JPH06204586A - 原子周波数標準セルとその製造方法 - Google Patents
原子周波数標準セルとその製造方法Info
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- JPH06204586A JPH06204586A JP5173875A JP17387593A JPH06204586A JP H06204586 A JPH06204586 A JP H06204586A JP 5173875 A JP5173875 A JP 5173875A JP 17387593 A JP17387593 A JP 17387593A JP H06204586 A JPH06204586 A JP H06204586A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/20—Uniting glass pieces by fusing without substantial reshaping
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04F—TIME-INTERVAL MEASURING
- G04F5/00—Apparatus for producing preselected time intervals for use as timing standards
- G04F5/14—Apparatus for producing preselected time intervals for use as timing standards using atomic clocks
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- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 寸法が精密で、しかもヘリウム透過率の低い
原子周波数標準セルを提供する。 【構成】 本発明は、管状の円筒胴部によって限定され
た封止面に可融性の円形ガスケットによって封入された
第1および第2の窓を含む、低ヘリウム透過率を持つ原
子周波数標準セルに係る。窓の一方は開口を形成し、管
状ガスケットによって開口に隣接する窓に充填管が封止
される。これらのガスケットはホウケイ酸ガラスのよう
な軟化点の低いガラスで作られており、胴部、窓および
充填管はアルミノケイ酸ガラスのような軟化点がより高
めのガラスで形成される。組立品はガスケットを融解し
隣接する構成部品を封止する温度に加熱することによっ
て一緒に封止される。
原子周波数標準セルを提供する。 【構成】 本発明は、管状の円筒胴部によって限定され
た封止面に可融性の円形ガスケットによって封入された
第1および第2の窓を含む、低ヘリウム透過率を持つ原
子周波数標準セルに係る。窓の一方は開口を形成し、管
状ガスケットによって開口に隣接する窓に充填管が封止
される。これらのガスケットはホウケイ酸ガラスのよう
な軟化点の低いガラスで作られており、胴部、窓および
充填管はアルミノケイ酸ガラスのような軟化点がより高
めのガラスで形成される。組立品はガスケットを融解し
隣接する構成部品を封止する温度に加熱することによっ
て一緒に封止される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セシウムおよびルビジ
ウムセルのような原子周波数標準セル、およびこの種の
セルの製造方法に関するものである。
ウムセルのような原子周波数標準セル、およびこの種の
セルの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】セシウムおよびルビジウム蒸気のような
アルカリ金属を用いた光ポンピングによる原子周波数標
準を周波数標準の基準として使用することが普及してき
た。ワイドマン(Weidemann)の米国特許第
4,661,782号はこの種の周波数標準の概論を記
述している。概して、ガスセルにはマイクロ波共振空胴
が設けられている。たとえばルビジウムガスセル周波数
標準では、ルビジウム内のマイクロ波共振はガスセルに
向けられる適当な光放射の吸収を測定することによって
検出され、一方共振空胴は外部で発生したマイクロ波放
射によって励振される。このマイクロ波放射の周波数は
光放射の吸収度にしたがって制御される。
アルカリ金属を用いた光ポンピングによる原子周波数標
準を周波数標準の基準として使用することが普及してき
た。ワイドマン(Weidemann)の米国特許第
4,661,782号はこの種の周波数標準の概論を記
述している。概して、ガスセルにはマイクロ波共振空胴
が設けられている。たとえばルビジウムガスセル周波数
標準では、ルビジウム内のマイクロ波共振はガスセルに
向けられる適当な光放射の吸収を測定することによって
検出され、一方共振空胴は外部で発生したマイクロ波放
射によって励振される。このマイクロ波放射の周波数は
光放射の吸収度にしたがって制御される。
【0003】ヘリウム、水素、および窒素のような永久
ガスがルビジウム原子を含む基準セル内部に存在すると
き、これらのガスは原子基準周波数を変化させる(増加
または減少する)ように働く。(「永久ガス」とは関連
するすべての温度と気圧で完全に気相で存在する物質で
ある)。変化の量はセル内のガスの種類と濃度に左右さ
れ、したがってセル内のガスの分圧に比例する。
ガスがルビジウム原子を含む基準セル内部に存在すると
き、これらのガスは原子基準周波数を変化させる(増加
または減少する)ように働く。(「永久ガス」とは関連
するすべての温度と気圧で完全に気相で存在する物質で
