の高い発熱性及びその比較的高い
反応速度の結果として、この反応のためには固定層反応
器の使用はかなり困難である。他方、バック−ミックス
スラリー反応器の使用は、それ自体の問題、すなわち触
媒回収及び再循環、触媒磨砕及び高い転換での質量移行
制限を有する。さらに、触媒不活性化が、無制御反応を
導びく、反応器における不安定レベルのＣＨＰを誘導す
る。
【０００６】反応収率を最大にするための改良は、主に
副生成物ＡＭＳの反応に関係して来た。それは、一般的
に酸化段階の最大の副生成物である、ジメチルベンジル
アルコール（ＤＭＢＡ）の脱水から分解反応器に形成さ
れる。ＡＭＳは、それがフェノール及びアセトンから分
離された後、生成物として回収され又はクメンに水素化
される。他の主な副生成物は、通常回収されないアセト
フェノンである。アセトフェノンが通常の分解条件下で
不活性である場合、ＡＭＳはそれ自体と反応し、二重体
又はポリマーを形成し、又はそれはフェノールと反応
し、クミルフェノールを形成することができる。
副生成物ＡＭＳの反応に関係して来た。それは、一般的
に酸化段階の最大の副生成物である、ジメチルベンジル
アルコール（ＤＭＢＡ）の脱水から分解反応器に形成さ
れる。ＡＭＳは、それがフェノール及びアセトンから分
離された後、生成物として回収され又はクメンに水素化
される。他の主な副生成物は、通常回収されないアセト
フェノンである。アセトフェノンが通常の分解条件下で
不活性である場合、ＡＭＳはそれ自体と反応し、二重体
又はポリマーを形成し、又はそれはフェノールと反応
し、クミルフェノールを形成することができる。
【０００７】ＡＭＳの高められた収率が所望される場
合、ＡＭＳ副反応を最少にしながら、ＤＭＢＡ転換を最
大にすることによって、それは最大にされる。ＡＭＳ収
率を改良するための（副反応を最少にするための）方法
は、ＡＭＳを希釈するために溶媒としてアセトンを添加
し、又は他の反応器形態を用いることを包含する。それ
らの方法のいくつかは、アメリカ特許第２，６６３，７
３５号；第２，９５７，９２１号；第２，７５７，２０
９号；第２，７４８，１７２号；第３，３７６，３５２
号；第３，６２６，２８１号；第３，１８７，０５２
号；第４，３１０，７１２号；及び第４，２０７，２６
４号に記載される。それらの副反応が連続的であり、そ
して "所望する" 生成物ＡＭＳが直接の生成物である場
合、ＡＭＳ収率を最大にするために選択される反応器
は、その低い保持値のためにプラグ流反応器である。こ
れは、一定の低いＣＨＰ濃度及び高い保持値での操作が
所望される場合、理想的なＣＨＰ分解反応器と調和しな
い。
合、ＡＭＳ副反応を最少にしながら、ＤＭＢＡ転換を最
大にすることによって、それは最大にされる。ＡＭＳ収
率を改良するための（副反応を最少にするための）方法
は、ＡＭＳを希釈するために溶媒としてアセトンを添加
し、又は他の反応器形態を用いることを包含する。それ
らの方法のいくつかは、アメリカ特許第２，６６３，７
３５号；第２，９５７，９２１号；第２，７５７，２０
９号；第２，７４８，１７２号；第３，３７６，３５２
号；第３，６２６，２８１号；第３，１８７，０５２
号；第４，３１０，７１２号；及び第４，２０７，２６
４号に記載される。それらの副反応が連続的であり、そ
して "所望する" 生成物ＡＭＳが直接の生成物である場
合、ＡＭＳ収率を最大にするために選択される反応器
は、その低い保持値のためにプラグ流反応器である。こ
れは、一定の低いＣＨＰ濃度及び高い保持値での操作が
所望される場合、理想的なＣＨＰ分解反応器と調和しな
い。
【０００８】それらを考慮して、アメリカ特許第２，７
５７，２０９号及び第４，３５８，６１８号に記載され
るような２段階分解反応器の概念が誘導された。それら
の工程においては、ＣＨＰは第１段階バック−ミックス
反応器において不完全に転換される。それらの条件下
で、ＤＭＢＡは、ＡＭＳ濃度が低く維持され、そしてそ
の副反応が最少にされるように、ＡＭＳに単に一部脱水
される。また、未反応ＣＨＰはＤＭＢＡと縮合し、ジク
ミルペルオキシド（ＤｉＣｕｐ）を形成する。第２段階
反応器は、理想的なプラグ流反応器として実質的に作用
する管状反応器から成る。この反応器において、残留Ｃ
ＨＰはフェノール及びアセトンに分解され、ＤｉＣｕｐ
はフェノール、アセトン及びＡＭＳに分解され、そして
残留ＤＭＢＡはＡＭＳに脱水される。プラグ流反応器の
運動等の結果として、より高い収率のＡＭＳが得られ
る。しかしながら、その反応器は、ＡＭＳ収率と最大に
するために最適滞留時間を正確に企画されるべきであ
る。滞留時間が短いほど、未転換ＤＭＢＡ及びＤｉＣｕ
ｐを導びき、そして滞留時間が長いほど、追加のＡＭＳ
のより強い転換をもたらすであろう。
５７，２０９号及び第４，３５８，６１８号に記載され
るような２段階分解反応器の概念が誘導された。それら
の工程においては、ＣＨＰは第１段階バック−ミックス
反応器において不完全に転換される。それらの条件下
で、ＤＭＢＡは、ＡＭＳ濃度が低く維持され、そしてそ
の副反応が最少にされるように、ＡＭＳに単に一部脱水
される。また、未反応ＣＨＰはＤＭＢＡと縮合し、ジク
ミルペルオキシド（ＤｉＣｕｐ）を形成する。第２段階
反応器は、理想的なプラグ流反応器として実質的に作用
する管状反応器から成る。この反応器において、残留Ｃ
ＨＰはフェノール及びアセトンに分解され、ＤｉＣｕｐ
はフェノール、アセトン及びＡＭＳに分解され、そして
残留ＤＭＢＡはＡＭＳに脱水される。プラグ流反応器の
運動等の結果として、より高い収率のＡＭＳが得られ
る。しかしながら、その反応器は、ＡＭＳ収率と最大に
するために最適滞留時間を正確に企画されるべきであ
る。滞留時間が短いほど、未転換ＤＭＢＡ及びＤｉＣｕ
ｐを導びき、そして滞留時間が長いほど、追加のＡＭＳ
のより強い転換をもたらすであろう。
【０００９】副生成物を除去し、そしてクメン酸化から
生成されるアセトン及びフェノールを精製するための多
くの方法がこれまで開示されて来た。いくつかのそのよ
うな方法は、アメリカ特許第２，７４８，１７２号；第
２，６６３，７３５号；第２，７９０，５４９号；第
３，０４３，８８３号；第３，１４０，３１８号；第
３，１５５，７３４号；第３，１８７，０５２号；第
３，３７６，３５２号；第３，９６５，１８７号；第
４，４８０，１３４号；第４，６２６，６００号；及び
第４，７２２，７６９号に記載される。それらの方法
は、アセトンからのベンゼンの除去及びフェノールから
アセトール、イシチルオキシド及び他の可能性ある色彩
体の分離に主に関係する。
生成されるアセトン及びフェノールを精製するための多
くの方法がこれまで開示されて来た。いくつかのそのよ
うな方法は、アメリカ特許第２，７４８，１７２号；第
２，６６３，７３５号；第２，７９０，５４９号；第
３，０４３，８８３号；第３，１４０，３１８号；第
３，１５５，７３４号；第３，１８７，０５２号；第
３，３７６，３５２号；第３，９６５，１８７号；第
４，４８０，１３４号；第４，６２６，６００号；及び
第４，７２２，７６９号に記載される。それらの方法
は、アセトンからのベンゼンの除去及びフェノールから
アセトール、イシチルオキシド及び他の可能性ある色彩
体の分離に主に関係する。
【００１０】アメリカ特許第２，７１５，１４５号及び
第４，９６０，９５８号は、多量の最終物からフェノー
ル、クメン及びＡＭＳの回収における改良点を報告す
る。アメリカ特許第３，４４１，６１８号は、フェノー
ル蒸留残留物が、良好な品質のフェノール、たとえば塩
素化される場合、脱色に対する良好な安定性を有するフ
ェノールを生成するために、選択的に水素化される方法
を開示する。この工程において、ＡＭＳは再循環のため
にクメンに水素化される。
第４，９６０，９５８号は、多量の最終物からフェノー
ル、クメン及びＡＭＳの回収における改良点を報告す
る。アメリカ特許第３，４４１，６１８号は、フェノー
ル蒸留残留物が、良好な品質のフェノール、たとえば塩
素化される場合、脱色に対する良好な安定性を有するフ
ェノールを生成するために、選択的に水素化される方法
を開示する。この工程において、ＡＭＳは再循環のため
にクメンに水素化される。
【００１１】それらの改良点の個々に関して、ＣＨＰ分
解方法の概念が同じように存続する。その目的は、ＡＭ
Ｓが別々の生成物として回収されるか、又はクメンに水
素化され、そして再循環されるかいづれかにかかわらず
ＡＭＳの収率を最大にすることである。最大のＡＭＳ収
率は、分解段階への供給物におけるＤＭＢＡに基づいて
７０〜８０％の範囲内である。
解方法の概念が同じように存続する。その目的は、ＡＭ
Ｓが別々の生成物として回収されるか、又はクメンに水
素化され、そして再循環されるかいづれかにかかわらず
ＡＭＳの収率を最大にすることである。最大のＡＭＳ収
率は、分解段階への供給物におけるＤＭＢＡに基づいて
７０〜８０％の範囲内である。
【００１２】本発明は、高いフェノール収率、少ないエ
ネルギー消費、容易な生成物の精製、良好な生成物品質
及び廃棄生成物、たとえば廃水の量の低下を提供するこ
とによってクメン工程の既知問題の多くを回避する。
ネルギー消費、容易な生成物の精製、良好な生成物品質
及び廃棄生成物、たとえば廃水の量の低下を提供するこ
とによってクメン工程の既知問題の多くを回避する。
【００１３】
【発明の要約】酸化副生物としてジメチルベンジルアル
コール（ＤＭＢＡ）を含むクメンヒドロペルオキシドの
触媒的分解を実施するための本発明の改良された方法は
次の段階を含んで成る：（ａ）反応器の含有物のたった
約１．２重量％の量でＡＭＳを製造するためにα−メチ
ルスチレンにたった約２５重量％のＤＭＢＡを同時に転
換しながら、フェノール及びアセトンへのＣＨＰの少な
くとも９５％（典型的には約９５％〜約９９％）の分解
をもたらすのに十分な時間、約１７０〜１９０°Ｆの温
度で作動する、十分に混合された反応器、好ましくは
（従来の）バック−ミックス反応器において、クメンヒ
ドロペルオキシドと酸触媒（反応体積１ｌ当たりたった
約５ｍ当量の水素イオン）とを混合し；（ｂ）水素化触
媒を含む第２反応器において、初期反応器からの生成物
を反応せしめ、そして約１５０〜２５０°Ｆの温度、初
期反応器への元のＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡのモル
流量の１〜４倍に等しい水素のモル流量及び５０〜１５
０psigの水素圧で第２反応器を作動し、フェノール及び
アセトンへの残留ＣＨＰの実質的に完全な分解及びＤＭ
ＢＡ及びＤｉＣｕｐの９５％以上の消失をもたらし、そ
してクメンへのＡＭＳ（固定層反応器への供給物に存在
するＡＭＳ及びＤＭＢＡ及びＤｉＣｕｐの反応から形成
されるＡＭＳの両者）の実質的に完全な水素化をもたら
すために第２反応器において十分に接触せしめる段階。
その方法は、バック−ミックス反応器、へのアセトン生
成物の一部の再循環を伴って又は伴わないで、及びバッ
ク−ミックス反応器への固定層反応器からの生成物の一
部の再循環を伴って又は伴わないで、残留ＣＨＰの水素
化及び分解を同時に又は順に達成するために行なわれ
得；クメンはまた再循環され得る。
コール（ＤＭＢＡ）を含むクメンヒドロペルオキシドの
触媒的分解を実施するための本発明の改良された方法は
次の段階を含んで成る：（ａ）反応器の含有物のたった
約１．２重量％の量でＡＭＳを製造するためにα−メチ
ルスチレンにたった約２５重量％のＤＭＢＡを同時に転
換しながら、フェノール及びアセトンへのＣＨＰの少な
くとも９５％（典型的には約９５％〜約９９％）の分解
をもたらすのに十分な時間、約１７０〜１９０°Ｆの温
