JPH06204321A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
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- JPH06204321A JPH06204321A JP144993A JP144993A JPH06204321A JP H06204321 A JPH06204321 A JP H06204321A JP 144993 A JP144993 A JP 144993A JP 144993 A JP144993 A JP 144993A JP H06204321 A JPH06204321 A JP H06204321A
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- Japan
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- wafer
- sensor
- positioning device
- positioning
- sphere
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエーハの位置決め装置に関し、ウエーハス
テージを原点に復帰させないで、必要な精度の位置決め
機構を小スペースに設けることが可能となる位置決め装
置の提供を目的とする。 【構成】 ウエーハ18を支持し、直交する二軸の交点か
ら等距離に、この二軸上に各々設けた球体1,2,3,4 と、
この球体1,2,3,4 にそれぞれ接触し、モーター9,10,11,
12により回転駆動されるプーリー5,6,7,8 と、このウエ
ーハ18の周囲により被覆され、直交する二軸の交点から
等距離に、この二軸上に各々設けたセンサー13,14,15,1
6 と、このウエーハ18により被覆されたこのセンサー1
3,14,15,16の被覆部分により検出されたこのウエーハ18
の位置によってこのモーター9,10,11,12の回転を制御す
る制御装置とを具備するように構成する。
テージを原点に復帰させないで、必要な精度の位置決め
機構を小スペースに設けることが可能となる位置決め装
置の提供を目的とする。 【構成】 ウエーハ18を支持し、直交する二軸の交点か
ら等距離に、この二軸上に各々設けた球体1,2,3,4 と、
この球体1,2,3,4 にそれぞれ接触し、モーター9,10,11,
12により回転駆動されるプーリー5,6,7,8 と、このウエ
ーハ18の周囲により被覆され、直交する二軸の交点から
等距離に、この二軸上に各々設けたセンサー13,14,15,1
6 と、このウエーハ18により被覆されたこのセンサー1
3,14,15,16の被覆部分により検出されたこのウエーハ18
の位置によってこのモーター9,10,11,12の回転を制御す
る制御装置とを具備するように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエーハの位置決め装
置に関するものである。半導体装置の製造工程におい
て、半導体装置の製造装置にウエーハを投入する前に所
定の位置に位置決めすることが必要である。
置に関するものである。半導体装置の製造工程におい
て、半導体装置の製造装置にウエーハを投入する前に所
定の位置に位置決めすることが必要である。
【0002】位置決めとしては、装置のステージの中心
とウエーハの中心とを一致させる、X軸,Y軸の位置決
めと、ウエーハのオリエンテーションフラット(以下
O.F.と略称する)を所定の方向に位置決めするθ軸
位置決めがある。
とウエーハの中心とを一致させる、X軸,Y軸の位置決
めと、ウエーハのオリエンテーションフラット(以下
O.F.と略称する)を所定の方向に位置決めするθ軸
位置決めがある。
【0003】以上のような状況からウエーハの中心と装
置のステージの中心とを一致させ、O.F.の方向を所
定の方向に位置決めすることが可能な位置決め装置が要
望されている。
置のステージの中心とを一致させ、O.F.の方向を所
定の方向に位置決めすることが可能な位置決め装置が要
望されている。
【0004】
【従来の技術】従来の位置決め装置について図7により
詳細に説明する。図7は従来の位置決め装置の概略構造
を示す図である。
詳細に説明する。図7は従来の位置決め装置の概略構造
を示す図である。
【0005】従来の位置決め装置は、図7に示すように
ウエーハ18を処理する装置の載物台の中心と、ウエーハ
18の中心とを位置決めするXYステージ21と、ウエーハ
18のO.F.の方向を所定の方向に位置決めする回転機
構22と、ウエーハステージ23とから構成されている。
ウエーハ18を処理する装置の載物台の中心と、ウエーハ
18の中心とを位置決めするXYステージ21と、ウエーハ
18のO.F.の方向を所定の方向に位置決めする回転機
構22と、ウエーハステージ23とから構成されている。
【0006】このような位置決め装置によりウエーハ18
の位置を決める場合には、まずXYステージ21がX軸及
びY軸方向に移動してXYステージ21の中心からずれた
位置にあるウエーハステージ23を、XYステージ21の中
心にくるようにXYステージ21を移動して原点復帰を行
わせる。
の位置を決める場合には、まずXYステージ21がX軸及
びY軸方向に移動してXYステージ21の中心からずれた
位置にあるウエーハステージ23を、XYステージ21の中
心にくるようにXYステージ21を移動して原点復帰を行
わせる。
【0007】XYステージ21を原点復帰させるのは、ウ
エーハステージ23に搭載したウエーハ18の位置が極めて
ずれている場合においても、ウエーハ18の中心をXYス