ある)。変化の量はセル内のガスの種類と濃度に左右さ
れ、したがってセル内のガスの分圧に比例する。
【0004】100℃およびそれ以下では、ガラスは基
本的にほとんどのガスを透過させない。ヘリウムと水素
の2つはこの例外である。ヘリウム原子は水素分子より
も高い透過率を持つから、ガラスは水素に対してよりも
ヘリウムに対してずっと透過性があり、そして大気中に
通常少量存在するヘリウムは徐々にガラスセルを透過す
ることができる。(水素もまた大気中に存在するが、ヘ
リウムよりも10倍濃度が低い)。したがってセル内の
ヘリウム濃度は時間が経つにつれて変化する結果とな
る。
本的にほとんどのガスを透過させない。ヘリウムと水素
の2つはこの例外である。ヘリウム原子は水素分子より
も高い透過率を持つから、ガラスは水素に対してよりも
ヘリウムに対してずっと透過性があり、そして大気中に
通常少量存在するヘリウムは徐々にガラスセルを透過す
ることができる。(水素もまた大気中に存在するが、ヘ
リウムよりも10倍濃度が低い)。したがってセル内の
ヘリウム濃度は時間が経つにつれて変化する結果とな
る。
【0005】もし最初はセル内部に全くヘリウムがない
場合、大気中のヘリウムは徐々にガラスを通過して、セ
ル内部のヘリウムの濃度は時間と共に増加するだろう。
そして大気中のヘリウム濃度に等しい最終定常値まで増
加する。この点でガラスごしのヘリウムの浸透は、セル
のガラスの壁に対する圧力差は存在しなくなったから停
止する。普通このプロセスは安定するまでに長年の時間
がかかり、透過率は初期時に最大である。
場合、大気中のヘリウムは徐々にガラスを通過して、セ
ル内部のヘリウムの濃度は時間と共に増加するだろう。
そして大気中のヘリウム濃度に等しい最終定常値まで増
加する。この点でガラスごしのヘリウムの浸透は、セル
のガラスの壁に対する圧力差は存在しなくなったから停
止する。普通このプロセスは安定するまでに長年の時間
がかかり、透過率は初期時に最大である。
【0006】セル内のヘリウムの蓄積は、出力周波数の
周波数偏移を引き起こし、時間と共に変化する。この挙
動は周波数標準全体のの経時変化となる。この種の経時
変化は極めて望ましくない、何故ならルビジウム周波数
標準を用いる理由の一つは、個々の水晶発振器のような
低価格の装置と比較して経時変化が少ないからである。
周波数偏移を引き起こし、時間と共に変化する。この挙
動は周波数標準全体のの経時変化となる。この種の経時
変化は極めて望ましくない、何故ならルビジウム周波数
標準を用いる理由の一つは、個々の水晶発振器のような
低価格の装置と比較して経時変化が少ないからである。
【0007】セル内でヘリウムが蓄積する速度(原子数
/cc/秒)は総透過率(原子数/秒)と容積とに左右
される。透過率はセルの総表面積に比例する。一般的に
言って、セルは小型に作るうとするから、その容積対表
面積比は減少する。すなわち、より小型なセルでは浸透
する表面積比が大きくなるから内部はヘリウムでより速
やかに一杯になる。こうして、セルをより小型に作ろう
とすると、ヘリウム透過率の低いガラスの必要性がさら
に重要になる。
/cc/秒)は総透過率(原子数/秒)と容積とに左右
される。透過率はセルの総表面積に比例する。一般的に
言って、セルは小型に作るうとするから、その容積対表
面積比は減少する。すなわち、より小型なセルでは浸透
する表面積比が大きくなるから内部はヘリウムでより速
やかに一杯になる。こうして、セルをより小型に作ろう
とすると、ヘリウム透過率の低いガラスの必要性がさら
に重要になる。
【0008】アルカリ金属蒸気を含有させる適当なセル
について様々な提案が行われた。たとえば以下の特許で
もこれが論じられている: 米国特許 発明者 3,242,423 L.モルナー(Malnar) 3,248,666 D.J.ファーマー(Farmer) 3,510,758 G.R.ハゲット(Huggett) 3,577,069 L.モルナー(Malnar) 3,675,067 H.ブラン(Brun) 4,405,905 バスカ(Busca)他 4,494,085 S.ゴールドバーグ(Goldberg) 4,596,962 H.ロビンソン(Robinson) モルナー、ブラン、バスカ、およびハゲット特許に記載
のセルはすべて適当なガスから吹きづくりで作られたセ
ルに頼っている。この方法には多数の重要な欠点があ
る。まず第一に熟練したガラス吹き手がこの種のセルを
作るために必要であり、そしてセルがより小型に作られ
るようになればそれだけ、その寸法を均一にすることが
困難になる。さらに、ガスセルがより小型に作られると
き、ヘリウム透過率の低いガラスを用いることの重要性
が増大し、そしてヘリウム透過率の低いガラスのいくつ
かはガラスの吹き作り技術を用いて作ることが困難であ
る。
について様々な提案が行われた。たとえば以下の特許で
もこれが論じられている: 米国特許 発明者 3,242,423 L.モルナー(Malnar) 3,248,666 D.J.ファーマー(Farmer) 3,510,758 G.R.ハゲット(Huggett) 3,577,069 L.モルナー(Malnar) 3,675,067 H.ブラン(Brun) 4,405,905 バスカ(Busca)他 4,494,085 S.ゴールドバーグ(Goldberg) 4,596,962 H.ロビンソン(Robinson) モルナー、ブラン、バスカ、およびハゲット特許に記載
のセルはすべて適当なガスから吹きづくりで作られたセ
ルに頼っている。この方法には多数の重要な欠点があ
る。まず第一に熟練したガラス吹き手がこの種のセルを
作るために必要であり、そしてセルがより小型に作られ