度で作動する、十分に混合された反応器、好ましくは
（従来の）バック−ミックス反応器において、クメンヒ
ドロペルオキシドと酸触媒（反応体積１ｌ当たりたった
約５ｍ当量の水素イオン）とを混合し；（ｂ）水素化触
媒を含む第２反応器において、初期反応器からの生成物
を反応せしめ、そして約１５０〜２５０°Ｆの温度、初
期反応器への元のＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡのモル
流量の１〜４倍に等しい水素のモル流量及び５０〜１５
０psigの水素圧で第２反応器を作動し、フェノール及び
アセトンへの残留ＣＨＰの実質的に完全な分解及びＤＭ
ＢＡ及びＤｉＣｕｐの９５％以上の消失をもたらし、そ
してクメンへのＡＭＳ（固定層反応器への供給物に存在
するＡＭＳ及びＤＭＢＡ及びＤｉＣｕｐの反応から形成
されるＡＭＳの両者）の実質的に完全な水素化をもたら
すために第２反応器において十分に接触せしめる段階。
その方法は、バック−ミックス反応器、へのアセトン生
成物の一部の再循環を伴って又は伴わないで、及びバッ
ク−ミックス反応器への固定層反応器からの生成物の一
部の再循環を伴って又は伴わないで、残留ＣＨＰの水素
化及び分解を同時に又は順に達成するために行なわれ
得；クメンはまた再循環され得る。
【００１４】この態様において、分解反応からの重い副
生成物の主要源であるＡＭＳの濃度は、常に最少に維持
され、そして最終反応生成物から実質的に排除される。
反応器に存在するＡＭＳの量を減じることによって、形
成されるＡＭＳ−ポリマー及びクミルフェノールの量は
実質的に減じられる。ＡＭＳの水素化から形成されるク
メンは、回収され、そして酸化反応器に再循環され、従
って、その方法の全体の収率を改良する。
生成物の主要源であるＡＭＳの濃度は、常に最少に維持
され、そして最終反応生成物から実質的に排除される。
反応器に存在するＡＭＳの量を減じることによって、形
成されるＡＭＳ−ポリマー及びクミルフェノールの量は
実質的に減じられる。ＡＭＳの水素化から形成されるク
メンは、回収され、そして酸化反応器に再循環され、従
って、その方法の全体の収率を改良する。
【００１５】本発明に使用されるＣＨＰ供給物は、クメ
ンの酸化により製造され、そして典型的には、ＣＨＰ約
８３〜約８９重量％、クメン約７〜１０重量％、ＤＭＢ
Ａ約３．５〜５．５重量％及びアセトフェノン約０．５
〜１．５重量％を含むであろう。
ンの酸化により製造され、そして典型的には、ＣＨＰ約
８３〜約８９重量％、クメン約７〜１０重量％、ＤＭＢ
Ａ約３．５〜５．５重量％及びアセトフェノン約０．５
〜１．５重量％を含むであろう。
【００１６】
【発明の特定の記載】図１は、単一段階ＣＨＰ分解に基
づく従来のフェノール方法のフローシート又は略図であ
る。ＣＨＰは、酸化反応器１においてクメン（ライン２
８を通して供給される）の一部酸化（ライン２９からの
酸素による）から生成される。いくらかのＤＭＢＡ及び
アセトフェノンを含むＣＨＰは、バック−ミックス分解
反応器４に入口２を通して供給される。酸触媒、たとえ
ば硫酸かまた、入口３を通して反応器４に供給される。
ＣＨＰの分解が進行するにつれて、その分解反応から生
成されるアセトン生成物のいくらかを煮沸する熱が発生
せしめられる。このアセトンは、凝縮器５において凝縮
され、そして分解反応器４に還流される。分解反応器４
からの流出液は酸中和器６に通り、そしてスプリッター
カラム７に送ばれ、粗アセトン及びフェノール生成物に
分離される。
づく従来のフェノール方法のフローシート又は略図であ
る。ＣＨＰは、酸化反応器１においてクメン（ライン２
８を通して供給される）の一部酸化（ライン２９からの
酸素による）から生成される。いくらかのＤＭＢＡ及び
アセトフェノンを含むＣＨＰは、バック−ミックス分解
反応器４に入口２を通して供給される。酸触媒、たとえ
ば硫酸かまた、入口３を通して反応器４に供給される。
ＣＨＰの分解が進行するにつれて、その分解反応から生
成されるアセトン生成物のいくらかを煮沸する熱が発生
せしめられる。このアセトンは、凝縮器５において凝縮
され、そして分解反応器４に還流される。分解反応器４
からの流出液は酸中和器６に通り、そしてスプリッター
カラム７に送ばれ、粗アセトン及びフェノール生成物に
分離される。
【００１７】スプリッターカラム７において分離された
粗アセトンは、まずアセトントッピングカラム８に通さ
れ、ここでアセトンの一部が分離され、そしてライン２
１を通して分解反応器４に再循環される。これは分解反
応器４において生成されるＡＭＳの希釈を提供し、それ
によって、生成されるＡＭＳ副生成物の量を減じる。次
に、粗アセトンはカラム９においてさらに精製され、ラ
イン１０において最終アセトン生成物を生成する。カラ
ム９の底部は、クメン及びＡＭＳを含む。この流れは、
ＡＭＳからクメンを分離するカラム１１に通される。ほ
とんどの従来のフェノールプラントは、精製された生成
物としてＡＭＳを回収し、又はクメンへのＡＭＳの水素
化のいづれかのために及びクメンの再循環のために設備
を有する。時々、両設備が存在する。従って、いくらか
のＡＭＳはカラム１１においてクメンと共に上方に蒸留
され得る。次に、上方への流れは、水素化反応器１２に
ライン２２を通して送られ、ここでそれは好ましくは固
定層において水素化触媒上でライン３０からの水と接触
せしめられる。供給物におけるＡＭＳはクメンに転換さ
れ、そして流出クメン流は酸化反応器１に再循環され
る。カラム１１の底部からの粗ＡＭＳ流はカラム１３に
通され、ここでそれは生成物ＡＭＳ１４に精製される。
カラム１３からの重い物は、燃料として燃やすためにラ
イン２３に運ばれる。
粗アセトンは、まずアセトントッピングカラム８に通さ
れ、ここでアセトンの一部が分離され、そしてライン２
１を通して分解反応器４に再循環される。これは分解反
応器４において生成されるＡＭＳの希釈を提供し、それ
によって、生成されるＡＭＳ副生成物の量を減じる。次
に、粗アセトンはカラム９においてさらに精製され、ラ
イン１０において最終アセトン生成物を生成する。カラ
ム９の底部は、クメン及びＡＭＳを含む。この流れは、
ＡＭＳからクメンを分離するカラム１１に通される。ほ
とんどの従来のフェノールプラントは、精製された生成
物としてＡＭＳを回収し、又はクメンへのＡＭＳの水素
化のいづれかのために及びクメンの再循環のために設備
を有する。時々、両設備が存在する。従って、いくらか
のＡＭＳはカラム１１においてクメンと共に上方に蒸留
され得る。次に、上方への流れは、水素化反応器１２に
ライン２２を通して送られ、ここでそれは好ましくは固
定層において水素化触媒上でライン３０からの水と接触
せしめられる。供給物におけるＡＭＳはクメンに転換さ
れ、そして流出クメン流は酸化反応器１に再循環され
る。カラム１１の底部からの粗ＡＭＳ流はカラム１３に
通され、ここでそれは生成物ＡＭＳ１４に精製される。
カラム１３からの重い物は、燃料として燃やすためにラ
イン２３に運ばれる。
【００１８】粗フェノールはカラム１６に通され、ここ
でそれは多量の重い副生成物から分離される。カラム１
６からの上方フェノール流２４はカラム１７及び１８に
通され、ここでそれは精製されたフェノール生成物１９
に精製される。前記重い物はクラッキングユニット２０
にカラム１６から送られ、ここで追加のフェノール及び
ＡＭＳが得られる。それらはライン３２によりスプリッ
ター７に再循環され得る。クラッキングユニット２０か
らの残留物はライン３１における燃料に送られ；ライン
２５，２６及び２７はパージである。
でそれは多量の重い副生成物から分離される。カラム１
６からの上方フェノール流２４はカラム１７及び１８に
通され、ここでそれは精製されたフェノール生成物１９
に精製される。前記重い物はクラッキングユニット２０
にカラム１６から送られ、ここで追加のフェノール及び
ＡＭＳが得られる。それらはライン３２によりスプリッ
ター７に再循環され得る。クラッキングユニット２０か
らの残留物はライン３１における燃料に送られ；ライン
２５，２６及び２７はパージである。
【００１９】本発明者が発見したことは、触媒及び条件
の適切な選択により、通常、従来の方法の一部である、
ＡＭＳのクメンへの水素化がアセトン及びフェノール生
成物からのＡＭＳの分離の前、選択的に達成され得るこ
とである。選択的にとは、ＡＭＳがアセトン又はフェノ
ール生成物のいづれも有意に水素化しないで水素化され
得ることを意味する。本発明の目的は、実質的に二段階
ＣＨＰ分解方法であり、ここで第１段階はＡＭＳの形成
を最少にするような態様で操作され、そして第２段階は
また、ＡＭＳが第２段階において導入され、そして／又
は形成されるのと同じように早くクメンにＡＭＳを転換
するように操作される水素化反応器でもある。この態様
において、両分解段階におけるＡＭＳの濃度は常に低
く、そして結果として、ＡＭＳ副生成物（ＡＭＳポリマ
ー及びクミルフェノール）の形成がまた最少で維持され
る。
の適切な選択により、通常、従来の方法の一部である、
ＡＭＳのクメンへの水素化がアセトン及びフェノール生
成物からのＡＭＳの分離の前、選択的に達成され得るこ
とである。選択的にとは、ＡＭＳがアセトン又はフェノ
ール生成物のいづれも有意に水素化しないで水素化され
得ることを意味する。本発明の目的は、実質的に二段階
ＣＨＰ分解方法であり、ここで第１段階はＡＭＳの形成
を最少にするような態様で操作され、そして第２段階は
また、ＡＭＳが第２段階において導入され、そして／又
は形成されるのと同じように早くクメンにＡＭＳを転換
するように操作される水素化反応器でもある。この態様
において、両分解段階におけるＡＭＳの濃度は常に低
く、そして結果として、ＡＭＳ副生成物（ＡＭＳポリマ
ー及びクミルフェノール）の形成がまた最少で維持され
る。
【００２０】本発明の二段階フェノール方法のフローシ
ート又は略図が図２に示される。再び、いくらかのＤＭ
ＢＡを含むＣＨＰは、ライン２９ａからの酸素と共にラ
イン２８ａを通して導入されるクメンを一部酸化するこ
とによって反応器１ａにおいて生成される。ＣＨＰは入
口２ａを通して反応器４ａに供給され、ここでそれは入
口３ａを通して供給される酸と共に混合される。反応の
熱は、熱交換体５ａにおいて凝縮され、そして反応器に
還流されるアセトン生成物を一部煮沸することによって
除去される。この点までは、この装置（但し工程ではな
い）は従来の分解技法と同一であるが；しかしながら、
分解反応器４ａは、図１の従来の技法におけるその対応
する反応器４よりもより低い酸濃度で操作される。図１
の従来の反応器４のための典型的な条件は、１７０〜１
９０°Ｆの温度、反応体積１ｌ当たり２０〜４０ｍ当量
の水素イオンの酸濃度及び１０〜２０分の滞留時間であ
る。本発明の二段階方法の第１段階反応器４ａのための
典型的な条件は、１５０〜１９０°Ｆの温度、反応体積
１ｌ当たり約０．５（又は他の有効量）〜５ｍ当量及び
好ましくは約０．５〜１ｍ当量の水素イオンの酸濃度、
及び１０〜２０分の滞留時間である。従って、本発明の
二段階方法の第１段階は、大きさの順位又は従来の単一
段階分解反応器、よりも低い酸濃度で作動する。９５％
〜９９％のＣＨＰがフェノール及びアセトンに転換され
るが、それらの条件下でＣＨＰ転換は不完全であること
がアメリカ特許第４，３５８，６１８号にこれまで示さ
れている。本発明の方法の観点からの重要な結果は、Ａ
ＭＳへのＤＭＢＡのひじょうに少々の脱水が生じること
である。それらの条件下で、供給物におけるたった約１
０％〜２０％（一般的に２５％よりも高くない）のＤＭ
