JPH06195014A - Holographic recording material and volume phase hologram manufacturing method using the same - Google Patents
Holographic recording material and volume phase hologram manufacturing method using the sameInfo
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- JPH06195014A JPH06195014A JP34653892A JP34653892A JPH06195014A JP H06195014 A JPH06195014 A JP H06195014A JP 34653892 A JP34653892 A JP 34653892A JP 34653892 A JP34653892 A JP 34653892A JP H06195014 A JPH06195014 A JP H06195014A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】優れた感度を示すホログラム記録材料およびそ
れを用いた体積位相型ホログラムの製造方法を提供する
ことを目的とする。
【構成】ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上
のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
1個以上有する化合物(B)、テトラベンゾポルフィリ
ン誘導体(C)とスルホニウム有機ホウ素錯体(D)と
の組合せによりなるホログラム材料と、該ホログラム記
録材料をホログラム露光の後、光および(または)熱を
加える体積位相型ホログラムの製造方法。
【効果】本発明に依り、長波長領域に渡って高感度で、
化学的に安定であり、かつ高解像度、高回折効率、高透
明性を有する体積位相型ホログラムを簡便に製造するこ
とが可能となる。(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to provide a hologram recording material having excellent sensitivity and a method for producing a volume phase hologram using the hologram recording material. [Structure] Polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, and tetrabenzo A hologram material comprising a combination of a porphyrin derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D), and a method for producing a volume phase hologram in which light and / or heat is applied after hologram exposure of the hologram recording material. [Effect] According to the present invention, with high sensitivity over a long wavelength region,
It is possible to easily manufacture a volume phase hologram that is chemically stable, has high resolution, high diffraction efficiency, and high transparency.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、化学的安定性や耐環境
特性に優れ、長波長領域において高い感度特性を持ち、
且つ解像度、回折効率及び透明性に優れたホログラム記
録材料及びそれを用いた簡便な体積位相型ホログラムの
製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention has excellent chemical stability and environmental resistance, and has high sensitivity in the long wavelength region.
The present invention also relates to a hologram recording material having excellent resolution, diffraction efficiency and transparency, and a simple method for producing a volume phase hologram using the hologram recording material.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、ホログラム記録用材料として、漂
白処理銀塩および重クロム酸ゼラチン系の感光材料が一
般に使用されてきた。しかし、これを用いたホログラム
材料は、ともに煩雑な湿式現像処理を必要とし、さらに
解像度または耐環境特性、例えば耐湿性、耐候性に劣る
という問題点を有していた。2. Description of the Related Art Conventionally, bleached silver salt and dichromated gelatin type photosensitive materials have been generally used as hologram recording materials. However, the hologram material using this material has a problem that it requires complicated wet development processing and is inferior in resolution or environment resistance characteristics such as humidity resistance and weather resistance.
【0003】この様な問題点を解決すべく、フォトポリ
マーを用いたホログラム記録材料が提案されている。例
えば特公昭62−22152号公報においては、2個以
上のエチレン性不飽和結合を有する多官能単量体、非架
橋性の重合体および開始剤との組み合わせを特徴とする
ホログラム記録材料が開示されている。当該公知技術に
従えば、回折効率、解像度及び耐環境特性などの点にお
いて優れたホログラムを製造することができるが、長波
長領域における感度特性に劣る、あるいはホログラムの
製造において湿式処理工程を採用しているなどの製造上
の煩雑性、また、溶媒浸漬操作時に生じる空隙やひび割
れに起因する現像むらや、白化による透明性の低下など
の問題が生じるなどの欠点を有していた。また、使用さ
れる重合体が非架橋性であるために、硬化膜の強度に劣
るという欠点があった。In order to solve such a problem, a hologram recording material using a photopolymer has been proposed. For example, Japanese Patent Publication No. 62-22152 discloses a hologram recording material characterized by a combination of a polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated bonds, a non-crosslinkable polymer and an initiator. ing. According to the known technique, it is possible to manufacture a hologram that is excellent in terms of diffraction efficiency, resolution, environment resistance, etc., but it is inferior in sensitivity characteristics in the long wavelength region, or a wet treatment process is adopted in hologram manufacturing. However, there are drawbacks such as complications in production such as the occurrence of defects, uneven development caused by voids and cracks generated during the solvent immersion operation, and deterioration of transparency due to whitening. Further, since the polymer used is non-crosslinkable, the strength of the cured film is inferior.
【0004】長波長領域における感度特性を向上させる
ために、テトラベンゾポルフィリン類およびその金属錯
体と電子受容性ラジカル発生剤との組合わせからなる光
重合開始剤と、ポリ−N−ビニルカルバゾールおよび重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物からなるホログラム記録用感光材料が、特開
平3−278082号公報にて開示されている。当該材
料によれば、耐環境特性に優れ、且つ高解像度、高回折
効率を兼ね備えた体積位相型ホログラムを製造すること
が可能であるが、白化による透明性の低下を抑制するこ
とが望まれた。In order to improve the sensitivity characteristics in the long wavelength region, a photopolymerization initiator comprising a combination of tetrabenzoporphyrins and their metal complexes with an electron-accepting radical generator, poly-N-vinylcarbazole and polymerization. A photosensitive material for hologram recording comprising a compound having at least one possible ethylenically unsaturated bond is disclosed in JP-A-3-278082. According to the material, it is possible to manufacture a volume phase hologram having excellent environment resistance properties, high resolution, and high diffraction efficiency, but it is desired to suppress deterioration of transparency due to whitening. .
【0005】一方、ホログラムの製造工程において複雑
なあるいは煩雑な湿式処理工程を必要としない、唯一の
処理工程として干渉露光のみでホログラムを製造するこ
とが可能なフォトポリマーを使ったホログラム記録材料
(および)あるいはその製造法が開示されている。例え
ば、特開平2−3081号公報あるいは特開平2−30
82号公報においては、ポリマーあるいはモノマーのど
ちらか一方が芳香環あるいはハロゲン原子を含む置換基
を有することを特徴とする熱可塑性ポリマーと液体エチ
レン性モノマー、及び光開始剤から構成されるホログラ
ム記録用光重合性組成物及び屈折率画像用エレメントが
開示されている。この公知技術に従えば、高回折効率、
高解像度、耐環境特性及び透明性に優れたホログラムが
製造されることが、SPIE「Practical H
olography IV」,第1212巻,30頁
(1990年)及び「Journal of Imag
ing Science」,第35巻,19頁及び25
頁(1991年)にて実証されている。しかしながら、
該ホログラム記録材料の長波長領域における感度特性
は、数100mJ/cm2 オーダーであり、ホログラム
の複製において露光時間を短縮するため感度特性をより
一層向上させることが望まれた。On the other hand, a hologram recording material using a photopolymer (and a hologram recording material using a photopolymer capable of manufacturing a hologram only by interference exposure as the only processing step, which does not require a complicated or complicated wet processing step in the hologram manufacturing step (and ) Or its manufacturing method is disclosed. For example, JP-A-2-3081 or JP-A-2-30
No. 82, for hologram recording comprising a thermoplastic polymer characterized in that either the polymer or the monomer has a substituent containing an aromatic ring or a halogen atom, a liquid ethylenic monomer, and a photoinitiator. Photopolymerizable compositions and refractive index imaging elements are disclosed. According to this known technique, high diffraction efficiency,
The fact that holograms with high resolution, environmental resistance, and transparency are manufactured is characterized by the fact that SPIE “Practical H
volography IV, 1212, 30 (1990) and "Journal of Image".
ing Science ", Volume 35, pages 19 and 25.
Page (1991). However,
The sensitivity characteristic of the hologram recording material in the long wavelength region is on the order of several hundred mJ / cm 2 , and it has been desired to further improve the sensitivity characteristic in order to shorten the exposure time in hologram replication.
【0006】また、特開平2−51188号公報におい
ては、屈折率に差がある分子内に1個以上の重合性炭素
−炭素二重結合を有する化合物の複数からなるホログラ
ム用組成物が開示されてる。この公知技術に従えば、煩
雑な処理工程を必要としない高解像度及び高回折効率の
ホログラムが製造されるが、分子内に1個以上の重合性
炭素−炭素二重結合を有する化合物の一つとして、ガラ
ス転移温度の低いウレタンアクリレートを使用している
ため、ホログラムの耐熱特性において劣るという欠点を
有していた。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-51188 discloses a hologram composition comprising a plurality of compounds having at least one polymerizable carbon-carbon double bond in a molecule having different refractive indexes. It's According to this known technique, a hologram with high resolution and high diffraction efficiency which does not require complicated processing steps can be produced, but one of the compounds having one or more polymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule is produced. As a result, since urethane acrylate having a low glass transition temperature is used, it has a drawback that the heat resistance of the hologram is inferior.