テージ21の中心に位置決めすることができるように、X
Yステージ21の移動量を確保しておくためである。
エーハステージ23に搭載したウエーハ18の位置が極めて
ずれている場合においても、ウエーハ18の中心をXYス
テージ21の中心に位置決めすることができるように、X
Yステージ21の移動量を確保しておくためである。
【0008】つぎに原点に復帰させたウエーハステージ
23の上にウエーハ18を搭載した後、ウエーハ18の中心
が、これからウエーハ18を処理する装置の載物台の中心
にくるようにXYステージ21を移動する。
23の上にウエーハ18を搭載した後、ウエーハ18の中心
が、これからウエーハ18を処理する装置の載物台の中心
にくるようにXYステージ21を移動する。
【0009】このようにしてウエーハ18の中心と、これ
からウエーハ18を処理する装置の載物台の中心とを一致
させた後、ウエーハ18のO.F.の方向が所定の方向に
くるように回転機構22を回転する。
からウエーハ18を処理する装置の載物台の中心とを一致
させた後、ウエーハ18のO.F.の方向が所定の方向に
くるように回転機構22を回転する。
【0010】XYステージ21の原点復帰の検出は位置決
め装置の中心部で行うので、センサーは位置決め装置の
中心部に設けなければならず、ウエーハ18の位置を検出
するセンサーはウエーハ18の周辺部に設けなければなら
ない。
め装置の中心部で行うので、センサーは位置決め装置の
中心部に設けなければならず、ウエーハ18の位置を検出
するセンサーはウエーハ18の周辺部に設けなければなら
ない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来の位
置決め装置においては、新規にウエーハを搭載する場合
には位置決め装置のXYステージを原点に復帰させてお
かなければならず、原点復帰を検出するセンサーと、ウ
エーハの位置を検出するセンサーとを別個に設けなけれ
ばならないので、所望の精度の位置決め機構を小スペー
スに設けることが困難であるという問題点があった。
置決め装置においては、新規にウエーハを搭載する場合
には位置決め装置のXYステージを原点に復帰させてお
かなければならず、原点復帰を検出するセンサーと、ウ
エーハの位置を検出するセンサーとを別個に設けなけれ
ばならないので、所望の精度の位置決め機構を小スペー
スに設けることが困難であるという問題点があった。
【0012】本発明は以上のような状況から、ウエーハ
ステージを原点に復帰させないで、必要な精度の位置決
め機構を小スペースに設けることが可能となる位置決め
装置の提供を目的としたものである。
ステージを原点に復帰させないで、必要な精度の位置決
め機構を小スペースに設けることが可能となる位置決め
装置の提供を目的としたものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の位置決め装置
は、ウエーハを支持し、直交する二軸の交点から等距離
に、この二軸上に各々設けた球体と、この球体にそれぞ
れ接触し、モーターにより回転駆動されるプーリーと、
このウエーハの周囲により被覆され、直交する二軸の交
点から等距離に、この二軸上に各々設けたセンサーとか
らなる位置決め機構を、このウエーハにより被覆された
このセンサーの被覆部分により検出されたこのウエーハ
の位置によりこのモーターの回転を制御する制御部とを
具備するように構成する。
は、ウエーハを支持し、直交する二軸の交点から等距離
に、この二軸上に各々設けた球体と、この球体にそれぞ
れ接触し、モーターにより回転駆動されるプーリーと、
このウエーハの周囲により被覆され、直交する二軸の交
点から等距離に、この二軸上に各々設けたセンサーとか
らなる位置決め機構を、このウエーハにより被覆された
このセンサーの被覆部分により検出されたこのウエーハ
の位置によりこのモーターの回転を制御する制御部とを
具備するように構成する。
【0014】
【作用】即ち本発明においては、直交する二軸の交点か
ら等距離に、この二軸上に各々設けた球体でウエーハを
支持し、センサーによってウエーハの位置を検出して制
御装置を用いてモーターを回転させ、モーター軸に固定
されているプーリーによって球体を回転させることによ
り、ウエーハをX軸やY軸の方向に直線移動させたり、
この球体を逆回転することによりウエーハをその中心を
軸として回転させてO.F.を所定の方向に一致させる
ことが可能となる。
ら等距離に、この二軸上に各々設けた球体でウエーハを
支持し、センサーによってウエーハの位置を検出して制
御装置を用いてモーターを回転させ、モーター軸に固定
されているプーリーによって球体を回転させることによ
り、ウエーハをX軸やY軸の方向に直線移動させたり、
この球体を逆回転することによりウエーハをその中心を
軸として回転させてO.F.を所定の方向に一致させる
ことが可能となる。
【0015】
【実施例】以下図1〜図6により本発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。図1は本発明による一実施例の位
置決め装置の平面図、図2は図1のX−X断面矢視図、
図3は位置決め前のウエーハとセンサーとの相対位置関
係を示す図、図4は位置決め後のウエーハとセンサーと
の相対位置関係を示す図、図5はウエーハの位置決め完
了状態を示す斜視図、図6は位置決め装置の制御系統の
接続を示す結線図である。
いて詳細に説明する。図1は本発明による一実施例の位
置決め装置の平面図、図2は図1のX−X断面矢視図、
図3は位置決め前のウエーハとセンサーとの相対位置関
係を示す図、図4は位置決め後のウエーハとセンサーと
の相対位置関係を示す図、図5はウエーハの位置決め完
了状態を示す斜視図、図6は位置決め装置の制御系統の