ＢＡがＡＭＳに転換される。７０％ほどのＤＭＢＡがジ
クミルペルオキシド（ＤｉＣｕｐ）を形成するためにＣ
ＨＰと組合い、そしていくらかのＤＭＢＡが未反応のま
ま存続する。もう１つの重要な結果は、少量の重い物
（ＡＭＳポリマー及びクミルフェノール）のみが形成さ
れる。
ート又は略図が図２に示される。再び、いくらかのＤＭ
ＢＡを含むＣＨＰは、ライン２９ａからの酸素と共にラ
イン２８ａを通して導入されるクメンを一部酸化するこ
とによって反応器１ａにおいて生成される。ＣＨＰは入
口２ａを通して反応器４ａに供給され、ここでそれは入
口３ａを通して供給される酸と共に混合される。反応の
熱は、熱交換体５ａにおいて凝縮され、そして反応器に
還流されるアセトン生成物を一部煮沸することによって
除去される。この点までは、この装置（但し工程ではな
い）は従来の分解技法と同一であるが；しかしながら、
分解反応器４ａは、図１の従来の技法におけるその対応
する反応器４よりもより低い酸濃度で操作される。図１
の従来の反応器４のための典型的な条件は、１７０〜１
９０°Ｆの温度、反応体積１ｌ当たり２０〜４０ｍ当量
の水素イオンの酸濃度及び１０〜２０分の滞留時間であ
る。本発明の二段階方法の第１段階反応器４ａのための
典型的な条件は、１５０〜１９０°Ｆの温度、反応体積
１ｌ当たり約０．５（又は他の有効量）〜５ｍ当量及び
好ましくは約０．５〜１ｍ当量の水素イオンの酸濃度、
及び１０〜２０分の滞留時間である。従って、本発明の
二段階方法の第１段階は、大きさの順位又は従来の単一
段階分解反応器、よりも低い酸濃度で作動する。９５％
〜９９％のＣＨＰがフェノール及びアセトンに転換され
るが、それらの条件下でＣＨＰ転換は不完全であること
がアメリカ特許第４，３５８，６１８号にこれまで示さ
れている。本発明の方法の観点からの重要な結果は、Ａ
ＭＳへのＤＭＢＡのひじょうに少々の脱水が生じること
である。それらの条件下で、供給物におけるたった約１
０％〜２０％（一般的に２５％よりも高くない）のＤＭ
ＢＡがＡＭＳに転換される。７０％ほどのＤＭＢＡがジ
クミルペルオキシド（ＤｉＣｕｐ）を形成するためにＣ
ＨＰと組合い、そしていくらかのＤＭＢＡが未反応のま
ま存続する。もう１つの重要な結果は、少量の重い物
（ＡＭＳポリマー及びクミルフェノール）のみが形成さ
れる。
【００２１】硫酸の場合、適切な水素イオン濃度は、約
２５ppm 〜約２５０ppm の硫酸（重量に基づく）により
供給される。他の均質触媒、一般的には酸に関して、そ
れらの強さはそれらのイオン化定数により計算され得
る。
２５ppm 〜約２５０ppm の硫酸（重量に基づく）により
供給される。他の均質触媒、一般的には酸に関して、そ
れらの強さはそれらのイオン化定数により計算され得
る。
【００２２】第１段階反応器４ａからの生成物は、パッ
クされたベッド反応器である第２段階反応器６ａにポン
プで送られる。ここで、粗生成物は、ライン３０ａから
の水素の存在下で水素化触媒と接触せしめられる。未反
応ＣＨＰはすぐにフェノール及びアセトンに分解する。
第１段階反応器において生成された少量のＡＭＳは、そ
れが重い物を形成するためにさらに十分な時間、反応す
る前、すばやくクメンに転換される。第１段階反応器に
おいて形成されたＤｉＣｕｐは、ＡＭＳ、フェノール及
びアセトンを形成するために、容器１ａからの反応生成
物において酸の影響下で分解される。追加の酸（図２に
おけるライン６ｂ）が、第１及び第２段階の間で添加さ
れ、ＤｉＣｕｐの分解速度が高められる。このようにし
て形成されるＡＭＳはまた、それが十分な時間、重い物
を形成する前、水素化触媒の作用によりクメンに急速に
転換される。この態様において、ＡＭＳ濃度、及びＡＭ
Ｓポリマー及びクミルフェノールの形成のための駆動力
は最少に維持される。
クされたベッド反応器である第２段階反応器６ａにポン
プで送られる。ここで、粗生成物は、ライン３０ａから
の水素の存在下で水素化触媒と接触せしめられる。未反
応ＣＨＰはすぐにフェノール及びアセトンに分解する。
第１段階反応器において生成された少量のＡＭＳは、そ
れが重い物を形成するためにさらに十分な時間、反応す
る前、すばやくクメンに転換される。第１段階反応器に
おいて形成されたＤｉＣｕｐは、ＡＭＳ、フェノール及
びアセトンを形成するために、容器１ａからの反応生成
物において酸の影響下で分解される。追加の酸（図２に
おけるライン６ｂ）が、第１及び第２段階の間で添加さ
れ、ＤｉＣｕｐの分解速度が高められる。このようにし
て形成されるＡＭＳはまた、それが十分な時間、重い物
を形成する前、水素化触媒の作用によりクメンに急速に
転換される。この態様において、ＡＭＳ濃度、及びＡＭ
Ｓポリマー及びクミルフェノールの形成のための駆動力
は最少に維持される。
【００２３】場合によっては、第２段階反応器６ａから
の生成物流の一部は、反応器４ａにおいてＡＭＳを希釈
するためにライン６ｄを通して再循環され得る。
の生成物流の一部は、反応器４ａにおいてＡＭＳを希釈
するためにライン６ｄを通して再循環され得る。
【００２４】図２の残りは、本発明の方法が、下流工程
及び生成物の回収をいかに単純にできるかを示す。図１
の従来の方法におけるように、粗生成物は、追加の加工
の前、容器６ｃにおいて中和されるべきである。これ
は、酸濃度がより低いので、２段階方法においてひじょ
うに単純化され得る。本発明の方法における酸の濃度
は、中和された粗生成物が酸抽出又は相分離を伴わない
で直接的に蒸留に送られ、酸抽出の後で通常得られるよ
りも高くない塩生成をもたらすように十分に低い。中和
の後、粗フェノール及びアセトン生成物はスプリッター
カラム７ａにおいてスプリットされる。本発明のもう１
つの利点は、それがこれまでの方法よりも相当に低いア
セトール（１−ヒドロキシ−２−プロパノン、又はヒド
ロキシアセトン）を生成し、従来のシステムに比較し
て、スプリッターカラム７ａのサイズの低下を可能にす
ることである。第１段階反応器へのアセトン再循環はも
はや必要とはされないので、アセトントッピングカラム
（図１におけるカラム８）はもはや必要ではない。アセ
トンはカラム９ａにおいて純粋な生成物に精製され、そ
してライン１０ａにおいて回収される。そのいくらか
は、反応器４ａにおけるＡＭＳの濃度を希釈するため
に、ライン１０ｂを通して再循環され得る。カラム９ａ
からの底部流はクメン及びいくらかの重い物を含む。そ
の重い物はカラム１１ａにおいてクメンから分離され、
そしてクメン再循環流１２ａは酸化反応器１ａに再循環
される。ＡＭＳ生成物カラム（図１におけるカラム１
３）はもはや、必要とはされない。カラム７ａからの粗
フェノール流はカラム１３ａに送られ、ここで多量の重
い物がライン３１ａにおいて除去される。ＡＭＳポリマ
ー及びクミルフェノールの量は従来の方法におけるより
もより低いので、重い最終物のクラッキング（図１にお
けるクラッキングユニット２０）は、一部の経済に依存
して任意であるように思われる。従来の方法におけるよ
うに、粗フェノールはカラム１４ａ及び１５ａにおいて
さらに精製され、純粋なフェノール生成物が１６ａで得
られる。従って、２段階分解方法は、他の利点の中で、
２つの蒸留カラム及び生成物回収領域における重い最終
物のクラッキングの排除をもたらし、そして酸抽出を減
じ又は排除し、そしてスプリッターカラムの縮小をもた
らす。
及び生成物の回収をいかに単純にできるかを示す。図１
の従来の方法におけるように、粗生成物は、追加の加工
の前、容器６ｃにおいて中和されるべきである。これ
は、酸濃度がより低いので、２段階方法においてひじょ
うに単純化され得る。本発明の方法における酸の濃度
は、中和された粗生成物が酸抽出又は相分離を伴わない
で直接的に蒸留に送られ、酸抽出の後で通常得られるよ
りも高くない塩生成をもたらすように十分に低い。中和
の後、粗フェノール及びアセトン生成物はスプリッター
カラム７ａにおいてスプリットされる。本発明のもう１
つの利点は、それがこれまでの方法よりも相当に低いア
セトール（１−ヒドロキシ−２−プロパノン、又はヒド
ロキシアセトン）を生成し、従来のシステムに比較し
て、スプリッターカラム７ａのサイズの低下を可能にす
ることである。第１段階反応器へのアセトン再循環はも
はや必要とはされないので、アセトントッピングカラム
（図１におけるカラム８）はもはや必要ではない。アセ
トンはカラム９ａにおいて純粋な生成物に精製され、そ
してライン１０ａにおいて回収される。そのいくらか
は、反応器４ａにおけるＡＭＳの濃度を希釈するため
に、ライン１０ｂを通して再循環され得る。カラム９ａ
からの底部流はクメン及びいくらかの重い物を含む。そ
の重い物はカラム１１ａにおいてクメンから分離され、
そしてクメン再循環流１２ａは酸化反応器１ａに再循環
される。ＡＭＳ生成物カラム（図１におけるカラム１
３）はもはや、必要とはされない。カラム７ａからの粗
フェノール流はカラム１３ａに送られ、ここで多量の重
い物がライン３１ａにおいて除去される。ＡＭＳポリマ
ー及びクミルフェノールの量は従来の方法におけるより
もより低いので、重い最終物のクラッキング（図１にお
けるクラッキングユニット２０）は、一部の経済に依存
して任意であるように思われる。従来の方法におけるよ
うに、粗フェノールはカラム１４ａ及び１５ａにおいて
さらに精製され、純粋なフェノール生成物が１６ａで得
られる。従って、２段階分解方法は、他の利点の中で、
２つの蒸留カラム及び生成物回収領域における重い最終
物のクラッキングの排除をもたらし、そして酸抽出を減
じ又は排除し、そしてスプリッターカラムの縮小をもた
らす。
【００２５】従来の方法に比べて比較的温和な反応条件
下で作動することによって及びまた、第２段階反応器に
おける水素化段階の結果として、他の副生成物、たとえ
ばアセトール及び色彩形成体がひじょうに減じられる。
これは、図２に示される精製段階を単純化し、そして純
粋な生成物の回収をもたらす。
下で作動することによって及びまた、第２段階反応器に
おける水素化段階の結果として、他の副生成物、たとえ
ばアセトール及び色彩形成体がひじょうに減じられる。
これは、図２に示される精製段階を単純化し、そして純
粋な生成物の回収をもたらす。
【００２６】他の２段階方法と区別できる本発明の２段
階方法の特徴は、第２段階反応器におけるＡＭＳの水素
化である。本発明の方法の成功の１つのキーは、所望す
る生成物、すなわちアセトン及びフェノールの水素化を
伴わないで、反応器においてクメンに形成されるＡＭＳ
の実質的にすべてをすばやく水素化することである。比
較的容易にＡＭＳは水素化されるために、ＡＭＳの選択
的水素化は、かなり広範囲の条件にわたって達成され得
る。一定の水素化触媒に関しては、これらの条件は適切
な実験により決定され得る。本発明の方法の成功への第
２のキーは、ＡＭＳが水素化される速度とＡＭＳがＤＭ
ＢＡの脱水及びＤｉＣｕｐの分解から形成される速度と
の間で適切なバランスを維持することである。ＡＭＳが
水素化される速度は、高い量のＡＭＳ副生成物の形成を
導びく第２段階反応器におけるＡＭＳの発生を妨げるた
めに、ＡＭＳが形成される速度に少なくとも等しいか、
及び好ましくはその速度よりも早くあるべきである。し
かしながら、一定条件下で、ＤｉＣｕｐは第２段階反応
器において水素化され得ることが見出された。
階方法の特徴は、第２段階反応器におけるＡＭＳの水素
化である。本発明の方法の成功の１つのキーは、所望す
る生成物、すなわちアセトン及びフェノールの水素化を
伴わないで、反応器においてクメンに形成されるＡＭＳ
の実質的にすべてをすばやく水素化することである。比