るようになればそれだけ、その寸法を均一にすることが
困難になる。さらに、ガスセルがより小型に作られると
き、ヘリウム透過率の低いガラスを用いることの重要性
が増大し、そしてヘリウム透過率の低いガラスのいくつ
かはガラスの吹き作り技術を用いて作ることが困難であ
る。
【0009】ファーマー特許で議論されているもう一つ
の方法は、ガラスセルを完全に廃止して、代りにマイク
ロ波共振空胴の金属壁内に窓を備え付けるというもので
ある。ファーマー特許はガラスまたは水晶のガスセルを
充分に狭い許容範囲で製造することは困難であることを
はっきりと認識して、ガラスセルを完全に廃止すること
によってこれらの問題を解決しようと試みている。ファ
ーマーの共振空胴では、窓16および17はガラスで、
円筒形延長部18,20に取り付けられた可融性のリン
グを用いて金属シールするためガラスによって共振器1
0に封止されてもよい。ファーマー特許で講じられた方
法はアルカリ蒸気ガスに共振空胴の金属壁と接触するこ
とになる。さらに、ガラスセルを交換するときには同時
に共振空胴も交換しなければならない。
の方法は、ガラスセルを完全に廃止して、代りにマイク
ロ波共振空胴の金属壁内に窓を備え付けるというもので
ある。ファーマー特許はガラスまたは水晶のガスセルを
充分に狭い許容範囲で製造することは困難であることを
はっきりと認識して、ガラスセルを完全に廃止すること
によってこれらの問題を解決しようと試みている。ファ
ーマーの共振空胴では、窓16および17はガラスで、
円筒形延長部18,20に取り付けられた可融性のリン
グを用いて金属シールするためガラスによって共振器1
0に封止されてもよい。ファーマー特許で講じられた方
法はアルカリ蒸気ガスに共振空胴の金属壁と接触するこ
とになる。さらに、ガラスセルを交換するときには同時
に共振空胴も交換しなければならない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、専門
的なガラス吹き作り技術を要することなく、比較的低価
格で容易に製造することができ、さらに従来方法によっ
て希望するガスを中に満たすことができる、寸法が精密
でヘリウム透過率の低い原子周波数標準セルを提供する
ことにある。
的なガラス吹き作り技術を要することなく、比較的低価
格で容易に製造することができ、さらに従来方法によっ
て希望するガスを中に満たすことができる、寸法が精密
でヘリウム透過率の低い原子周波数標準セルを提供する
ことにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の態様は、
原子周波数標準セルは第1および第2円形封止面を形成
するセル胴部から成る。第1および第2の窓がセルを形
成するため各々の封止面に封止され、そして充填管がセ
ル内の開口と連絡し、さらにここで密閉されている。セ
ルは原子周波数標準セルとして成型、構成され、そして
セル胴部と窓はそれぞれT=100℃においておよそK
(T)=1×1/1011以下のヘリウム透過率をもつガ
ラスで形成される。式中のK(T)は、1トルのヘリウ
ムの分圧差が厚さ1mmのガラスを介して付加されたと
き、ガラス1cm2あたり毎秒透過するヘリウムの容積
を760トル、25℃の立方センチメートルで表したヘ
リウムの透過率である。このセルの容積60立方センチ
メートル以下であることが好ましい。
原子周波数標準セルは第1および第2円形封止面を形成
するセル胴部から成る。第1および第2の窓がセルを形
成するため各々の封止面に封止され、そして充填管がセ
ル内の開口と連絡し、さらにここで密閉されている。セ
ルは原子周波数標準セルとして成型、構成され、そして
セル胴部と窓はそれぞれT=100℃においておよそK
(T)=1×1/1011以下のヘリウム透過率をもつガ
ラスで形成される。式中のK(T)は、1トルのヘリウ
ムの分圧差が厚さ1mmのガラスを介して付加されたと
き、ガラス1cm2あたり毎秒透過するヘリウムの容積
を760トル、25℃の立方センチメートルで表したヘ
リウムの透過率である。このセルの容積60立方センチ
メートル以下であることが好ましい。
【0012】本発明の第2の態様は、ヘリウム透過率の
低い原子周波数標準セルの製造方法を提供する。第1お
よび第2窓およびセル胴部が用意され、胴部は第1およ
び第2円形封止面を画成し、さらに窓の1つと胴部が開
口を形成する。窓と胴部はすべて、それぞれT=100
℃においてK(T)=1×1/1011以下のヘリウム透
過率をもつガラスで形成されている。第1および第2窓
は、60立方センチメートル以下の容積をもつセルを形
成するように胴部の各封止面に封入されている。セルの
ための充填管を形成するため開口に隣接するセルに管が
封止される。
低い原子周波数標準セルの製造方法を提供する。第1お
よび第2窓およびセル胴部が用意され、胴部は第1およ
び第2円形封止面を画成し、さらに窓の1つと胴部が開
口を形成する。窓と胴部はすべて、それぞれT=100
℃においてK(T)=1×1/1011以下のヘリウム透
過率をもつガラスで形成されている。第1および第2窓
は、60立方センチメートル以下の容積をもつセルを形
成するように胴部の各封止面に封入されている。セルの
ための充填管を形成するため開口に隣接するセルに管が
封止される。
【0013】好ましくは、胴部、窓および管はアルミノ
ケイ酸ガラスから成り、ホウケイ酸ガラスから成る円形
可融性ガスケットが窓と各円形封止面との間に置かれ
る。封止処理は好ましくは、ガスケットを溶解し、窓を
胴部に封止するために充分な時間、およそ850℃を超
えない温度まで胴部と窓を加熱する段階で行われる。
ケイ酸ガラスから成り、ホウケイ酸ガラスから成る円形
