JPH062111A - 2平面における蒸着 - Google Patents

2平面における蒸着

Info

Publication number
JPH062111A
JPH062111A JP5039230A JP3923093A JPH062111A JP H062111 A JPH062111 A JP H062111A JP 5039230 A JP5039230 A JP 5039230A JP 3923093 A JP3923093 A JP 3923093A JP H062111 A JPH062111 A JP H062111A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
article
horizontal
metal
metallizing
evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5039230A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3434846B2 (ja
Inventor
Richard C Eisfeller
リチャード・シー・アイスフェラー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Davidson Textron Inc
Original Assignee
Davidson Textron Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Davidson Textron Inc filed Critical Davidson Textron Inc
Publication of JPH062111A publication Critical patent/JPH062111A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3434846B2 publication Critical patent/JP3434846B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インジウムが物品の湾曲した或は縦方向の面
にも蒸着されるような蒸着装置及び方法を提供するこ
と。 【構成】 第2の蒸発手段40が金属粒子を物品12の
縦方向面16に蒸着させる。蒸発ボート48は一般にチ
ューブ形状を為し、その一方の開放端49が回転カルー
セル26の端部及び物品12の縦方向面16に配向され
る。前記蒸発ボート48は母線44に電気的に接続され
る他、蒸発するインジウムが真空蒸着プロセス処理以前
に流出しないことを保証するために前記開放端49位置
に於て若干上方に向けて傾倒される。母線44を予め決
定された電圧水準へと賦活するのに応じて蒸発ボート4
8内部の金属が蒸発し、真空チャンバー20が脱気され
ると物品の縦方向面16上に水平方向に於て蒸着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック及び類似の
誘電材の真空メタライジング処理にして、腐蝕性の金属
が真空蒸着によって誘電材上に付着される前記真空メタ
ライジング処理に関する。
【0002】
【従来技術】プラスチック及び類似の誘電材の真空メタ
ライジングはしばしば実施されている。自動車工業に於
ては、従来からのクロームメッキ部品に代替し得るメタ
ライジング処理されたトリム部品が使用されている。真
空蒸着による金属被膜成長段階は以下の段階、即ち、金
属核の形成及び核の成長、電気的に独立した島としての
液体の凝縮、初期に於ける被膜導電性上の連繋、そして
最終的な、完全に連続した被膜の形成を経て為される。
米国特許番号第4431771号には、誘電材をインジ
ウム及びその合金で真空メタライジング処理する一つの
方法が記載される。この米国特許は円滑面を具備する有
機誘電ベース或は材料、例えば成形プラスチックを含む
物品の製造に関するものである。その円滑面上にはイン
ジウム及びその合金の、顕微鏡を使用すれば連続に見え
る極薄層が付着される。金属被膜上には誘電性樹脂の被
膜が密着コーティングされ、このコーティングが金属粒