較的容易にＡＭＳは水素化されるために、ＡＭＳの選択
的水素化は、かなり広範囲の条件にわたって達成され得
る。一定の水素化触媒に関しては、これらの条件は適切
な実験により決定され得る。本発明の方法の成功への第
２のキーは、ＡＭＳが水素化される速度とＡＭＳがＤＭ
ＢＡの脱水及びＤｉＣｕｐの分解から形成される速度と
の間で適切なバランスを維持することである。ＡＭＳが
水素化される速度は、高い量のＡＭＳ副生成物の形成を
導びく第２段階反応器におけるＡＭＳの発生を妨げるた
めに、ＡＭＳが形成される速度に少なくとも等しいか、
及び好ましくはその速度よりも早くあるべきである。し
かしながら、一定条件下で、ＤｉＣｕｐは第２段階反応
器において水素化され得ることが見出された。
【００２７】ＤｉＣｕｐが水素化される場合、それは２
モルのＤＭＢＡを形成する。その２モルのＤＭＢＡは続
いて、２モルのクメンに水素化される２モルのＡＭＳを
形成するために脱水される。この態様において、１モル
のＤｉＣｕｐが２モルのクメンに転換される。ＤｉＣｕ
ｐがＣＨＰとＤＭＢＡを組合すことによって形成される
第１段階反応を考慮する場合、ＤｉＣｕｐの水素化の全
体の効果は元のＣＨＰ供給物からの１モルのＤＭＢＡ及
び１モルのＣＨＰの２モルのクメンへの転換である。ク
メンへのＤＭＢＡの転換が所望される場合、ＣＨＰをク
メンに転換することは所望されない。本発明の方法の全
体の収率に影響を及ぼさない場合、それは余分な水素利
用及び追加のクメンの回収及び再循環に関するエネルギ
ー費用に関して本発明の方法に追加の費用を提供する。
従って、ＤｉＣｕｐの水素化を最少にしながら、第２段
階反応器において最少の可能なＡＭＳの濃度を維持する
ことが所望される。
モルのＤＭＢＡを形成する。その２モルのＤＭＢＡは続
いて、２モルのクメンに水素化される２モルのＡＭＳを
形成するために脱水される。この態様において、１モル
のＤｉＣｕｐが２モルのクメンに転換される。ＤｉＣｕ
ｐがＣＨＰとＤＭＢＡを組合すことによって形成される
第１段階反応を考慮する場合、ＤｉＣｕｐの水素化の全
体の効果は元のＣＨＰ供給物からの１モルのＤＭＢＡ及
び１モルのＣＨＰの２モルのクメンへの転換である。ク
メンへのＤＭＢＡの転換が所望される場合、ＣＨＰをク
メンに転換することは所望されない。本発明の方法の全
体の収率に影響を及ぼさない場合、それは余分な水素利
用及び追加のクメンの回収及び再循環に関するエネルギ
ー費用に関して本発明の方法に追加の費用を提供する。
従って、ＤｉＣｕｐの水素化を最少にしながら、第２段
階反応器において最少の可能なＡＭＳの濃度を維持する
ことが所望される。
【００２８】第２段階反応器６ａにおけるＤｉＣｕｐの
水素化は、ＤｉＣｕｐの酸触媒された分解の速度とこの
分解から形成されるＡＭＳの水素化の速度との間での所
望するバランスを付与するためにその工程のパラメータ
ーの適切な調節により最少にされ得る。高い水素化活性
がＤｉＣｕｐの実質的な水素化を導びく場合、低い水素
化活性が第２段階反応器において高いレベルのＡＭＳを
導びき、そして従って、重い物の高い形成を導びくであ
ろう。水素化活性は、使用される水素化触媒のタイプ及
び量、支持材料、水素流量及び圧力、及び温度並びに水
素濃度及び圧力を変えることによって調節され得る。Ｄ
ｉＣｕｐの酸触媒された分解の速度は、使用される酸触
媒のタイプ及び量並びにその温度を変えることによって
調節され得る。酸触媒の量は、ＤｉＣｕｐの分解速度を
早めるために段階間で追加の酸触媒（図２におけるライ
ン６ｂ）を添加することによって変えられ得る。分解速
度を早めるもう１つの手段は、水素化触媒のための酸性
支持体（たとえば超酸、樹脂又はシリカ／アルミナ）を
用いることによってである。これは、下流の処理に関し
て便利である、粗生成物においてひじょうに低い均質の
酸レベルを維持することの追加の利点を有する。 "超
酸" とは、濃硫酸よりも強い酸システムとして一般的に
文献に記載されるような "超酸" 触媒を意味する。支持
材料の酸度が高まるにつれて、ＤｉＣｕｐの分解速度は
早まるであろう。結果として、ＡＭＳの水素化の速度
は、ＡＭＳの早められた速度と歩調を合わせるために早
められるべきである。
水素化は、ＤｉＣｕｐの酸触媒された分解の速度とこの
分解から形成されるＡＭＳの水素化の速度との間での所
望するバランスを付与するためにその工程のパラメータ
ーの適切な調節により最少にされ得る。高い水素化活性
がＤｉＣｕｐの実質的な水素化を導びく場合、低い水素
化活性が第２段階反応器において高いレベルのＡＭＳを
導びき、そして従って、重い物の高い形成を導びくであ
ろう。水素化活性は、使用される水素化触媒のタイプ及
び量、支持材料、水素流量及び圧力、及び温度並びに水
素濃度及び圧力を変えることによって調節され得る。Ｄ
ｉＣｕｐの酸触媒された分解の速度は、使用される酸触
媒のタイプ及び量並びにその温度を変えることによって
調節され得る。酸触媒の量は、ＤｉＣｕｐの分解速度を
早めるために段階間で追加の酸触媒（図２におけるライ
ン６ｂ）を添加することによって変えられ得る。分解速
度を早めるもう１つの手段は、水素化触媒のための酸性
支持体（たとえば超酸、樹脂又はシリカ／アルミナ）を
用いることによってである。これは、下流の処理に関し
て便利である、粗生成物においてひじょうに低い均質の
酸レベルを維持することの追加の利点を有する。 "超
酸" とは、濃硫酸よりも強い酸システムとして一般的に
文献に記載されるような "超酸" 触媒を意味する。支持
材料の酸度が高まるにつれて、ＤｉＣｕｐの分解速度は
早まるであろう。結果として、ＡＭＳの水素化の速度
は、ＡＭＳの早められた速度と歩調を合わせるために早
められるべきである。
【００２９】実際、ＡＭＳの水素化速度とＤｉＣｕｐの
分解速度との間のバランスは、ＤＭＢＡ及びＤＭＢＡ由
来の副生成物（すなわちＡＭＳポリマー、クミルフェノ
ール及びクメン）の質量バランスをモニターすることに
よってモニターされる。第１段階反応器４ａへのＣＨＰ
供給２ａは、ＣＨＰ供給物に入るＤＭＢＡの合計モル流
量を決定するために液体クロマトグラフィーにより分析
される。第２段階反応器６ａからの流出液は、この反応
器を去るＡＭＳポリマー、クミルフェノール及びクメン
の合計モル流量を決定するためにガスクロマトグラフィ
ーにより分析される。ＤＭＢＡの等モル流量は、それら
の３種の成分の個々のモル流量を加えることによって決
定される。ＡＭＳポリマーのモル流量は、２モルのＤＭ
ＢＡが１モルのポリマー（ポリマーは主に二量体から成
る）を形成するために必要とされるので、２倍である。
所望する操作条件下で、ＡＭＳ及びＤｉＣｕｐは、第２
段階反応器からの流出液におけるＤＭＢＡの等モル流量
がＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡのモル流量に等しいよ
うに実質的に完全に転換される。水素化速度がＤｉＣｕ
ｐの分解速度に比較して遅い場合、これは第２段階反応
器６ａにおけるＡＭＳの発生を導びき、そして第２段階
反応器からの流出液における多量のＡＭＳポリマー及び
クミルフェノールをもたらすであろう。他方、水素化の
速度がＤｉＣｕｐの分解速度に対して速過ぎる場合、い
くらかのＤｉＣｕｐが水素化され、追加のＤＭＢＡが形
成される。従って、第２段階反応器からの流出液におい
て測定されるＤＭＢＡの等モル流量は、第１段階反応器
へのＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡよりも多いであろ
う。それらのモル流量の差異は、水素化されるＤｉＣｕ
ｐの量の測定である。上記のように、適切な工程パラメ
ーターは、所望する生成物の収率（すなわち重い物の最
少化）とＤｉＣｕｐの水素化からの余分なクメンの形成
との間で所望するバランスを維持するように調節され得
る。その最適バランスは、経済的考慮の関数（すなわち
再循環する余分なクメンの費用及び余分な水素消化の費
用に対する追加の収率の値）である。
分解速度との間のバランスは、ＤＭＢＡ及びＤＭＢＡ由
来の副生成物（すなわちＡＭＳポリマー、クミルフェノ
ール及びクメン）の質量バランスをモニターすることに
よってモニターされる。第１段階反応器４ａへのＣＨＰ
供給２ａは、ＣＨＰ供給物に入るＤＭＢＡの合計モル流
量を決定するために液体クロマトグラフィーにより分析
される。第２段階反応器６ａからの流出液は、この反応
器を去るＡＭＳポリマー、クミルフェノール及びクメン
の合計モル流量を決定するためにガスクロマトグラフィ
ーにより分析される。ＤＭＢＡの等モル流量は、それら
の３種の成分の個々のモル流量を加えることによって決
定される。ＡＭＳポリマーのモル流量は、２モルのＤＭ
ＢＡが１モルのポリマー（ポリマーは主に二量体から成
る）を形成するために必要とされるので、２倍である。
所望する操作条件下で、ＡＭＳ及びＤｉＣｕｐは、第２
段階反応器からの流出液におけるＤＭＢＡの等モル流量
がＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡのモル流量に等しいよ
うに実質的に完全に転換される。水素化速度がＤｉＣｕ
ｐの分解速度に比較して遅い場合、これは第２段階反応
器６ａにおけるＡＭＳの発生を導びき、そして第２段階
反応器からの流出液における多量のＡＭＳポリマー及び
クミルフェノールをもたらすであろう。他方、水素化の
速度がＤｉＣｕｐの分解速度に対して速過ぎる場合、い
くらかのＤｉＣｕｐが水素化され、追加のＤＭＢＡが形
成される。従って、第２段階反応器からの流出液におい
て測定されるＤＭＢＡの等モル流量は、第１段階反応器
へのＣＨＰ供給物におけるＤＭＢＡよりも多いであろ
う。それらのモル流量の差異は、水素化されるＤｉＣｕ
ｐの量の測定である。上記のように、適切な工程パラメ
ーターは、所望する生成物の収率（すなわち重い物の最
少化）とＤｉＣｕｐの水素化からの余分なクメンの形成
との間で所望するバランスを維持するように調節され得
る。その最適バランスは、経済的考慮の関数（すなわち
再循環する余分なクメンの費用及び余分な水素消化の費
用に対する追加の収率の値）である。
【００３０】硫酸は従来の分解反応器に使用するための
最っとも通常的な触媒であり、そして本発明者もまたそ
れを好む。しかしながら、アメリカ特許第４，３５８，
６１８号に教授されるように、次の他の触媒が第１段階
反応器において同じ又は類似する結果を得るために使用
され得る：二酸化硫黄、過塩素酸、トルエンスルホン酸
及びルュイス酸、たとえば三弗化硼素又は塩化アルミニ
ウム。不均質酸触媒でさえ、第１段階反応器に使用され
得る。同じ結果により、ＣＨＰのフェノール及びアセト
ンへの９５〜９９％の転換率が示唆され、そしてＤＭＢ
ＡのＡＭＳへのたった２５％の転換率が示唆される。特
定の酸の強度は、それらの結果を達成するために必要と
される酸の量を決定するであろう。個々の酸に関して
は、これは適切な実験により決定され得る。
最っとも通常的な触媒であり、そして本発明者もまたそ
れを好む。しかしながら、アメリカ特許第４，３５８，
６１８号に教授されるように、次の他の触媒が第１段階
反応器において同じ又は類似する結果を得るために使用
され得る：二酸化硫黄、過塩素酸、トルエンスルホン酸
及びルュイス酸、たとえば三弗化硼素又は塩化アルミニ
ウム。不均質酸触媒でさえ、第１段階反応器に使用され
得る。同じ結果により、ＣＨＰのフェノール及びアセト
ンへの９５〜９９％の転換率が示唆され、そしてＤＭＢ
ＡのＡＭＳへのたった２５％の転換率が示唆される。特
定の酸の強度は、それらの結果を達成するために必要と