可融性ガスケットが窓と各円形封止面との間に置かれ
る。封止処理は好ましくは、ガスケットを溶解し、窓を
胴部に封止するために充分な時間、およそ850℃を超
えない温度まで胴部と窓を加熱する段階で行われる。
【0014】本発明は、別添図面と下記詳細説明を参照
することにより他の目的および附随する利益と共に十分
に理解できるであろう。
することにより他の目的および附随する利益と共に十分
に理解できるであろう。
【0015】
【実施例】図1および図2は本発明の好ましい実施例を
内蔵する原子周波数標準セル10の破断透視断面図であ
る。セル10は両方に平行な円形密閉面14を持った円
筒形管状胴部12を持つ。セル10はまた第1および第
2窓16を持ち、その1つは中央開口18を画成する。
円形の可融性の窓ガスケット20は封止面14と窓16
の間に置かれ、充填管22は開口18内に置かれてい
る。可融性の管状ガスケット24は充填管22を隣接窓
16に封止するため充填管22の周りに置かれている。
内蔵する原子周波数標準セル10の破断透視断面図であ
る。セル10は両方に平行な円形密閉面14を持った円
筒形管状胴部12を持つ。セル10はまた第1および第
2窓16を持ち、その1つは中央開口18を画成する。
円形の可融性の窓ガスケット20は封止面14と窓16
の間に置かれ、充填管22は開口18内に置かれてい
る。可融性の管状ガスケット24は充填管22を隣接窓
16に封止するため充填管22の周りに置かれている。
【0016】セル10の様々な構成部品は個別部品とし
て簡単に製造することができる。たとえば充填管22、
胴部12、およびガスケット20,24はガラス管から
切り出される。セル10の各部分のために採用された材
料は望ましい熱およびヘリウム透過特性を持つように細
心に選択されている。特に、ガスケット20,24は胴
部12、窓16および管22よりも低い軟化温度をもつ
材料で形成され、組み立てられたセル10が適当な温度
に加熱されたとき、ガスケット20,24が窓16と胴
部12とを封止し、さらに充填管22と窓16とを封止
するために溶け、しかもなお胴部12、窓16および管
22の形状は事実上変化しないようになっている。
て簡単に製造することができる。たとえば充填管22、
胴部12、およびガスケット20,24はガラス管から
切り出される。セル10の各部分のために採用された材
料は望ましい熱およびヘリウム透過特性を持つように細
心に選択されている。特に、ガスケット20,24は胴
部12、窓16および管22よりも低い軟化温度をもつ
材料で形成され、組み立てられたセル10が適当な温度
に加熱されたとき、ガスケット20,24が窓16と胴
部12とを封止し、さらに充填管22と窓16とを封止
するために溶け、しかもなお胴部12、窓16および管
22の形状は事実上変化しないようになっている。
【0017】セル10を形成するための好ましい方法を
図3〜6に示す。図3および図4に示す通り、この方法
の第1の段階は窓16および窓ガスケット20および胴
部12を支持台30上に積み重ねた形で組み立てるとい
うものである。組み立てられた部品は締め付け部材36
によって一緒に緩く押えられたジグ32,34内に配置
される。支持台30の面は窓16が水平になるようにし
て水平に設置される。ジグ32,34は胴部12、窓1
6および窓ガスケット20を相互に同心的となるように
一緒に加圧する。それからジグ32,34はセル10の
組み立てられた各部から離して移動する。そこで図3お
よび図4に示す組立品は窓ガスケット20を溶かし窓1
6と胴部12とを封止させる適当な温度に加熱して、次
いで封止された組立品は制御された冷却速度で焼鈍され
る。
図3〜6に示す。図3および図4に示す通り、この方法
の第1の段階は窓16および窓ガスケット20および胴
部12を支持台30上に積み重ねた形で組み立てるとい
うものである。組み立てられた部品は締め付け部材36
によって一緒に緩く押えられたジグ32,34内に配置
される。支持台30の面は窓16が水平になるようにし
て水平に設置される。ジグ32,34は胴部12、窓1
6および窓ガスケット20を相互に同心的となるように
一緒に加圧する。それからジグ32,34はセル10の
組み立てられた各部から離して移動する。そこで図3お
よび図4に示す組立品は窓ガスケット20を溶かし窓1
6と胴部12とを封止させる適当な温度に加熱して、次
いで封止された組立品は制御された冷却速度で焼鈍され
る。
【0018】セル10の次の製造段階は管ガスケット2
4を充填管22上に配置し、そしてこの管22を水平に
向けて支え、管ガスケット24を充填管22の端から少
量だけ(本実施例では1mm)間隔をあけて置く。次い
で結合した充填管22と管ガスケット24を上述のよう
に加熱し、ガスケット24を充填管22の一端にビード
様形状を形成するように融解させる。図5に示す通り、
充填管22は少量の長さ(本実施例ではおよそ1/2m
m)だけ溶けた管ガスケット24から突き出ている。
4を充填管22上に配置し、そしてこの管22を水平に
向けて支え、管ガスケット24を充填管22の端から少
量だけ(本実施例では1mm)間隔をあけて置く。次い
で結合した充填管22と管ガスケット24を上述のよう
に加熱し、ガスケット24を充填管22の一端にビード
様形状を形成するように融解させる。図5に示す通り、
充填管22は少量の長さ(本実施例ではおよそ1/2m
m)だけ溶けた管ガスケット24から突き出ている。
【0019】セル10を形成するための好ましい方法の
第3段階は封止された窓16をもつ胴部12を、支持面
42を含む固定部材40内に配置するというものであ
る。固定部材40は調節可能のフランジ46を備えた2
個の垂直支持部材44を支持している。次いで充填管2