接続を示す結線図である。
【0016】ウエーハ18は直交する二軸の交点から等距
離に、この二軸上に各々設けた4個の球体1,2,3,4 の上
に載っている。実際はウエーハ18によって球体1,2,3,4
は見えないので点線にて図示すべきであるが、図1にお
いては図示するように実線にて表示している。
離に、この二軸上に各々設けた4個の球体1,2,3,4 の上
に載っている。実際はウエーハ18によって球体1,2,3,4
は見えないので点線にて図示すべきであるが、図1にお
いては図示するように実線にて表示している。
【0017】これらの球体1,2,3,4 はそれぞれプーリー
5,6,7,8 の周囲と接触しており、プーリー5,6,7,8 によ
って回転されるようになっている。モーター9,10,11,12
の回転軸9a,10a,11a,12aはそれぞれプーリー5,6,7,8 の
孔に嵌入されて固定されている。
5,6,7,8 の周囲と接触しており、プーリー5,6,7,8 によ
って回転されるようになっている。モーター9,10,11,12
の回転軸9a,10a,11a,12aはそれぞれプーリー5,6,7,8 の
孔に嵌入されて固定されている。
【0018】ウエーハ18の周囲を検出することができる
センサー13,14,15,16 は、直交する二軸の交点から等距
離に、この二軸上に各々設けられている。これらのセン
サーは、50dpi 以上のフォトセンサーアレーで構成する
ので、その分解能は約0.5mm であり、ウエーハ18によっ
て覆われている受光素子の数は後に説明する制御装置の
入力セレクタ17e によりカウントすることができるよう
になっている。
センサー13,14,15,16 は、直交する二軸の交点から等距
離に、この二軸上に各々設けられている。これらのセン
サーは、50dpi 以上のフォトセンサーアレーで構成する
ので、その分解能は約0.5mm であり、ウエーハ18によっ
て覆われている受光素子の数は後に説明する制御装置の
入力セレクタ17e によりカウントすることができるよう
になっている。
【0019】図2は図1のX−X断面矢視図であり、球
体2及び球体4を矢印の方向に回転させると、ウエーハ
18を矢印の方向に移動することが可能である。この場合
には球体1及び球体3もウエーハ18によって矢印の方向
に回転させられるが、図1に示すように球体1及び球体
3と接触しているプーリー5およびプーリー7との接触
部でスリップするようにしている。
体2及び球体4を矢印の方向に回転させると、ウエーハ
18を矢印の方向に移動することが可能である。この場合
には球体1及び球体3もウエーハ18によって矢印の方向
に回転させられるが、図1に示すように球体1及び球体
3と接触しているプーリー5およびプーリー7との接触
部でスリップするようにしている。
【0020】球体2及び球体4を逆方向に回転させる
と、ウエーハ18をウエーハ18の中心を軸にして回転させ
ることが可能である。この場合も球体1及び球体3はウ
エーハ18によって逆方向に回転させられるが、球体1及
び球体3と接触しているプーリー5およびプーリー7と
の接触部でスリップするようにしている。
と、ウエーハ18をウエーハ18の中心を軸にして回転させ
ることが可能である。この場合も球体1及び球体3はウ
エーハ18によって逆方向に回転させられるが、球体1及
び球体3と接触しているプーリー5およびプーリー7と
の接触部でスリップするようにしている。
【0021】つぎにウエーハ18とセンサーとの関係につ
いて説明する。ウエーハ18の中心が位置決め装置の中心
からずれている場合のウエーハ18とセンサー13およびセ
ンサー15との関係は、図3に示すようにセンサー13およ
びセンサー15のウエーハ18により覆われている受光素子
の数が異なっている。
いて説明する。ウエーハ18の中心が位置決め装置の中心
からずれている場合のウエーハ18とセンサー13およびセ
ンサー15との関係は、図3に示すようにセンサー13およ
びセンサー15のウエーハ18により覆われている受光素子
の数が異なっている。
【0022】このような場合に、上述したようにウエー
ハ18を図において右方向に移動すると、図4に示すよう
にセンサー13およびセンサー15のウエーハ18により覆わ
れている受光素子の数を等しくすることが可能となり、
この方向の位置決めが完了する。
ハ18を図において右方向に移動すると、図4に示すよう
にセンサー13およびセンサー15のウエーハ18により覆わ
れている受光素子の数を等しくすることが可能となり、
この方向の位置決めが完了する。
【0023】ついでセンサー14およびセンサー16とウエ
ーハ18との関係をも同様にセンサー14およびセンサー16
のウエーハ18により覆われている受光素子の数を等しく
すると、この方向の位置決めも完了し、ウエーハ18の中
心と位置決め装置の中心とを一致させることが可能とな
る。
ーハ18との関係をも同様にセンサー14およびセンサー16
のウエーハ18により覆われている受光素子の数を等しく
すると、この方向の位置決めも完了し、ウエーハ18の中
心と位置決め装置の中心とを一致させることが可能とな
る。
【0024】このようにして中心を一致させた状態の斜
視図が図5(a) である。センサー13の位置にウエーハ18
のO.F.を位置決めする場合には、図5(b)に示すよ
うにセンサー14、センサー15およびセンサー16のウエー
ハ18により覆われている受光素子の数が等しく、センサ
ー13のウエーハ18により覆われている受光素子の数が、
他のセンサーがウエーハ18により覆われている受光素子
の数よりも、O.F.18a の円弧の高さに相当する数だ
け少なくなるようにすれば、センサー13の位置にO.
F.18a を位置決めすることが可能となる。