【0007】さらに、特開平3−36582号公報及び
特開平3−249785号公報においては、屈折率と重
合性の違うアリルモノマーとアクリルモノマーとを組み
合わせることを特徴とするホログラム記録材料が開示さ
れている。この公知技術に従えば、高い回折効率の体積
位相型ホログラムが製造可能であることは、「ホログラ
フィック・ディスプレイ研究会会報」,第10巻,第1
号,3頁(1990年)にて実証されている。しかしな
がら、該公知技術においては、流動性を有するモノマー
を主成分として使用しているため、ホログラム露光前に
加熱処理をするなどの感光膜の流動性を抑制するための
処理を予め行う必要があり、操作が煩雑になったり、膜
厚の制御が難しいなどの欠点を有していた。Further, Japanese Patent Laid-Open Nos. 3-36582 and 3-249785 disclose hologram recording materials which are characterized by combining an allyl monomer and an acrylic monomer having different refractive indices and polymerizability. There is. According to this known technique, it is possible to manufacture a volume phase hologram with high diffraction efficiency, "Holographic Display Research Group Bulletin", Vol. 10, No. 1.
Issue, page 3 (1990). However, in the known technique, since a monomer having fluidity is used as a main component, it is necessary to previously perform a treatment for suppressing fluidity of the photosensitive film such as heat treatment before hologram exposure. However, it has drawbacks such as complicated operation and difficulty in controlling the film thickness.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐環境特性
に優れ、また長波長領域において高感度、且つ解像度、
回折効率及び透明性において優れた特性を持つホログラ
ム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの簡
便な製造方法を提供するものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has excellent environment resistance characteristics, high sensitivity in a long wavelength region, and high resolution.
It is intended to provide a hologram recording material having excellent properties in diffraction efficiency and transparency and a simple method for producing a volume phase hologram using the hologram recording material.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、耐環境特性
に優れ、解像度、回折効率、透明性及び感度特性に優れ
たホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホロ
グラムの簡便な製造方法を提供する。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a hologram recording material having excellent environmental resistance, resolution, diffraction efficiency, transparency and sensitivity, and a simple method for producing a volume phase hologram using the hologram recording material. provide.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
点を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
本発明に至ったものである。Means for Solving the Problems In consideration of the above points, the present inventors have made earnest studies to achieve the above object, and as a result,
The present invention has been achieved.
【0011】すなわち、第一の発明は、ビニルモノマー
の単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重
合体である高分子化合物(A)、重合可能なエチレン性
不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物(B)、
テトラベンゾポルフィリン誘導体(C)及びスルホニウ
ム有機ホウ素錯体(D)の組み合わせを含むことを特徴
とするホログラム記録材料である。第二の発明は、ビニ
ルモノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモノ
マーの共重合体である高分子化合物(A)が、架橋可能
な(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とするホ
ログラム記録材料である。第三の発明は、ビニルモノマ
ーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共
重合体である高分子化合物(A)の屈折率と、重合可能
なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化
合物(B)の屈折率との屈折率差が0.005以上であ
ることを特徴とする第一発明記載のホログラム記録材料
である。第四の発明は、ビニルモノマーの単一重合体ま
たは2成分以上のビニルモノマーの共重合体である高分
子化合物(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも1個以上有する化合物(B)、テトラベンゾポ
ルフィリン誘導体(C)およびスルホニウム有機ホウ素
錯体(D)の組合せを含むことを特徴とするホログラム
記録材料を用いてホログラムを作成するに当たって、該
ホログラム記録材料をホログラム露光したのち、光およ
び(または)熱を加えることを特徴とする体積位相型ホ
ログラムの製造方法である。That is, the first invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. A compound (B) having
A hologram recording material containing a combination of a tetrabenzoporphyrin derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D). A second invention is a hologram recording characterized in that the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, has a crosslinkable (meth) acryloyl group. It is a material. A third invention has a refractive index of a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. The hologram recording material according to the first invention is characterized in that the refractive index difference from the refractive index of the compound (B) is 0.005 or more. A fourth invention is a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. In producing a hologram using a hologram recording material comprising a combination of a tetrabenzoporphyrin derivative (C) and a sulfonium organoboron complex (D), the hologram recording material is exposed to light and ( Or) A method for manufacturing a volume phase hologram characterized by applying heat.
【0012】以下、詳細にわたって本発明を説明する。The present invention will be described in detail below.
【0013】先ず、本発明で使用されるビニルモノマー
の単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重
合体である高分子化合物(A)を例示する。この様なビ
ニルモノマーの重合体としては、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t
ert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、2−メチルブ
チル、3−メチルブチル、2−エチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、2−エチルヘキシル、2−メチルペン
チル、シクロヘキシル、アダマンチル、イソボルニル、
ジシクロペンタニル、テトラヒドロフルフリールなどの
鎖状、分枝状及び環状アルキルの(メタ)アクリル酸エ
ステルモノマーの重合体、2−ヒドロキシエチル、2−
ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、グリセロ
ール、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル、2−
(メタ)アクリロイルオキシエチル−2’−ヒドロキシ
プロピルフタレートなどの水酸基を有する(メタ)アク
リル酸エステルモノマーの重合体、フェニル、4−メト
キシカルボニルフェニル、4−エトキシカルボニルフェ
ニル、4−ブトキシカルボニルフェニル、4−tert
−ブチルフェニル、ベンジル、4−フェニルエチル、4
−フェノキシジエチレングルコール、4−フェノキシテ
トラエチレングリコール、4−フェノキシヘキサエチレ
ングリコール、4−ビフェニリルなどの芳香環を含有す
る(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、グリ
シジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基を含有す
る(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、フェ
ロセニルメチル、フェロセニルエチルなどの鉄原子を含
有する(メタ)アクリル酸エステルモノマーの重合体、
トリフルオロエチル、テトラフルオロプロピル、ヘプタ
デカフルオロデシル、オクタフルオロペンチル、2,3
−ジブロモプロピルなどのハロゲン原子を含有する(メ
タ)アクリル酸エステルの重合体、トリメトキシシリル
プロピルなどのアルコキシシラン基を含有する(メタ)
アクリル酸エステルの重合体、N,N−ジメチルアミノ
エチル、N,N−ジエチルアミノエチル、t−ブチルア
ミノエチルなどのアミノ基を含有する(メタ)アクリル
酸エステルモノマーの重合体、(メタ)アクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、p−ビニル安息香酸、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)
アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アク
リロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メ
タ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸
などのカルボキシル基を含有するビニルモノマーの重合
体、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレー
トなどのリン酸基含有(メタ)アクリル酸エステルモノ
マーの重合体、アクリルアミド、N−ブチルアクリルア
ミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロニト
リル、スチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロ
キシメチルスチレン、4−ブロモスチレン、クロロメチ
ルスチレン、パーフルオロスチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、ビニルピリジン、ビニルピロリジン、ビニルブチ
ラール、ビニルアセタールなどのビニルモノマーの重合
体が挙げられ、またこれらの2成分以上の共重合体が挙
げられる。First, a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more components of vinyl monomers used in the present invention is exemplified. Polymers of such vinyl monomers include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t
ert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl,
Heptyl, octyl, nonyl, dodecyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 2-ethylbutyl, 1,3-
Dimethylbutyl, 2-ethylhexyl, 2-methylpentyl, cyclohexyl, adamantyl, isobornyl,
Polymers of chain, branched and cyclic alkyl (meth) acrylic acid ester monomers such as dicyclopentanyl and tetrahydrofurfuryl, 2-hydroxyethyl, 2-
Hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, glycerol, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl, 2-
Polymers of (meth) acrylic acid ester monomer having a hydroxyl group such as (meth) acryloyloxyethyl-2′-hydroxypropyl phthalate, phenyl, 4-methoxycarbonylphenyl, 4-ethoxycarbonylphenyl, 4-butoxycarbonylphenyl, 4 -Tert
-Butylphenyl, benzyl, 4-phenylethyl, 4
-Polymer of (meth) acrylic acid ester monomer containing aromatic ring such as phenoxydiethylene glycol, 4-phenoxytetraethylene glycol, 4-phenoxyhexaethylene glycol, 4-biphenylyl, epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate A polymer of a (meth) acrylic acid ester monomer containing, a polymer of a (meth) acrylic acid ester monomer containing an iron atom such as ferrocenylmethyl and ferrocenylethyl,
Trifluoroethyl, tetrafluoropropyl, heptadecafluorodecyl, octafluoropentyl, 2,3
-A polymer of a (meth) acrylic acid ester containing a halogen atom such as dibromopropyl, or an alkoxysilane group such as trimethoxysilylpropyl (meth)
Polymer of acrylic acid ester, polymer of (meth) acrylic acid ester monomer containing amino group such as N, N-dimethylaminoethyl, N, N-diethylaminoethyl, t-butylaminoethyl, (meth) acrylic acid , Itaconic acid, maleic acid, p-vinylbenzoic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth)
Vinyl monomers containing a carboxyl group such as acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrophthalic acid Polymer of a phosphoric acid group-containing (meth) acrylic acid ester monomer such as ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, acrylamide, N-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acrylonitrile, styrene, 4- Hydroxystyrene, 4-hydroxymethylstyrene, 4-bromostyrene, chloromethylstyrene, perfluorostyrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, N-bi Rupiroridon, N- vinyl carbazole, vinyl pyridine, vinyl pyrrolidine, vinyl butyral, polymers of vinyl monomers such as vinyl acetal and the like, also two or more components of the copolymer thereof.
