JPH06200027A - 変性ベンゾヒドロール構造を有する熱安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミドおよびその製造方法 - Google Patents
変性ベンゾヒドロール構造を有する熱安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミドおよびその製造方法Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1046—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
- C08G73/1053—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain with oxygen only in the tetracarboxylic moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 際立った熱安定性を有しつつ環化形態で可溶
性および/または溶融性であり従って従来の方法で加工
するのが容易である新規のポリイミドおよびポリアミド
−イミドを開発する。 【構成】 式I 【化1】 で表される熱安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ド。
性および/または溶融性であり従って従来の方法で加工
するのが容易である新規のポリイミドおよびポリアミド
−イミドを開発する。 【構成】 式I 【化1】 で表される熱安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ド。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、変性ベンゾヒドラール
構造要素を有する熱安定性ポリイミドおよびポリアミド
−イミドおよびその製造方法に関する。
構造要素を有する熱安定性ポリイミドおよびポリアミド
−イミドおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】現在工業的に最も重要となってきている熱
安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミドは、際立っ
た熱安定性を有するが溶融性でも可溶性でもなく従って
労力をもって費用をかけなければ加工することができな
い完全に芳香族性の化合物である。同様にしていくぶん
か低い熱安定性のポリアミドも非融解性でありそしてほ
とんどの有機溶剤に不溶性またはほんの若干しか溶解し
ないので溶液からこれらを加工して繊維またはフィルム
とするのは非常に困難を伴う。これらの困難な加工性に
より、これらのポリマーは比較的に高価となり従ってこ
れらを数多くの興味ある用途から除外される。
安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミドは、際立っ
た熱安定性を有するが溶融性でも可溶性でもなく従って
労力をもって費用をかけなければ加工することができな
い完全に芳香族性の化合物である。同様にしていくぶん
か低い熱安定性のポリアミドも非融解性でありそしてほ
とんどの有機溶剤に不溶性またはほんの若干しか溶解し
ないので溶液からこれらを加工して繊維またはフィルム
とするのは非常に困難を伴う。これらの困難な加工性に
より、これらのポリマーは比較的に高価となり従ってこ
れらを数多くの興味ある用途から除外される。
【0003】溶融性またはより溶解性の熱安定性ポリマ
ーを、例えば柔軟性鎖要素(−CH 2 −、−O−、−S
−、−CO−)または立体的に傘高い基の導入により開
発する試みが事実成功しているが、−ほとんどの場合に
はかなりの−熱安定性の損失を常に導いてしまう。また
これらの生成物は、芳香族アミドおよびイミドまたはエ
ステルおよびイミド基がランダムに配置されたポリアミ
ド−イミドおよびポリエステルイミドを方がし、そして
これらは、通常可溶性でありそして熱可塑性を有してい
るが同様にに低い安定性を有している(米国特許第38
95064号明細書)。
ーを、例えば柔軟性鎖要素(−CH 2 −、−O−、−S
−、−CO−)または立体的に傘高い基の導入により開
発する試みが事実成功しているが、−ほとんどの場合に
はかなりの−熱安定性の損失を常に導いてしまう。また
これらの生成物は、芳香族アミドおよびイミドまたはエ
ステルおよびイミド基がランダムに配置されたポリアミ
ド−イミドおよびポリエステルイミドを方がし、そして
これらは、通常可溶性でありそして熱可塑性を有してい
るが同様にに低い安定性を有している(米国特許第38
95064号明細書)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、熱安定性のポ
リマーの分野における実際の問題点の解決は、なおも高
い熱安定性と同時に良好な加工性の新規のポリイミドの
開発にある。
リマーの分野における実際の問題点の解決は、なおも高
い熱安定性と同時に良好な加工性の新規のポリイミドの
開発にある。
【0005】本発明の目的は、極めて際立った熱安定性
を有しつつ環化形態で可溶性および/または溶融性であ
り従って従来の方法で加工するのが容易である新規のポ
リイミドおよびポリアミド−イミドを開発することにあ
る。
を有しつつ環化形態で可溶性および/または溶融性であ
り従って従来の方法で加工するのが容易である新規のポ
リイミドおよびポリアミド−イミドを開発することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的が3,3’,
4,4’−ベンズヒドロールテトラカルボン酸ジメチル
エステルに基づくポリイミドおよびポリアミド−イミド
によって解決されることを見出した。
4,4’−ベンズヒドロールテトラカルボン酸ジメチル
エステルに基づくポリイミドおよびポリアミド−イミド
によって解決されることを見出した。
【0007】従って、本発明は、式I
【0008】
【化14】 〔式中Arは式
【0009】
【化15】 または