される酸の量を決定するであろう。個々の酸に関して
は、これは適切な実験により決定され得る。
【００３１】パラジウム触媒は、第２段階反応器におい
て十分に作動することが見出されてるが、しかし他の水
素化触媒、たとえば白金、ルテニウム及び銅が同様に使
用され得る。上記に概略されたように、一定の触媒に関
しては、工程パラメーターは、ＡＭＳ水素化とＤｉＣｕ
ｐ分解との間で所望するバランスを得るために調節され
るべきである。パラジウム触媒は、次の範囲の条件のた
めに良く作動した：１５０〜２５０°Ｆの温度、５〜１
０ｌ／時／ｌ触媒の１時間当たりの液体空間速度（ＬＨ
ＳＶ）、５０〜１５０psigの水素圧及び第１段階反応器
４ａへの元の供給物におけるＤＭＢＡのモル流量の１〜
４倍の水素モル流量。他の水素化触媒に関しては、本発
明の方法の条件は、適切な実験により決定され得るが、
しかしパラジウムについての条件とはひじょうに異なる
ことが予測され得ない。
て十分に作動することが見出されてるが、しかし他の水
素化触媒、たとえば白金、ルテニウム及び銅が同様に使
用され得る。上記に概略されたように、一定の触媒に関
しては、工程パラメーターは、ＡＭＳ水素化とＤｉＣｕ
ｐ分解との間で所望するバランスを得るために調節され
るべきである。パラジウム触媒は、次の範囲の条件のた
めに良く作動した：１５０〜２５０°Ｆの温度、５〜１
０ｌ／時／ｌ触媒の１時間当たりの液体空間速度（ＬＨ
ＳＶ）、５０〜１５０psigの水素圧及び第１段階反応器
４ａへの元の供給物におけるＤＭＢＡのモル流量の１〜
４倍の水素モル流量。他の水素化触媒に関しては、本発
明の方法の条件は、適切な実験により決定され得るが、
しかしパラジウムについての条件とはひじょうに異なる
ことが予測され得ない。
【００３２】ＤｉＣｕｐが反応スケムから完全に排除さ
れる操作のもう１つの態様がまた発見された。この操作
態様によれば、第１段階反応器は、第１段階においてＣ
ＨＰの実質的に完全な分解をもたらすために高い最終酸
濃度範囲（０．５〜１ｍ当量の代わりに反応体積１ｌ当
たり３〜５ｍ当量の水素イオン）で操作される。硫酸に
関しては、その濃度は、約８３〜約８９％のＣＨＰ、約
７〜約１０％のクメン、約３．５〜約５．５％のＤＭＢ
Ａ及び約０．５〜約１．５％のアセトフェノンを含んで
成るＣＨＰ供給物に基づいて約１００ppm 〜約２００pp
m である。比較的高い酸濃度のそれらの条件下で、Ｄｉ
Ｃｕｐは形成されない。通常、このタイプの操作は、多
量のＡＭＳ形成の結果として第１段階において多量の重
い物の形成を導びき；しかしながら、形成されたＡＭＳ
が希釈され、そして従って、重い物の形成が第１段階反
応器に戻る第２段階反応器からの流出液の一部を再循環
することによって最少化される。すべてのＡＭＳは第２
段階においてクメンに転換されるので、再循環流はＡＭ
Ｓを含まない。この手段において、第１段階におけるＡ
ＭＳはより低い濃度に希釈され、従って形成される重い
物の量を減じる。この態様での操作により、ＣＨＰの分
解及びＡＭＳの水素化は完全に分離される（すなわち、
すべてのＣＨＰは第１段階において分解され、そしてす
べてのＡＭＳは第２段階において水素化される）。ＣＨ
Ｐ又はＤｉＣｕｐは第２段階に通らないので、ＣＨＰ又
はＤｉＣｕｐの水素化は完全に排除される。この最適な
再循環操作態様は、図２の流れ６ｄにより例示され、点
線として示される。
れる操作のもう１つの態様がまた発見された。この操作
態様によれば、第１段階反応器は、第１段階においてＣ
ＨＰの実質的に完全な分解をもたらすために高い最終酸
濃度範囲（０．５〜１ｍ当量の代わりに反応体積１ｌ当
たり３〜５ｍ当量の水素イオン）で操作される。硫酸に
関しては、その濃度は、約８３〜約８９％のＣＨＰ、約
７〜約１０％のクメン、約３．５〜約５．５％のＤＭＢ
Ａ及び約０．５〜約１．５％のアセトフェノンを含んで
成るＣＨＰ供給物に基づいて約１００ppm 〜約２００pp
m である。比較的高い酸濃度のそれらの条件下で、Ｄｉ
Ｃｕｐは形成されない。通常、このタイプの操作は、多
量のＡＭＳ形成の結果として第１段階において多量の重
い物の形成を導びき；しかしながら、形成されたＡＭＳ
が希釈され、そして従って、重い物の形成が第１段階反
応器に戻る第２段階反応器からの流出液の一部を再循環
することによって最少化される。すべてのＡＭＳは第２
段階においてクメンに転換されるので、再循環流はＡＭ
Ｓを含まない。この手段において、第１段階におけるＡ
ＭＳはより低い濃度に希釈され、従って形成される重い
物の量を減じる。この態様での操作により、ＣＨＰの分
解及びＡＭＳの水素化は完全に分離される（すなわち、
すべてのＣＨＰは第１段階において分解され、そしてす
べてのＡＭＳは第２段階において水素化される）。ＣＨ
Ｐ又はＤｉＣｕｐは第２段階に通らないので、ＣＨＰ又
はＤｉＣｕｐの水素化は完全に排除される。この最適な
再循環操作態様は、図２の流れ６ｄにより例示され、点
線として示される。
【００３３】重い物の形成におけるさらに追加の低下
は、第２段階に酸性支持体を使用し、そして上記再循環
態様で操作することにより達成され得る。酸性支持体の
使用は、少量のＣＨＰが未反応のまま存続し、そして少
量のＤｉＣｕｐが形成されるであろう、酸濃度範囲の低
い方の端での第１段階の操作を可能にする。第２段階に
おける条件の最適な調節（すなわち上記のような水素化
及び酸性活性の均等化）は、第２段階におけるＤｉＣｕ
ｐのクメン、フェノール及びアセトンへの選択的転換を
もたらすであろう。２つの段階における条件の適切なバ
ランスは、最少の重い物の形成を導びく酸濃度及びＡＭ
Ｓの最少の組合せを導びく。反応器条件のバランシング
のための方法は、上記（すなわちＤＭＢＡバランスに基
づく）と同じである。
は、第２段階に酸性支持体を使用し、そして上記再循環
態様で操作することにより達成され得る。酸性支持体の
使用は、少量のＣＨＰが未反応のまま存続し、そして少
量のＤｉＣｕｐが形成されるであろう、酸濃度範囲の低
い方の端での第１段階の操作を可能にする。第２段階に
おける条件の最適な調節（すなわち上記のような水素化
及び酸性活性の均等化）は、第２段階におけるＤｉＣｕ
ｐのクメン、フェノール及びアセトンへの選択的転換を
もたらすであろう。２つの段階における条件の適切なバ
ランスは、最少の重い物の形成を導びく酸濃度及びＡＭ
Ｓの最少の組合せを導びく。反応器条件のバランシング
のための方法は、上記（すなわちＤＭＢＡバランスに基
づく）と同じである。
【００３４】本発明は次の例により例示されるであろ
う： 装置：２段階分解／水素化方法の卓上規模変法が実験室
で設定され、ここで図２の成分２ａ，３ａ，４ａ，５
ａ，６ａ，６ｂ，６ｃ及び３０ａが包含される。そのユ
ニットは、第１段階にＣＨＰを送出すための供給タンク
及びポンプ、第１段階に硫酸触媒を送出すための供給ビ
ュレット及びポンプ、第１段階のための一体型アセトン
凝縮器を有する１００mlのジャケット付きバック−ミッ
クス反応器、段階間でのトランスファーポンプ、第２段
階のためのジャケット付き直径１／２インチの反応器及
び第２反応器のための水素送出システムから構成され
た。水槽が、第１段階反応器を加熱するために使用さ
れ、そして油槽が第２段階反応器を加熱するために使用
された。真空コントローラーが、温度を調節するために
第１段階反応器に供給され、そして圧力コントローラー
が水素圧を調節するために第２段階反応器に供給され
た。収集容器が、個々の反応器からの流出液を収集し、
そしてサンプリングするために供給された。
う： 装置：２段階分解／水素化方法の卓上規模変法が実験室
で設定され、ここで図２の成分２ａ，３ａ，４ａ，５
ａ，６ａ，６ｂ，６ｃ及び３０ａが包含される。そのユ
ニットは、第１段階にＣＨＰを送出すための供給タンク
及びポンプ、第１段階に硫酸触媒を送出すための供給ビ
ュレット及びポンプ、第１段階のための一体型アセトン
凝縮器を有する１００mlのジャケット付きバック−ミッ
クス反応器、段階間でのトランスファーポンプ、第２段
階のためのジャケット付き直径１／２インチの反応器及
び第２反応器のための水素送出システムから構成され
た。水槽が、第１段階反応器を加熱するために使用さ
れ、そして油槽が第２段階反応器を加熱するために使用
された。真空コントローラーが、温度を調節するために
第１段階反応器に供給され、そして圧力コントローラー
が水素圧を調節するために第２段階反応器に供給され
た。収集容器が、個々の反応器からの流出液を収集し、
そしてサンプリングするために供給された。
【００３５】
【実施例】例１ 第１段階反応器を、次の条件下で操作した： 温度 １７７°Ｆ 滞留時間 １２分 酸濃度 ０．１重量％ 再循環アセトン 供給 これらの条件は、単一段階の従来のＣＨＰ分解反応器を
操作するための最適条件を表わす。従って、この試験の
結果は、２段階方法の利点を判断する基本を確立するよ
うに思われた。これまでの試験は、実験室での反応器と
十分な規模のプラント反応器との間で卓越した調和を示
した。
操作するための最適条件を表わす。従って、この試験の
結果は、２段階方法の利点を判断する基本を確立するよ
うに思われた。これまでの試験は、実験室での反応器と
十分な規模のプラント反応器との間で卓越した調和を示
した。
【００３６】種々の操作態様の結果を比較するための便
利な方法は、フェノール生成物１００ポンド当たりに生
成される廃棄生成物のポンドを計算することである。そ
の結果は、ＡＭＳ（ＡＭＳ二量体及びクミルフェノー
ル）、他の軽い物（ＤＭＢＡよりも軽い）及びＡＭＳに
は直接的に関係しない他の重いもの（ＤＭＢＡよりも重
い）に直接的に関連する廃棄物に分けられるであろう。
さらに、アセトールは、それがフェノール精製において
重要な役割を演じるので、別々に列挙されるであろう。
利な方法は、フェノール生成物１００ポンド当たりに生
成される廃棄生成物のポンドを計算することである。そ
の結果は、ＡＭＳ（ＡＭＳ二量体及びクミルフェノー
ル）、他の軽い物（ＤＭＢＡよりも軽い）及びＡＭＳに
は直接的に関係しない他の重いもの（ＤＭＢＡよりも重
い）に直接的に関連する廃棄物に分けられるであろう。
さらに、アセトールは、それがフェノール精製において
重要な役割を演じるので、別々に列挙されるであろう。
【００３７】基本ケースについての結果は下記に列挙さ
れる： 廃棄物 フェノール１００ポンド当たりのポンド ＡＭＳ二量体 １．５３ クミルフェノール １．５０ アセトール ０．３１ 他の軽い物 ０．１７ 他の重い物 １．９８ 合計 ５．４９
れる： 廃棄物 フェノール１００ポンド当たりのポンド ＡＭＳ二量体 １．５３ クミルフェノール １．５０ アセトール ０．３１ 他の軽い物 ０．１７ 他の重い物 １．９８ 合計 ５．４９
【００３８】例２ 例１と同じ装置を用いて、第２段階反応器を、炭素顆粒
（２０〜７０メッシュ）上０．５％Pdを含んで成る水素
化触媒６０ml（３４．６ｇ）により充填した。触媒はＥ
ｎｇｌｅｈａｒｄから得られ、そして市販の触媒であ
る。触媒は、９０℃及び１００psigで数時間、触媒上に
水素を流すことによって還元された。
（２０〜７０メッシュ）上０．５％Pdを含んで成る水素
化触媒６０ml（３４．６ｇ）により充填した。触媒はＥ
ｎｇｌｅｈａｒｄから得られ、そして市販の触媒であ
る。触媒は、９０℃及び１００psigで数時間、触媒上に
水素を流すことによって還元された。
【００３９】第１段階反応器を次の条件で操作した：１
atm 、１８９°Ｆ、３１ppm の硫酸、供給物中、１１．
１重量％のアセトン及び１５分の滞留時間。第２段階反
応器における条件は次の通りであった：９２psigの水素
