JPH06199805A - ３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法Info
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- JPH06199805A JPH06199805A JP26435093A JP26435093A JPH06199805A JP H06199805 A JPH06199805 A JP H06199805A JP 26435093 A JP26435093 A JP 26435093A JP 26435093 A JP26435093 A JP 26435093A JP H06199805 A JPH06199805 A JP H06199805A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式(II)のピラゾ−ル類をハロゲン化剤の存在
下にハロゲン化することからなる式(I) の３−（置換フ
ェニル）ピラゾ−ル誘導体の製造方法。 【化１】 （式中、R1はＨ、低級アルキル；R2は低級アルコキシ、
低級ハロアルコキシ；R3はハロゲン、低級アルコキシ、
カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキ
ルチオカルボニルアルコキシカルボニル、アミノカルボ
ニルアルコキシ、低級アルコキシカルボニルアルコキ
シ；Ｘ及びＹはハロゲンを示す。）
下にハロゲン化することからなる式(I) の３−（置換フ
ェニル）ピラゾ−ル誘導体の製造方法。 【化１】 （式中、R1はＨ、低級アルキル；R2は低級アルコキシ、
低級ハロアルコキシ；R3はハロゲン、低級アルコキシ、
カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキ
ルチオカルボニルアルコキシカルボニル、アミノカルボ
ニルアルコキシ、低級アルコキシカルボニルアルコキ
シ；Ｘ及びＹはハロゲンを示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)
【化３】 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示し、R2は
低級アルコキシ基又は低級ハロアルコキシ基を示し、R3
はハロゲン原子、低級アルコキシ基、カルボキシル基、
低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アミノカルボニルアルコ
キシ基又は低級アルコキシカルボニルアルコキシ基を示
し、X は同一又は異なっても良いハロゲン原子を示し、
Y はハロゲン原子を示す。〕で表される３−（置換フェ
ニル）ピラゾ−ル誘導体の製造方法に関するものであ
る。
低級アルコキシ基又は低級ハロアルコキシ基を示し、R3
はハロゲン原子、低級アルコキシ基、カルボキシル基、
低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アミノカルボニルアルコ
キシ基又は低級アルコキシカルボニルアルコキシ基を示
し、X は同一又は異なっても良いハロゲン原子を示し、
Y はハロゲン原子を示す。〕で表される３−（置換フェ
ニル）ピラゾ−ル誘導体の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】特開平２−３００１７３号、特開平３−
４７１８０号、特開平３−８１２７５号、特開平３−１
５１３６７号及び特開平３−１６３０６３号公報等に本
発明の製造方法によって得られる３−（置換フェニル）
ピラゾ−ル誘導体が除草剤として有用であることが開示
されている。
４７１８０号、特開平３−８１２７５号、特開平３−１
５１３６７号及び特開平３−１６３０６３号公報等に本
発明の製造方法によって得られる３−（置換フェニル）
ピラゾ−ル誘導体が除草剤として有用であることが開示
されている。
【０００３】
【発明が解決使用とする課題】本発明者等は除草剤とし
て有用な３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体の新規
な製造方法に関し、鋭意研究を重ねた結果、本発明を完
成させたものである。
て有用な３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体の新規
な製造方法に関し、鋭意研究を重ねた結果、本発明を完
成させたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の一般式(I) で表
される３−置換フェニルピラゾ−ル誘導体の製造方法
を、例えば図式的に示すと下記の通りである。
される３−置換フェニルピラゾ−ル誘導体の製造方法
を、例えば図式的に示すと下記の通りである。
【化４】 〔式中、R1、R2、R3、X 及びY は前記に同じ。〕
【０００５】一般式(II)で表されるピラゾ−ル類を不活
性溶媒の存在下又は不存在下にハロゲン化剤でハロゲン
