JPH06196959A - 水晶振動子 - Google Patents
水晶振動子Info
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- JPH06196959A JPH06196959A JP27567393A JP27567393A JPH06196959A JP H06196959 A JPH06196959 A JP H06196959A JP 27567393 A JP27567393 A JP 27567393A JP 27567393 A JP27567393 A JP 27567393A JP H06196959 A JPH06196959 A JP H06196959A
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Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 環境にやさしい洗浄液を用いて回路基板への
半田付けの際に付着したフラックスを十分に除去しうる
と共に、耐錆性に優れ、また、組立時にフラックスのガ
スを容器内に侵入させないようにした水晶振動子を提供
する。 【構成】 鉄からなるハーメチックベース32に2つの
透孔33が形成され、これらの透孔33を貫通する2本
のリード線34が配される。各リード線34上に導電性
の保持部材35が一体的に設けられ、その上に水晶振動
子片37が固定される。ハーメチックベース32上のフ
ランジ部32aにキャップ38が載置され、気密的に接
合される。ハーメチックベース32の回路基板Pに対向
する面の両端部には、2つの絶縁性の突起39が設けら
れる。
半田付けの際に付着したフラックスを十分に除去しうる
と共に、耐錆性に優れ、また、組立時にフラックスのガ
スを容器内に侵入させないようにした水晶振動子を提供
する。 【構成】 鉄からなるハーメチックベース32に2つの
透孔33が形成され、これらの透孔33を貫通する2本
のリード線34が配される。各リード線34上に導電性
の保持部材35が一体的に設けられ、その上に水晶振動
子片37が固定される。ハーメチックベース32上のフ
ランジ部32aにキャップ38が載置され、気密的に接
合される。ハーメチックベース32の回路基板Pに対向
する面の両端部には、2つの絶縁性の突起39が設けら
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水晶振動子に関するも
のである。
のである。
【0002】
【従来の技術】一般に、水晶振動子は、その固有機械振
動と水晶の持つ圧電効果、逆圧電効果を利用して電気回
路と組合せることにより、電気的な基準周波数発生や周
波数選択等に利用されている。
動と水晶の持つ圧電効果、逆圧電効果を利用して電気回
路と組合せることにより、電気的な基準周波数発生や周
波数選択等に利用されている。
【0003】従来の水晶振動子は、図15に示すよう
に、金属製の基台、いわゆるハーメチックベース1に2
つの透孔2を穿設し、これら透孔2を貫通する2本のリ
ード線(インナーリード)3上に、それぞれ階段状の導
電性の保持部材4を介して水晶振動子片5を取付け、さ
らに、キャップ6で気密封止して構成される。この場
合、ハーメチックベース1は全周にわたって突起部8を
形成したフランジ部1aを一体に有した形状をなし、ま
た、キャップ6もこれに対応してフランジ部6aを有す
る形状に形成されている。このハーメチックベース1の
フランジ部1aとキャップ6のフランジ部6aを対接さ
せ、キャップ6のフランジ部6aとハーメチックベース
1のフランジ部1aの突起部8とを抵抗溶接で接合し、
水晶振動子片5の気密封止を行っている。
に、金属製の基台、いわゆるハーメチックベース1に2
つの透孔2を穿設し、これら透孔2を貫通する2本のリ
ード線(インナーリード)3上に、それぞれ階段状の導
電性の保持部材4を介して水晶振動子片5を取付け、さ
らに、キャップ6で気密封止して構成される。この場
合、ハーメチックベース1は全周にわたって突起部8を
形成したフランジ部1aを一体に有した形状をなし、ま
た、キャップ6もこれに対応してフランジ部6aを有す
る形状に形成されている。このハーメチックベース1の
フランジ部1aとキャップ6のフランジ部6aを対接さ
せ、キャップ6のフランジ部6aとハーメチックベース
1のフランジ部1aの突起部8とを抵抗溶接で接合し、
水晶振動子片5の気密封止を行っている。
【0004】尚、リード線3はハーメチックベース1の
透孔2内においてガラス融着により固定されてハーメチ
ックベース1との絶縁を図るようになされている。リー
ド線3はガラス9との相性のよい、例えば、コバール
(Fe−Ni−Co合金)又はFeNi合金等で形成さ
れる。また、ハーメチックベース1は金属で形成され
る。そして、水晶振動子片5は、導電性接着剤10によ
り保持部材4上に載置固定される。
透孔2内においてガラス融着により固定されてハーメチ
ックベース1との絶縁を図るようになされている。リー
ド線3はガラス9との相性のよい、例えば、コバール
(Fe−Ni−Co合金)又はFeNi合金等で形成さ