圧、２００°Ｆ、４．２ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ、及び
４４２sccmの水素流。
atm 、１８９°Ｆ、３１ppm の硫酸、供給物中、１１．
１重量％のアセトン及び１５分の滞留時間。第２段階反
応器における条件は次の通りであった：９２psigの水素
圧、２００°Ｆ、４．２ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ、及び
４４２sccmの水素流。
【００４０】定常状態の結果が基本試験に比較して下記
に列挙される： 廃棄物 フェノール１００ポンド当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．３７ クミルフェノール ０．７７ アセトール ０．１６ 他の軽い物 ０．３４ 他の重い物 ２．１１ 合計 ３．７５ ＣＨＰからのクメン ４．３３
に列挙される： 廃棄物 フェノール１００ポンド当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．３７ クミルフェノール ０．７７ アセトール ０．１６ 他の軽い物 ０．３４ 他の重い物 ２．１１ 合計 ３．７５ ＣＨＰからのクメン ４．３３
【００４１】合計の廃棄生成物における３０％以上の還
元は、第２段階反応器においてＡＭＳを水素化すること
によってもたらされたことが見出され得る。ＡＭＳ二量
体及びクミルフェノールを、基本実験において得られる
量の約１／３に減じる。
元は、第２段階反応器においてＡＭＳを水素化すること
によってもたらされたことが見出され得る。ＡＭＳ二量
体及びクミルフェノールを、基本実験において得られる
量の約１／３に減じる。
【００４２】第１段階反応器からの未反応ＣＨＰの水素
化から得られるクメンの量がまた、その結果に列挙され
る。これは、それが余分な水素消費を必要とするので、
２段階方法のために追加の費用を示す、この数は、２段
階方法間の比較の追加の点として使用されるであろう。
化から得られるクメンの量がまた、その結果に列挙され
る。これは、それが余分な水素消費を必要とするので、
２段階方法のために追加の費用を示す、この数は、２段
階方法間の比較の追加の点として使用されるであろう。
【００４３】例３ 第２段階反応器を、１／１６インチのアルミナ球体上、
０．５重量％のPdから成る水素化触媒５０ml（４５．８
ｇ）により充填した。触媒をＣａｌｓｉｃａｔから得、
そしてそれは市販されている。触媒を水素と共に１５０
℃及び１００psigで一晩、還元した。
０．５重量％のPdから成る水素化触媒５０ml（４５．８
ｇ）により充填した。触媒をＣａｌｓｉｃａｔから得、
そしてそれは市販されている。触媒を水素と共に１５０
℃及び１００psigで一晩、還元した。
【００４４】第１段階反応器は、次の条件で作動され
た：１atm 、１８９°Ｆ、２５ppm の硫酸、供給物にお
ける１１．１重量％のアセトン及び１５分の滞留時間。
第２段階反応器における条件は次の通りである：１０５
psigの水素圧、２４８°Ｆ、５．０ｌ／時／ｌ触媒ＬＨ
ＳＶ、及び２８６sccmの水素流量。
た：１atm 、１８９°Ｆ、２５ppm の硫酸、供給物にお
ける１１．１重量％のアセトン及び１５分の滞留時間。
第２段階反応器における条件は次の通りである：１０５
psigの水素圧、２４８°Ｆ、５．０ｌ／時／ｌ触媒ＬＨ
ＳＶ、及び２８６sccmの水素流量。
【００４５】定常状態結果は下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．２９ クミルフェノール ０．４６ アセトール ０．１３ 他の軽い物 ０．６５ 他の重い物 １．５９ 合計 ３．１２ ＣＨＰからのクメン ６．４０
【００４６】４３％の合計廃棄生成物における減少が達
成され、そしてＡＭＳ二量体及びクミルフェノールが基
本の場合の１／４に低められた。しかしながら、ＣＨＰ
のクメンへの転換率は、炭素支持体上Pdにより得られた
転換率よりも高かった。
成され、そしてＡＭＳ二量体及びクミルフェノールが基
本の場合の１／４に低められた。しかしながら、ＣＨＰ
のクメンへの転換率は、炭素支持体上Pdにより得られた
転換率よりも高かった。
【００４７】例４ この試験は、例３の触媒と同じ触媒により行なわれた。
第１段階の条件は次の通りであった：１atm 、１８８．
４°Ｆ、１７ppm の硫酸、供給物にはアセトンは存在し
ない及び１５分の滞留時間。第２段階における条件は次
の通りであった：１００psigの水素圧、２５１．０°
Ｆ、５．０ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ及び２８６sccmの水
素流量。
第１段階の条件は次の通りであった：１atm 、１８８．
４°Ｆ、１７ppm の硫酸、供給物にはアセトンは存在し
ない及び１５分の滞留時間。第２段階における条件は次
の通りであった：１００psigの水素圧、２５１．０°
Ｆ、５．０ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ及び２８６sccmの水
素流量。
【００４８】定常状態の結果は下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドのフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．３９ クミルフェノール ０．８０ アセトール ０．１６ 他の軽い物 ０．５５ 他の重い物 １．３４ 合計 ３．２４ ＣＨＰからのクメン ４．７８
【００４９】廃棄生成物の合計量は、例３におけるのと
ほぼ同じであった。しかしながら、供給物でのアセトン
希釈なしに操作することによって、ＡＭＳ二量体及び特
にクミルフェノールが例３におけるそれらのレベルから
高まった。ＣＨＰのクメンへの水素化は、例３に比較し
て著しく減じられた。
ほぼ同じであった。しかしながら、供給物でのアセトン
希釈なしに操作することによって、ＡＭＳ二量体及び特
にクミルフェノールが例３におけるそれらのレベルから
高まった。ＣＨＰのクメンへの水素化は、例３に比較し
て著しく減じられた。
【００５０】例５ この試験は、例３の触媒と同じ触媒により行なわれた。
第１段階の条件は次の通りであった：１atm 、１８９．
５°Ｆ、６２ppm の硫酸、供給物における１１．１重量
％のアセトン及び１５分の滞留時間。第２段階における
条件は次の通りであった：１００psigの水素圧、２４３
°Ｆ、７．６ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ及び２９０sccmの
水素流量。
第１段階の条件は次の通りであった：１atm 、１８９．
５°Ｆ、６２ppm の硫酸、供給物における１１．１重量
％のアセトン及び１５分の滞留時間。第２段階における
条件は次の通りであった：１００psigの水素圧、２４３
°Ｆ、７．６ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ及び２９０sccmの
水素流量。
【００５１】定常状態の結果が下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドのフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．３５ クミルフェノール ０．６４ アセトール ０．１９ 他の軽い物 ０．８８ 他の重い物 １．０７ 合計 ３．１３ ＣＨＰからのクメン ３．４８
【００５２】廃棄生成物における低下は例３のものとほ
ぼ同じであった。しかしながら、第１段階におけるより
高い酸濃及び第２段階におけるより短い滞留時間で操作
することによって、ＣＨＰのクメンへの水素化は、例３
で得られた水素化からほぼ１／２にさらに減じられた。
ぼ同じであった。しかしながら、第１段階におけるより
高い酸濃及び第２段階におけるより短い滞留時間で操作
することによって、ＣＨＰのクメンへの水素化は、例３
で得られた水素化からほぼ１／２にさらに減じられた。
【００５３】例６ これまで述べられた例は、いくらかのＣＨＰの追加のク
メンへの水素化を犠牲にして、従来の単一段階技法から
の廃棄生成物の実質的な低下を示して来た。ＡＭＳ水素
化の速度とＣＨＰ分解の速度とを適切にバランス良くす
ることによって、ＣＨＰのクメンへの転換が減じられ得
る。これが達成され得る１つの手段は、酸性支持体上で
水素化触媒を支持することによってである。
メンへの水素化を犠牲にして、従来の単一段階技法から
の廃棄生成物の実質的な低下を示して来た。ＡＭＳ水素
化の速度とＣＨＰ分解の速度とを適切にバランス良くす
ることによって、ＣＨＰのクメンへの転換が減じられ得
る。これが達成され得る１つの手段は、酸性支持体上で
水素化触媒を支持することによってである。
【００５４】そのような触媒は、 "超酸" 支持体を用い
て実験室において調製された。その支持材料は、硫酸と
酸化ジルコニウムとを反応せしめ、そして次に６００℃
以上の温度で焼成することによって調製された。次にこ
の材料は１重量％のPdにより含浸された。第２段階反応
器は、この触媒４１．５ml（５６ｇ）により充填され
た。この触媒は、１５０℃及び１００psigで水素により
一晩、還元された。
て実験室において調製された。その支持材料は、硫酸と
酸化ジルコニウムとを反応せしめ、そして次に６００℃
以上の温度で焼成することによって調製された。次にこ
の材料は１重量％のPdにより含浸された。第２段階反応
器は、この触媒４１．５ml（５６ｇ）により充填され
た。この触媒は、１５０℃及び１００psigで水素により
一晩、還元された。
【００５５】第１段階反応器は次の条件で操作された：
１atm 、１８６．５°Ｆ、４６ppmの硫酸、供給物にお
ける１１．１重量％のアセトン、及び１３．３分の滞留
時間。第２段階の条件は次の通りであった：１００psig
の水素圧、１８０°Ｆ、４．８ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ
及び７５sccmの水素流量。
１atm 、１８６．５°Ｆ、４６ppmの硫酸、供給物にお
ける１１．１重量％のアセトン、及び１３．３分の滞留
時間。第２段階の条件は次の通りであった：１００psig
の水素圧、１８０°Ｆ、４．８ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ
及び７５sccmの水素流量。
【００５６】定常状態の結果が下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドのフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．４７ クミルフェノール ０．８０ アセトール ０．１４ 他の軽い物 ０．２７ 他の重い物 １．６７ 合計 ３．３７ ＣＨＰからのクメン ０．８８
【００５７】廃棄生成物の量は、例３で得られた量より
もわずかに多い。しかしながら、ＣＨＰのクメンへの水
素化は、例３で得られた水素化のたった１４％に減じら
れ、そしてそれは十分に低く、通常経済的影響はほとん
ど受けない。
もわずかに多い。しかしながら、ＣＨＰのクメンへの水
素化は、例３で得られた水素化のたった１４％に減じら
れ、そしてそれは十分に低く、通常経済的影響はほとん
ど受けない。
【００５８】例７ 上記例において、廃棄生成物の低下は、第１段階反応器
におけるＡＭＳ濃度を最少にすることによって達成され
た。しかしながら、これは、第２段階反応器においてク