化することにより一般式(I) で表される３−（置換フェ
ニル）ピラゾ−ル誘導体を製造することができる。本反
応で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を著し
く阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ジエチルエ−テル、メチルセロソルブ等の鎖状エ−テル
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−テル
類、酢酸等の有機酸類、スルホラン、ジメチルスルホキ
シド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、オキシ塩化リ
ン、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒は
単独で若しくは混合して使用することができるが、本発
明はこれらの不活性溶媒に限定されるものではない。
性溶媒の存在下又は不存在下にハロゲン化剤でハロゲン
化することにより一般式(I) で表される３−（置換フェ
ニル）ピラゾ−ル誘導体を製造することができる。本反
応で使用できる不活性溶媒としては本反応の進行を著し
く阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ジエチルエ−テル、メチルセロソルブ等の鎖状エ−テル
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−テル
類、酢酸等の有機酸類、スルホラン、ジメチルスルホキ
シド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、オキシ塩化リ
ン、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒は
単独で若しくは混合して使用することができるが、本発
明はこれらの不活性溶媒に限定されるものではない。
【０００６】本発明で使用するハロゲン化剤としては、
例えば塩素、臭素、沃素、塩化スルフリル、五塩化リ
ン、五臭化リン、次亜塩素酸ソ−ダ等のハロゲン化剤を
使用することができ、これらのハロゲン化剤は単独で若
しくは混合して使用することもできる。ハロゲン化剤の
使用量は一般式(II)で表されるピラゾ−ル類に対して等
モル乃至過剰モルの範囲で選択して使用すれば良く、好
ましくは若干過剰に使用するのが良い。本反応の進行を
促進させるために触媒量の鉄粉、沃化カリウム、沃素等
を添加することもできる。
例えば塩素、臭素、沃素、塩化スルフリル、五塩化リ
ン、五臭化リン、次亜塩素酸ソ−ダ等のハロゲン化剤を
使用することができ、これらのハロゲン化剤は単独で若
しくは混合して使用することもできる。ハロゲン化剤の
使用量は一般式(II)で表されるピラゾ−ル類に対して等
モル乃至過剰モルの範囲で選択して使用すれば良く、好
ましくは若干過剰に使用するのが良い。本反応の進行を
促進させるために触媒量の鉄粉、沃化カリウム、沃素等
を添加することもできる。
【０００７】本反応は脱ハロゲン化水素剤の存在下に反
応を行うことも可能で、脱ハロゲン化水素剤としては、
例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を使用することが
できる。その使用量は一般式(II)で表されるピラゾ−ル
類に対して等モル乃至過剰モルの範囲で選択して使用す
れば良い。
応を行うことも可能で、脱ハロゲン化水素剤としては、
例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を使用することが
できる。その使用量は一般式(II)で表されるピラゾ−ル
類に対して等モル乃至過剰モルの範囲で選択して使用す
れば良い。
【０００８】本反応の反応温度は室温乃至使用する不活
性溶媒の沸点域から適宜選択すれば良い。反応時間は反
応量、反応温度等により一定しないが数分乃至48時間の
範囲である。反応終了後、目的物を含む反応系から常法
により単離し、必要に応じて精製することにより目的物
を製造することができる。本発明の一般式(I) で表され
る３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体の原料化合物
である一般式(II)で表されるピラゾ−ル類は、例えば下
記に図示する製法により製造することができる。
性溶媒の沸点域から適宜選択すれば良い。反応時間は反
応量、反応温度等により一定しないが数分乃至48時間の
範囲である。反応終了後、目的物を含む反応系から常法
により単離し、必要に応じて精製することにより目的物
を製造することができる。本発明の一般式(I) で表され
る３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体の原料化合物
である一般式(II)で表されるピラゾ−ル類は、例えば下
記に図示する製法により製造することができる。
【０００９】.