子を包納し且つ保護しそしてそれらを誘電材にしっかり
と結合する。こうして出来た部材は自動車用途、例えば
自動車外装トリム部品として、これを従来からのより重
く且つ高価なクロームメッキした金属部品に代替させる
用途に於て特に有用である。
【0003】真空メタライジングプロセス中は真空チャ
ンバーが、コーティングされるべき誘電材を、金属材料
がそこに付着されてなるボート、即ち蒸発ボートと共に
包囲し、その金属材料が前記誘電材上に蒸着され或は蒸
発する。真空メタライジング法の作業上の特性上、合致
する蒸発ボート、即ち蒸発速度或は加熱速度が類似する
蒸発ボートを使用することが部品の品質及び初期作業性
を良好にすると判断されてきている。それは米国特許第
737686号に記載されている。
【0004】一般に、金属材料の蒸着中には複数の蒸発
ボートが水平方向の母線に取付けられ、並列或は直列状
態で電源に接続される。蒸発ボートは、メタライジング
処理するべき物品を支持する回転カルーセルの下方に水
平状態で結合される。この回転カルーセルには、メタラ
イジング処理するべき物品を支持し且つこの回転カルー
セルの回転とは無関係に回転し得る複数のリールが含ま
れる。前記回転カルーセルは蒸着プロセス中回転しそれ
により、各々の物品上への金属の付着を均等化する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この形式のシステムで
はインジウムが物品の、縦方向のみに於て主に水平面に
対し蒸着されるという問題がある。物品の湾曲した或は
縦方向の面にはインジウムは一般にコーティングされな
い。或は物品の残余の部分との関連に於て均一なコーテ
ィングは為されない。従って、解決しようとする課題
は、メタライジング処理に於てインジウムが物品の、主
に水平面に対し縦方向に於てのみ蒸着されるという問題
を解決し、インジウムが物品の湾曲した或は縦方向の面
にも蒸着されるような蒸着装置及び方法を提供すること
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、水平方
向面及び縦方向面を具備する物品を真空蒸着するための
メタライジング装置及び方法が提供される。前記メタラ
イジング装置には、そこを貫く水平方向軸にして、メタ
ライジング処理するべき物品を前記水平方向軸を中心と
して回転し得る状態に支持するようになっている、前記
水平方向軸を具備する回転手段が含まれる。このメタラ
イジング装置にはまた第1の蒸着手段が、前記回転手段
の下方に水平方向に於て結合される。この第1の蒸着手
段は金属粒子を収納しこの金属粒子を物品の水平面に向
けて縦方向に蒸発させる。前記装置は、第2の蒸着手段
或は母線によって特徴付けられる。この第2の蒸着手段
は縦方向に取付けられ、金属粒子を水平方向軸と平行す
る状態で収納し且つ物品の縦方向面に向けて蒸発させ
る。
【0007】
【実施例】物品12を真空メタライジングするためのメ
タライジング装置(以下、単に装置とも称する)が、図
1及び2に於て全体を参照番号10で示されている。真
空メタライジングするべき物品或は基材12は、水平方
向面14及び縦方向面16を具備する形式のものであ
る。形成される物品は、一般にL字型の自動車のバンパ
ーの如き自動車の外装トリム部品であり得る。本発明の
範囲内に於て、他の形式の物品及び材料を真空メタライ
ジング処理及び形成し得る。
【0008】物品12には、成形プラスチックの如き円
滑な表面を有する誘電性の有機ベース或は基材が含まれ
る。メタライジング処理された物品12或は製品は自動
車用途、例えば自動車外装トリム部品として、これを従
来からのより重く且つ高価なクロームメッキした金属部
品に代替させる用途に於て特に有用である。前記基材
は、ここに記載することによって本願発明の一部とする
米国特許第4431711号に言及される形式の如きも
のであり得る。
【0009】乾燥木材、ガラス或はプラスチックといっ
た任意の好適な誘電材料、即ち絶縁材料に金属を真空蒸
着させることが可能である。自動車の外装トリム部品と
して使用する場合、注型或は成形可能なプラスチックが
使用されるが好ましくは、強靭で酷使に耐えつつも幾分