【0014】次に、本発明において使用されるビニルモ
ノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマー
の共重合体で架橋可能な(メタ)アクリロイル基を有す
る高分子化合物としては、前記ビニルモノマーの重合体
の内、水酸基、カルボキシル基、リン酸基、クロロメチ
ル基あるいはエポキシ基などの官能基を有するビニルモ
ノマーを単位として含む高分子化合物に、(メタ)アク
リロイル基を導入することによって得られる。この様な
反応性高分子は、例えば、機能性高分子シリーズ「反応
性高分子」,岩倉義男,栗田恵輔著,講談社サイエンテ
ィフィク(1977年)、あるいは機能性シリーズ「感
光性高分子」,永末元太郎,乾英夫著,講談社サイエン
ティフィク(1977年)に記載されている方法にて合
成することができる。Next, the polymer compound having a (meth) acryloyl group capable of being cross-linked by a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components used in the present invention is It can be obtained by introducing a (meth) acryloyl group into a polymer compound containing, as a unit, a vinyl monomer having a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a chloromethyl group or an epoxy group among the polymers. Such reactive polymers include, for example, functional polymer series "reactive polymer", Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, Kodansha Scientific (1977), or functional series "photosensitive polymer", It can be synthesized by the method described by Gentaro Nagasue and Hideo Inui, Kodansha Scientific (1977).
【0015】本発明で使用の重合性エチレン性不飽和結
合を少なくとも1個以上有する化合物(B)としては、
単官能または多官能ビニルモノマーの他にオリゴマーを
含むものであり、さらに高分子量化合物であってもよ
い。次にこれらの化合物を例示する。The compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond used in the present invention is
It contains an oligomer in addition to a monofunctional or polyfunctional vinyl monomer, and may be a high molecular weight compound. Next, these compounds will be exemplified.
【0016】(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸などの不飽和酸化合物、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート
などの(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物、テ
トラヒドロフリル(メタ)アクリレート、グリシジル
(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モルホリ
ノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミ
ド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、N−ビニルカルバゾー
ル等のビニルモノマー、さらには、脂肪族ポリヒドロキ
シ化合物、例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、1,3−プロパン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−デカ
ンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトール、ネオペンチルグリコ
ール、ソルビトール、マンニトールなどのジあるいはポ
リ(メタ)アクリルエステル類、トリフルオロエチル
(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)ア
クリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレ
ート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート
などのフッ素原子含有(メタ)アクリレート化合物、
2,3−ジブロモプロピル(メタ)アクリレート、トリ
ブロモフェノールトリエチレンオキシド(メタ)アクリ
レート、p−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクレー
ト、テトラブロモビスフェノールAエチ(プロピ)レン
オキシド変性ジ(メタ)アクリレートなどの臭素原子含
有(メタ)アクリレート化合物、フェニル(メタ)アク
リレート、4−メトキシカルボニルフェニル(メタ)ア
クリレート、4−エトキシカルボニルフェニル(メタ)
アクリレート、4−ブトキシカルボニルフェニル(メ
タ)アクリレート、4−tert−ブチルフェニル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4
−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニ
ルエチル(メタ)アクリレート、4−フェノキシジエチ
レングルコール(メタ)アクリレート、4−フェノキシ
テトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、4−
フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、4−ビフェニリル(メタ)アクリレート、フタル
酸エピクロルヒドリン変性ジ(メタ)アクリレートなど
の芳香環を含有する(メタ)アクリレート化合物、芳香
族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾ
ルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ
(メタ)アクリレート化合物、イソシアヌル酸のエチ
(プロピ)レンオキシド変性(メタ)アクリレート、ビ
スフェノールAエチ(プロピ)レンオキシド変性ジ(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリル化エポシキ樹脂、
フェロセニルメチル(メタ)アクリレート、フェロセニ
ルエチル(メタ)アクリレート、亜鉛ジ(メタ)アクリ
レートなどの重金属原子含有(メタ)アクリレート化合
物などが挙げられる。Unsaturated acid compounds such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic acid, (meth) acryl such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate. Acid alkyl ester compound, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate,
Vinyl monomers such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, morpholinoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-vinylcarbazole, and aliphatic poly Hydroxy compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, Di- or poly (meth) acryl such as 1,10-decanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, neopentyl glycol, sorbitol, mannitol, etc. Fluorine atom-containing (meta) such as esters, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate ) Acrylate compounds,
Bromine atom such as 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, tribromophenoltriethylene oxide (meth) acrylate, p-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A ethi (propyrene) oxide-modified di (meth) acrylate Containing (meth) acrylate compound, phenyl (meth) acrylate, 4-methoxycarbonylphenyl (meth) acrylate, 4-ethoxycarbonylphenyl (meth)
Acrylate, 4-butoxycarbonylphenyl (meth) acrylate, 4-tert-butylphenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4
-Phenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylethyl (meth) acrylate, 4-phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 4-phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, 4-
Aromatic ring-containing (meth) acrylate compounds such as phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, 4-biphenylyl (meth) acrylate, epichlorohydrin phthalate-modified di (meth) acrylate, aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone, resorcin , Catechol, pyrogallol, and other di- or poly (meth) acrylate compounds, isocyanuric acid eth (propylene) oxide-modified (meth) acrylate, bisphenol A eth (propylene) oxide-modified di (meth) acrylate, (meth) acrylated epoxy resin ,
Examples thereof include heavy metal atom-containing (meth) acrylate compounds such as ferrocenylmethyl (meth) acrylate, ferrocenylethyl (meth) acrylate, and zinc di (meth) acrylate.
【0017】本発明で使用のテトラベンゾポルフィリン
誘導体(C)は、一般式(1)The tetrabenzoporphyrin derivative (C) used in the present invention has the general formula (1)
【0018】一般式(1)General formula (1)
【化1】 [Chemical 1]
【0019】(式(1)中、R1 ないしR4 は、それぞ
れ独立に、水素原子、アルキル基、または置換基を有す
るもしくは有しない芳香族性残基であり、A1ないしA
4のベンゼン環は、それぞれ独立に置換基を有していて
も良いし有していなくても良く、また、他の縮合ベンゼ
ン環を有していても良い。)で表されるテトラベンゾポ
ルフィリン誘導体(C)が挙げられる。(In the formula (1), R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aromatic residue having or not having a substituent, and A 1 to A 4
The benzene ring of 4 may or may not independently have a substituent, and may have another condensed benzene ring. ) And a tetrabenzoporphyrin derivative (C).
【0020】次に、一般式(1)における置換基につい
て説明すると、アルキル基としては、メチル基、エチル
基またはプロピル基などが、芳香族性残基としては、フ
ェニル基、ナフチル基またはピリジル基などが挙げられ
る。この芳香族性残基は、置換基を有していても良い
し、有していなくても良く、この置換基としては、ハロ
ゲン原子、炭素数1ないし5の低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基または低級アルコキシカルボニル基、カルボ
キシ基、ニトロ基、アミノ基、スルホン基などが挙げら
れる。これらの置換基は各ベンゼン環に1個または2個
以上導入されていても良い。さらに、A1ないしA4の
各ベンゼン環は、他のベンゼン環と縮合してナフタレン
環を形成していても良い。Next, the substituent in the general formula (1) will be explained. The alkyl group is a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and the aromatic residue is a phenyl group, a naphthyl group or a pyridyl group. And so on. This aromatic residue may or may not have a substituent, and as the substituent, a halogen atom, a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a lower alkoxy group or Examples thereof include lower alkoxycarbonyl group, carboxy group, nitro group, amino group and sulfone group. One or two or more of these substituents may be introduced into each benzene ring. Further, each benzene ring of A1 to A4 may be condensed with another benzene ring to form a naphthalene ring.