れる。また、ハーメチックベース1は金属で形成され
る。そして、水晶振動子片5は、導電性接着剤10によ
り保持部材4上に載置固定される。
【0005】このような水晶振動子11は、プリント配
線基板等の回路基板に実装される。例えば、両面に配線
パターンを有する両面プリント配線基板に水晶振動子1
1を実装するときには、ハーメチックベース1が金属製
であるため、配線パターンに短絡しないようにハーメチ
ックベース1の裏面に絶縁シートを設けるか、或いはリ
ード線3の中間に折曲部を設けてリード線3をプリント
配線基板のリード挿通孔に挿通したとき、折曲部の位置
で止め、ハーメチックベース1をプリント配線基板より
浮かすようにしている。
線基板等の回路基板に実装される。例えば、両面に配線
パターンを有する両面プリント配線基板に水晶振動子1
1を実装するときには、ハーメチックベース1が金属製
であるため、配線パターンに短絡しないようにハーメチ
ックベース1の裏面に絶縁シートを設けるか、或いはリ
ード線3の中間に折曲部を設けてリード線3をプリント
配線基板のリード挿通孔に挿通したとき、折曲部の位置
で止め、ハーメチックベース1をプリント配線基板より
浮かすようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる水晶
振動子11は、通常半田によって回路基板上に密着する
ように固定されるが、その際に主に溶剤として用いられ
るフラックスを除去するため、従来では、例えば、フロ
ン、トリクロロエタン等の洗浄液を用いて洗浄を行うよ
うにしている。
振動子11は、通常半田によって回路基板上に密着する
ように固定されるが、その際に主に溶剤として用いられ
るフラックスを除去するため、従来では、例えば、フロ
ン、トリクロロエタン等の洗浄液を用いて洗浄を行うよ
うにしている。
【0007】しかしながら、近年、フロン等の溶剤によ
る環境破壊が問題となっていることから、これらに代わ
るものとして、例えば、塩素系溶剤や水、温水等を用い
て水晶振動子11の洗浄を行うことが提案されている。
ところが、塩素系溶剤等はフロン等に比べると洗浄力が
弱いため、特に、水晶振動子11と回路基板との密着部
分に付着したフラックス等を十分に除去することができ
ないという課題があった。
る環境破壊が問題となっていることから、これらに代わ
るものとして、例えば、塩素系溶剤や水、温水等を用い
て水晶振動子11の洗浄を行うことが提案されている。
ところが、塩素系溶剤等はフロン等に比べると洗浄力が
弱いため、特に、水晶振動子11と回路基板との密着部
分に付着したフラックス等を十分に除去することができ
ないという課題があった。
【0008】また、塩素系溶剤や水、温水等を用いて水
晶振動子11の洗浄を行うようにすると、基台及びキャ
ップが金属製であったため、洗浄工程における基台、キ
ャップの防錆対策が必要になるという課題もあった。
晶振動子11の洗浄を行うようにすると、基台及びキャ
ップが金属製であったため、洗浄工程における基台、キ
ャップの防錆対策が必要になるという課題もあった。
【0009】一方、本出願人は、先に図16に示すよう
な構成の水晶振動子21を出願した(特願平4−246
832号参照)。この水晶振動子21は、基台22の反
りを防止するため、基台22がセラミックスで構成され
ている。そして、かかる水晶振動子21においては、キ
ャップ23を構成する枠状体24と蓋体25とを封止す
る必要があるが、例えば、シーム溶接やレーザ溶接によ
る装置費がかさむと共に処理能力が少ないことから、装
置費が安くかつ処理能力の大きい高周波誘導加熱によっ
て封止を行うことが提案されている。
な構成の水晶振動子21を出願した(特願平4−246
832号参照)。この水晶振動子21は、基台22の反
りを防止するため、基台22がセラミックスで構成され
ている。そして、かかる水晶振動子21においては、キ
ャップ23を構成する枠状体24と蓋体25とを封止す
る必要があるが、例えば、シーム溶接やレーザ溶接によ
る装置費がかさむと共に処理能力が少ないことから、装
置費が安くかつ処理能力の大きい高周波誘導加熱によっ
て封止を行うことが提案されている。
【0010】しかしながら、高周波誘導加熱によって封
止を行うと、次のような問題が生ずる。即ち、この方法
は、タングステンW,モリブデンMo又は銀Ag/パラ
ジウムPdからなるメタライズ層がセラミックス上に形
成された枠状体24の接合面と、蓋体25の接合面との
間に半田を配し、高周波誘導加熱によってこの半田を溶
かして封止を行うものであるが、その際、半田付けに用
いられるフラックスが気化して容器内に侵入、残留し、
水晶振動子片5に悪影響を及ぼしてしまう。この場合、
フラックスの含有量が少ない半田を用いることも考えら
れるが、その場合でも水晶振動子片5への影響は完全に
除去できない。
止を行うと、次のような問題が生ずる。即ち、この方法
は、タングステンW,モリブデンMo又は銀Ag/パラ
ジウムPdからなるメタライズ層がセラミックス上に形
成された枠状体24の接合面と、蓋体25の接合面との
間に半田を配し、高周波誘導加熱によってこの半田を溶