【0010】
【化16】 で表される二価の芳香族残基あるいはこれらの混合物を
表し(但し、Aは−CH 2 −、−C(CH3 )2 −、−
O−、−S−、−SO2 −、−SO−、−CO−、−C
OO−、−CO−−NH−、−NH−、1個ないし20
個のC原子を有する−(N−アルキル)、−N=N−ま
たは
表し(但し、Aは−CH 2 −、−C(CH3 )2 −、−
O−、−S−、−SO2 −、−SO−、−CO−、−C
OO−、−CO−−NH−、−NH−、1個ないし20
個のC原子を有する−(N−アルキル)、−N=N−ま
たは
【0011】
【化17】 を表す)、Xは式
【0012】
【化18】 または
【0013】
【化19】 で表される残基であり、そしてZは同一または異なって
いて、Zが水素だけでないという条件で水素、直鎖また
は分枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし
20個のC原子を有するアシル残基または7個ないし2
0個のC原子を有するアロイル残基(場合によりハロゲ
ンで置換されてもよい)であり、そしてnは2ないし1
00の整数であり、そしてmは0ないし100の整数で
あり、そしてm>1の場合、残基)(−NH−CO−X
−Ar−)はランダムに分布される〕で表される熱安定
性ポリイミドおよびポリアミド−イミドに関する。
いて、Zが水素だけでないという条件で水素、直鎖また
は分枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし
20個のC原子を有するアシル残基または7個ないし2
0個のC原子を有するアロイル残基(場合によりハロゲ
ンで置換されてもよい)であり、そしてnは2ないし1
00の整数であり、そしてmは0ないし100の整数で
あり、そしてm>1の場合、残基)(−NH−CO−X
−Ar−)はランダムに分布される〕で表される熱安定
性ポリイミドおよびポリアミド−イミドに関する。
【0014】式Iにおいて、Arは、芳香族残基、例え
ばm−またはp−フェニレン、2,4−トリレンまたは
2,5−トリレン残基または例えばジフェニレンメタ
ン、ジフェニレンプロパン、ジフェニレンエーテル、ジ
フェニレンスルホン、ジフェニレンサルファイド、ジフ
ェニレンアミン、ジフェニレンカルボキシドまたは1,
4−ビス(フェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホ
ン等の残基を示す。
ばm−またはp−フェニレン、2,4−トリレンまたは
2,5−トリレン残基または例えばジフェニレンメタ
ン、ジフェニレンプロパン、ジフェニレンエーテル、ジ
フェニレンスルホン、ジフェニレンサルファイド、ジフ
ェニレンアミン、ジフェニレンカルボキシドまたは1,
4−ビス(フェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホ
ン等の残基を示す。
【0015】Zは、水素または2個ないし20個のC原
子を有する直鎖または分枝鎖状の飽和または一または多
不飽和アシル残基、例えばアセチル、プリピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、トリメチルアセチ
ル、ヘキサノイル、デカノイル、ラウロイル、パルミト
イル、ステアロイル、アクリロイル、メタクロイル、ク
ロトノイル、リノロイル、リノレノイルまたはオレオイ
ル残基を示す。
子を有する直鎖または分枝鎖状の飽和または一または多
不飽和アシル残基、例えばアセチル、プリピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、トリメチルアセチ
ル、ヘキサノイル、デカノイル、ラウロイル、パルミト
イル、ステアロイル、アクリロイル、メタクロイル、ク
ロトノイル、リノロイル、リノレノイルまたはオレオイ
ル残基を示す。
【0016】Zはまた、場合によりハロゲン、例えば塩
素または臭素により置換することができる7個ないし2
0個のC原子を有するアロイル残基、例えばベノイル、
o−クロロベンゾイル、p−クロロベンゾイル、m−ク
ロロベンゾイル、o−ブロモベンゾイル、p−ブロモベ
ンゾイル、m−ブロモベンゾイルまたはペンタアセチル
残基を示すこともできる。
素または臭素により置換することができる7個ないし2
0個のC原子を有するアロイル残基、例えばベノイル、
o−クロロベンゾイル、p−クロロベンゾイル、m−ク
ロロベンゾイル、o−ブロモベンゾイル、p−ブロモベ
ンゾイル、m−ブロモベンゾイルまたはペンタアセチル
残基を示すこともできる。
【0017】式Iで表される好ましい化合物は、Arが
m−またはp−フェニレン、2,4−トリレンまたは
2,5−トリレン残基または例えばジフェニレンメタ
ン、ジフェニレンプロパン、ジフェニレンエーテル、ジ
フェニレンスルホン、ジフェニレンサルファイド、ジフ
ェニレンアミン、ジフェニレンカルボキシドまたは1,
4−ビス(フェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホ
ン等を示しまたはZが水素または2個ないし18個のC
原子を有する直鎖または分枝鎖状の飽和または一または
多不飽和アシル残基、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、トリメチルアセチ
ル、ヘキサノイル、デカノイル、ラウロイル、パルミト
イル、ステアロイル、アクリロイル、メタクロイル、ク
ロトノイル、リノロイルまたはリノレノイルあるいは7
個ないし10個のC原子を有するアロイル残基、例えば
ベノイルまたはペンタアセチル残基を示すものである。
m−またはp−フェニレン、2,4−トリレンまたは
2,5−トリレン残基または例えばジフェニレンメタ
ン、ジフェニレンプロパン、ジフェニレンエーテル、ジ
フェニレンスルホン、ジフェニレンサルファイド、ジフ
ェニレンアミン、ジフェニレンカルボキシドまたは1,
4−ビス(フェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホ
ン等を示しまたはZが水素または2個ないし18個のC