【0021】この様なテトラベンゾポルフィリン誘導体
の具体的な化合物を例示すると、無置換のテトラベンゾ
ポルフィリン、メソ位の少なくとも1つがフェニル基で
置換されたメソ−フェニルテトラベンゾポルフィリン、
メソ位の少なくとも1つがナフチル基で置換されたメソ
−ナフチルテトラベンゾポルフィリン、メソ位の少なく
とも1つがピリジル基で置換されたメソ−ピリジルテト
ラベンゾポルフィリン、5,5’,5’’,5’’’−
テトラ−tert−ブチルテトラベンゾポルフィリン、
4,6,4’,6’,4’’,6’’,4’’’,
6’’’−オクタメチルテトラベンゾポリフィリン、
5,5’,5’’,5’’’−テトラエトキシテトラベ
ンゾポルフィリン、メソ位の少なくとも1つがメチル基
で置換されたメソ−メチルテトラベンゾポルフィリン、
メソ位の少なくとも1つがベンジル基で置換されたメソ
−ベンジルテトラベンゾポルフィリン、メソ位の少なく
とも1つがp−トリル基で置換されたメソ−p−トリル
テトラベンゾポルフィリン、縮合環としてベンゼン環が
さらに結合したテトラナフトポルフィリン、メソ位の少
なくとも1つがフェニル基で置換されたメソ−フェニル
テトラナフトポルフィリンなどが挙げられる。Specific examples of such a tetrabenzoporphyrin derivative include unsubstituted tetrabenzoporphyrin, meso-phenyltetrabenzoporphyrin in which at least one of the meso positions is substituted with a phenyl group,
Meso-naphthyltetrabenzoporphyrin having at least one meso position substituted with a naphthyl group, meso-pyridyltetrabenzoporphyrin having at least one meso position substituted with a pyridyl group, 5,5 ′, 5 ″, 5 ″ '-
Tetra-tert-butyltetrabenzoporphyrin,
4,6,4 ', 6', 4 ", 6", 4 '",
6 '''-octamethyltetrabenzoporphyrin,
5,5 ′, 5 ″, 5 ′ ″-tetraethoxytetrabenzoporphyrin, meso-methyltetrabenzoporphyrin in which at least one of the meso positions is substituted with a methyl group,
Meso-benzyltetrabenzoporphyrin in which at least one of meso positions is substituted with a benzyl group, meso-p-tolyltetrabenzoporphyrin in which at least one of meso positions is substituted with a p-tolyl group, and a benzene ring as a condensed ring is further bonded. Examples thereof include tetranaphthoporphyrin, meso-phenyltetranaphthoporphyrin in which at least one of meso positions is substituted with a phenyl group.
【0022】この様な一般式(1)で表されるテトラベ
ンゾポルフィリン誘導体は、特開昭63−83087号
公報記載の方法、より詳しくは、K.Ichimura
らによる「Inorg.Chim.Acta.」第17
6巻、第31頁(1990年)、第182巻、第83頁
(1991年)および第186巻、第95頁(1991
年)記載の方法にて得ることができる。Such a tetrabenzoporphyrin derivative represented by the general formula (1) can be prepared by the method described in JP-A-63-83087, more specifically, K. Ichimura
17th "Inorg. Chim. Acta."
Volume 6, page 31 (1990), volume 182, volume 83 (1991) and volume 186, volume 95 (1991).
Year) You can obtain it by the method described.
【0023】また、テトラベンゾポルフィリン類の中心
金属(M)としては、例えば前記のテトラベンゾポルフ
ィリン類と、Mg、Zn、Cd、Pd、Co、Cu、P
bなどの二価金属原子との錯体、ヒドロキシル基や、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロ
ゲン基などを垂直方向に配位したAl、In、Ga、F
e、Crなどの三価の金属原子、あるいはSi、Snな
どの四価の金属原子との錯体などを挙げることができ
る。また、垂直方向に軸配位するその他の有機残基とし
ては、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を持っ
ていても良いアリール基、置換基を持っていても良いア
ルキルチオ基、置換基を持っていても良いアリールチオ
基、置換スルホニル基、スルホン酸エステル基、置換基
を持っていても良い複素環基、置換基を持っても良いホ
スフェート基などが挙げられ、この場合、Mと直接結合
している有機残基中の原子としては、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子などが挙げられる。As the central metal (M) of the tetrabenzoporphyrins, for example, the above-mentioned tetrabenzoporphyrins and Mg, Zn, Cd, Pd, Co, Cu, P
Al, In, Ga, F in which a complex with a divalent metal atom such as b, a hydroxyl group or a halogen group such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is vertically coordinated.
Examples thereof include a complex with a trivalent metal atom such as e and Cr, or a tetravalent metal atom such as Si and Sn. Further, as the other organic residue axially coordinated in the vertical direction, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkylthio group which may have a substituent, Examples thereof include an arylthio group which may have a substituent, a substituted sulfonyl group, a sulfonate group, a heterocyclic group which may have a substituent and a phosphate group which may have a substituent. In this case, M Examples of the atom in the organic residue directly bonded to include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and the like.
【0024】本発明で使用する一般式(1)で表わされ
るテトラベンゾポルフィリン誘導体の代表例として、化
合物(a)ないし化合物(h)を次に示す。Compounds (a) to (h) are shown below as typical examples of the tetrabenzoporphyrin derivative represented by the general formula (1) used in the present invention.
【0025】化合物(a)Compound (a)
【化2】 [Chemical 2]
【0026】化合物(b)Compound (b)
【化3】 [Chemical 3]
【0027】化合物(c)Compound (c)
【化4】 [Chemical 4]
【0028】化合物(d)Compound (d)
【化5】 [Chemical 5]
【0029】化合物(e)Compound (e)
【化6】 [Chemical 6]
【0030】化合物(f)Compound (f)
【化7】 [Chemical 7]
【0031】化合物(g)Compound (g)
【化8】 [Chemical 8]
【0032】化合物(h)Compound (h)
【化9】 [Chemical 9]
【0033】次に、本発明で使用のスルホニウム有機ホ
ウ素錯体(D)は、一般式(2)Next, the sulfonium organic boron complex (D) used in the present invention is represented by the general formula (2)
【0034】一般式(2)General formula (2)
【化10】 (式中R5 、R6 およびR7 はそれぞれ独立に、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を
有してもよいアルキレン基、置換基を有してもよい脂環
基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有し
てもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアル
キルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置
換基を有してもよいアミノ基より選ばれる基を、R8 は
酸素原子もしくは孤立電子対を、R 9 、R10、R11およ
びR12はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有し
てもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニ
ル基より選ばれる基を示し、R5 、R6 およびR7 はそ
の2個以上の基が結合している環状構造であってもよ
く、R5 、R6 およびR 7 の二つ以上が同時に置換基を
有してもよいアリール基となることはなく、R9、
R10、R11およびR12全てが同時に置換基を有してもよ
いアリール基となることはない。)で表されるスルホニ
ウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ
素錯体から選ばれるスルホニウム有機ホウ素錯体を示
す。一般式(2)で表されるスルホニウム有機ホウ素錯
体は、特願平4−56831号にて記載の方法に従い合
成することができる。[Chemical 10](R in the formulaFive, R6And R7Are each independently a substituent
An alkyl group which may have a substituent and an ant which may have a substituent
Group, an alkenyl group which may have a substituent, a substituent
Alkylene group that may have and alicyclic ring that may have substituent
Group, an alkoxy group which may have a substituent, a substituent
Optionally an aryloxy group, optionally substituted aryl
A thio group, an arylthio group which may have a substituent,
A group selected from an amino group which may have a substituent is represented by R8Is
R is an oxygen atom or lone pair of electrons 9, RTen, R11And
And R12Are each independently an optionally substituted alkyl group.
Group, an aryl group which may have a substituent, and a substituent
Optionally alkenyl group, optionally substituted alkynyl group
R is a group selected fromFive, R6And R7Haso
It may be a cyclic structure in which two or more groups of
RFive, R6And R 7Two or more of
R does not become an aryl group which may have9,
RTen, R11And R12All may have substituents at the same time
It does not become an aryl group. ) Sulfoni
Organoboron complex or oxosulfonium organoboro
Showing sulfonium organoboron complexes selected from elementary complexes
You Sulfonium organoboron complex represented by general formula (2)
The body is made according to the method described in Japanese Patent Application No. 4-56831.
Can be made.