かして封止を行うものであるが、その際、半田付けに用
いられるフラックスが気化して容器内に侵入、残留し、
水晶振動子片5に悪影響を及ぼしてしまう。この場合、
フラックスの含有量が少ない半田を用いることも考えら
れるが、その場合でも水晶振動子片5への影響は完全に
除去できない。
【0011】本発明は、従来例のかかる点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、環境にやさしい
洗浄液を用いて回路基板への半田付けの際に付着したフ
ラックスを十分に除去し得ると共に、耐錆性に優れ、ま
た、組立時にフラックスのガスを容器内に侵入させない
ようにした水晶振動子を提供することにある。
れたもので、その目的とするところは、環境にやさしい
洗浄液を用いて回路基板への半田付けの際に付着したフ
ラックスを十分に除去し得ると共に、耐錆性に優れ、ま
た、組立時にフラックスのガスを容器内に侵入させない
ようにした水晶振動子を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、例えば、
図1に示すように、基台32を貫通するリード線34に
保持された水晶振動子片37がこの基台32とキャップ
38により気密封止されてなる水晶振動子において、こ
の基台32に、実装すべき回路基板Pとの間に隙間を形
成するための複数の突起39を設けたものである。
図1に示すように、基台32を貫通するリード線34に
保持された水晶振動子片37がこの基台32とキャップ
38により気密封止されてなる水晶振動子において、こ
の基台32に、実装すべき回路基板Pとの間に隙間を形
成するための複数の突起39を設けたものである。
【0013】また、例えば、図6に示すように、基台4
0及びキャップ71をセラミックス等の絶縁材料で形成
し、これら基台40及びキャップ71間を接着剤75で
接着するとよい。
0及びキャップ71をセラミックス等の絶縁材料で形成
し、これら基台40及びキャップ71間を接着剤75で
接着するとよい。
【0014】第2の発明は、例えば、図8に示すよう
に、基台60を貫通するリード線34に保持された水晶
振動子片37がこの基台60とキャップ61により構成
される容器62内部に配され、この基台60とキャップ
61の接合部を半田付けすることにより気密封止されて
なる水晶振動子において、この基台60とキャップ61
の接合部に、半田64を配すべき部分と容器62内部と
を遮断するためのパッキン63を配したものである。
に、基台60を貫通するリード線34に保持された水晶
振動子片37がこの基台60とキャップ61により構成
される容器62内部に配され、この基台60とキャップ
61の接合部を半田付けすることにより気密封止されて
なる水晶振動子において、この基台60とキャップ61
の接合部に、半田64を配すべき部分と容器62内部と
を遮断するためのパッキン63を配したものである。
【0015】
【作用】第1の発明にあっては、図1〜図3に示すよう
に、基台32に複数の突起39を設けたことから、回路
基板P上に実装した場合に、基台32と回路基板Pとの
間に隙間が形成され、この隙間内を洗浄液が流れるよう
になる。
に、基台32に複数の突起39を設けたことから、回路
基板P上に実装した場合に、基台32と回路基板Pとの
間に隙間が形成され、この隙間内を洗浄液が流れるよう
になる。
【0016】また、セラミックス等の絶縁材料で形成さ
れた基台40及びキャップ71間を接着剤75で接着す
ることから、錆に対する耐久性を向上させると共に、接
着面積が広くなり基台40及びキャップ71間の接着力
が増大される。
れた基台40及びキャップ71間を接着剤75で接着す
ることから、錆に対する耐久性を向上させると共に、接
着面積が広くなり基台40及びキャップ71間の接着力
が増大される。
【0017】第2の発明にあっては、パッキン63によ
って半田64を配すべき部分と容器62内部とが遮断さ
れるため、例えば、高周波加熱によって半田64を溶か
した場合に、半田付け用フラックスのガスの容器62内
部への侵入が防止される。
って半田64を配すべき部分と容器62内部とが遮断さ
れるため、例えば、高周波加熱によって半田64を溶か
した場合に、半田付け用フラックスのガスの容器62内
部への侵入が防止される。
【0018】
【実施例】以下、本発明に係わる水晶振動子の実施例に
ついて図面を参照して説明する。
ついて図面を参照して説明する。
【0019】図1〜図3は、第1の発明の一実施例を示
すものである。これら図に示すように、本実施例の水晶
振動子31においては、例えば、鉄等の金属からなる基
台としてのハーメチックベース32に2つの透孔33が
形成され、これらの透孔33を貫通する2本のリード線
34が配される。そして、2本のリード線34は、ガラ
スGの融着により気密的に絶縁封止される。さらに、各
リード線34上には階段状の導電性の保持部材35が一
体的に設けられ、これら保持部材35上には導電性接着
剤36により水晶振動子片37が固定される。
すものである。これら図に示すように、本実施例の水晶
振動子31においては、例えば、鉄等の金属からなる基