【化５】 〔式中、R1、R2及びX は前記に同じくし、R3-1はハロゲ
ン原子又は低級アルコキシ基を示し、R2' は低級アルキ
ル基又は低級ハロアルキル基を示し、R5は低級アルキル
基又は低級アルキルチオカルボニルアルキル基を示し、
Z はハロゲン原子を示す。〕
ン原子又は低級アルコキシ基を示し、R2' は低級アルキ
ル基又は低級ハロアルキル基を示し、R5は低級アルキル
基又は低級アルキルチオカルボニルアルキル基を示し、
Z はハロゲン原子を示す。〕
【００１０】R3がハロゲン原子、低級アルコキシ基、カ
ルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級ア
ルキルチオカルボニルアルコキシカルボニル基の場合、
一般式(XIV) で表される化合物と一般式(V) で表される
ヒドラジン類とを反応させて一般式(XIII)で表される化
合物とし、該化合物(XIII)を単離し若しくは単離せずし
て一般式(III) で表されるハライド類と反応させること
により一般式(II-1)で表されるピラゾ−ル類を製造する
ことができる。次いで得られた一般式(II-1)で表される
ピラゾ−ル類のR3 1がハロゲン原子で表されるピラゾ−
ル類をカルボキシル化することにより一般式(II-2)で表
されるピラゾ−ル類を製造することができる。更に該ピ
ラゾ−ル類(II-2)をエステル化反応することにより一般
式(II-3)で表されるピラゾ−ル類を製造することができ
る。
ルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基又は低級ア
ルキルチオカルボニルアルコキシカルボニル基の場合、
一般式(XIV) で表される化合物と一般式(V) で表される
ヒドラジン類とを反応させて一般式(XIII)で表される化
合物とし、該化合物(XIII)を単離し若しくは単離せずし
て一般式(III) で表されるハライド類と反応させること
により一般式(II-1)で表されるピラゾ−ル類を製造する
ことができる。次いで得られた一般式(II-1)で表される
ピラゾ−ル類のR3 1がハロゲン原子で表されるピラゾ−
ル類をカルボキシル化することにより一般式(II-2)で表
されるピラゾ−ル類を製造することができる。更に該ピ
ラゾ−ル類(II-2)をエステル化反応することにより一般
式(II-3)で表されるピラゾ−ル類を製造することができ
る。
【００１１】表１にの製法により得られた一般式(II)
で表されるピラゾ−ル類の代表例を示す。一般式(II)
で表されるピラゾ−ル類の代表例を示す。一般式(II)
【化６】
【００１２】
【表１】
【００１３】表１中で物性が粘稠物で示される化合物の
ＮＭＲデ−タを表２に示す。
ＮＭＲデ−タを表２に示す。
【表２】
【００１４】.
【化７】 〔式中、R1、R2' 、R4、X 及びZ は前記に同じくし、R6
は低級アルコキシ基又はアミノ基を示し、M はアルカリ
金属原子を示す。〕
は低級アルコキシ基又はアミノ基を示し、M はアルカリ
金属原子を示す。〕
【００１５】R6がアミノカルボニルアルコキシ基又は低
級アルコキシカルボニルアルコキシ基の場合、一般式(X
II) で表される化合物と一般式(XI)で表されるハライド
類をフリ−デル・クラフツ反応により一般式(X) で表さ
れる化合物とし、該化合物(X) を単離し若しくは単離せ
ずして一般式(IX)で表されるアルカリ金属原子のシアノ
化物と反応することにより一般式(VIII)で表される化合
物とし、該化合物(VIII)を単離し若しくは単離せずして
酸性下に一般式(VII) で表されるアルコ−ル類と反応さ
せて一般式(VI)で表される化合物とし、該化合物(VI)を
単離し若しくは単離せずして一般式(V) で表されるヒド
ラジン類と反応させて一般式(IV)で表される化合物と
し、該化合物(IV)を単離し若しくは単離せずして一般式
(III) で表されるハライド類と反応させることにより一
般式(II-4)で表されるピラゾ−ル類を製造することがで
きる。
級アルコキシカルボニルアルコキシ基の場合、一般式(X
II) で表される化合物と一般式(XI)で表されるハライド
類をフリ−デル・クラフツ反応により一般式(X) で表さ
れる化合物とし、該化合物(X) を単離し若しくは単離せ
ずして一般式(IX)で表されるアルカリ金属原子のシアノ
化物と反応することにより一般式(VIII)で表される化合
物とし、該化合物(VIII)を単離し若しくは単離せずして
酸性下に一般式(VII) で表されるアルコ−ル類と反応さ
せて一般式(VI)で表される化合物とし、該化合物(VI)を
単離し若しくは単離せずして一般式(V) で表されるヒド
ラジン類と反応させて一般式(IV)で表される化合物と
し、該化合物(IV)を単離し若しくは単離せずして一般式
(III) で表されるハライド類と反応させることにより一
般式(II-4)で表されるピラゾ−ル類を製造することがで
きる。
【００１６】表３にの製法により得られた一般式(II)
で表されるピラゾ−ル類の代表例を示す。一般式(II)
で表されるピラゾ−ル類の代表例を示す。一般式(II)
【化８】
【００１７】
【表３】
【００１８】表３中で物性が粘稠物で示される化合物の
ＮＭＲデ−タを表４に示す。
ＮＭＲデ−タを表４に示す。
【表４】
【００１９】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２０】実施例１ ３−（５−ブロモ−２，４−ジ
クロロフェニル）−４−クロロ−５−ジフルオロメトキ
シ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルの製造（No１）
クロロフェニル）−４−クロロ−５−ジフルオロメトキ
シ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルの製造（No１）