メンに一部水素化されるＣＨＰの不完全な転換をもたら
した。ＣＨＰのクメンへの転換を完全に排除するための
手段は、実質的にすべてのＣＨＰがこの段階において反
応される条件下で第１段階反応器を操作することであ
る。しかしながら、これは通常、ＡＭＳの高い濃度及び
続いて、廃棄生成物の高い収率を導びくであろう。
におけるＡＭＳ濃度を最少にすることによって達成され
た。しかしながら、これは、第２段階反応器においてク
メンに一部水素化されるＣＨＰの不完全な転換をもたら
した。ＣＨＰのクメンへの転換を完全に排除するための
手段は、実質的にすべてのＣＨＰがこの段階において反
応される条件下で第１段階反応器を操作することであ
る。しかしながら、これは通常、ＡＭＳの高い濃度及び
続いて、廃棄生成物の高い収率を導びくであろう。
【００５９】両目的（廃棄物の低下及びＣＨＰ水素化の
排除）を達成するためには、第２段階反応器からの出口
の一部は、第１段階反応器においてＡＭＳ濃度を希釈す
るために、その第１段階反応器に再循環され得る。これ
は図２（ライン６ｄ）に例示される。第１段階反応器へ
の供給速度よりもより早い処理量で第２段階反応器を操
作することによって、第１段階反応器におけるＡＭＳの
所望する希釈が達成され得る。この態様においては、Ａ
ＭＳ濃度は、ＣＨＰの転換の程度に関係なく減じられ
る。従って、第１段階反応器は、ＣＨＰの実質的に完全
な転換を付与するのに十分な条件下で操作され得る。
排除）を達成するためには、第２段階反応器からの出口
の一部は、第１段階反応器においてＡＭＳ濃度を希釈す
るために、その第１段階反応器に再循環され得る。これ
は図２（ライン６ｄ）に例示される。第１段階反応器へ
の供給速度よりもより早い処理量で第２段階反応器を操
作することによって、第１段階反応器におけるＡＭＳの
所望する希釈が達成され得る。この態様においては、Ａ
ＭＳ濃度は、ＣＨＰの転換の程度に関係なく減じられ
る。従って、第１段階反応器は、ＣＨＰの実質的に完全
な転換を付与するのに十分な条件下で操作され得る。
【００６０】第２段階反応器は、例３の触媒と同じ触媒
により充填された。第１段階反応器は次の条件下で操作
された：１atm 、１８７．１°Ｆ、１５０ppm の硫酸、
供給物における１１．１重量％のアセトン及び１５分の
滞留時間（供給物の流量に基づく）。第２段階反応器は
次の条件下で作動された：９０psigの水素圧、１８２．
１°Ｆ、１６ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ、及び１８４sccm
の水素流量。これらの条件下で、第２段階を通しての流
量は、第１段階への新鮮な供給物の流量の２倍であっ
た。
により充填された。第１段階反応器は次の条件下で操作
された：１atm 、１８７．１°Ｆ、１５０ppm の硫酸、
供給物における１１．１重量％のアセトン及び１５分の
滞留時間（供給物の流量に基づく）。第２段階反応器は
次の条件下で作動された：９０psigの水素圧、１８２．
１°Ｆ、１６ｌ／時／ｌ触媒ＬＨＳＶ、及び１８４sccm
の水素流量。これらの条件下で、第２段階を通しての流
量は、第１段階への新鮮な供給物の流量の２倍であっ
た。
【００６１】定常状態の結果は下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドのフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．５５ クミルフェノール ０．９１ アセトール ０．１３ 他の軽い物 ０．２６ 他の重い物 １．６２ 合計 ３．５０ ＣＨＰからのクメン ０．００
【００６２】第１段階反応器における条件下で、実質的
にすべてのＣＨＰが転換された。結果として、第２段階
においてＣＨＰのクメンへの水素化は存在しなかった。
第２段階からの流れを再循環することによって第１段階
でのＡＭＳの希釈は、廃棄生成物の実質的な低下をもた
らしたが、但し廃棄物の量は例３におけるよりもわずか
に多かった。
にすべてのＣＨＰが転換された。結果として、第２段階
においてＣＨＰのクメンへの水素化は存在しなかった。
第２段階からの流れを再循環することによって第１段階
でのＡＭＳの希釈は、廃棄生成物の実質的な低下をもた
らしたが、但し廃棄物の量は例３におけるよりもわずか
に多かった。
【００６３】例８ 例６においては "二重機能" 触媒が、第２段階における
ＤｉＣｕｐの分解速度とＡＭＳの水素化速度との間でバ
ランスを確立するために使用された。このバランスを確
立するための他の手段は、より多くの酸を添加すること
によって第２段階反応器における酸レベルを調節するこ
とである（図２のライン６ｂ）。いくらかのＡＭＳが第
１段階において形成されるので、酸添加の前、このＡＭ
Ｓをクメンに水素化することが所望される。他方、第２
段階における高い酸レベルは、このＡＭＳの重い物への
過剰の転換をもたらす。これは、ベッド間への酸の添加
により触媒の２つのベッドに第２段階を分割することに
よって行なわれ得る。第１ベッドは小さく、そして第１
段階からのＡＭＳを水素化するために十分な接触時間を
提供する。無視できる量のＤｉＣｕｐがこのベッドにお
いて転換される。多くの酸触媒が、ベッド間に添加さ
れ、この第２ベッドにおけるＤｉＣｕｐの分解速度が早
められる。
ＤｉＣｕｐの分解速度とＡＭＳの水素化速度との間でバ
ランスを確立するために使用された。このバランスを確
立するための他の手段は、より多くの酸を添加すること
によって第２段階反応器における酸レベルを調節するこ
とである（図２のライン６ｂ）。いくらかのＡＭＳが第
１段階において形成されるので、酸添加の前、このＡＭ
Ｓをクメンに水素化することが所望される。他方、第２
段階における高い酸レベルは、このＡＭＳの重い物への
過剰の転換をもたらす。これは、ベッド間への酸の添加
により触媒の２つのベッドに第２段階を分割することに
よって行なわれ得る。第１ベッドは小さく、そして第１
段階からのＡＭＳを水素化するために十分な接触時間を
提供する。無視できる量のＤｉＣｕｐがこのベッドにお
いて転換される。多くの酸触媒が、ベッド間に添加さ
れ、この第２ベッドにおけるＤｉＣｕｐの分解速度が早
められる。
【００６４】このスケムによれば、２種の触媒ベッド
は、アルミナ上０．５重量％のPd触媒により充填され
た。これは、例３で使用された同じ触媒である。第１ベ
ッドは、１０ml（８．４１ｇ）の触媒を含み、そして第
２ベッドは７２．５ml（６７．３３ｇ）の触媒を含ん
だ。連結細管を有する圧縮された供給タンクが、２種の
ベッドの触媒間に酸を添加するために用いられた。
は、アルミナ上０．５重量％のPd触媒により充填され
た。これは、例３で使用された同じ触媒である。第１ベ
ッドは、１０ml（８．４１ｇ）の触媒を含み、そして第
２ベッドは７２．５ml（６７．３３ｇ）の触媒を含ん
だ。連結細管を有する圧縮された供給タンクが、２種の
ベッドの触媒間に酸を添加するために用いられた。
【００６５】第１段階の条件は次の通りであった：１at
m 、１８７°Ｆ、５３ppm の硫酸、供給物における１
１．１重量％のアセトン、及び１３．３分の滞留時間。
第２段階の条件は次の通りであった：１００psigの水素
圧、１９４°Ｆ、第２触媒ベッドにおいて１１５０ppm
の硫酸、第１触媒ベッドにおいて４０／時のＬＨＳＶ、
第２触媒ベッドにおいて５．５／時のＬＨＳＶ及び７５
sccmの水素流量。
m 、１８７°Ｆ、５３ppm の硫酸、供給物における１
１．１重量％のアセトン、及び１３．３分の滞留時間。
第２段階の条件は次の通りであった：１００psigの水素
圧、１９４°Ｆ、第２触媒ベッドにおいて１１５０ppm
の硫酸、第１触媒ベッドにおいて４０／時のＬＨＳＶ、
第２触媒ベッドにおいて５．５／時のＬＨＳＶ及び７５
sccmの水素流量。
【００６６】定常状態の結果が下記に列挙される： 廃棄物 １００ポンドのフェノール当たりのポンド ＡＭＳ二量体 ０．２５ クミルフェノール ０．７１ アセトール ０．１７ 他の軽い物 ０．４３ 他の重い物 １．５９ 合計 ３．１５ ＣＨＰからのクメン １．１６
【００６７】その結果は、例６における "二重機能" 触
媒により得られた結果に匹敵する。ベッド間に添加され
る酸の量は、Pd触媒の水素化活性が時間と共に変化する
につれて調節され得る。しかしながら、ＤｉＣｕｐを分
解するために第２触媒ベッドにおいて必要とされる酸レ
ベルは、典型的な単一段階ＣＨＰ分解のために必要とさ
れるレベルとほぼ同じレベルである。
媒により得られた結果に匹敵する。ベッド間に添加され
る酸の量は、Pd触媒の水素化活性が時間と共に変化する
につれて調節され得る。しかしながら、ＤｉＣｕｐを分
解するために第２触媒ベッドにおいて必要とされる酸レ
ベルは、典型的な単一段階ＣＨＰ分解のために必要とさ
れるレベルとほぼ同じレベルである。
【００６８】従って、本発明は、クメンからフェノール
及びアセトンを製造するための方法であって、ここで前
記方法は、均質酸触媒溶液１ｌ当たりたった約５ｍ量の
水素イオンの存在下で第１段階反応領域において副生成
物としてジメチルベンジルアルコール（ＤＭＢＡ）を含
むクメンヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）を分解し、それ
によってフェノール、アセトン及びＤＭＢＡの脱水から
のたった約１．２重量％のαメチルスチレン並びにＣＨ
Ｐと多くのＤＭＢＡを組合すことによるジクミルペルオ
キシド（ＤｉＣｕｐ）を生成し；前記第１段階反応領域
の生成物と水素とお水素化触媒の存在下で接触せしめ、
前記αメチルスチレン副生成物の少なくとも一部及び好
ましくはすべてをクメンに水素化し、そして同時に、Ｄ
ｉＣｕｐをアセトン、フェノール及びＡＭＳに分解し、
ここで前記ＡＭＳはまたクメンに水素化され、そしてそ
のようにして接触された反応生成物からフェノール及び
アセトンを回収し、同時にクメンを再循環し、クメンヒ
ドロペルオキシドを生成することを含んで成る。
及びアセトンを製造するための方法であって、ここで前
記方法は、均質酸触媒溶液１ｌ当たりたった約５ｍ量の
水素イオンの存在下で第１段階反応領域において副生成
物としてジメチルベンジルアルコール（ＤＭＢＡ）を含
むクメンヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）を分解し、それ
によってフェノール、アセトン及びＤＭＢＡの脱水から
のたった約１．２重量％のαメチルスチレン並びにＣＨ
Ｐと多くのＤＭＢＡを組合すことによるジクミルペルオ
キシド（ＤｉＣｕｐ）を生成し；前記第１段階反応領域
の生成物と水素とお水素化触媒の存在下で接触せしめ、
前記αメチルスチレン副生成物の少なくとも一部及び好
ましくはすべてをクメンに水素化し、そして同時に、Ｄ
ｉＣｕｐをアセトン、フェノール及びＡＭＳに分解し、
ここで前記ＡＭＳはまたクメンに水素化され、そしてそ
のようにして接触された反応生成物からフェノール及び
アセトンを回収し、同時にクメンを再循環し、クメンヒ
ドロペルオキシドを生成することを含んで成る。
【図１】これは単一段階ＣＨＰ分解に基づく従来のフェ
ノール工程のフローシートである。
ノール工程のフローシートである。
【図２】これは本発明の二段階フェノール工程のフロー
シートである。
シートである。
１…酸化反応器 ４…バック−ミックス分解反応器 ６…酸中和器 ７…スプリッターカラム ８…アセトントッピングカラム ２０…クラッキングユニット ４ａ…反応器 ６ａ…第２段階反応器 ６ｃ…容器 ７ａ…スプリッターカラム