台としてのハーメチックベース32に2つの透孔33が
形成され、これらの透孔33を貫通する2本のリード線
34が配される。そして、2本のリード線34は、ガラ
スGの融着により気密的に絶縁封止される。さらに、各
リード線34上には階段状の導電性の保持部材35が一
体的に設けられ、これら保持部材35上には導電性接着
剤36により水晶振動子片37が固定される。
【0020】また、ハーメチックベース32のフランジ
部32aには、例えば、鉄等の金属からなり且つフラン
ジ部38aを有するキャップ38が載置され、これらは
気密的に接合される。尚、ハーメチックベース32及び
キャップ38は共に細長形状を有し、その両端部は円弧
状に形成される。
部32aには、例えば、鉄等の金属からなり且つフラン
ジ部38aを有するキャップ38が載置され、これらは
気密的に接合される。尚、ハーメチックベース32及び
キャップ38は共に細長形状を有し、その両端部は円弧
状に形成される。
【0021】一方、ハーメチックベース32の裏面、即
ち、水晶振動子31を実装すべき回路基板(例えば、プ
リント配線板等)Pに対向する面の両端部には、2つの
突起39が設けられる。これらの突起39は、例えば、
セラミックス等の絶縁性の材料からなり、ハーメチック
ベース32の形状に合わせるように扇形状の平板部材か
ら構成される。この場合、各突起39のハーメチックベ
ース32への固定は、例えば、各突起39の接合面にメ
タライズ層を形成し、このメタライズ層とハーメチック
ベース32の接合面とを半田で溶着することにより行
う。
ち、水晶振動子31を実装すべき回路基板(例えば、プ
リント配線板等)Pに対向する面の両端部には、2つの
突起39が設けられる。これらの突起39は、例えば、
セラミックス等の絶縁性の材料からなり、ハーメチック
ベース32の形状に合わせるように扇形状の平板部材か
ら構成される。この場合、各突起39のハーメチックベ
ース32への固定は、例えば、各突起39の接合面にメ
タライズ層を形成し、このメタライズ層とハーメチック
ベース32の接合面とを半田で溶着することにより行
う。
【0022】かかる構成を有する本実施例によれば、ハ
ーメチックベース32の裏面に2つの突起39を設けた
ので、回路基板P上に実装した場合に、ハーメチックベ
ース32との間に隙間が形成される。この結果、洗浄工
程において洗浄液を供給した場合に、ハーメチックベー
ス32及び回路基板P間に十分に洗浄液が流れるため、
例えば、塩素系溶剤や水、温水など洗浄力のあまり強く
ない洗浄液を用いた場合であっても、半田付け用のフラ
ックスをほぼ完全に除去することができるようになる。
ーメチックベース32の裏面に2つの突起39を設けた
ので、回路基板P上に実装した場合に、ハーメチックベ
ース32との間に隙間が形成される。この結果、洗浄工
程において洗浄液を供給した場合に、ハーメチックベー
ス32及び回路基板P間に十分に洗浄液が流れるため、
例えば、塩素系溶剤や水、温水など洗浄力のあまり強く
ない洗浄液を用いた場合であっても、半田付け用のフラ
ックスをほぼ完全に除去することができるようになる。
【0023】なお、上述の実施例においては、突起の材
料としてセラミックスを用いたが、本発明はこれに限定
されるものではなく、絶縁性の材料であれば耐熱性の接
着テープや、四フッ化エチレン樹脂の液状体を塗布して
硬化させたものを用いることもできる。また、片面(裏
面)に配線が施された回路基板上に実装する場合には、
突起の材料として金属等の導電性の材料を用いることも
できる。
料としてセラミックスを用いたが、本発明はこれに限定
されるものではなく、絶縁性の材料であれば耐熱性の接
着テープや、四フッ化エチレン樹脂の液状体を塗布して
硬化させたものを用いることもできる。また、片面(裏
面)に配線が施された回路基板上に実装する場合には、
突起の材料として金属等の導電性の材料を用いることも
できる。
【0024】さらに、突起の位置、形状、数についても
上述の実施例に限られず、任意とすることができる。も
っとも、回路基板に実装した場合に安定するように構成
することが好ましい。
上述の実施例に限られず、任意とすることができる。も
っとも、回路基板に実装した場合に安定するように構成
することが好ましい。
【0025】次に、第1の発明の他の実施例について、
上記実施例と対応する部分には同一の符号を付して説明
する。
上記実施例と対応する部分には同一の符号を付して説明
する。
【0026】図4は、本発明の他の実施例を示すもので
ある。同図に示すように、本実施例においては、ハーメ
チックベース40がセラミックスで構成され、その下部
に上記実施例と同様の形状を有する突起41が一体に形
成されている。そして、ハーメチックベース40上に水
晶振動子片37を囲うように枠状体42が気密的に接合
され、この枠状体42上に蓋体43が気密的に接合され
る。この場合、枠状体42及び蓋体43は、共にセラミ
ックス、ガラス又は金属のいずれを用いてもよく、ま
た、枠状体42及び蓋体43を金属で一体に構成するこ
ともできる。
ある。同図に示すように、本実施例においては、ハーメ