2はその端で開口18内に位置決めされ、溶けた管ガス
ケット24は隣接する窓16と接触する。充填管22の
上端は頭部50を限定するライザー48内に位置決めさ
れる。ライザー48はフランジ46上に乗った梁52の
開口内を自由にスライドすることができる。固定部材4
0はライザー48の頭部50が梁52のおよそ1mm上
に突き出すように調節されている。ライザー48の重量
は充填管22を下方に押し下げ、したがって溶かされた
管ガスケット24を窓16と接触するまで押しつける。
次いでこの装置を上述のように加熱し、管ガスケット2
4を軟化させる。ひとたび管ガスケット24が軟化され
ると、ライザー48の重さは充填管24をおよそ1mm
だけ下方に押し下げ、したがって溶けた管ガスケット2
4を隣接窓16と密閉式に接触させ、図2の完成セル1
0が出来あがる。
第3段階は封止された窓16をもつ胴部12を、支持面
42を含む固定部材40内に配置するというものであ
る。固定部材40は調節可能のフランジ46を備えた2
個の垂直支持部材44を支持している。次いで充填管2
2はその端で開口18内に位置決めされ、溶けた管ガス
ケット24は隣接する窓16と接触する。充填管22の
上端は頭部50を限定するライザー48内に位置決めさ
れる。ライザー48はフランジ46上に乗った梁52の
開口内を自由にスライドすることができる。固定部材4
0はライザー48の頭部50が梁52のおよそ1mm上
に突き出すように調節されている。ライザー48の重量
は充填管22を下方に押し下げ、したがって溶かされた
管ガスケット24を窓16と接触するまで押しつける。
次いでこの装置を上述のように加熱し、管ガスケット2
4を軟化させる。ひとたび管ガスケット24が軟化され
ると、ライザー48の重さは充填管24をおよそ1mm
だけ下方に押し下げ、したがって溶けた管ガスケット2
4を隣接窓16と密閉式に接触させ、図2の完成セル1
0が出来あがる。
【0020】上に指摘した通り、上記タイプの小型周波
数標準セルを製造するとき、セルの壁のヘリウム透過率
を十分低いレベルに維持することが特に重要である。
数標準セルを製造するとき、セルの壁のヘリウム透過率
を十分低いレベルに維持することが特に重要である。
【0021】面積A厚さdの薄いガラス壁を、時間tの
間に透過するヘリウムガスの総量qは次の式によって与
えられる:
間に透過するヘリウムガスの総量qは次の式によって与
えられる:
【数1】 ただし、K(T)は温度Tにおいてガラスに対するヘリ
ウム透過定数、δpは壁に対するヘリウムの圧力差であ
る。この式を用いて、ヘリウムが壁を透過することによ
る、閉じた容積V内の瞬間圧力上昇率は以下であること
を示すことができる:
ウム透過定数、δpは壁に対するヘリウムの圧力差であ
る。この式を用いて、ヘリウムが壁を透過することによ
る、閉じた容積V内の瞬間圧力上昇率は以下であること
を示すことができる:
【数2】 ただし、
【数3】 ここで、pは単位トル、Kはヘリウム透過定数で、ヘリ
ウム分圧差1トルがガラスを介して与えられるとき1m
mの厚さをもつガラス1cm2についてNTP(760
トル、25℃)での1秒間当たりのヘリウム透過cc数
であり、Aはcm2単位のガラスの総表面積、Vはcc
単位、dはmm単位、そしてTはケルビン目盛りのセル
の温度である。
ウム分圧差1トルがガラスを介して与えられるとき1m
mの厚さをもつガラス1cm2についてNTP(760
トル、25℃)での1秒間当たりのヘリウム透過cc数
であり、Aはcm2単位のガラスの総表面積、Vはcc
単位、dはmm単位、そしてTはケルビン目盛りのセル
の温度である。
【0022】セル内のヘリウムによる出力周波数標準内
の偏移δfと、セル内のヘリウムの分圧との関係は次の
式によって与えられる:
の偏移δfと、セル内のヘリウムの分圧との関係は次の
式によって与えられる:
【数4】 ただし、
【数5】 そしてy=ヘリウムによるわずかな周波数偏差≡δf/
f.
f.
【0023】式(2)および(4)を結合すれば、次の
周波数の径時変化が得られる:
周波数の径時変化が得られる:
【数6】 ただしδp0はセルの壁を横切るヘリウム分圧差の初期
値であって、もしセルの外側のヘリウム圧力が内側のそ
れより大きければ正である。
値であって、もしセルの外側のヘリウム圧力が内側のそ
れより大きければ正である。
【0024】式(6)で得られる結果はもしセルがヘリ
ウム分圧の一定な環境におかれた場合、t=0,R0に
於ける径時変化速度は次の式によって与えられることを
示す:
ウム分圧の一定な環境におかれた場合、t=0,R0に
於ける径時変化速度は次の式によって与えられることを
示す:
【数7】 そして径時変化速度はその後時間定数γと共に指数関数
的に減少する。概して、γは数年のオーダーの長い時間
である。このため装置が新しいときの径時変化は最も重
要な関心事であり、径時変化速度が最大であるときも同
様である。この場合、t〈〈γ そしてdy/dtはt
=0,すなわちR0に於ける値にほぼ等しい。
的に減少する。概して、γは数年のオーダーの長い時間
である。このため装置が新しいときの径時変化は最も重
要な関心事であり、径時変化速度が最大であるときも同
様である。この場合、t〈〈γ そしてdy/dtはt
=0,すなわちR0に於ける値にほぼ等しい。
【0025】式(3),(5)および(7)を結合すれ
ば、以下の式が得られる:
ば、以下の式が得られる:
【数8】 もしセルが製造時に全くヘリウムを含まず、周波数標準
を地球大気中の海面の高さで作動ならば、δp0=4.
0×1/103トルであり、前記式は以下の通りにな
る:
を地球大気中の海面の高さで作動ならば、δp0=4.