原子を有する直鎖または分枝鎖状の飽和または一または
多不飽和アシル残基、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、トリメチルアセチ
ル、ヘキサノイル、デカノイル、ラウロイル、パルミト
イル、ステアロイル、アクリロイル、メタクロイル、ク
ロトノイル、リノロイルまたはリノレノイルあるいは7
個ないし10個のC原子を有するアロイル残基、例えば
ベノイルまたはペンタアセチル残基を示すものである。
【0018】特に好ましいのは、Arがp−フェニレン
または2,4−トリレン残基または例えばジフェニレン
メタン、ジフェニレンプロパンまたは1,4−ビス(フ
ェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホン等を示しま
たはZがアセチル、ラウロイル、アクリロイル、メタク
リロイル、クロトニル、リノーリル、リノレノリル、ベ
ンゾイルまたはフェンアセチル残基である化合物であ
る。
または2,4−トリレン残基または例えばジフェニレン
メタン、ジフェニレンプロパンまたは1,4−ビス(フ
ェニレンチオ)ジフェニルスルホンスルホン等を示しま
たはZがアセチル、ラウロイル、アクリロイル、メタク
リロイル、クロトニル、リノーリル、リノレノリル、ベ
ンゾイルまたはフェンアセチル残基である化合物であ
る。
【0019】本発明は更に、式Iで表される熱安定性ポ
リイミドおよびポリアミド−イミドの製造方法であっ
て、3,3’,4,4’−ベンゾヒドロールテトラカル
ボン酸ジメチルエステルを、 a) 式Iにおいてm=0である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンと反応条件下に不活性である希釈剤中で
反応させ、そして直ちに生成したポリイミドを化学的に
または熱的に環化させ、あるいは b) 式Iにおいてm>1である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンとおよびトリメリット酸、フタル酸また
はイソフタル酸またはその誘導体と反応させ、そして直
ちに生成したポリイミドを化学的にまたは熱的に環化さ
せ、そして式III
リイミドおよびポリアミド−イミドの製造方法であっ
て、3,3’,4,4’−ベンゾヒドロールテトラカル
ボン酸ジメチルエステルを、 a) 式Iにおいてm=0である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンと反応条件下に不活性である希釈剤中で
反応させ、そして直ちに生成したポリイミドを化学的に
または熱的に環化させ、あるいは b) 式Iにおいてm>1である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンとおよびトリメリット酸、フタル酸また
はイソフタル酸またはその誘導体と反応させ、そして直
ちに生成したポリイミドを化学的にまたは熱的に環化さ
せ、そして式III
【0020】
【化20】 (式中、Ar、X、nおよびmは請求項1で定義した通
りである)で表されるこのようにして得られたポリイミ
ドまたはポリアミド−イミドを次いで式 Z’−Cl IVa または Z’−O−Z’ IVb (式中、Z’は同一または異なっていて、直鎖または分
枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし18
個のC原子を有するアシル残基または7個ないし10個
のC原子を有するアロイル残基を表す(場合によりハロ
ゲンで置換されてもよい))で表される酸クロライドま
たは酸無水物と反応条件下に不活性である希釈剤中で反
応させて式Iで表される化合物とすることを特徴とする
方法に関する。
りである)で表されるこのようにして得られたポリイミ
ドまたはポリアミド−イミドを次いで式 Z’−Cl IVa または Z’−O−Z’ IVb (式中、Z’は同一または異なっていて、直鎖または分
枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし18
個のC原子を有するアシル残基または7個ないし10個
のC原子を有するアロイル残基を表す(場合によりハロ
ゲンで置換されてもよい))で表される酸クロライドま
たは酸無水物と反応条件下に不活性である希釈剤中で反
応させて式Iで表される化合物とすることを特徴とする
方法に関する。
【0021】使用される式IIで表されるジアミンは、
例えばm−またはp−フェニレンジアミン、2,5−ま
たは2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’
−ジアミノジフェニルサルファイド、4,4’−ジアミ
ノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニル
アミンまたは4,4’−ビス(アミノフェニルチオ)ジ
フェニルスルホンである。
例えばm−またはp−フェニレンジアミン、2,5−ま
たは2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’
−ジアミノジフェニルサルファイド、4,4’−ジアミ
ノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニル
アミンまたは4,4’−ビス(アミノフェニルチオ)ジ
フェニルスルホンである。
【0022】トリメリット酸、フタル酸またはイソフタ
ル酸の誘導体は、例えば酸無水物、酸無水物クロライ
ド、酸クロライドまたはエステルである。当量のベンゾ
ヒドロールテトラカルボン酸とジアミンを式IIIで表
されるポリイミドの製造に使用するのが好ましい。1:
1.2(ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエ
ーテル:トリメリット酸またはフタル酸あるいはイソフ
タル酸あるいはこれらの誘導体)のモル比を式IIIで
表されるポリイミドの製造に使用するのが好ましい。
ル酸の誘導体は、例えば酸無水物、酸無水物クロライ
ド、酸クロライドまたはエステルである。当量のベンゾ