の柔軟性を有する、例えば射出成形等級の熱可塑性プラ
スチックポリウレタンの如きエラストマーが使用され
る。その他の好適な基材は前記米国特許第443171
1号に記載される。
【0010】装置10は真空メタライジングされたイン
ジウムの薄い層、即ち被膜を付着させ或は収集して電気
的に独立した島とするために使用される。これらの島で
は前記被膜は、その上面を適切なコーティングを施した
場合、インジウムが特に腐蝕しやすい金属であるにも関
わらず耐腐蝕性がある。前記付着されたインジウムの被
膜は導電性である。なぜなら、蒸気相から初期に於て付
着された金属核は溶融相に於てはじめて、金属粒子が相
互に電気的に絶縁された独立した島へと成長が可能であ
るからである。コーティング肉厚は極めて薄く維持され
従って、付着される金属は金属粒子の凝集並びに導電性
被膜の形成をもたらすには不十分とされる。インジウム
の被膜は一般に1000Å未満の公称肉厚、好ましくは
600Å未満の肉厚を有する。ここで”公称肉厚”と
は、連続被膜状態に金属が付着すると仮定した場合の、
単位面積当りの金属の付着重量によって決定される厚さ
を意味する。
【0011】被膜は、コーティングされた物品12が先
に参照した米国特許に於て言及されるように金属製物品
として見えるに十分な光を反射するために十分な肉厚と
されるべきである。前記米国特許に於て議論されるよう
に、インジウムの被膜を覆って樹脂によるトップコーテ
ィングが施されそれにより、機械的酷使に対する抵抗力
が向上される。透明な、防湿性のアクリル、ウレタンそ
の他がラテックスとしてコーティングされ、そしてより
好ましくは溶剤溶液が好適にコーティングされる。イン
ジウムの被膜の先の付着はいろいろな方法によって実施
可能である。本発明は5×103 Torr或はそれ未満
の真空でのインジウムの熱的蒸発を通して実施される真
空蒸着に関するものである。例示された、また参照され
た米国特許に言及されたようなそうした真空蒸着を実行
する装置は、Davidson Textron社の一
部であるDavidson Technology C
enterが使用する、Frederick社の製造す
るcustom48インチメタライザーとして識別され
る形式のものであり得る。
【0012】本発明の装置10は、以下に述べるように
改変された従来技術によるメタライザーを使用する。本
発明によれば、全ての縦方向面16及び水平方向面14
がメタライジング処理される。装置10にはハウジング
18が含まれこのハウジング18がその内部に真空チャ
ンバー20を形成する。該チャンバー20には、そこへ
のアクセスを可能とするためのドア22がヒンジ23に
於て蝶着される。ハウジング18は、このドア22をジ
ョイント部25の位置で閉じることによりドア22とハ
ウジングシリンダー18a間で密閉される。
【0013】回転手段24には一般に回転カルーセル2
6が含まれ、水平方向軸Aが回転カルーセル26の実質
的に中心を貫いて伸延する。回転カルーセル26には一
対の円形の端部支持体27が含まれ、この端部支持体2
7間には、その外径部分に沿って且つ前記水平方向軸A
と平行に複数の支持バー或は支持リール28が伸延され
る。これらの支持バー或は支持リール28は支承体29
その他により端部支持体27に回転し得る状態で固着さ
れる。物品12をそこで支持するための複数のハンガー
30が前記支持バー28にしっかりと付設される。これ
らのハンガー30には、物品12をそこに保持するため
の、斯界に於て一般的に知られたクリップ或はファスナ
ーが含まれ得る。物品12は、その水平方向面及び縦方
向面が前記水平方向軸Aに対し夫々水平方向及び縦方向
に維持されるよう、前記支持バー28に取付けられる。
蒸着中に回転カルーセル26を回転せしめるための駆動
手段31が、回転カルーセル26に連結されまた支持バ
ー28に随意的に連結される。回転カルーセル26の回
転に応じ支持バー28が回転せしめられる。ある適用例
に於ては回転カルーセル26を回転させると共に支持バ
ー28を独立して回転させることもまた望ましい。
【0014】本装置には、金属粒子を収納し且つこの金
属粒子を物品12に向けて実質的にその水平方向面14
に蒸着させるための第1の蒸着手段32が、回転カルー