【0035】一般式(2)におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基R5 、R6 およ
びR7 において、置換基を有してもよいアルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基、アセトニル基、フェナシル基、サリチ
ル基、アニシル基、シアノメチル基、クロロメチル基、
ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキ
シカルボニルメチル基、メンチル基、ピナニル基等が、
置換基を有してもよいアリール基としては、フェニル
基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、p−メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ナフチ
ル基、アンスリル基、フェナントリル基、p−シアノフ
ェニル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニ
ル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェニル
基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−フェニルチオ
フェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基と
しては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル
基、3,3−ジシアノ−1−プロペニル基等が、置換基
を有してもよい脂環基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、1−シ
クロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルコキ
シル基としてはメトキシ基、tert−ブトキシ基、ベ
ンジルオキシ基等が、置換基を有してもよいアリールオ
キシ基としては、フェノキシ基、p−トリルオキシ基、
p−フルオロフェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基等
が、置換基を有してもよいアルキルチオ基としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基
を有してもよいアリールチオ基としては、フェニルチオ
基、p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基等
が、置換基を有してもよいアミノ基としては、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、さらにR5 、R6 およびR7 はその2個
以上の基が結合している環状構造であってもよく、例え
ば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、1,4−ジ
クロロテトラメチレン基等の置換基を有してもよいアル
キレン基、エチレンジオキシ基、ジエチレンジオキシ
基、アジポイル基、エチレンジチオ基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。In the substituents R 5 , R 6 and R 7 on the sulfonium or oxosulfonium cation in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, te
rt-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, allyl group, benzyl group, acetonyl group, phenacyl group, salicyl group, anisyl group, cyanomethyl group, chloromethyl group,
Bromomethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, menthyl group, pinanyl group, etc.
The aryl group which may have a substituent includes a phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, p- Cyanophenyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-chlorophenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-phenylthiophenyl group, etc. have a substituent As the alkenyl group which may also be a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, a 3,3-dicyano-1-propenyl group, or the like, an alicyclic group which may have a substituent is a cyclopentyl group, A cyclohexyl group, a norbornyl group, a bornyl group, a 1-cyclohexenyl group and the like are methoxy as an alkoxyl group which may have a substituent. , Tert- butoxy group, a benzyloxy group, the aryloxy group which may have a substituent, a phenoxy group, p- tolyloxy group,
P-fluorophenoxy group, p-nitrophenoxy group and the like are alkylthio groups which may have a substituent, methylthio group, ethylthio group, butylthio group and the like are arylthio groups which may have a substituent. , Phenylthio group, p-tolylthio group, p-cyanophenylthio group and the like, the amino group which may have a substituent is, for example, amino group, methylamino group, dimethylamino group, cyclohexylamino group, anilino group, piperidino group. Group, morpholino group, etc., and R 5 , R 6 and R 7 may have a cyclic structure in which two or more groups are bonded, and examples thereof include a tetramethylene group, a pentamethylene group, 1, Alkylene group which may have a substituent such as 4-dichlorotetramethylene group, ethylenedioxy group, diethylenedioxy group, adipoyl group and ethyle The present invention is not limited to these.
【0036】また、一般式(2)における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基R9 、R10、R11およびR12におい
て、置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル
基等が、置換基を有してもよいアリール基としては、フ
ェニル基、p−トリル基、キシリル基、メシチル基、ク
メニル基、p−メトキシフェニル基、ナフチル基、2,
4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、p−フル
オロフェニル基、p−クロロフェニル基、p−ブロモフ
ェニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル基とし
ては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基等
が、置換基を有してもよいアルキニル基としては、エテ
ニル基、2−tert−ブチルエテニル基、2−フェニ
ルエテニル基等が挙げられるが本発明はこれらに限定さ
れるものではない。In the substituents R 9 , R 10 , R 11 and R 12 on the organic boron anion in the general formula (2), the alkyl group which may have a substituent is a methyl group, an ethyl group, Propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, allyl group, benzyl group, etc. Examples of the aryl group which may have a phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, p-methoxyphenyl group, naphthyl group, 2,
4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, p-fluorophenyl group, p-chlorophenyl group, p-bromophenyl group and the like, the alkenyl group which may have a substituent is a vinyl group or 1-propenyl group. Examples of the alkynyl group that may have a substituent include a 1-butenyl group and the like, but include an ethenyl group, a 2-tert-butylethenyl group, a 2-phenylethenyl group, and the like, but the present invention is not limited thereto. Not a thing.
【0037】一般式(2)において特に好ましい構造と
しては、R5 、R6 およびR7 のうち少なくとも1つ
が、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有しても
よいベンジル基、置換基を有しても良いビニル基、もし
くは置換基を有してもよいフェナシル基のいずれかであ
り、R9 が置換基を有してもよいアルキル基であり、R
10、R11およびR12が置換基を有してもよいアリール基
である構造である。Particularly preferred structures in the general formula (2)
Then RFive, R6And R7At least one of
Is an allyl group which may have a substituent, or a substituent which may have a substituent.
Good benzyl group, optionally substituted vinyl group, if
Or any of the phenacyl groups which may have a substituent.
R9Is an alkyl group which may have a substituent, R
Ten, R11And R12Is an aryl group which may have a substituent
Is the structure.
【0038】この理由として、一般式(2)で示される
スルホニウム有機ホウ素錯体が、テトラベンゾポルフィ
リン誘導体(C)によって効果的に光増感分解されるこ
とが要求されるが、R5 、R6 およびR7 の内、少なく
とも一つに、置換基を有してもよいアリル基、置換基を
有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいビニル
基、もしくは置換基を有してもよいフェナシル基を導入
することによって、一般式(2)で示される重合開始剤
の電子受容性が高まり、且つ、これらの基が優先的且つ
効率的にスルホニウムまたはオキソスルホニウムカチオ
ンから分解する性質を帯びることによって、フリーラジ
カルの発生効率が高まると考えられ、その結果感度の向
上を図ることが可能となるからである。[0038] The reason, sulfonium organic boron complex represented by the general formula (2) is, although the tetrabenzoporphyrin derivative (C) can effectively be decomposed photosensitizer is required, R 5, R 6 And at least one of R 7 has an allyl group which may have a substituent, a benzyl group which may have a substituent, a vinyl group which may have a substituent, or a substituent By introducing an optional phenacyl group, the electron accepting property of the polymerization initiator represented by the general formula (2) is enhanced, and these groups are preferentially and efficiently decomposed from a sulfonium or oxosulfonium cation. This is because the efficiency of generating free radicals is considered to be increased by adding the charge, and as a result, the sensitivity can be improved.
【0039】具体的な化合物(i)ないし化合物(o)
を次に示す。Specific compounds (i) to (o)
Is shown below.
【0040】化合物(i)Compound (i)
【化11】 [Chemical 11]
【0041】化合物(j)Compound (j)
【化12】 [Chemical 12]
【0042】化合物(k)Compound (k)
【化13】 [Chemical 13]
【0043】化合物(l)Compound (l)
【化14】 [Chemical 14]
【0044】化合物(m)Compound (m)
【化15】 [Chemical 15]
【0045】化合物(n)Compound (n)
【化16】 [Chemical 16]
【0046】化合物(o)Compound (o)
【化17】 [Chemical 17]
【0047】本発明で使用のホログラム記録用感光材料
は、ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上のビ
ニルモノマーの共重合体である高分子化合物(A)、重
合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有
する化合物(B)、およびテトラベンゾポルフィリン誘
導体(C)とスルホニウム有機ホウ素錯体(D)からな
る光重合開始剤を、任意の濃度で適当な溶媒中に溶解さ
せ、得られた溶液をガラス板等の基板上に皮膜状に塗布
して得ることができるが、ビニルモノマーの単一重合体
または2成分以上のビニルモノマーの共重合体である高
分子化合物(A)の屈折率と、重合可能なエチレン性不
飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物(B)の屈
折率との屈折率差が0.005以上であることが好まし
く、さらに屈折率差が0.01以上であることがより好
ましい。上記各成分の配合比に特定の制限はないが、照
射用レーザー光の透過率が1%以上となるようにテトラ
ベンゾポルフィリン誘導体(C)の濃度を調製すること
が好ましい。さらに必要に応じて、各種添加剤、例えば
可塑剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤、レベ
リング剤等を添加してもよい。The hologram recording light-sensitive material used in the present invention comprises a polymer compound (A) which is a homopolymer of a vinyl monomer or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a polymerizable ethylenic unsaturated bond. A solution obtained by dissolving a compound (B) having at least one or more and a photopolymerization initiator comprising a tetrabenzoporphyrin derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D) in a suitable solvent at an arbitrary concentration Can be obtained by coating in the form of a film on a substrate such as a glass plate. The refractive index of the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, The refractive index difference from the refractive index of the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond is preferably 0.005 or more, and further the refractive index And more preferably but 0.01 or more. There is no particular limitation on the compounding ratio of each of the above components, but it is preferable to adjust the concentration of the tetrabenzoporphyrin derivative (C) so that the transmittance of the laser light for irradiation is 1% or more. Further, if necessary, various additives such as a plasticizer, a chain transfer agent, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, etc. may be added.