0×1/103トルであり、前記式は以下の通りにな
る:
【数9】
【0026】所定の径時変化速度について、この式は表
面積−容積比およびガラス厚さの関数としての透過定数
に上限を定めるために用いられる:
面積−容積比およびガラス厚さの関数としての透過定数
に上限を定めるために用いられる:
【数10】 セルが小型になるにつれて、表面積ー容積比は増加し、
そしてこの式から透過定数の最大許容値が減少すること
が明らかである。
そしてこの式から透過定数の最大許容値が減少すること
が明らかである。
【0027】現在のところ、1×1/1022/月の径時
変化性能(3.8×1/1018/秒)をもつ小型軍用ル
ビジウム周波数標準が利用可能である。ルビジウム周波
数標準(“RFS”)内には1個以上の径時変化が存在
するから、大ざっぱに言ってもし可能なら、各要因を望
ましい径時変化総量ののおよそ10分の1に制限すると
良い。このため、R0=3.8×1/1019/秒が上記
式を用いるための合理的な値である。
変化性能(3.8×1/1018/秒)をもつ小型軍用ル
ビジウム周波数標準が利用可能である。ルビジウム周波
数標準(“RFS”)内には1個以上の径時変化が存在
するから、大ざっぱに言ってもし可能なら、各要因を望
ましい径時変化総量ののおよそ10分の1に制限すると
良い。このため、R0=3.8×1/1019/秒が上記
式を用いるための合理的な値である。
【0028】競争力を持つため、軍用RFSは概して高
温(≒100℃)で作動するセルを用いるか、あるいは
より高い周囲温度に遭遇したとき、セル温度を低く保持
するため電子冷却機を使用するかしている。後者の方法
は複雑で高価だから、高温で作動できるセルを用いる前
者の方法が好ましい。このため、以下の分析から100
℃をセル作動温度。
温(≒100℃)で作動するセルを用いるか、あるいは
より高い周囲温度に遭遇したとき、セル温度を低く保持
するため電子冷却機を使用するかしている。後者の方法
は複雑で高価だから、高温で作動できるセルを用いる前
者の方法が好ましい。このため、以下の分析から100
℃をセル作動温度。
【0029】上記の値のR0およびTを用いて、式(1
0)は以下のようになる:
0)は以下のようになる:
【数11】
【0030】例として、円形断面(半径R、長さLの内
側寸法)の円筒形セルを取り上げてみよう。A=2πR
(R+L)およびV=πR2Lとなる。この場合:
側寸法)の円筒形セルを取り上げてみよう。A=2πR
(R+L)およびV=πR2Lとなる。この場合:
【数12】
【0031】L=0.7cmおよびR=0.55cm、
A/V=6.5の小型円筒形セルの場合、式(11)か
ら以下の式が得られる:
A/V=6.5の小型円筒形セルの場合、式(11)か
ら以下の式が得られる:
【数13】 たいていの実際のセルにおいて、d≒1mmである。こ
の場合、
の場合、
【数14】
【0032】コーニング1720ガラスのようなアルミ
ノケイ酸ガラスは式(14)の要求を満足する充分に低
いヘリウム透過定数を持ち、そして要求を2桁以上のオ
ーダーの大きさで満足する。他のアルミノケイ酸ガラス
もコーニング1720とほぼ同じヘリウム透過定数を持
つと期待されるから、それらも小型セルに使用するに適
していると期待される。
ノケイ酸ガラスは式(14)の要求を満足する充分に低
いヘリウム透過定数を持ち、そして要求を2桁以上のオ
ーダーの大きさで満足する。他のアルミノケイ酸ガラス
もコーニング1720とほぼ同じヘリウム透過定数を持
つと期待されるから、それらも小型セルに使用するに適
していると期待される。
【0033】同様の考えが他の幾何学的形状をもつセル
にも適用される。大体の場合は(A/V)およびdの関
数として透過定数の最大許容値を与える式(11)を用
いて処理することができる。反対に、所定のガラスおよ
び透過定数について、式(11)が(A/V)/dの最
小許容値を決定するために用いることができる。
にも適用される。大体の場合は(A/V)およびdの関
数として透過定数の最大許容値を与える式(11)を用
いて処理することができる。反対に、所定のガラスおよ
び透過定数について、式(11)が(A/V)/dの最
小許容値を決定するために用いることができる。
【0034】ヘリウムの多いおよび/または水素の多い
雰囲気内のRFSの作動は、(A/V)のある値におけ
る透過定数の最大許容値に対してさらに苛酷な条件を課
すであろう。
雰囲気内のRFSの作動は、(A/V)のある値におけ
る透過定数の最大許容値に対してさらに苛酷な条件を課
すであろう。
【0035】上に説明した理由で、胴部12、窓16お
よび充填管22のために好ましい材料はコーニング17
20または1724のようなアルミノケイ酸ガラスであ
る。ガスケット20,24に適した材料はコーニング7
052のようなホウケイ酸ガラスである。ホウケイ酸ガ
ラスはアルミノケイ酸ガラスよりも低い軟化点を持ち、
そこで封止ガスケット20,24を形成するために好適
である。加えて、これら2つの材料の熱膨張係数は極め
て似通っている。アルミノケイ酸ガラスは適切な低いヘ
リウム透過定数K(T)をもつ(T=100℃において
2×1/1013以下)。ホウケイ酸ガラスは高めのヘリ
ウム透過定数をもつが、セル10の総面積のごく小部分
だけを形成する。
よび充填管22のために好ましい材料はコーニング17
20または1724のようなアルミノケイ酸ガラスであ
る。ガスケット20,24に適した材料はコーニング7
052のようなホウケイ酸ガラスである。ホウケイ酸ガ
ラスはアルミノケイ酸ガラスよりも低い軟化点を持ち、
そこで封止ガスケット20,24を形成するために好適
である。加えて、これら2つの材料の熱膨張係数は極め
て似通っている。アルミノケイ酸ガラスは適切な低いヘ
リウム透過定数K(T)をもつ(T=100℃において
2×1/1013以下)。ホウケイ酸ガラスは高めのヘリ
ウム透過定数をもつが、セル10の総面積のごく小部分
だけを形成する。
【0036】およそ0.66ccの容積を持つセル10
の構成部品のために現在のところ好ましい寸法と材料を
表1に示す。表1ではすべての寸法はインチ単位で、ガ
スケット20,24の寸法はセル10の製造が完了した
後で測定された。
の構成部品のために現在のところ好ましい寸法と材料を
表1に示す。表1ではすべての寸法はインチ単位で、ガ