セル26の下方に水平方向に於て連結される。この第1
の蒸着手段32は、電圧を受けそれを伝達するための、
回転カルーセル26の下方を水平方向軸Aと平行状態で
その長手方向に伸延する母線34を含む。この母線34
は一般に、横断方向バー36をその間部分に具備する平
行な2つの部材を含む。細長ボール(bowl)形状の
複数の金属製のボート38が、横断方向バー36を横断
して母線に連結される。これらのボート38は蒸発され
るべきインジウムの如き金属を収納する。ボート38は
一般にタングステン金属からなり、前記米国特許第73
7686号に説明される形式のものであり得る。母線3
4は、真空チャンバー20が真空ポンプシステム20a
によって脱気される間に前記金属粒子が蒸発しそして物
品12に目視し得る付着ラインを生ぜしめるところの、
予め決定された時間に於て変圧器37その他からの電圧
を受ける。ここで説明した基本的なシステムは斯界に一
般に知られたものでありまた先に参照した形式のもので
ある。
【0015】以下に本発明における前記基本的システム
の改変部分並びに新規構造部分が説明される。装置10
は、縦方向に取付けられた第2の蒸発手段40を含むこ
とにより特徴付けられる。この第2の蒸発手段40は、
金属粒子を収納しこれを物品12に向けてその縦方向面
16に蒸着させるためのものである。この第2の蒸発手
段40もまた母線を含み、この母線は回転カルーセル2
6の中心軸A方向へと縦方向に伸延する導電性の2本の
平行なアーム44を具備する。導電性の中央の横断方向
バー46が前記アーム44を相互に連結する。この中央
の横断方向バー46は蒸発されるべき金属、例えばイン
ジウムの如き金属を収納するチューブ状の蒸発ボート4
8に連結される。この蒸発ボート48は一般にチューブ
形状を為し、その一方の開放端49が回転カルーセル2
6の端部及び物品12の縦方向面16に配向される。蒸
発ボート48は母線44に電気的に接続される。蒸発ボ
ート48はまた、蒸発するインジウムが真空蒸着プロセ
ス処理以前に流出しないことを保証するために、前記開
放端49位置に於て若干、即ち5°上方に向けて傾倒さ
れる。母線44を予め決定された電圧水準へと賦活する
のに応じて蒸発ボート48内部の金属が蒸発し、真空チ
ャンバー20が脱気されると物品の縦方向面16上に水
平方向に於て蒸着する。
【0016】第1の蒸発手段32或は第2の蒸発手段4
0の何れに於ても、任意の数の蒸発ボート38或は48
を使用可能である。第1の蒸発手段32に於ては複数の
蒸発ボート38は電気的に並列或は直列に接続され、回
転カルーセル26の下方を支持バー28の長さ未満に於
て伸延される。第2の蒸発手段40に関しては蒸発ボー
ト48の数は一般に物品12の縦方向面16の長さによ
って異なり、また1から6の範囲で変化し得るものであ
る。本発明には、水平方向面及び縦方向面16を具備す
る物品12を真空蒸着によりメタライジング処理するた
めの方法もまた含まれる。この方法には、メタライジン
グ処理するべき物品12を水平方向軸を中心として回転
させる段階と、水平方向に於て物品12の縦方向面16
に向けて真空蒸着させる段階と、縦方向に於て物品の水
平方向面14に向けて真空蒸着させる段階とが含まれ
る。そして後、メタライジング処理された物品12に対
し、追加的な腐蝕保護を目的とするトップコーティング
が施される。
【0017】前記方法を実施するために、熱可塑性プラ
スチックウレタン製の射出成形バンパーが一般にL字型
に成形され、ウレタンエナメルのベースコーティングが
前記バンパーに施された。冷却した後、このバンパーを
先に言及したメタライザーを使用してメタライジング処
理した。装置10のためのポンピングシステムは、機械
式粗引きポンプと、シリコーンオイル拡散ポンプと、真
空チャンバー20内の水蒸気及びガス発生を最小化する
ための液体窒素コールドトラップとから成り立つ。1.
0グラムの高純度インジウムが、20ボルトのAC可変
変圧器に直列に接続された5ミル肉厚の8つのタングス
テン製の蒸発ボート38から蒸発された。タングステン
製のチューブ状の4つの蒸発ボート48が、5ボルトA
C可変変圧器に接続された。この蒸発ボート38は0.