【0048】ビニルモノマーの単一重合体または2成分
以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)の全感光材料中に占める量は、高回折効率を有す
るホログラム記録を行なうためには、10〜90重量
%、好ましくは、30〜70重量%である。重合可能な
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合
物(B)の使用量は、支持体であるビニルモノマーの単
一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体
である高分子化合物(A)100重量部に対し10〜2
00重量部、好ましくは40〜150重量部である。上
記範囲を逸脱すると高い回折効率の維持および感度特性
の向上が困難となるので好ましくない。The amount of the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, in the entire photosensitive material is required to perform hologram recording having high diffraction efficiency. 10 to 90% by weight, preferably 30 to 70% by weight. The amount of the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond used is a polymer compound which is a homopolymer of a vinyl monomer as a support or a copolymer of two or more vinyl monomers ( A) 10-2 for 100 parts by weight
00 parts by weight, preferably 40 to 150 parts by weight. If it deviates from the above range, it becomes difficult to maintain high diffraction efficiency and improve sensitivity characteristics, which is not preferable.
【0049】本発明で使用の光重合開始剤のうち、一般
式(1)のテトラベンゾポルフィリン誘導体(C)は、
ビニルモノマーの単一重合体または2成分以上のビニル
モノマーの共重合体である高分子化合物(A)100重
量部に対し、0.1〜30重量部、好ましくは、0.5
〜15重量部の範囲で使用される。使用量は感光層膜厚
と該膜厚の光学密度によって制限を受ける。即ち、光学
密度が2を越さない範囲で使用することが好ましい。ま
たスルホニウム有機ホウ素錯体(D)は、ビニルモノマ
ーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共
重合体である高分子化合物(A)100重量部に対し、
0.1〜20重量部、好ましくは1〜15重量部の範囲
で使用される。Among the photopolymerization initiators used in the present invention, the tetrabenzoporphyrin derivative (C) of the general formula (1) is
0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.5 to 100 parts by weight of the polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers.
Used in the range of up to 15 parts by weight. The amount used is limited by the film thickness of the photosensitive layer and the optical density of the film thickness. That is, it is preferably used in a range where the optical density does not exceed 2. The sulfonium organoboron complex (D) is a homopolymer of a vinyl monomer or a copolymer of two or more vinyl monomers.
It is used in the range of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight.
【0050】上記のような組成比のホログラム記録感光
材料を適当な溶媒に溶解させた感光液をスピンコータ
ー、ロールコーター、ナイフコーターまたはバーコータ
ーなどを用いることによって、直接ガラス板、プラスチ
ックフィルムなどの基材上に感光膜を形成する。さら
に、その上に、酸素遮断のための保護層を形成してもよ
い。保護層は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルアルコールまたはポリエチ
レンテレフタレートなどのプラスチック製のフィルムま
たは板を貼合わせるか、前記ポリマーの溶液を塗工して
もよい。また、ガラス板を貼合わせてもよい。また、保
護層と感光膜の間(および)または、基材と感光膜の間
に、気密性を高めるために粘着剤または液状物質を存在
させてもよい。By using a spin coater, a roll coater, a knife coater, a bar coater or the like, a photosensitive solution prepared by dissolving the hologram recording photosensitive material having the above composition ratio in an appropriate solvent is directly applied to a glass plate, a plastic film or the like. A photosensitive film is formed on the base material. Further, a protective layer for blocking oxygen may be formed thereon. The protective layer may be formed by laminating a film or plate made of a plastic such as polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol or polyethylene terephthalate, or applying a solution of the polymer. Alternatively, a glass plate may be attached. Further, an adhesive or a liquid substance may be present between the protective layer and the photosensitive film (and / or) or between the substrate and the photosensitive film in order to enhance airtightness.
【0051】以上にようにして得られたホログラム記録
感光材料によって形成された感光板またはフィルムは、
振動の影響を受けないようホルダーに固定したのち、H
e−Neレーザー、Krイオンレーザー、ルビーレーザ
ーなどの可視光レーザーを照射し体積位相型ホログラム
記録を行なう。図1に光学系の一例を示す。The photosensitive plate or film formed of the hologram recording photosensitive material obtained as described above is
After fixing to the holder so that it is not affected by vibration, H
Volume phase hologram recording is performed by irradiating a visible light laser such as an e-Ne laser, a Kr ion laser, or a ruby laser. FIG. 1 shows an example of the optical system.
【0052】ホログラム記録された感光板またはフィル
ムは、未露光部分または露光量の少ない部分の定着のた
め、光および(または)熱を加えることを必要とする。
光は、可視光レーザーの他、カーボンアーク、高圧水銀
灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ラン
プ、タングステンランプなどの可視光および(または)
紫外光を用いる。熱は、40℃から160℃の間で加熱
するのが好ましい。ホログラム記録された感光板または
フィルムに、光と熱を同時に加えても、光と熱を別々に
加えてもよい。また、光および(または)熱を加える前
後に、保護膜を剥離する操作をおこなってもよい。The hologram-recorded photosensitive plate or film requires application of light and / or heat for fixing an unexposed portion or an exposed portion.
In addition to visible light laser, light is visible light such as carbon arc, high pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp and / or
Use ultraviolet light. The heat is preferably between 40 ° C and 160 ° C. Light and heat may be applied simultaneously to the hologram-recorded photosensitive plate or film, or light and heat may be applied separately. Further, an operation of peeling the protective film may be performed before and after applying light and / or heat.
【0053】[0053]
【作用】本発明で使用のホログラム記録材料は、ビニル
モノマーの単一重合体または2成分以上のビニルモノマ
ーの共重合体である高分子化合物(A)、重合可能なエ
チレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物
(B)、テトラベンゾポルフィリン誘導体(C)とスル
ホニウム有機ホウ素錯体(D)との組合せを含むことを
特徴とする。The hologram recording material used in the present invention comprises a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. It is characterized in that it contains a combination of a compound (B) having an individual compound, a tetrabenzoporphyrin derivative (C) and a sulfonium organic boron complex (D).
【0054】ホログラム記録において、該光重合性のホ
ログラム記録材料にレーザー光を照射すると、該レーザ
ー照射部位中干渉作用の強い部位においては、重合可能
なエチレン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化
合物(B)の重合反応が生じ、その際に、干渉作用の弱
い部位にある重合可能なエチレン性不飽和結合を少なく
とも1個以上有する化合物(B)は、該レーザー光の干
渉作用の強い部位へ拡散し重合する。従って、該レーザ
ー光の干渉作用の強い部位では、干渉作用の弱い部位に
比べ密度が向上し、その結果両部位間に屈折率差が生じ
ホログラムが記録される。この時、ビニルモノマーの単
一重合体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体
である高分子化合物(A)の屈折率と、重合可能なエチ
レン性不飽和結合を少なくとも1個以上有する化合物
(B)の屈折率との屈折率差が0.005以上である場
合、該レーザー光の干渉作用の強い部位と弱い部位の屈
折率差が大きくなり、回折効率の高い体積位相型ホログ
ラムが製造されたものと推量される。さらにホログラム
記録後、光および(または)熱による後処理工程を加え
ることにより未反応であった重合可能なエチレン性不飽
和結合を少なくとも1個以上有する化合物(B)の重合
が促進され、化学的に安定な且つ経時変化のないホログ
ラムが製造される。この時、ビニルモノマーの単一重合
体または2成分以上のビニルモノマーの共重合体である
高分子化合物(A)が、架橋可能な(メタ)アクリロイ
ル基を有する場合においては、(A)と(B)との間で
架橋反応が生じ、さらに化学的に安定な且つ経時変化の
ないホログラムが製造される。また、この後処理工程、
特に光照射によって、着色成分として残存していたテト
ラベンゾポルフィリン誘導体(C)が効果的に消色さ
れ、ホログラムの透明性を向上させることになる。In the hologram recording, when the photopolymerizable hologram recording material is irradiated with a laser beam, a compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond is present in a site having a strong interference action in the laser irradiation site. The polymerization reaction of (B) occurs, and at that time, the compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond at a site having a weak interference action is transferred to a site having a strong interference action of the laser beam. Diffuses and polymerizes. Therefore, in the portion where the interference effect of the laser light is strong, the density is improved as compared with the portion where the interference effect is weak, and as a result, a difference in refractive index occurs between the two portions and a hologram is recorded. At this time, the refractive index of the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more vinyl monomers, and a compound having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond (B When the refractive index difference with the refractive index of (1) is 0.005 or more, the refractive index difference between the site where the laser light has a strong interference action and the site where the laser light has a strong interference action becomes large, and a volume phase hologram with high diffraction efficiency was manufactured. Conjectured to be. Further, after the hologram recording, a post-treatment step with light and / or heat is added to accelerate the polymerization of the unreacted compound (B) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated bond, and to chemically react. A hologram that is stable and does not change with time is manufactured. At this time, when the polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of two or more components of vinyl monomers, has a crosslinkable (meth) acryloyl group, (A) and (B 2), a cross-linking reaction takes place between the above-mentioned) and a chemically stable hologram that does not change with time. Also, this post-treatment step,
In particular, the tetrabenzoporphyrin derivative (C) remaining as a coloring component is effectively decolorized by light irradiation, and the transparency of the hologram is improved.