スケット20,24の寸法はセル10の製造が完了した
後で測定された。
【表1】 *材料1はコーニング1724のようなアルミノケイ酸
ガラス、材料2はコーニング7052または7056の
ようなホウケイ酸ガラスである。充填管22に隣接する
窓16の歪みを最小化するため、加熱サイクルは850
℃以下の比較的低い温度が良く、好ましくはおよそ84
5℃で約1時間実施される。図7は上に説明した3つの
封止作業に好ましい加熱サイクルを示す。図7に示す通
り、冷却速度は好ましくはアルミノケイ酸ガラスの焼鈍
範囲(660〜750℃)で少なくとも7分、そしてホ
ウケイ酸ガラスの焼鈍範囲(430〜500℃)で少な
くとも7分かけるように制御する。加熱サイクルの間振
動は好ましくなく、最小限に押さえ、走行ベルト炉が使
用される。封止されるべき面は清浄され、粒子汚染があ
ってはならない。
ガラス、材料2はコーニング7052または7056の
ようなホウケイ酸ガラスである。充填管22に隣接する
窓16の歪みを最小化するため、加熱サイクルは850
℃以下の比較的低い温度が良く、好ましくはおよそ84
5℃で約1時間実施される。図7は上に説明した3つの
封止作業に好ましい加熱サイクルを示す。図7に示す通
り、冷却速度は好ましくはアルミノケイ酸ガラスの焼鈍
範囲(660〜750℃)で少なくとも7分、そしてホ
ウケイ酸ガラスの焼鈍範囲(430〜500℃)で少な
くとも7分かけるように制御する。加熱サイクルの間振
動は好ましくなく、最小限に押さえ、走行ベルト炉が使
用される。封止されるべき面は清浄され、粒子汚染があ
ってはならない。
【0037】支持面30、42、ジグ32、34、およ
び梁52の材料は、ミネソタマイニング&マニュファク
チャリング社(Minnesota Mining &
Manufacturing)が「ラヴァ(Lav
a)」の商名で販売しているような耐火材料が好まし
い。固定部材40の残りの部品はステンレススチールで
作ることができる。勿論、これらの構造の詳細のすべて
は本発明者によって現在考えられる最高の方法を画成す
るために示されたものであって、本発明の範囲を制限す
るものではない。
び梁52の材料は、ミネソタマイニング&マニュファク
チャリング社(Minnesota Mining &
Manufacturing)が「ラヴァ(Lav
a)」の商名で販売しているような耐火材料が好まし
い。固定部材40の残りの部品はステンレススチールで
作ることができる。勿論、これらの構造の詳細のすべて
は本発明者によって現在考えられる最高の方法を画成す
るために示されたものであって、本発明の範囲を制限す
るものではない。
【0038】上に議論したようにセルは製造された後、
セシウムまたはルビジウム蒸気のようなアルカリ金属蒸
気を含むガスを従来の方法で満たすことができる。次い
で充填管22はセル10を閉じる従来の方法で封止する
ことができる。
セシウムまたはルビジウム蒸気のようなアルカリ金属蒸
気を含むガスを従来の方法で満たすことができる。次い
で充填管22はセル10を閉じる従来の方法で封止する
ことができる。
【0039】
【発明の効果】上に説明したセル10とその製造方法は
多数の重要な利点を有する。第1に、すべての構成部品
は自動または半自動作動で個別に製造されることができ
る。セル自体は低コストで、専門的なガラス吹き技術を
使用することなく反復可能の方法で製造することができ
る。セルの胴部は窓間の分離用として、すなわちセルの
光学距離を定めるスペーサとして働くから、窓間の分離
は構成部品を適正に寸法決定するだけで希望の値に正確
に制御することができる。充填管はセルがガラス吹き技
術なしで従来法で満たされることを可能にし、封止され
たセルは低いヘリウム透過率を備え、小型セルに好適で
ある。窓は平らで、熱変形がなく、充填管を受けている
窓はほどんどふさがれていない。本発明は60cc以
下、好ましくは10cc以下の容積をもつ小容積セルに
特に有用である。
多数の重要な利点を有する。第1に、すべての構成部品
は自動または半自動作動で個別に製造されることができ
る。セル自体は低コストで、専門的なガラス吹き技術を
使用することなく反復可能の方法で製造することができ
る。セルの胴部は窓間の分離用として、すなわちセルの
光学距離を定めるスペーサとして働くから、窓間の分離
は構成部品を適正に寸法決定するだけで希望の値に正確
に制御することができる。充填管はセルがガラス吹き技
術なしで従来法で満たされることを可能にし、封止され
たセルは低いヘリウム透過率を備え、小型セルに好適で
ある。窓は平らで、熱変形がなく、充填管を受けている
窓はほどんどふさがれていない。本発明は60cc以
下、好ましくは10cc以下の容積をもつ小容積セルに
特に有用である。
【0040】勿論、広範囲の変更ならびに修正が以上説
明した好ましい実施例に対してなされることができるこ
とが理解されるべきである。上に説明した特定のガラス
を代替材料に置き換えることも可能であって、セル10
は希望する通りに成型されることができる。たとえば、
図に示した円形以外の断面形状を簡単に得ることができ
る。希望すれば、充填管は胴部の開口内に窓につけたと
同様に取り付けられることができ、また充填管は開口内
に突き出さなくてもよい。また、ガラス粉と適当な結合
剤から作られた圧縮焼結部品を用いてもよい。
明した好ましい実施例に対してなされることができるこ
とが理解されるべきである。上に説明した特定のガラス
を代替材料に置き換えることも可能であって、セル10
は希望する通りに成型されることができる。たとえば、
図に示した円形以外の断面形状を簡単に得ることができ
る。希望すれば、充填管は胴部の開口内に窓につけたと
同様に取り付けられることができ、また充填管は開口内
に突き出さなくてもよい。また、ガラス粉と適当な結合
剤から作られた圧縮焼結部品を用いてもよい。
【0041】以上の詳しい説明は、限定するのではなく
むしろ説明を意図したものであって、本発明の範囲は、
すべての等価部品を含めて、前記の請求範囲によって規
定されていると理解するべきである。
むしろ説明を意図したものであって、本発明の範囲は、
すべての等価部品を含めて、前記の請求範囲によって規
定されていると理解するべきである。
【図1】本発明の好ましい実施例である原子周波数標準
セルの構成部品の、製造前の破断透視図である。