チックベース40がセラミックスで構成され、その下部
に上記実施例と同様の形状を有する突起41が一体に形
成されている。そして、ハーメチックベース40上に水
晶振動子片37を囲うように枠状体42が気密的に接合
され、この枠状体42上に蓋体43が気密的に接合され
る。この場合、枠状体42及び蓋体43は、共にセラミ
ックス、ガラス又は金属のいずれを用いてもよく、ま
た、枠状体42及び蓋体43を金属で一体に構成するこ
ともできる。
【0027】本実施例の気密封止は、特に、枠状体42
及び蓋体43の少なくとも一方がセラミックス、ガラス
等の絶縁材料である場合には、エポキシ系樹脂接着剤、
ポリイミド系接着剤等の接着剤を用いて行われる。即
ち、枠状体42の一側の周縁端面とハーメチックベース
40との間に当該周縁端面の全周にわたって接着剤を介
在させると共に、枠状体42の他側の周縁端面と蓋体4
3との間に当該周縁端面の全周にわたって接着剤を介在
させる。そして、これら接着剤の接着力でハーメチック
ベース40と枠状体42との間、及び、枠状体42と蓋
体43との間をそれぞれ接着している。その他の構成及
び作用については、上記実施例と同様であるのでその説
明を省略する。
及び蓋体43の少なくとも一方がセラミックス、ガラス
等の絶縁材料である場合には、エポキシ系樹脂接着剤、
ポリイミド系接着剤等の接着剤を用いて行われる。即
ち、枠状体42の一側の周縁端面とハーメチックベース
40との間に当該周縁端面の全周にわたって接着剤を介
在させると共に、枠状体42の他側の周縁端面と蓋体4
3との間に当該周縁端面の全周にわたって接着剤を介在
させる。そして、これら接着剤の接着力でハーメチック
ベース40と枠状体42との間、及び、枠状体42と蓋
体43との間をそれぞれ接着している。その他の構成及
び作用については、上記実施例と同様であるのでその説
明を省略する。
【0028】かかる構成を有する本実施例によれば、特
に、ハーメチックベース40と枠状体42と蓋体43と
を共にセラミックスで形成し、これらハーメチックベー
ス40と枠状体42と蓋体43とを接着剤で接着する構
成とした場合には、錆びることのない容器を提供するこ
とができ、この種の水晶振動子31における耐錆性を大
幅に向上できると共に、金属製ハーメチックベースで使
用されている絶縁シートを不要とすることができ、使用
部品の削減を図ることができる。また、気密封止する際
に、金属製容器では抵抗溶接を用いて接合するため、水
晶振動子片が溶接圧による影響を受け易く、振動子の特
性を若干変化させるおそれがあるが、本実施例によれ
ば、かかるおそれを生ずることがない。しかも、抵抗溶
接では接合面の全面を接着することはできないが、接着
剤を用いた場合には、接合面の全面を接着することがで
きるため、ハーメチックベース40と枠状体42との間
の接着力を大幅に向上できる。
に、ハーメチックベース40と枠状体42と蓋体43と
を共にセラミックスで形成し、これらハーメチックベー
ス40と枠状体42と蓋体43とを接着剤で接着する構
成とした場合には、錆びることのない容器を提供するこ
とができ、この種の水晶振動子31における耐錆性を大
幅に向上できると共に、金属製ハーメチックベースで使
用されている絶縁シートを不要とすることができ、使用
部品の削減を図ることができる。また、気密封止する際
に、金属製容器では抵抗溶接を用いて接合するため、水
晶振動子片が溶接圧による影響を受け易く、振動子の特
性を若干変化させるおそれがあるが、本実施例によれ
ば、かかるおそれを生ずることがない。しかも、抵抗溶
接では接合面の全面を接着することはできないが、接着
剤を用いた場合には、接合面の全面を接着することがで
きるため、ハーメチックベース40と枠状体42との間
の接着力を大幅に向上できる。
【0029】図5は、第1の実施例のさらに他の実施例
を示すもので、いわゆるチップタイプの水晶振動子に適
用したものである。本実施例においては、図4に示す実
施例と同様にセラミックスからなるハーメチックベース
50の下部に突起51が形成され、その突起51の部分
近傍にリード部が形成される。即ち、ハーメチックベー
ス50の上面に保持部材35と接続するAg/Pd層5
2が形成され、このAg/Pd層52は、ハーメチック
ベース50を貫通して形成されたAg/Pd層53を介
してハーメチックベース50の突起51のAg/Pd層
54に接続される。そして、このAg/Pd層54上に
はNiめっき層55及び半田層56が形成され、回路基
板Pとの接続部分を構成する。その他の構成及び作用に
ついては、上記実施例と同様であるのでその説明を省略
する。
を示すもので、いわゆるチップタイプの水晶振動子に適
用したものである。本実施例においては、図4に示す実
施例と同様にセラミックスからなるハーメチックベース
50の下部に突起51が形成され、その突起51の部分
近傍にリード部が形成される。即ち、ハーメチックベー
ス50の上面に保持部材35と接続するAg/Pd層5
2が形成され、このAg/Pd層52は、ハーメチック
ベース50を貫通して形成されたAg/Pd層53を介
してハーメチックベース50の突起51のAg/Pd層