【化９】 ３−（５−ブロモ−２，４−ジクロロフェニル）−５−
ジフルオロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル
３．３０ｇ（８．８７ミリモル）、オキシ塩化リン２０
ｍｌ及び五塩化リン２．２２ｇ（１０．６ミリモル）の
混合液を還流下に７時間反応を行った。反応終了後、オ
キシ塩化リンを減圧下に留去し、残渣に氷水２０ｍｌを
加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、５％
重曹水、水及び飽和食塩水の順で洗浄して無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより
目的物３．５２ｇを得た。 物性：m.p.７８．８℃ 収率：９７．６％
ジフルオロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル
３．３０ｇ（８．８７ミリモル）、オキシ塩化リン２０
ｍｌ及び五塩化リン２．２２ｇ（１０．６ミリモル）の
混合液を還流下に７時間反応を行った。反応終了後、オ
キシ塩化リンを減圧下に留去し、残渣に氷水２０ｍｌを
加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、５％
重曹水、水及び飽和食塩水の順で洗浄して無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより
目的物３．５２ｇを得た。 物性：m.p.７８．８℃ 収率：９７．６％
【００２１】実施例２ ４−クロロ−３−（４−クロロ
−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−５−
ジフルオロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルの
製造（No７）
−２−フルオロ−５−イソプロポキシフェニル）−５−
ジフルオロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルの
製造（No７）
【化１０】 ３−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロポキシ
フェニル）−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−１
Ｈ−ピラゾ−ル６．６９ｇ（２０ミリモル）を四塩化炭
素２０ｍｌ中に溶解させた後、塩化スルフリル３．０ｇ
（２２ミリモル）を室温下に滴下し、滴下終了後２時間
室温下に反応を行った。反応終了後、反応液を水２０ｍ
ｌ中に注ぎジクロロメタンで目的物を抽出し、ジクロロ
メタン層を水洗し、５％重曹水で洗浄して中性とし、水
及び飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去してペ−スト状の目的物
７．０１ｇを得た。 物性：nD１．５３７６（２２．１℃） 収率９５％ 同様にして４−クロロ−３−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−メトキシフェニル）−５−ジフルオロメトキシ
−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルを製造した（No４）。 物性：m.p.９１．７℃ 収率：８９％
フェニル）−５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−１
Ｈ−ピラゾ−ル６．６９ｇ（２０ミリモル）を四塩化炭
素２０ｍｌ中に溶解させた後、塩化スルフリル３．０ｇ
（２２ミリモル）を室温下に滴下し、滴下終了後２時間
室温下に反応を行った。反応終了後、反応液を水２０ｍ
ｌ中に注ぎジクロロメタンで目的物を抽出し、ジクロロ
メタン層を水洗し、５％重曹水で洗浄して中性とし、水
及び飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去してペ−スト状の目的物
７．０１ｇを得た。 物性：nD１．５３７６（２２．１℃） 収率９５％ 同様にして４−クロロ−３−（４−クロロ−２−フルオ
ロ−５−メトキシフェニル）−５−ジフルオロメトキシ
−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ルを製造した（No４）。 物性：m.p.９１．７℃ 収率：８９％
【００２２】実施例３ ２−〔２−クロロ−４−フルオ
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸アミドの製造（No１４）
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸アミドの製造（No１４）
【化１１】 ２−〔２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−ジフルオ
ロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イ
ル）フェノキシ〕酢酸アミド１．４０ｇ（４．０ミリモ
ル）を氷酢酸２０ｍｌに溶解させ、該溶液に塩素ガスを
室温下に３分間吹き込んだ。反応終了後、反応液に水１
００ｍｌを加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、有機層
をチオ硫酸ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で
洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ−で精製することにより目的物１．３９ｇを得た。 物性：m.p.１５８．０−１６０．５℃ 収率：９０．