ヒドロールテトラカルボン酸とジアミンを式IIIで表
されるポリイミドの製造に使用するのが好ましい。1:
1.2(ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエ
ーテル:トリメリット酸またはフタル酸あるいはイソフ
タル酸あるいはこれらの誘導体)のモル比を式IIIで
表されるポリイミドの製造に使用するのが好ましい。
【0023】ポリミドドおよびポリアミド−イミドとす
る反応をそれ自体公知の方法で反応条件下に不活性な希
釈剤、例えばN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチ
ルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(D
MA)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメ
チル尿素またはヘキサメチル燐酸トリアミド(HMP)
中で行うのが好ましい。
る反応をそれ自体公知の方法で反応条件下に不活性な希
釈剤、例えばN−メチルピロリドン(NMP)、ジメチ
ルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(D
MA)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメ
チル尿素またはヘキサメチル燐酸トリアミド(HMP)
中で行うのが好ましい。
【0024】使用される希釈剤は、NMPまたはDMP
であることが好ましく、特に好ましくはNMPである。
反応温度は使用される出発物質および所望とされる最終
生成物に依存して150℃ないし190℃(?)であ
り、そして反応時間は、60ないし180分間、好まし
くは100ないし140分間である。
であることが好ましく、特に好ましくはNMPである。
反応温度は使用される出発物質および所望とされる最終
生成物に依存して150℃ないし190℃(?)であ
り、そして反応時間は、60ないし180分間、好まし
くは100ないし140分間である。
【0025】得られたポリイミド酸またはポリアミド−
アミド酸を次いでベンゾヒドロール構造要素を有する公
知のポリイミドに190℃ないし220℃で好適な溶剤
中で1ないし5時間、好ましくは3ないし4時間激しく
攪拌しながらそして水を抜取りながら加熱することによ
って環化する。
アミド酸を次いでベンゾヒドロール構造要素を有する公
知のポリイミドに190℃ないし220℃で好適な溶剤
中で1ないし5時間、好ましくは3ないし4時間激しく
攪拌しながらそして水を抜取りながら加熱することによ
って環化する。
【0026】式IIIで表されるポリイミドまたはポリ
アミド−イミドのOH基の引き続いての式IVaまたは
式IVbで表される酸クロライドまたは酸無水物でのエ
ステル化を窒素雰囲気下に場合により反応条件下に不活
性な希釈剤中で行う。
アミド−イミドのOH基の引き続いての式IVaまたは
式IVbで表される酸クロライドまたは酸無水物でのエ
ステル化を窒素雰囲気下に場合により反応条件下に不活
性な希釈剤中で行う。
【0027】環化および引き続いてのエステル化は、ポ
リアミド酸の単離をせずにワンポット反応で行うのが好
ましい。好適な希釈剤は上記の希釈剤であり、そしてN
MPを利用するのが好ましい。重合性の酸クロライド、
例えばアクリルイルまたはメタクリルイルクロライドで
のエステル化の場合、成熟重合または架橋を防止するた
めにスパチュラチップの禁止剤、例えばハイドロキノン
を、反応溶液に添加する。酸クロライドを使用する場
合、当量の好適な塩基、例えばトリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ジメチルアニリンまたはピリジンを反応
混合物に添加して反応の際に生成する塩酸と結合させる
のが好都合である。ポリイミドまたはポリアミド−イミ
ドのと塩基との反応混合物を約−10℃ないし0℃、好
ましくは約−6℃ないし−4℃に冷却し、次いで反応条
件下に不活性な希釈剤に溶解された酸クロライドを20
ないし40分間隔で滴下する。このようにして得られた
反応混合物を更に90ないし150分間室温に冷却す
る。酸クロライドまたは酸無水物の量は、所望とするO
H基エステル化のパーセンテージに依存し、そしてOH
基1モル当り約0.1ないし1モルの酸クロライドまた
は酸無水物である。しかしながら、好ましくはOH基1
モル当り0.1モルないし6モルの過剰が利用される。
リアミド酸の単離をせずにワンポット反応で行うのが好
ましい。好適な希釈剤は上記の希釈剤であり、そしてN
MPを利用するのが好ましい。重合性の酸クロライド、
例えばアクリルイルまたはメタクリルイルクロライドで
のエステル化の場合、成熟重合または架橋を防止するた
めにスパチュラチップの禁止剤、例えばハイドロキノン
を、反応溶液に添加する。酸クロライドを使用する場
合、当量の好適な塩基、例えばトリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ジメチルアニリンまたはピリジンを反応
混合物に添加して反応の際に生成する塩酸と結合させる
のが好都合である。ポリイミドまたはポリアミド−イミ
ドのと塩基との反応混合物を約−10℃ないし0℃、好
ましくは約−6℃ないし−4℃に冷却し、次いで反応条
件下に不活性な希釈剤に溶解された酸クロライドを20
ないし40分間隔で滴下する。このようにして得られた
反応混合物を更に90ないし150分間室温に冷却す
る。酸クロライドまたは酸無水物の量は、所望とするO
H基エステル化のパーセンテージに依存し、そしてOH
基1モル当り約0.1ないし1モルの酸クロライドまた
は酸無水物である。しかしながら、好ましくはOH基1
モル当り0.1モルないし6モルの過剰が利用される。
【0028】式Iで表されるポリイミドまたはポリアミ
ド−イミドを単離させるために、得られた反応混合物を
氷水に、場合によりスパチュラチップのハイドロキノン
の添加下に激しく攪拌しながら滴下し、そして沈澱した
生成物を濾別し、水、メタノールおよびアセトンで洗浄