54に接続される。そして、このAg/Pd層54上に
はNiめっき層55及び半田層56が形成され、回路基
板Pとの接続部分を構成する。その他の構成及び作用に
ついては、上記実施例と同様であるのでその説明を省略
する。
【0030】図6〜図7は、第1の実施例のさらにまた
他の実施例を示すものである。この実施例は、図4に示
した実施例の枠状体42と蓋体43とをセラミックス等
の絶縁材料で一体に形成してキャップ71を構成したも
のである。ハーメチックベース40とキャップ71とは
共にセラミックスからなり、これらハーメチックベース
40とキャップ71とからなるセラミックス製容器72
の内部に水晶振動子片73が気密封止される。
他の実施例を示すものである。この実施例は、図4に示
した実施例の枠状体42と蓋体43とをセラミックス等
の絶縁材料で一体に形成してキャップ71を構成したも
のである。ハーメチックベース40とキャップ71とは
共にセラミックスからなり、これらハーメチックベース
40とキャップ71とからなるセラミックス製容器72
の内部に水晶振動子片73が気密封止される。
【0031】本実施例の気密封止は、上記実施例と同様
に、エポキシ系樹脂接着剤、ポリイミド系接着剤等の接
着剤75を用いて行われる。接着剤75は、キャップ7
1の開口側の周縁端面とハーメチックベース40との間
に全周にわたって介在され、この接着剤75の接着力に
よりキャップ71がハーメチックベース40に接着され
る。本実施例の場合、キャップ71は、水晶振動子片7
3等を収納できる凹陥部74が開口された1個の蓋付枠
状体から構成されているが、ハーメチックベース40及
びその裏面の両端部に設けた2つの突起41は図4に示
したものと同一である。なお、水晶振動子片73は、凸
レンズ状の断面形状をなしており、上記実施例と同様
に、導電性の保持部材35上に導電性接着剤36によっ
て接着固定される。
に、エポキシ系樹脂接着剤、ポリイミド系接着剤等の接
着剤75を用いて行われる。接着剤75は、キャップ7
1の開口側の周縁端面とハーメチックベース40との間
に全周にわたって介在され、この接着剤75の接着力に
よりキャップ71がハーメチックベース40に接着され
る。本実施例の場合、キャップ71は、水晶振動子片7
3等を収納できる凹陥部74が開口された1個の蓋付枠
状体から構成されているが、ハーメチックベース40及
びその裏面の両端部に設けた2つの突起41は図4に示
したものと同一である。なお、水晶振動子片73は、凸
レンズ状の断面形状をなしており、上記実施例と同様
に、導電性の保持部材35上に導電性接着剤36によっ
て接着固定される。
【0032】かかる構成を有する本実施例によれば、キ
ャップ71とハーメチックベース40がセラミックスで
あると共に、これらキャップ71及びハーメチックベー
ス40間を接着剤75で接着する構成としたので、上記
図4に示した実施例と同様に、錆びることのない容器7
2を提供することができ、この種の水晶振動子31にお
ける耐錆性を大幅に向上できる等の効果を得ることがで
きる。しかも、本実施例では、予めキャップ71が一体
に構成されているため、枠状体42と蓋体43とを接合
する手間が不要となり、組立工数が削減され、生産性が
向上される。
ャップ71とハーメチックベース40がセラミックスで
あると共に、これらキャップ71及びハーメチックベー
ス40間を接着剤75で接着する構成としたので、上記
図4に示した実施例と同様に、錆びることのない容器7
2を提供することができ、この種の水晶振動子31にお
ける耐錆性を大幅に向上できる等の効果を得ることがで
きる。しかも、本実施例では、予めキャップ71が一体
に構成されているため、枠状体42と蓋体43とを接合
する手間が不要となり、組立工数が削減され、生産性が
向上される。
【0033】図8〜図10は、第2の発明の実施例を示
すものであり、以下、上記第1の発明の各実施例と対応
する部分には同一の符号を付して説明する。本実施例に
おいては、セラミックスからなるハーメチックベース6
0と鉄等の金属からなるキャップ61から容器62が構
成され、この容器62内に水晶振動子片37が気密封止
される。本実施例の場合、ハーメチックベース60の側
壁上部の内側に傾斜面60aが形成される。一方、キャ
ップ61は概ね平板状に形成されるが、その周縁部は、
ハーメチックベース60の側壁上部の形状に対応して折
曲形成される。
すものであり、以下、上記第1の発明の各実施例と対応
する部分には同一の符号を付して説明する。本実施例に
おいては、セラミックスからなるハーメチックベース6
0と鉄等の金属からなるキャップ61から容器62が構
成され、この容器62内に水晶振動子片37が気密封止
される。本実施例の場合、ハーメチックベース60の側
壁上部の内側に傾斜面60aが形成される。一方、キャ
ップ61は概ね平板状に形成されるが、その周縁部は、
ハーメチックベース60の側壁上部の形状に対応して折
曲形成される。
【0034】本実施例の気密封止は、半田を用いて行わ
れる。即ち、ハーメチックベース60の側壁上部には、
図11に拡大して示すように、W,Mo又はAg/Pd
のメタライズ層60bが形成され、このメタライズ層6