3グラムの高純度インジウムを含む。8つの蒸発ボート
38が、回転カルーセル26或は水平方向軸Aと平行状
態でそれらの水平方向下方に位置付けられた。2.1ボ
ルト、225アンペアの電力が、好適な定電圧電源から
2分間にわたり水平方向の母船に流された。4つのチュ
ーブ状の蒸発ボート48が使用され、その各2つが各支
持バー28の端部位置に整列状態で配列された。2分間
送給された電力は2.8ボルト、63アンペアであっ
た。バンパー12が、その回転中に蒸発ボートとの距離
を8.5インチから14.5インチ(約21.6から3
6.8cm )へと変化する状態で回転カルーセル上で
20rpmの速度で回転された。これによるバンパー上
での金属被膜の肉厚は350Åであった。以上本発明を
具体例を参照して説明したが、本発明の内で多くの変更
を成し得ることを理解されたい。
【0018】
【発明の効果】インジウムが物品の湾曲した或は縦方向
の面にも蒸着されるような蒸着装置及び方法が提供され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従う蒸着装置の斜視図である。
【図2】図1を線2−2で切断した側面断面図である。
【図3】図2を線3−3で切断した正面断面図である。
【符号の説明】
10:装置 12:物品 18:ハウジング 18a:ハウジングシリンダー 20:チャンバー 24:回転手段 26:回転カルーセル 27:端部支持体 28:支持バー 29:支承体 30:ハンガー 32:第1の蒸発手段 34:母線 36:横断方向バー 37:変圧器 38:蒸発ボート 40:第2の蒸発手段 44:アーム 48:蒸発ボート

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空チャンバー、該真空チャンバー内の
    回転自在手段にして、水平方向軸がそこを貫き且つメタ
    ライジング処理されるべき物品を回転し得る状態で支持
    するようになっている前記回転自在手段、物品の水平方
    向面に向けて縦方向に金属を蒸着させるための、前記真
    空チャンバー内の回転自在手段の下方に於て水平方向に
    連結された第1の蒸発手段を含む、水平方向面及び縦方
    向面を具備する物品を真空メタライジング処理するため
    のメタライジング装置であって、 物品の縦方向面に向けて水平方向に金属を蒸着させるた
    めの、前記真空チャンバー内の前記回転自在手段に縦方
    向に連結された第2の蒸発手段を具備することを特徴と
    する前記メタライジング装置。
  2. 【請求項2】 回転自在手段は回転カルーセルを含み、
    該回転カルーセルはその直径部分に沿って配設され且つ
    前記回転自在手段の水平方向軸に平行の複数の支持バー
    と、該支持バーと共に物品をその縦方向面及び水平方向
    面を前記水平方向軸に対し夫々縦方向及び水平方向に維
    持するに好適な、前記支持バーに廻動自在に付設された
    複数のハンガーとを含む請求項1に記載のメタライジン
    グ装置。
  3. 【請求項3】 第2の蒸発手段は、電圧を受け且つ伝達
    するための、回転カルーセルの一端に沿って回転自在手
    段の水平方向方向軸を横断して縦方向に伸延する母線
    と、金属を収納するためのチューブ状のボートにして、
    前記母線に加えられた電圧に応答して物品の縦方向面に
    向けて水平方向に於て金属を蒸着させるための、前記母
    線に連結された前記チューブ状のボートとを含んでいる
    請求項2に記載のメタライジング装置。
  4. 【請求項4】 第1の蒸発手段は、電圧を受け且つ伝達
    するための、回転自在手段と平行で且つその下方を長手
    方向に於て伸延する母線と、金属を収納するための複数
    のボートにして、前記母線を横断して連結され金属のそ
    こへの供給に応答して該金属を蒸発させるための、前記
    複数のボートとを具備する請求項3に記載のメタライジ
    ング装置。
  5. 【請求項5】 真空チャンバー内で物品を、該物品が前
    記真空チャンバーの水平方向軸に関してその水平方向面
    及び縦方向面が維持される状態で前記水平方向軸を中心
    として回転させる段階、蒸発された金属を縦方向に於て
    配向することにより物品の水平方向面を真空メタライジ
    ング処理する段階を含む水平方向面及び縦方向面を具備
    する物品を真空メタライジング処理するための方法であ
    って、 蒸発した金属を別に水平方向に配向することにより、物
    品の縦方向面を真空メタライジング処理する段階を含む
    ことを特徴とする前記水平方向面及び縦方向面を具備す
    る物品を真空メタライジング処理するための方法。
JP03923093A 1992-03-24 1993-02-04 2平面における蒸着 Expired - Fee Related JP3434846B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US856713 1992-01-24
US07/856,713 US5198272A (en) 1992-03-24 1992-03-24 Thermal evaporation in two planes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH062111A true JPH062111A (ja) 1994-01-11
JP3434846B2 JP3434846B2 (ja) 2003-08-11

Family

ID=25324324

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03923093A Expired - Fee Related JP3434846B2 (ja) 1992-03-24 1993-02-04 2平面における蒸着

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5198272A (ja)
EP (1) EP0558898B1 (ja)
JP (1) JP3434846B2 (ja)
KR (1) KR960002634B1 (ja)
AU (1) AU3203793A (ja)
CA (1) CA2087151C (ja)
CZ (1) CZ39593A3 (ja)
DE (1) DE69302507T2 (ja)
ES (1) ES2087571T3 (ja)
HU (1) HU9300833D0 (ja)
MX (1) MX9301562A (ja)
PL (1) PL298216A1 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4201584C1 (ja) * 1992-01-22 1993-04-15 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
CH685348A5 (de) * 1992-05-08 1995-06-15 Balzers Hochvakuum Vakuumbeschichtungsanlage mit drehgetriebenem Substratträger.