し、そして例えば凍結乾燥により乾燥させる。
ド−イミドを単離させるために、得られた反応混合物を
氷水に、場合によりスパチュラチップのハイドロキノン
の添加下に激しく攪拌しながら滴下し、そして沈澱した
生成物を濾別し、水、メタノールおよびアセトンで洗浄
し、そして例えば凍結乾燥により乾燥させる。
【0029】このようにして製造されたポリイミドおよ
びポリアミド−イミドは、残基Zの性質に依存して特別
な性質によって、例えば非極性溶剤に対する良好な溶解
性および従って繊維またはフィルムへの容易な加工性に
よって、あるいは低いガラス転移温度(これも同様に加
工性を単純化する)ことによって区別され、またこれら
は改良された熱安定性を示すかあるいは光または熱によ
りより迅速に架橋することができる。
びポリアミド−イミドは、残基Zの性質に依存して特別
な性質によって、例えば非極性溶剤に対する良好な溶解
性および従って繊維またはフィルムへの容易な加工性に
よって、あるいは低いガラス転移温度(これも同様に加
工性を単純化する)ことによって区別され、またこれら
は改良された熱安定性を示すかあるいは光または熱によ
りより迅速に架橋することができる。
【0030】
実施例1 3,3’,4,4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン
酸ジメチルエステルに基づくポリイミド(Ia)の製造 18.1g(46.5mモル)の3,3’,4,4’−
ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエステルお
よび30mlのNMP中の9.2g(46.5mモル)
のビス(4−アミノフェニル)メタンをまず攪拌機、窒
素導入管および温度計、測定容器および乾燥管を有する
短蒸留ブリッジを有する250ml3つ口フラスコに導
入し、そして窒素下にそして激しく攪拌しながら170
ないし180℃で2時間加熱し、次いで195ないし2
00℃で4時間加熱する。
酸ジメチルエステルに基づくポリイミド(Ia)の製造 18.1g(46.5mモル)の3,3’,4,4’−
ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエステルお
よび30mlのNMP中の9.2g(46.5mモル)
のビス(4−アミノフェニル)メタンをまず攪拌機、窒
素導入管および温度計、測定容器および乾燥管を有する
短蒸留ブリッジを有する250ml3つ口フラスコに導
入し、そして窒素下にそして激しく攪拌しながら170
ないし180℃で2時間加熱し、次いで195ないし2
00℃で4時間加熱する。
【0031】このようにして得られた非常に粘稠なポリ
イミド溶液を約15ないし20重量%にNMPで希釈
し、次いで引き続いての反応に使用する。収量を測定す
るために、この溶液を水洗し、そして130℃で一晩
0.5トル(mmHg)で乾燥させる。 収量: 24.5g(理論値の98%)。 固有粘度:0.87dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:263℃および306℃(DSC) 熱安定性:472℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
イミド溶液を約15ないし20重量%にNMPで希釈
し、次いで引き続いての反応に使用する。収量を測定す
るために、この溶液を水洗し、そして130℃で一晩
0.5トル(mmHg)で乾燥させる。 収量: 24.5g(理論値の98%)。 固有粘度:0.87dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:263℃および306℃(DSC) 熱安定性:472℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
【0032】実施例2 ポリイミド(IIa)の製造 実施例1と同様にして製造を行った。
【0033】7.8g(20mモル)の3,3’,4,
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テルおよび9.3g(20mモル)の1,4−ビス(4
−アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンを使用し
た。 収量: 15.5g(理論値の96.5%)。 固有粘度:0.52dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:243℃(DSC) 熱安定性:465℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テルおよび9.3g(20mモル)の1,4−ビス(4
−アミノフェニルチオ)ジフェニルスルホンを使用し
た。 収量: 15.5g(理論値の96.5%)。 固有粘度:0.52dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:243℃(DSC) 熱安定性:465℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
【0034】実施例3 ポリイミド(Ib)の製造 実施例1と同様にして製造を行った。
【0035】9.0g(23mモル)の3,3’,4,
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テル、4.5g(23mモル)の塩化無水トリメリット
酸および9.1g(46mモル)のビス(4−アミノフ
ェニル)メタンを使用した。 収量: 19.9g(理論値の98.3%)。 固有粘度:0.82dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:226℃(DSC) 熱安定性:438℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テル、4.5g(23mモル)の塩化無水トリメリット
酸および9.1g(46mモル)のビス(4−アミノフ