0b上に半田64が配される。そして、ハーメチックベ
ース60及びキャップ61の傾斜面60a,61a間か
らキャップ61の中央部に向かってパッキン63が配さ
れる。このパッキン63は、例えば、シリコーン樹脂か
らなるものが用いられ、半田64と容器62内部とが遮
断されるように全周にわたって配される。
れる。即ち、ハーメチックベース60の側壁上部には、
図11に拡大して示すように、W,Mo又はAg/Pd
のメタライズ層60bが形成され、このメタライズ層6
0b上に半田64が配される。そして、ハーメチックベ
ース60及びキャップ61の傾斜面60a,61a間か
らキャップ61の中央部に向かってパッキン63が配さ
れる。このパッキン63は、例えば、シリコーン樹脂か
らなるものが用いられ、半田64と容器62内部とが遮
断されるように全周にわたって配される。
【0035】かかる構成を有する本実施例によれば、パ
ッキン63によって半田64を配すべき部分と容器62
内部とが遮断されるので、例えば、高周波加熱によって
半田64を溶かした場合に、フラックスのガスは容器6
2内部に侵入せず、水晶振動子片37に対する悪影響が
防止される。
ッキン63によって半田64を配すべき部分と容器62
内部とが遮断されるので、例えば、高周波加熱によって
半田64を溶かした場合に、フラックスのガスは容器6
2内部に侵入せず、水晶振動子片37に対する悪影響が
防止される。
【0036】尚、上記実施例においては、ハーメチック
ベース60及びキャップ61の接合部に傾斜面60a,
61aを形成し、両傾斜面60a,61aに挟まれる部
分から中央に向かってパッキン63を配するようにした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、
図12に示すように、平板状のキャップ65を用いると
共に、ハーメチックベース60との接合面に傾斜面を形
成せず、ハーメチックベース60とキャップ61とのコ
ーナー部にパッキン63を配することもできる。この場
合、図13,図14に示すように、キャップ65には上
下いずれかの方向に段部を形成してもよい。
ベース60及びキャップ61の接合部に傾斜面60a,
61aを形成し、両傾斜面60a,61aに挟まれる部
分から中央に向かってパッキン63を配するようにした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、
図12に示すように、平板状のキャップ65を用いると
共に、ハーメチックベース60との接合面に傾斜面を形
成せず、ハーメチックベース60とキャップ61とのコ
ーナー部にパッキン63を配することもできる。この場
合、図13,図14に示すように、キャップ65には上
下いずれかの方向に段部を形成してもよい。
【0037】また、本発明は、以上の実施例に限られ
ず、上述した第1の発明と第2の発明を組み合わせるこ
とも可能である。即ち、例えば、図8〜図10に示す水
晶振動子のハーメチックベース60の下面に、例えば、
図4に示すような突起41を設けることもできる。この
ように、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変
更できるものである。
ず、上述した第1の発明と第2の発明を組み合わせるこ
とも可能である。即ち、例えば、図8〜図10に示す水
晶振動子のハーメチックベース60の下面に、例えば、
図4に示すような突起41を設けることもできる。この
ように、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変
更できるものである。
【0038】
【発明の効果】以上述べたように、第1の発明にあって
は、実装すべき回路基板との間に隙間を形成するための
複数の突起を基台に設けたことから、水や温水等の環境
にやさしい洗浄液を用いた場合であっても、回路基板へ
の半田付けの際に付着したフラックスを十分に除去する
ことができるという効果が得られる。
は、実装すべき回路基板との間に隙間を形成するための
複数の突起を基台に設けたことから、水や温水等の環境
にやさしい洗浄液を用いた場合であっても、回路基板へ
の半田付けの際に付着したフラックスを十分に除去する
ことができるという効果が得られる。
【0039】そして、基台とキャップとをセラミックス
等の絶縁材料で形成すると共に、これら基台及びキャッ
プ間を、接着剤を用いて接着して気密封止したことか
ら、錆びることのない容器を提供することができ、この
種の水晶振動子における耐錆性を大幅に向上できると共
に、従来の金属製ハーメチックベースで使用されていた
絶縁シートを不要として、使用部品の削減を図ることが
できる。
等の絶縁材料で形成すると共に、これら基台及びキャッ
プ間を、接着剤を用いて接着して気密封止したことか
ら、錆びることのない容器を提供することができ、この
種の水晶振動子における耐錆性を大幅に向上できると共
に、従来の金属製ハーメチックベースで使用されていた
絶縁シートを不要として、使用部品の削減を図ることが
できる。
【0040】また、第2の発明にあっては、基台とキャ