【0055】[0055]
【実施例】以下実施例に基づき、本発明をより詳細に説
明する。以下の各例において、部は特に断わりのない限
り重量部を表わす。The present invention will be described in more detail based on the following examples. In the following examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.
【0056】実施例1〜8 ポリメタクリル酸メチル(PMMA)を100重量部、
フェノキシエチルアクリレート(POEA)を90部、
一般式(1)で表されるテトラベンゾポルフィリン誘導
体(化合物(a)ないし化合物(h))を2部、スルホ
ニウム有機ホウ素錯体(化合物(i))を5部、をテト
ラクロロエタン900部からなる感光液を100×12
5×3mmのガラス板上に、感光液乾燥後の膜厚が20
μmとなるように4ミルアプリケーターを用いて塗布
し、ホログラム記録用感光板を作成した。さらに、3ミ
ルアプリケーターでポリビニルアルコールの5%水溶液
を塗布した。この感光板に、図1に示すホログラム作成
用光学系を用いて二光束干渉によるホログラム露光を行
った。その際、実施例1および6においてはKrイオン
レーザーの647nm光を用い、実施例2ないし5およ
び7においてはHe−Neレーザーの633nm光を用
い、実施例9においてはルビーレーザーの694nm光
を用いた。ホログラム露光を実施した後、更に二光束の
一方を遮断してホログラム露光と同じ露光時間に晒し、
その後120℃オーブンに1時間おいた。Examples 1 to 8 100 parts by weight of polymethylmethacrylate (PMMA),
90 parts of phenoxyethyl acrylate (POEA),
Photosensitization comprising 2 parts of a tetrabenzoporphyrin derivative (compound (a) to compound (h)) represented by the general formula (1), 5 parts of a sulfonium organic boron complex (compound (i)), and 900 parts of tetrachloroethane. Liquid 100 × 12
The film thickness after drying the photosensitive solution is 20 on a 5 × 3 mm glass plate.
A hologram recording photosensitive plate was prepared by coating with a 4 mil applicator so as to have a thickness of μm. Further, a 5% aqueous solution of polyvinyl alcohol was applied with a 3 mil applicator. This photosensitive plate was subjected to hologram exposure by two-beam interference using the hologram-forming optical system shown in FIG. At that time, 647 nm light of Kr ion laser was used in Examples 1 and 6, 633 nm light of He—Ne laser was used in Examples 2 to 5 and 7, and 694 nm light of ruby laser was used in Example 9. I was there. After performing the hologram exposure, further blocking one of the two light fluxes and exposing it to the same exposure time as the hologram exposure,
Then, it was placed in a 120 ° C. oven for 1 hour.
【0057】回折効率は、日本分光工業(株)製ART
25C型分光光度計で測定した。該装置は、幅3mmの
スリットを有したフォトマルチメータを、試料を中心に
した半径20cmの円周上に設置できる。幅0.3mm
の単色光を試料に45度の角度で入射し、試料からの回
折光を検出した。正反射光以外で最も大きな値と、試料
を置かず直接入射光を受光したときの値との比を回折効
率とした。表1に、感度特性、回折効率、プレイバック
波長及び保存安定性試験結果などのホログラム特性をま
とめて示した。Diffraction efficiency is ART manufactured by JASCO Corporation
It was measured with a 25C type spectrophotometer. In this device, a photomultimeter having a slit with a width of 3 mm can be installed on the circumference of a 20 cm radius centered on the sample. Width 0.3 mm
The monochromatic light of was incident on the sample at an angle of 45 degrees, and the diffracted light from the sample was detected. The diffraction efficiency was defined as the ratio between the maximum value other than the specular reflection light and the value when the incident light was received directly without placing the sample. Table 1 shows hologram characteristics such as sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results.
【0058】実施例9〜14 実施例2におけるスルホニウム有機ホウ素錯体(化合物
(i))を、スルホニウム有機ホウ素錯体(化合物
(j))ないし化合物(o)に替えた他は、実施例2と
同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プレ
イバック波長及び保存安定性試験結果を表2にまとめて
示した。Examples 9 to 14 Same as Example 2 except that the sulfonium organoboron complex (compound (i)) in Example 2 was replaced with a sulfonium organoboron complex (compound (j)) or compound (o). Table 2 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated by the above method.
【0059】実施例15 実施例2における重合可能なモノマーを、テトラブロモ
ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジメタクリレー
トに替えた他は、実施例2と同様の方法で操作した時
の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存安
定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 15 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency and play when operating in the same manner as in Example 2 except that the polymerizable monomer in Example 2 was replaced with tetrabromobisphenol A ethylene oxide-modified dimethacrylate. The back wavelength and the storage stability test results are summarized in Table 3.
【0060】実施例16 実施例2における重合可能なモノマーを、N−ビニルカ
ルバゾールに替えた他は、実施例2と同様の方法で操作
した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び
保存安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 16 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage when operated in the same manner as in Example 2 except that the polymerizable monomer in Example 2 was replaced with N-vinylcarbazole. The stability test results are summarized in Table 3.
【0061】実施例17 実施例2における重合可能なモノマーを、トリブロモフ
ェノールトリエチレンオキシド変性アクリレートに替え
た他は、実施例2と同様の方法で操作した時の、感度特
性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験結
果を表3にまとめて示した。Example 17 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, and playback when operated in the same manner as in Example 2 except that the polymerizable monomer in Example 2 was replaced with tribromophenoltriethylene oxide modified acrylate. The wavelength and storage stability test results are summarized in Table 3.
【0062】実施例18 実施例2における重合可能なモノマーを、フェロセニル
エチルメタクリレートに替えた他は、実施例2と同様の
方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバッ
ク波長及び保存安定性試験結果を表3にまとめて示し
た。Example 18 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and playback wavelength when operated in the same manner as in Example 2, except that the polymerizable monomer in Example 2 was replaced with ferrocenylethyl methacrylate. The storage stability test results are summarized in Table 3.
【0063】実施例19 実施例17におけるPMMAを、ポリ(イソボルニルメ
タクリレート)に替えた他は、実施例17と同様の方法
で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波
長及び保存安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 19 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage when operated in the same manner as in Example 17 except that PMMA in Example 17 was replaced with poly (isobornyl methacrylate). The stability test results are summarized in Table 3.
【0064】実施例20 実施例17におけるPMMAを、ポリ(ビニルブチラー
ル)に替えた他は、実施例17と同様の方法で操作した
時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存
安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 20 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability when operated in the same manner as in Example 17 except that PMMA in Example 17 was changed to poly (vinyl butyral). The test results are summarized in Table 3.
【0065】実施例21 実施例17におけるPMMAを、ポリ(ビニルアセテー
ト)に替えた他は、実施例17と同様の方法で操作した
時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保存
安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 21 Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability when operated in the same manner as in Example 17, except that PMMA in Example 17 was changed to poly (vinyl acetate). The test results are summarized in Table 3.
【0066】実施例22 実施例17におけるPMMAを、メチルメタクリレート
とクロロメチルスチレンとのモル比で8対2の共重合体
にアクリル酸カリウムをジメチルホルムアミド中、酸素
存在化、60℃で反応させアクリロリル基を導入した高
分子化合物(化合物p)に替えた他は、実施例17と同
様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイ
バック波長及び保存安定性試験結果を表3にまとめて示
した。Example 22 The PMMA of Example 17 was reacted with a copolymer of methyl methacrylate and chloromethylstyrene in a molar ratio of 8: 2 and potassium acrylate in dimethylformamide in the presence of oxygen at 60 ° C. for acrylolyl. Table 3 summarizes the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in Example 17, except that the polymer compound (compound p) having a group introduced was used. Showed.
【0067】化合物(p)Compound (p)
【化18】 [Chemical 18]
【0068】実施例23 実施例17におけるPMMAを、メチルメタクリレート
とグリシジルメタクリレートとのモル比で8対2の共重
合体に、ジメチルアニリンを触媒としてアクリル酸をト
ルエン中、酸素存在化、60℃で反応させ、アクリロリ
ル基を導入した高分子化合物(化合物(q))に替えた
他は、実施例17と同様の方法で操作した時の、感度特
性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験結
果を表3にまとめて示した。Example 23 PMMA was used as a copolymer of Example 17 in a copolymer of methyl methacrylate and glycidyl methacrylate in a molar ratio of 8: 2, and acrylic acid in toluene in the presence of oxygen with dimethylaniline as a catalyst at 60 ° C. Sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength and storage stability test when operated in the same manner as in Example 17 except that the polymer compound (compound (q)) introduced with an acryloyl group was reacted. The results are summarized in Table 3.