ェニル)メタンを使用した。 収量: 19.9g(理論値の98.3%)。 固有粘度:0.82dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:226℃(DSC) 熱安定性:438℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
【0036】実施例4 ポリイミド(IIb)の製造 実施例1と同様にして製造を行った。
【0037】9.0g(23mモル)の3,3’,4,
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テル、3.9g(23mモル)のイソフタル酸ジクロラ
イドおよび9.1g(46mモル)のビス(4−アミノ
フェニル)メタンを使用した。 収量: 19.2g(理論値の97.8%)。 固有粘度:0.95dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:217℃(DSC) 熱安定性:435℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジメチルエス
テル、3.9g(23mモル)のイソフタル酸ジクロラ
イドおよび9.1g(46mモル)のビス(4−アミノ
フェニル)メタンを使用した。 収量: 19.2g(理論値の97.8%)。 固有粘度:0.95dg/g(25℃、NMPの0.5
%の濃度)。 ガラス転移温度:217℃(DSC) 熱安定性:435℃(TGA,空中で5重量%の損
失)。
【0038】実施例5 ポリイミドIaのアクリリルクロライドでのエステル化 2gのポリイミドIa(約4mモルのOH基に相当)、
4mモルのピリジンおよびスパチュラチップのハイドロ
キノンを35mlのNMPに攪拌機、窒素導入管、滴下
漏斗および乾燥管を有する100ml3つ口フラスコ中
で溶解し、そしてこの混合物を約−5℃にNaCl/氷
で冷却し、そして10mlのNMP中の0.36g(4
mモル)のアクリリルクロライドを30分間かけて滴下
した。
4mモルのピリジンおよびスパチュラチップのハイドロ
キノンを35mlのNMPに攪拌機、窒素導入管、滴下
漏斗および乾燥管を有する100ml3つ口フラスコ中
で溶解し、そしてこの混合物を約−5℃にNaCl/氷
で冷却し、そして10mlのNMP中の0.36g(4
mモル)のアクリリルクロライドを30分間かけて滴下
した。
【0039】約1時間後、冷却媒体を除去し、そして反
応混合物を室温で更に2時間攪拌した。次いでこれをス
パチュラチップのハイドロキノンと一緒に500mlの
氷水中に激しく攪拌しながら滴下し、そして沈澱した生
成物を濾別し、水、メタノールおよびアセトンで洗浄
し、そして凍結乾燥させた。 収量:2.2g 固有粘度:0.9dg/g(25℃、NMPの0.5%
の濃度)。 ガラス転移温度:314℃ 熱安定性:513℃。
応混合物を室温で更に2時間攪拌した。次いでこれをス
パチュラチップのハイドロキノンと一緒に500mlの
氷水中に激しく攪拌しながら滴下し、そして沈澱した生
成物を濾別し、水、メタノールおよびアセトンで洗浄
し、そして凍結乾燥させた。 収量:2.2g 固有粘度:0.9dg/g(25℃、NMPの0.5%
の濃度)。 ガラス転移温度:314℃ 熱安定性:513℃。
【0040】実施例5と同様にして更にエステル化を行
った。使用生成物およびその量、収率、ガラス転移温度
(Tg)、固有粘度(i.v.)および熱安定性(TG
A)を表1に溶解する。 〔表1〕 ポリマー/酸クロライド 収率 i.v. Tg TGA (%)(dl/g) (℃) (℃) Ia/ メタクリリルクロライド 3.5 1.00 310 515 (3g/0.64g) Ia/ アセチルクロライド 6.4 0.98 253 487 (5g/1.18g) Ia/ ベンゾイルクロライド 2.5 0.61 280 477 (5g/1.18g) Ia/ アクリリルクロライド 4.3 0.99 302 498 (5g/0.6g) Ia/ アセチルクロライド 5.5 0.97 260 480 (4g/0.6g) IIa/シンナミルクロライド 4.7 0.51 249 465 (3.76g/1.3g) IIa/ラウリルクロライド 10.3 0.53 226 453 (7.52g/3.28g) IIa/クロトニルロライド 6.8 0.50 240 475 (6.0g/2.24g) IIa/リノリルクロライド 5.9 0.61 218 415 (3.76g/2.24g) Ib/ アセチルクロライド 9.2 0.75 233 445 (8.4g/1.18g) Ib/ アセチルクロライド 8.5 0.90 228 451 (8.14g/1.18g)
った。使用生成物およびその量、収率、ガラス転移温度
(Tg)、固有粘度(i.v.)および熱安定性(TG
A)を表1に溶解する。 〔表1〕 ポリマー/酸クロライド 収率 i.v. Tg TGA (%)(dl/g) (℃) (℃) Ia/ メタクリリルクロライド 3.5 1.00 310 515 (3g/0.64g) Ia/ アセチルクロライド 6.4 0.98 253 487 (5g/1.18g) Ia/ ベンゾイルクロライド 2.5 0.61 280 477 (5g/1.18g) Ia/ アクリリルクロライド 4.3 0.99 302 498 (5g/0.6g) Ia/ アセチルクロライド 5.5 0.97 260 480 (4g/0.6g) IIa/シンナミルクロライド 4.7 0.51 249 465 (3.76g/1.3g) IIa/ラウリルクロライド 10.3 0.53 226 453 (7.52g/3.28g) IIa/クロトニルロライド 6.8 0.50 240 475 (6.0g/2.24g) IIa/リノリルクロライド 5.9 0.61 218 415 (3.76g/2.24g) Ib/ アセチルクロライド 9.2 0.75 233 445 (8.4g/1.18g) Ib/ アセチルクロライド 8.5 0.90 228 451 (8.14g/1.18g)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハインリヒ・グルーバー オーストリア国、ウィーン、コッタジガッ セ、82 (72)発明者 マルセル・シフラ オーストリア国、クレムス・アン・デア・ ドナウ、アラウンタールシュトラーセ、54