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 49/08 Ａ 7188−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 アライン エー．シュッツ アメリカ合衆国，ペンシルバニア，ウェス トモアランド カウンティ，ペン タウン シップ（番地なし)
Claims (31)
- 【請求項１】 ジメチルベンジルアルコール（ＤＭＢ
Ａ）を含む、クメンヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）から
フェノール及びアセトンを製造するための方法であっ
て、第１段階反応体積を有する第１段階反応領域にＤＭ
ＢＡを含むＣＨＰを供給し、それと反応体積１ｌ当たり
約５ｍ当量までの水素イオンの有効量を供給する酸触媒
とを接触することによって前記第１段階反応におけるＣ
ＨＰ少なくとも９５％を分解し、それによって（ａ）フ
ェノール、（ｂ）アセトン、（ｃ）前記第１段階反応体
積の内容物に基づいて約１．２重量％までの、ＤＭＢＡ
の脱水によるαメチルスチレン（ＡＭＳ）、（ｄ）残留
ＤＭＢＡ、（ｅ）ＣＨＰ及びＤＭＢＡの組合せによるジ
クミルペルオキシド（ＤｉＣｕｐ）、及び（ｆ）残留Ｃ
ＨＰを含む第１段階反応混合物を生成し、第２段階反応
領域において前記第１段階反応混合物と水素とお水素化
触媒の存在下で同時に接触し、ＡＭＳをクメンに水素化
し、又はその後、前記第１段階反応混合物と酸触媒とを
接触し、残量ＣＨＰをフェノール及びアセトンに分解
し、残量ＤＭＢＡをＡＭＳに脱水し、そしてＤｉＣｕｐ
をアセトン、フェノール及びＡＭＳに分解し、そして前
記第２段階反応領域の生成物からフェノール及びアセト
ンを回収することを含んで成る方法。 - 【請求項２】 前記酸触媒が硫酸である請求項１記載の
方法。 - 【請求項３】 前記酸触媒が二酸化硫黄である請求項１
記載の方法。 - 【請求項４】 前記酸触媒が過塩素酸である請求項１記
載の方法。 - 【請求項５】 前記酸触媒がトルエンスルホン酸である
請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 前記酸触媒がルュイス酸である請求項１
記載の方法。 - 【請求項７】 前記水素化触媒が支持されたパラジウム
触媒である請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 前記水素化触媒のための支持体が酸性で
ある請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 前記水素化触媒のための支持体が炭素で
ある請求項７記載の方法。 - 【請求項１０】 前記水素化触媒のための支持体がアル
ミナである請求項７記載の方法。 - 【請求項１１】 水素が、前記第１段階反応領域へのＣ
ＨＰ供給物におけるＤＭＢＡのモル流量の約１〜４倍の
割合で前記第２段階反応領域に添加される請求項７記載
の方法。 - 【請求項１２】 前記第１段階反応混合物における硫酸
濃度が約３０〜５０パートパーミリオン（ppm)である請
求項２記載の方法。 - 【請求項１３】 前記第１段階反応領域における酸濃度
が第１段階反応混合物１ｌ当たり約０．５〜約１．０ｍ
当量の水素イオンを供給する請求項１記載の方法。 - 【請求項１４】 前記硫酸の濃度が、クメンヒドロペル
オキシド供給物１ｌ当たり約３〜約７ｍ当量の水素イオ
ンを供給する請求項２記載の方法。 - 【請求項１５】 前記第１段階反応領域における滞留時
間が約１０〜約２０分である請求項１記載の方法。 - 【請求項１６】 前記第２段階反応領域の前記生成物か
ら回収されるアセトンの少なくとも一部が前記第１段階
反応領域に再循環される請求項１記載の方法。 - 【請求項１７】 前記第２段階反応領域の生成物からク
メンを分離し、クメンヒドロペルオキシドを製造するた
めに酸化領域に前記クメンを再循環し、そして前記第１
段階反応領域に前記クメンヒドロペルオキシドを供給す
ることを包含する請求項１記載の方法。 - 【請求項１８】 クメンの酸化により製造されるクメン
ヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）からフェノール及びアセ
トンを製造するための方法であって、クメンの酸化によ
り製造されたＣＨＰ供給物を第１反応領域に供給し、前
記第１反応領域における前記ＣＨＰと有効量の酸触媒と
を接触することによって前記ＣＨＰをフェノール及びア
セトンに分解し、前記第１反応領域からの、αメチルス
チレン及び残留ＣＨＰを含む生成物流と第２反応領域に
おける水素とを、酸性支持体上の水素化触媒の存在下で
接触し、それによって第２反応領域におけるαメチルス
チレンをクメンに水素化し、そして残留ＣＨＰをアセト
ン及びフェノールに分解し、前記第２反応領域の反応生
成分の一部を前記第１反応領域に再循環し、そして前記
第２反応領域からフェノール及びアセトンを回収するこ
とを含んで成る方法。 - 【請求項１９】 前記第２反応領域の前記反応生成物の
少なくとも約５０％が前記第１反応領域に再循環される
請求項１８記載の方法。 - 【請求項２０】 前記第２反応領域の前記反応生成物の
約６６〜約７５％が前記第１反応領域に再循環される請
求項１８記載の方法。 - 【請求項２１】 前記水素化触媒がパラジウムである請
求項１８記載の方法。 - 【請求項２２】 前記ＣＨＰ供給物が、ＣＨＰ約８３〜
約８９重量％、クメン約７〜約１０重量％、ジメチルベ
ンジルアルコール（ＤＭＢＡ）約３．５〜約５．５重量
％及びアセトフェノン約０．５〜約１．５重量％を含ん
で成る請求項１８記載の方法。 - 【請求項２３】 前記水素が、前記ＣＨＰ供給物におけ
るＤＭＢＡ濃度の約１〜４倍の濃度で前記第２反応領域
に維持される請求項１８記載の方法。 - 【請求項２４】 前記酸触媒が硫酸である請求項１８記
載の方法。 - 【請求項２５】 前記硫酸が維持される請求項２４記載
の方法。 - 【請求項２６】 クメンの酸化により製造されるクメン
ヒドロペルオキシド（ＣＨＰ）からフェノール及びアセ
トンを製造するための方法であって、クメンの酸化によ
り製造された、ＣＨＰ約８３〜約８９重量％、クメン約
７〜約１０重量％、ジメチルベンジルアルコール（ＤＭ
ＢＡ）約３．５〜約５．５重量％及びアセトフェノン約
０．５〜約１．５重量％を含んで成るＣＨＰ供給物を第
１反応領域に供給し、前記第１反応領域における前記Ｃ
ＨＰとＣＨＰ供給量に基づいて約５０ppm 〜約２５０pp
m の硫酸とを接触することによって前記ＣＨＰをフェノ
ール及びアセトンに分解し、前記第１反応領域からの、
αメチルスチレン及び約１．２重量％までのＣＨＰを含
む生成物流と第２反応領域における水素とを、酸性支持
体上に支持された水素化触媒の存在下で接触し、それに
よって第２反応領域におけるαメチルスチレンをクメン
に水素化し、そして同時に、残留ＣＨＰをフェノール及
びアセトンに分解し、そして前記第２反応領域からフェ
ノール及びアセトンを回収することを含んで成る方法。 - 【請求項２７】 フェノール及びアセトンの製造方法で
あって、クメンヒドロペルオキシドをフェノール及びア
セトンに分解するために、クメンヒドロペルオキシド
と、クメンヒドロペルオキシド１ｌ当たり約７ｍ当量ま
での量の水素イオン触媒とを接触し、それによって第１
反応混合物を形成し、その後、前記第１反応混合物と水
素とを水素化触媒の存在下で接触し、第２反応混合物を
形成し、そして前記第２反応混合物からフェノール及び
アセトンを回収することを含んで成る方法。 - 【請求項２８】 前記水素イオン触媒が硫酸により供給
される請求項２７記載の方法。 - 【請求項２９】 前記第２反応混合物が、残留クメンヒ
ドロペルオキシドを分解するために酸触媒によりさらに
処理される請求項２７記載の方法。 - 【請求項３０】 前記水素イオン触媒が流体酸により供
給される請求項２７記載の方法。 - 【請求項３１】 前記水素化触媒がパラジウムであり、
そして水素が前記ＣＨＰにおけるＤＭＢＡのモル数の１
〜４倍のモル量で前記第２反応混合物に存在する請求項
２７記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/943,666 US5245090A (en) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | Two-stage cleavage of cumene hydroperoxide |
| US943666 | 1992-09-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06192151A true JPH06192151A (ja) | 1994-07-12 |
| JP2951510B2 JP2951510B2 (ja) | 1999-09-20 |
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ID=25480057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5222977A Expired - Fee Related JP2951510B2 (ja) | 1992-09-11 | 1993-09-08 | クメンヒドロペルオキシドの二段階分解 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5245090A (ja) |
| JP (1) | JP2951510B2 (ja) |
| CA (1) | CA2105637C (ja) |
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| WO2005030743A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | プロピレンオキサイドの製造方法 |
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| JP2015017058A (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-29 | 三井化学株式会社 | フェノールの精製方法 |
| JP2023510675A (ja) * | 2020-12-21 | 2023-03-15 | エルジー・ケム・リミテッド | α－メチルスチレンの製造方法 |
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| CN114515549A (zh) * | 2020-11-18 | 2022-05-20 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种预加氢反应系统、预加氢反应方法和应用 |
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-
1993
- 1993-09-07 CA CA002105637A patent/CA2105637C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-08 JP JP5222977A patent/JP2951510B2/ja not_active Expired - Fee Related
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