セルの構成部品の、製造前の破断透視図である。
【図2】製造完了した図1のセルの断面図である。
【図3】第1の中間製造段階における図2のセルの斜視
図である。
図である。
【図4】図3の4ー4線による断面図である。
【図5】第2の中間製造段階における図2のセルの選択
された構成部品の斜視図である。
された構成部品の斜視図である。
【図6】第3の中間製造段階における図2のセルの一部
断面を含む側面図である。
断面を含む側面図である。
【図7】図2のセルの製造に用いられる好ましい加熱サ
イクルのグラフである。 炉内封止ーアルミノケイ酸ガラスーホウケイ酸ガラス 封止処理1時間 ホウケイ酸ガラス焼鈍範囲 アルミノケイ酸ガラス焼鈍範囲 封止温度
イクルのグラフである。 炉内封止ーアルミノケイ酸ガラスーホウケイ酸ガラス 封止処理1時間 ホウケイ酸ガラス焼鈍範囲 アルミノケイ酸ガラス焼鈍範囲 封止温度
10 原子周波数標準セル 12 円筒型胴部 14 円形封止面 16 第1および第2窓 18 中央開口 20 ガスケット 22 充填管 24 ガスケット
Claims (10)
- 【請求項1】 低いヘリウム透過率をもつ原子周波数標
準セルの製造方法において、以下の段階、すなわち: a) 第1および第2窓、およびセル胴部を設け、前記
胴部は第1および第2円形封止面を画成し、前記窓およ
び胴部はすべて、それぞれT=100℃においてK
(T)=1×1/1011以下のヘリウム透過率をもつガ
ラスで形成すること。式中のK(T)は、1トルのヘリ
ウムの分圧差が厚さ1mmのガラスを介して付与された
とき、ガラス1cm2あたり毎秒透過するヘリウムの容
積を圧力760トル、温度25℃のccで表したヘリウ
ムの透過率である。 b) 開口に隣接して嵌め込まれるように寸法を定めら
れた管を用意すること。 c) およそ60cc数を超
えない容積をもつセルを形成するため胴部の各封止面に
第1および第2の窓を封止すること。および d) セルのための充填管を形成するため開口に隣接す
るセルに管を封止すること。 から構成されることを特徴とする低いヘリウム透過率を
もつ原子周波数標準セルの製造方法。 - 【請求項2】 請求項1の段階c)が以下の処理、すな
わち: c1) 各窓と封止面との間に第1および第2の円形の
可融性のガスケットを置くこと、および c2) ガスケットを加熱してこれを胴部と各窓に溶か
しつけ、窓を胴部に封止すること。 から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の
低いヘリウム透過率をもつ原子周波数標準セルの製造方
法。 - 【請求項3】 請求項1の段階d)が以下の処理、すな
わち: d1) 開口に隣接する管の周囲に第3の円形の可融性
のガスケットを置くこと、および d2) 第3のガスケットを加熱してこれを前記の窓の
1つの開口に溶かしつけ、管を所定位置に封止するこ
と。 から構成されていることを特徴とする請求項2に記載の
低いヘリウム透過率をもつ原子周波数標準セルの製造方
法。 - 【請求項4】 胴部、窓および管がアルミノケイ酸ガラ
スから成ることを特徴とする請求項1に記載の低いヘリ
ウム透過率をもつ原子周波数標準セルの製造方法。 - 【請求項5】 胴部、窓および管がアルミノケイ酸ガラ
スから成り、さらにガスケットがホウケイ酸ガラスから
成ることを特徴とする請求項2に記載の低いヘリウム透
過率をもつ原子周波数標準セルの製造方法。 - 【請求項6】 原子周波数標準セルにおいて、以下、す
なわち:第1および第2円形封止面を画成するセル胴
部、 第1および第2窓であって、各々がセルを形成するため
に封止面の各1つに封入されているもの、およびセルの
開口と連絡し、これに封入されている充填管を含んでお
り、 前記セルが原子周波数標準セルとして成型され、構成さ
れており、 前記セル胴部および窓が、それぞれT=100℃におい
ておよそK(T)=1×1/1011以下のヘリウム透過
率をもつガラスで形成されており、式中のK(T)は、
1トルのヘリウムの分圧差が厚さ1mmのガラスを介し
て付与されたとき、ガラス1cm2あたり毎秒透過する
ヘリウムの容積を圧力760トル、温度25℃のcc数
で表したヘリウムの透過率であり、 前記セルが60cc以下の容積をもつことを特徴とする
原子周波数標準セル。 - 【請求項7】 各窓と封止面との間に第1および第2の
円形の可融性ガスケットが融着されて成ることを特徴と
する請求項6に記載の原子周波数標準セル。 - 【請求項8】 充填管とセルの開口の周囲に第3の円形
の可融性のガスケットが融着されて成ることを特徴とす
る請求項7に記載の原子周波数標準セル。 - 【請求項9】 胴部、窓、および管がアルミノケイ酸ガ
ラスから成ることを特徴とする請求項6に記載の原子周
波数標準セル。 - 【請求項10】 胴部、窓、および管がアルミノケイ酸
ガラスから成ること、およびガスケットがホウケイ酸ガ
ラスから成ることを特徴とする請求項7に記載のセル。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9467157B2 (en) | 2014-09-08 | 2016-10-11 | Seiko Epson Corporation | Atomic cell, atomic cell manufacturing method, quantum interference device, atomic oscillator, electronic device, and moving object |
| WO2021024619A1 (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-11 | 日本電気硝子株式会社 | 原子セル用ガラス、原子セル、及び原子セルの製造方法 |
| WO2021246150A1 (ja) * | 2020-06-04 | 2021-12-09 | 日本電気硝子株式会社 | 原子セル用ガラス、原子セル、及び原子セルの製造方法 |
| JP2021187723A (ja) * | 2020-06-04 | 2021-12-13 | 日本電気硝子株式会社 | 原子セル用ガラス、原子セル、及び原子セルの製造方法 |
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