５％
ロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イ
ル）フェノキシ〕酢酸アミド１．４０ｇ（４．０ミリモ
ル）を氷酢酸２０ｍｌに溶解させ、該溶液に塩素ガスを
室温下に３分間吹き込んだ。反応終了後、反応液に水１
００ｍｌを加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、有機層
をチオ硫酸ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で
洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ−で精製することにより目的物１．３９ｇを得た。 物性：m.p.１５８．０−１６０．５℃ 収率：９０．
５％
【００２３】実施例４ ２−〔２−クロロ−４−フルオ
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸エチルの製造（No１６）
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸エチルの製造（No１６）
【化１２】 ２−〔２−クロロ−４−フルオロ−５−（５−ジフルオ
ロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イ
ル）フェノキシ〕酢酸エチル１．８０ｇ（４．７５ミリ
モル）をジクロロメタン５０ｍｌに溶解させ、該溶液に
塩化スルフリル０．８０ｇ（５．９２ミリモル）を室温
下に滴下し、滴下終了後２時間室温下に反応を行った。
反応終了後、反応液に水１００ｍｌを加えて目的物をジ
クロロメタンで抽出し、有機層を水洗して５％重曹水で
中性にし、水及び飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより目的物
の粗結晶１．７０ｇを得た。得られた粗結晶をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィ−にて精製することにより目
的物１．０９ｇを得た。 物性：m.p.１２７．６℃ 収率：５６％
ロメトキシ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イ
ル）フェノキシ〕酢酸エチル１．８０ｇ（４．７５ミリ
モル）をジクロロメタン５０ｍｌに溶解させ、該溶液に
塩化スルフリル０．８０ｇ（５．９２ミリモル）を室温
下に滴下し、滴下終了後２時間室温下に反応を行った。
反応終了後、反応液に水１００ｍｌを加えて目的物をジ
クロロメタンで抽出し、有機層を水洗して５％重曹水で
中性にし、水及び飽和食塩水で洗浄して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより目的物
の粗結晶１．７０ｇを得た。得られた粗結晶をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィ−にて精製することにより目
的物１．０９ｇを得た。 物性：m.p.１２７．６℃ 収率：５６％
【００２４】実施例５ ２−〔２−クロロ−４−フルオ
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸の製造（No１９）
ロ−５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕酢
酸の製造（No１９）
【化１３】 ２−〔２−クロロ−５−（５−ジフルオロメトキシ−１
−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕
酢酸５ｇ（１４．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド２０ｍｌに溶解させ、該溶液に１２％次亜塩素
酸ナトリウム水溶液１７．７ｇ（２８．４ミリモル）を
４０℃で滴下し、滴下終了御４０℃で１時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液に水２５ｍｌを加え、６Ｎ塩酸
により酸性として析出する結晶を減圧濾過し、水洗及び
減圧乾燥することにより目的物５．２９ｇを得た。 物性：m.p.１４１．５℃ 収率：９６％
−メチル−１Ｈ−ピラゾ−ル−３−イル）フェノキシ〕
酢酸５ｇ（１４．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド２０ｍｌに溶解させ、該溶液に１２％次亜塩素
酸ナトリウム水溶液１７．７ｇ（２８．４ミリモル）を
４０℃で滴下し、滴下終了御４０℃で１時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液に水２５ｍｌを加え、６Ｎ塩酸
により酸性として析出する結晶を減圧濾過し、水洗及び
減圧乾燥することにより目的物５．２９ｇを得た。 物性：m.p.１４１．５℃ 収率：９６％
【００２５】以下実施例と同様にして得られた一般式
(I) で表される３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体
を表５に示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。一般式(I)
(I) で表される３−（置換フェニル）ピラゾ−ル誘導体
を表５に示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。一般式(I)
【化１４】
【００２６】
【表５】
【００２７】表５中で物性が粘稠物で示される化合物の
ＮＭＲデ−タを表６に示す。
ＮＭＲデ−タを表６に示す。