視図が図5(a) である。センサー13の位置にウエーハ18
のO.F.を位置決めする場合には、図5(b)に示すよ
うにセンサー14、センサー15およびセンサー16のウエー
ハ18により覆われている受光素子の数が等しく、センサ
ー13のウエーハ18により覆われている受光素子の数が、
他のセンサーがウエーハ18により覆われている受光素子
の数よりも、O.F.18a の円弧の高さに相当する数だ
け少なくなるようにすれば、センサー13の位置にO.
F.18a を位置決めすることが可能となる。
【0025】このO.F.18a の位置決めの精度を向上
させたい場合には、図5(c) に示すようにセンサー13の
両側のO.F.18a の長さの範囲内にセンサー13a とセ
ンサー13b とを設け、センサー13、センサー13a および
センサー13b のウエーハ18により覆われる受光素子の
数が等しくなるようにすれば、ウエーハ18の高精度の位
置決めを行うことが可能である。
させたい場合には、図5(c) に示すようにセンサー13の
両側のO.F.18a の長さの範囲内にセンサー13a とセ
ンサー13b とを設け、センサー13、センサー13a および
センサー13b のウエーハ18により覆われる受光素子の
数が等しくなるようにすれば、ウエーハ18の高精度の位
置決めを行うことが可能である。
【0026】球体をモーターおよびプーリーにより回転
させる場合には、図6に示すようにセンサーのウエーハ
18により覆われている受光素子の数を入力セレクタ17e
に入力し、制御装置17を用いてパルスモータードライバ
ー17a,17b,17c,17d (以下、P.M.ドライバーと略称す
る)を作動させ、モーター9,10,11,12を回転させてウエ
ーハ18の位置決めを行うことが可能である。
させる場合には、図6に示すようにセンサーのウエーハ
18により覆われている受光素子の数を入力セレクタ17e
に入力し、制御装置17を用いてパルスモータードライバ
ー17a,17b,17c,17d (以下、P.M.ドライバーと略称す
る)を作動させ、モーター9,10,11,12を回転させてウエ
ーハ18の位置決めを行うことが可能である。
【0027】このようにセンサーとウエーハとの相対位
置をセンサーにて検出し、制御装置によりモーターを回
転させてプーリーにより球体を回転してウエーハの位置
決めを行うことができるので、ウエーハの中心部には位
置決め機構を設けないで、小スペースに位置決め装置を
設けることが可能となる。
置をセンサーにて検出し、制御装置によりモーターを回
転させてプーリーにより球体を回転してウエーハの位置
決めを行うことができるので、ウエーハの中心部には位
置決め機構を設けないで、小スペースに位置決め装置を
設けることが可能となる。
【0028】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な構造の位置決め装置により、必要
な精度の位置決め機構を小スペースに設けることが可能
となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効
果が期待できる位置決め装置の提供が可能である。
によれば極めて簡単な構造の位置決め装置により、必要
な精度の位置決め機構を小スペースに設けることが可能
となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向上の効
果が期待できる位置決め装置の提供が可能である。
【図1】 本発明による一実施例の位置決め装置の平面
図、
図、
【図2】 図1のX−X断面矢視図、
【図3】 位置決め前のウエーハとセンサーとの相対位
置関係を示す図、
置関係を示す図、
【図4】 位置決め後のウエーハとセンサーとの相対位
置関係を示す図、
置関係を示す図、
【図5】 ウエーハの位置決め完了状態を示す斜視図、
【図6】 位置決め装置の制御系統の接続を示す結線
図、
図、
【図7】 従来の位置決め装置の概略構造を示す図、
【符号の説明】 1,2,3,4 は球体、5,6,7,8 はプーリー、9,10,11,12はモ
ーター、9a,10a,11a,12aは回転軸、13,13a,13b,14,15,1
6 はセンサー、17は制御装置、17a,17b,17c,17d はP.M.
ドライバー、17e は入力セレクタ、18はウエーハ、
ーター、9a,10a,11a,12aは回転軸、13,13a,13b,14,15,1
6 はセンサー、17は制御装置、17a,17b,17c,17d はP.M.
ドライバー、17e は入力セレクタ、18はウエーハ、
Claims (2)
- 【請求項1】 ウエーハ(18)を支持し、直交する二軸の
交点から等距離に、該二軸上に各々設けた球体(1,2,3,
4) と、 該球体(1,2,3,4) にそれぞれ接触し、モーター(9,10,1
1,12)により回転駆動されるプーリー(5,6,7,8)と、 前記ウエーハ(18)の周囲により被覆され、直交する二軸
の交点から等距離に、該二軸上に各々設けたセンサー(1
3,14,15,16) と、 前記ウエーハ(18)により被覆された前記センサー(13,1
4,15,16) の被覆部分により検出された前記ウエーハ(1
8)の位置によって前記モーター(9,10,11,12)の回転を制
御する制御装置(17)と、 を具備することを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の位置決め装置において、 前記ウエーハ(18)のオリエンテーションフラットの位置
を検出する前記センサー(13)の両側にセンサー(13a,13