ップとの接合部に、半田を配すべき部分と容器内部とを
遮断するためのパッキンを設けたことから、組立時にフ
ラックスのガスの容器内への侵入を阻止して水晶振動子
片への悪影響を防止することができるという効果が得ら
れる。
ップとの接合部に、半田を配すべき部分と容器内部とを
遮断するためのパッキンを設けたことから、組立時にフ
ラックスのガスの容器内への侵入を阻止して水晶振動子
片への悪影響を防止することができるという効果が得ら
れる。
【図1】第1の発明に係る水晶振動子の実施例を示す構
成図である。
成図である。
【図2】同、底面図である。
【図3】同、キャップを断面した側面図である。
【図4】第1の発明に係る水晶振動子の他の実施例を示
す構成図である。
す構成図である。
【図5】第1の発明に係る水晶振動子のさらに他の実施
例を示す構成図である。
例を示す構成図である。
【図6】第1の発明に係る水晶振動子のさらにまた他の
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図7】同、平面図である。
【図8】第2の発明に係る水晶振動子の実施例を示す構
成図である。
成図である。
【図9】同、平面図である。
【図10】同、縦断面図である。
【図11】同、要部を拡大して示す構成図である。
【図12】第2の発明に係る水晶振動子の他の実施例の
要部を示す構成図である。
要部を示す構成図である。
【図13】同、さらに他の実施例の要部を示す構成図で
ある。
ある。
【図14】同、さらにまた他の実施例の要部を示す構成
図である。
図である。
【図15】従来例に係る水晶振動子の構成図である。
【図16】他の従来例に係る水晶振動子の構成図であ
る。
る。
32,40,50,60 ハーメチックベース 32a フランジ部 33 透孔 34 リード線 35 保持部材 37,73 水晶振動子片 38,61,65,71 キャップ 38a フランジ部 39,41,51 突起 60a,61a 傾斜面 60b メタライズ層 62,72 容器 63 パッキン 64 半田 74 凹陥部 75 接着剤 P 回路基板
Claims (3)
- 【請求項1】 基台を貫通するリード線に保持された水
晶振動子片が上記基台とキャップにより気密に封止され
てなる水晶振動子において、 上記基台に、実装すべき回路基板との間に隙間を形成す
るための複数の突起を設けたことを特徴とする水晶振動
子。 - 【請求項2】 上記基台及び上記キャップはセラミック
ス等の絶縁材料からなり、これら基台及びキャップ間を
接着剤により接着したことを特徴とする請求項1記載の
水晶振動子。 - 【請求項3】 基台を貫通するリード線に保持された水
晶振動子片が上記基台とキャップにより構成される容器
内部に配され、上記基台と上記キャップの接合部を半田
付けすることにより気密封止されてなる水晶振動子にお
いて、 上記基台と上記キャップの接合部に、半田を配すべき部
分と上記容器内部とを遮断するためのパッキンを配した
ことを特徴とする水晶振動子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27567393A JPH06196959A (ja) | 1992-11-04 | 1993-11-04 | 水晶振動子 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29516692 | 1992-11-04 | ||
| JP4-295166 | 1992-11-04 | ||
| JP27567393A JPH06196959A (ja) | 1992-11-04 | 1993-11-04 | 水晶振動子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06196959A true JPH06196959A (ja) | 1994-07-15 |
Family
ID=26551575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27567393A Pending JPH06196959A (ja) | 1992-11-04 | 1993-11-04 | 水晶振動子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06196959A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012205094A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 水晶発振器 |
-
1993
- 1993-11-04 JP JP27567393A patent/JPH06196959A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012205094A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 水晶発振器 |
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