【0069】化合物(q)Compound (q)
【化19】 [Chemical 19]
【0070】実施例24 実施例17におけるPMMAを、メチルメタクリレート
と2−ヒドロキシエチルメタクリレートとのモル比で8
対2の共重合体に、アクリル酸クロライドをジメチルホ
ルムアミド中、酸素存在化、室温で反応させ、アクリロ
リル基を導入した高分子化合物(化合物r)に替えた他
は、実施例17と同様の方法で操作した時の、感度特
性、回折効率、プレイバック波長及び保存安定性試験結
果を表3にまとめて示した。Example 24 The PMMA obtained in Example 17 was used in a molar ratio of methyl methacrylate to 2-hydroxyethyl methacrylate of 8%.
The same method as in Example 17 except that the copolymer of Pair 2 was reacted with acrylic acid chloride in dimethylformamide in the presence of oxygen and at room temperature to replace the polymer compound (compound r) having an acryloyl group introduced therein. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in Table 3.
【0071】化合物(r)Compound (r)
【化20】 [Chemical 20]
【0072】実施例25 実施例17におけるPMMAをポリ(p−ブロモフェニ
ルメタクリレート)に、トリブロモフェノールトリエチ
レンオキサイド変性ジアクリレートをトリフルオロエチ
ルアクリレートに替えた他は、実施例17と同様の方法
で操作した時の、感度特性、回折効率、プレイバック波
長及び保存安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 25 In the same manner as in Example 17, except that PMMA in Example 17 was changed to poly (p-bromophenyl methacrylate) and tribromophenoltriethylene oxide-modified diacrylate was changed to trifluoroethyl acrylate. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated.
【0073】実施例26 実施例25におけるポリ(p−ブロモフェニルメタクリ
レート)をポリ(スチレン)に替えた他は、実施例25
と同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プ
レイバック波長及び保存安定性試験結果を表3にまとめ
て示した。Example 26 Example 25 except that poly (styrene) was used in place of poly (p-bromophenylmethacrylate) in Example 25.
Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in.
【0074】実施例27 実施例17におけるPMMAをポリ(α−ナフチルスチ
レン)に、トリブロモフェノールトリエチレンオキサイ
ド変性ジアクリレートをペンタエリスリトールトリアク
リレート替えた他は、実施例17と同様の方法で操作し
た時の、感度特性、回折効率、プレイバック波長及び保
存安定性試験結果を表3にまとめて示した。Example 27 The same procedure as in Example 17 was carried out except that PMMA in Example 17 was replaced with poly (α-naphthylstyrene) and tribromophenoltriethylene oxide-modified diacrylate was replaced with pentaerythritol triacrylate. Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results at the time.
【0075】実施例28 実施例25におけるポリ(p−ブロモフェニルメタクリ
レート)を、スチレンと無水マレイン酸とのモル比で9
対1の共重合体に、2−ヒドロキシエチルアクリレート
をトルエン中、ジメチルアニリンを触媒に用い、酸素存
在化、60℃で反応させ、アクリロリル基を導入した高
分子化合物(化合物(s))に替えた他は、実施例25
と同様の方法で操作した時の、感度特性、回折効率、プ
レイバック波長及び保存安定性試験結果を表3にまとめ
て示した。Example 28 The poly (p-bromophenylmethacrylate) of Example 25 was added in a molar ratio of styrene to maleic anhydride of 9
2-hydroxyethyl acrylate in toluene, dimethylaniline was used as a catalyst for the copolymer of 1 and reacted in the presence of oxygen at 60 ° C. to replace it with a polymer compound (compound (s)) having an acryloyl group introduced. Example 25
Table 3 shows the sensitivity characteristics, diffraction efficiency, playback wavelength, and storage stability test results when operated in the same manner as in.
【0076】化合物(s)Compound (s)
【化21】 [Chemical 21]
【0077】表1Table 1
【表1】 [Table 1]
【0078】 保存性1は、25℃、60%RH保存下における耐久性 保存性2は、90℃保存下における耐久性Storability 1 is durability under storage at 25 ° C. and 60% RH Storability 2 is durability under storage at 90 ° C.
【0079】表2Table 2
【表2】 [Table 2]
【0080】 保存性1は、25℃、60%RH保存下における耐久性 保存性2は、90℃保存下における耐久性Storability 1 is durability at 25 ° C. and 60% RH storage Storability 2 is durability at 90 ° C. storage
【0081】表3Table 3
【表3】 [Table 3]
【0082】 保存性1は、25℃、60%RH保存下における耐久性 保存性2は、90℃保存下における耐久性Storability 1 is durability under storage at 25 ° C. and 60% RH Storability 2 is durability under storage at 90 ° C.
【0083】[0083]
【発明の効果】本発明に依り、長波長領域に渡って高感
度で、化学的に安定であり、かつ高解像度、高回折効
率、高透明性を有する体積位相型ホログラムを簡便に製
造することが可能となる。According to the present invention, it is possible to easily manufacture a volume phase hologram having high sensitivity, chemical stability, high resolution, high diffraction efficiency, and high transparency over a long wavelength region. Is possible.
【0084】[0084]
【図1】図1は、ホログラム作成用二光束露光装置のブ
ロック図を示す。FIG. 1 shows a block diagram of a two-beam exposure apparatus for hologram production.
1:レーザー光源 2:ミラー 3:レンズ 4:スペーシャルフィルター 5:基材(ガラス板) 6:ホログラム感光膜 7:保護膜(ポリビニルアルコール膜) 1: Laser light source 2: Mirror 3: Lens 4: Spatial filter 5: Base material (glass plate) 6: Hologram photosensitive film 7: Protective film (polyvinyl alcohol film)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/038 G03H 1/08 8106−2K ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location G03F 7/038 G03H 1/08 8106-2K
Claims (4)
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
1個以上有する化合物(B)、テトラベンゾポルフィリ
ン誘導体(C)及びスルホニウム有機ホウ素錯体(D)
の組み合わせを含むことを特徴とするホログラム記録材
料。1. A polymer compound (A) which is a homopolymer of a vinyl monomer or a copolymer of two or more vinyl monomers, a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, Tetrabenzoporphyrin derivative (C) and sulfonium organic boron complex (D)
A hologram recording material comprising a combination of
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)が、架橋可能な(メタ)アクリロイル基を有する
ことを特徴とする請求項1記載のホログラム記録材料。2. The polymer compound (A), which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, has a crosslinkable (meth) acryloyl group. The hologram recording material described.
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)の屈折率と、重合可能なエチレン性不飽和結合を
少なくとも1個以上有する化合物(B)の屈折率との屈
折率差が0.005以上であることを特徴とする請求項
1記載のホログラム記録材料。3. A compound having a refractive index of a polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, and at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond. The hologram recording material according to claim 1, wherein the refractive index difference from the refractive index of (B) is 0.005 or more.
分以上のビニルモノマーの共重合体である高分子化合物
(A)、重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
1個以上有する化合物(B)、テトラベンゾポルフィリ
ン誘導体(C)及びスルホニウム有機ホウ素錯体(D)
の組み合わせを含むことを特徴とする請求項1記載のホ
ログラム記録材料を用いてホログラムを製造するにあた
って、該記録材料をホログラム露光したのち、光および
(または)熱を加えることを特徴とする体積位相型ホロ
グラムの製造方法。4. A polymer compound (A) which is a homopolymer of vinyl monomers or a copolymer of vinyl monomers of two or more components, a compound (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated bond, Tetrabenzoporphyrin derivative (C) and sulfonium organic boron complex (D)
The method of producing a hologram using the hologram recording material according to claim 1, wherein the hologram recording material is subjected to hologram exposure, and then light and / or heat is applied. Type hologram manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34653892A JPH06195014A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Holographic recording material and volume phase hologram manufacturing method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34653892A JPH06195014A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Holographic recording material and volume phase hologram manufacturing method using the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06195014A true JPH06195014A (en) | 1994-07-15 |
Family
ID=18384104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34653892A Pending JPH06195014A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Holographic recording material and volume phase hologram manufacturing method using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06195014A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0775706A2 (en) | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Ciba SC Holding AG | Borates photoinitiators from polyboranes |
| KR20190066894A (en) * | 2017-12-06 | 2019-06-14 | 주식회사 엘지화학 | Photopolymer composition |
-
1992
- 1992-12-25 JP JP34653892A patent/JPH06195014A/en active Pending
Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| EP0775706A2 (en) | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Ciba SC Holding AG | Borates photoinitiators from polyboranes |
| KR20190066894A (en) * | 2017-12-06 | 2019-06-14 | 주식회사 엘지화학 | Photopolymer composition |
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