b) を具備することを特徴とする位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP144993A JPH06204321A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP144993A JPH06204321A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204321A true JPH06204321A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=11501757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP144993A Withdrawn JPH06204321A (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204321A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1458013A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-15 | Applied Materials, Inc. | A method and an apparatus for determining a position of a substrate relative to a support stage |
| US7104535B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-09-12 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7151981B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-12-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7372250B2 (en) | 2003-02-20 | 2008-05-13 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for determining a position of a substrate relative to a support stage |
| US7499767B2 (en) | 2003-02-20 | 2009-03-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7625063B2 (en) | 2004-11-04 | 2009-12-01 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement |
| JP2010278082A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Mitsubishi Electric Corp | 脆性物位置決め装置及び脆性物位置決め方法 |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP144993A patent/JPH06204321A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1458013A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-09-15 | Applied Materials, Inc. | A method and an apparatus for determining a position of a substrate relative to a support stage |
| US7104535B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-09-12 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7151981B2 (en) | 2003-02-20 | 2006-12-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| CN100382269C (zh) * | 2003-02-20 | 2008-04-16 | 应用材料有限公司 | 相对于支撑台确定衬底位置的方法和装置 |
| US7372250B2 (en) | 2003-02-20 | 2008-05-13 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for determining a position of a substrate relative to a support stage |
| US7499767B2 (en) | 2003-02-20 | 2009-03-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7625063B2 (en) | 2004-11-04 | 2009-12-01 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement |
| JP2010278082A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Mitsubishi Electric Corp | 脆性物位置決め装置及び脆性物位置決め方法 |
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