Claims (6)
- 【請求項1】 式I 【化1】 〔式中Arは式 【化2】 または 【化3】 で表される二価の芳香族残基あるいはこれらの混合物を
表し(但し、Aは−CH 2 −、−C(CH3 )2 −、−
O−、−S−、−SO2 −、−SO−、−CO−、−C
OO−、−CO−−NH−、−NH−、1個ないし20
個のC原子を有する−(N−アルキル)、−N=N−ま
たは 【化4】 を表す)、Xは式 【化5】 または 【化6】 で表される残基であり、そしてZは同一または異なって
いて、Zが水素だけでないという条件で水素、直鎖また
は分枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし
20個のC原子を有するアシル残基または7個ないし2
0個のC原子を有するアロイル残基(場合によりハロゲ
ンで置換されてもよい)であり、そしてnは2ないし1
00の整数であり、そしてmは0ないし100の整数で
あり、そしてm>1の場合、残基)(−NH−CO−X
−Ar−)はランダムに分布される〕で表される熱安定
性ポリイミドおよびポリアミド−イミド。 - 【請求項2】 Arが式 【化7】 または 【化8】 で表される二価の芳香物族残基あるいはこれらの混合物
を表し(但し、Aは−CH2 −、−C(CH3 )2 −、
−O−、−S−、−SO2 −、−NH−または 【化9】 を示す)、そしてZ、X、nおよびmが請求項1に定義
された通りである式Iで表される熱安定性ポリイミドお
よびポリアミド−イミド。 - 【請求項3】 Zが同一または異なっていて、Zが水素
だけでないという条件で水素、直鎖または分枝鎖状の飽
和または一または多不飽和の2個ないし18個のC原子
を有するアシル残基または7個ないし10個のC原子を
有するアロイル残基であり、そしてAr、X、nおよび
mが請求項1に定義された通りである式Iで表される熱
安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミド。 - 【請求項4】 Arが式 【化10】 または 【化11】 で表される二価の芳香物族残基あるいはこれらの混合物
を表し(但し、Aは−CH2 −、−C(CH3 )2 −ま
たは 【化12】 を示す)、そしてZ、X、nおよびmが請求項1に定義
された通りである式Iで表される熱安定性ポリイミドま
たはポリアミド−イミド。 - 【請求項5】 Zがアセチル、ラウロイル、クロトニ
ル、リノロイル、リノレノイル、ベンゾイル、フェニル
アセチル、アクリロイルまたはメタクリロリル残基であ
り、そしてAr、X、nおよびmが請求項1に定義され
た通りである式Iで表される熱安定性ポリイミドおよび
ポリアミド−イミド。 - 【請求項6】 Ar、Z、nおよびmが請求項1に定義
された通りである式Iで表される熱安定性ポリイミドお
よびポリアミド−イミドの製造方法であって、3,
3’,4,4’−ベンゾヒドロールテトラカルボン酸ジ
メチルエステルを、 a) 式Iにおいてm=0である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンと反応条件下に不活性である希釈剤中で
反応させ、そして直ちに生成したポリイミドを化学的に
または熱的に環化させ、あるいは b) 式Iにおいてm>1である場合、式II NH2 −Ar−NH2 (式中、Arは請求項1で定義された通りである)で表
されるジアミンとおよびトリメリット酸、フタル酸また
はイソフタル酸またはその誘導体と反応させ、そして直
ちに生成したポリイミドを化学的にまたは熱的に環化さ
せ、そして式III 【化13】 (式中、Ar、X、nおよびmは請求項1で定義した通
りである)で表されるこのようにして得られたポリイミ
ドまたはポリアミド−イミドを次いで式 Z’−Cl IVa または Z’−O−Z’ IVb (式中、Z’は同一または異なっていて、直鎖または分
枝鎖状の飽和または一または多不飽和の2個ないし18
個のC原子を有するアシル残基または7個ないし10個
のC原子を有するアロイル残基を表す(場合によりハロ
ゲンで置換されてもよい))で表される酸クロライドま
たは酸無水物と反応条件下に不活性である希釈剤中で反
応させて式Iで表される化合物とすることを特徴とす
る、上記方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT1850/92 | 1992-09-17 | ||
| AT0185092A AT398770B (de) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | Thermostabile polyimide und polyamidimide mit modifizierten benzhydrolstrukturelementen und deren herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06200027A true JPH06200027A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=3522370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5230438A Withdrawn JPH06200027A (ja) | 1992-09-17 | 1993-09-16 | 変性ベンゾヒドロール構造を有する熱安定性ポリイミドおよびポリアミド−イミドおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5378799A (ja) |
| EP (1) | EP0588158A1 (ja) |
| JP (1) | JPH06200027A (ja) |