【表６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 濱口 洋 京都府京都市伏見区深草堀田町10−１、Ａ −804
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式(II) 【化１】 〔式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を示し、R2は
低級アルコキシ基又は低級ハロアルコキシ基を示し、R3
はハロゲン原子、低級アルコキシ基、カルボキシル基、
低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アミノカルボニルアルコ
キシ基又は低級アルコキシカルボニルアルコキシ基を示
し、X は同一又は異なっても良いハロゲン原子を示
す。〕で表されるピラゾ−ル類をハロゲン化剤の存在下
にハロゲン化することを特徴とする一般式(I) 【化２】 〔式中、R1、R2、R3及びX は前記に同じくし、Y はハロ
ゲン原子を示す。〕で表される３−（置換フェニル）ピ
ラゾ−ル誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26435093A JPH06199805A (ja) | 1992-09-28 | 1993-09-28 | ３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28245692 | 1992-09-28 | ||
| JP4-282456 | 1992-09-28 | ||
| JP26435093A JPH06199805A (ja) | 1992-09-28 | 1993-09-28 | ３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199805A true JPH06199805A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=26546472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26435093A Pending JPH06199805A (ja) | 1992-09-28 | 1993-09-28 | ３−（置換フェニル）ピラゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06199805A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2293766A (en) * | 1994-10-07 | 1996-04-10 | Zeneca Ltd | Herbicidal compositions based on synergistic combination of glyphosate and 1,3,4,5-tetrasubstituted pyrazoles |
| US5962694A (en) * | 1995-11-15 | 1999-10-05 | Basf Aktiengesellschaft | Substituted 1-methyl-3-phenylpyrazoles and the use thereof as herbicides and for the desiccation or defoliation of plants |
| US6011052A (en) * | 1996-04-30 | 2000-01-04 | Warner-Lambert Company | Pyrazolone derivatives as MCP-1 antagonists |
| US6096689A (en) * | 1995-07-06 | 2000-08-01 | Basf Aktiengesellschaft | 5-pyrazolylbenzoic acid derivatives as herbicides |
-
1993
- 1993-09-28 JP JP26435093A patent/JPH06199805A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2293766A (en) * | 1994-10-07 | 1996-04-10 | Zeneca Ltd | Herbicidal compositions based on synergistic combination of glyphosate and 1,3,4,5-tetrasubstituted pyrazoles |
| US6096689A (en) * | 1995-07-06 | 2000-08-01 | Basf Aktiengesellschaft | 5-pyrazolylbenzoic acid derivatives as herbicides |
| US5962694A (en) * | 1995-11-15 | 1999-10-05 | Basf Aktiengesellschaft | Substituted 1-methyl-3-phenylpyrazoles and the use thereof as herbicides and for the desiccation or defoliation of plants |
| US6011052A (en) * | 1996-04-30 | 2000-01-04 | Warner-Lambert Company | Pyrazolone derivatives as MCP-1 antagonists |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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