| AT (1) | AT398770B (ja) |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1215481A (en) * | 1967-04-13 | 1970-12-09 | Nat Res Dev | Improvements in or relating to manufacture of aromatic polyimides |
| US3895064A (en) * | 1971-09-21 | 1975-07-15 | Union Carbide Corp | Polyamide-imides |
| SU475376A1 (ru) * | 1972-03-03 | 1975-06-30 | Предприятие П/Ям-5885 | Способ получени полиимидов |
| US3939109A (en) * | 1974-12-19 | 1976-02-17 | Gulf Research & Development Company | Polyamic-acids prepared from 3,3,4,4-benzhydrol tetracarboxylic dianhydride |
| FR2514772B1 (fr) * | 1981-10-19 | 1985-09-06 | Inst Francais Du Petrole | Compositions reactives de polyimides thermostables presentant une solubilite elevee et leurs utilisations |
| FR2568257B1 (fr) * | 1984-07-25 | 1986-12-26 | Inst Francais Du Petrole | Nouveaux precurseurs de reseaux de copolyphtalocyanine-imides, leur procede de preparation et les reseaux qui en derivent |
| ATA251486A (de) * | 1986-09-19 | 1988-03-15 | Greber Gerd | Verfahren zur herstellung von neuen loeslichen und/oder schmelzbaren polyamidimid-polyimidblockcopolymeren |
| FR2610938B1 (fr) * | 1987-02-13 | 1989-06-16 | Centre Etd Mat Org Tech Avance | Compositions de polybenzhydrolimides terminees par des groupements a insaturation ethylenique, les polyimides reticules obtenus par leur polymerisation thermique et l'utilisation de ces compositions |
| FR2621042B1 (fr) * | 1987-09-25 | 1990-01-12 | Etu Materiaux Organ Techn Cent | Compositions de polyimides gravables en milieu basique |
| DE3738457A1 (de) * | 1987-11-12 | 1989-05-24 | Lentia Gmbh | Neue loesliche und/oder schmelzbare polyimide und polyamidimide |
| AT389522B (de) * | 1987-11-16 | 1989-12-27 | Chemie Holding Ag | Neue loesliche und/oder schmelzbare polyimide und polyamidimide und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4980447A (en) * | 1989-03-09 | 1990-12-25 | Hoechst Celanese Corp. | Polyamide-polyimide and polybenzoxazole-polyimide polymer |
| EP0409194B1 (en) * | 1989-07-18 | 1994-05-18 | Showa Shell Sekiyu Kabushiki Kaisha | Ferroelectric liquid crystal element |
| FR2650756B1 (fr) * | 1989-08-11 | 1991-10-31 | Inst Francais Du Petrole | Membrane de separation de gaz |
-
1992
- 1992-09-17 AT AT0185092A patent/AT398770B/de not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-09-02 EP EP93114028A patent/EP0588158A1/de not_active Withdrawn
- 1993-09-13 US US08/119,650 patent/US5378799A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-16 JP JP5230438A patent/JPH06200027A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AT398770B (de) | 1995-01-25 |
| EP0588158A1 (de) | 1994-03-23 |
| US5378799A (en) | 1995-01-03 |
| ATA185092A (de) | 1994-06-15 |
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