US5284679A (en) * 1992-11-16 1994-02-08 Davidson Textron Inc. Method for making bright trim articles
JP2590438B2 (ja) * 1994-06-30 1997-03-12 工業技術院長 薄膜形成方法および薄膜形成装置
JPH09202963A (ja) 1995-08-25 1997-08-05 Abcor Inc エッチングを行わずに金属化アイランド被覆製品を製造する方法
US5558909A (en) * 1996-01-17 1996-09-24 Textron Automotive Interiors, Inc. Apparatus and method for vacuum-metallizing articles with significant deposition onto three-dimensional surfaces
CA2316914C (en) * 1997-12-31 2008-06-10 Textron Systems Corporation Metallized sheeting, composites, and methods for their formation
US20070028842A1 (en) * 2005-08-02 2007-02-08 Makoto Inagawa Vacuum chamber bottom
JP4725589B2 (ja) * 2008-03-25 2011-07-13 ソニー株式会社 複合微粒子の製造装置及び製造方法
JP2011058071A (ja) * 2009-09-11 2011-03-24 Sony Corp 複合微粒子の製造装置、及び、複合微粒子の製造方法
JP2013040357A (ja) * 2011-08-11 2013-02-28 Optorun Co Ltd 成膜装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4116161A (en) * 1976-11-12 1978-09-26 Mcdonnell Douglas Corporation Dual tumbling barrel plating apparatus
US4431711A (en) * 1980-03-25 1984-02-14 Ex-Cell-O Corporation Vacuum metallizing a dielectric substrate with indium and products thereof
CH650028A5 (de) * 1980-09-26 1985-06-28 Balzers Hochvakuum Anordnung zum gleichfoermigen beschichten von rotationsflaechen durch bedampfen im hochvakuum.
JPS60129158A (ja) * 1983-12-15 1985-07-10 Toyoda Gosei Co Ltd プラズマ処理装置
DE3520924A1 (de) * 1984-06-12 1985-12-12 Toyoda Gosei Co., Ltd., Haruhi, Aichi Plasmaverfahrensanlage
GB8718916D0 (en) * 1987-08-10 1987-09-16 Ion Tech Ltd Thin film alloying apparatus
DD265175A1 (de) * 1987-09-24 1989-02-22 Hochvakuum Dresden Veb Verfahren und einrichtung zur homogenen schichtabscheidung in vakuumanlagen
US5037676A (en) * 1989-12-27 1991-08-06 Xerox Corporation Method and apparatus for cleaning, coating and curing receptor substrates in an enclosed planetary array
US5133604A (en) * 1991-07-30 1992-07-28 Davidson Textron Inc. Method and apparatus for evaluating evaporating boats based on evaporation rate characteristics

Also Published As

Publication number Publication date
CA2087151A1 (en) 1993-09-25
EP0558898A1 (en) 1993-09-08
MX9301562A (es) 1993-09-01
CA2087151C (en) 2002-08-20
AU3203793A (en) 1993-09-30
KR960002634B1 (ko) 1996-02-24
ES2087571T3 (es) 1996-07-16
US5198272A (en) 1993-03-30
PL298216A1 (en) 1993-10-04
JP3434846B2 (ja) 2003-08-11
KR930019860A (ko) 1993-10-19
CZ39593A3 (en) 1994-04-13
DE69302507T2 (de) 1996-11-28
EP0558898B1 (en) 1996-05-08
DE69302507D1 (de) 1996-06-13
HU9300833D0 (en) 1993-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3434846B2 (ja) 2平面における蒸着
US5409782A (en) Composite film
US3667424A (en) Multi-station vacuum apparatus
EP0224080B1 (en) Improvements in and relating to the manufacture of prosthetic devices
JP3453174B2 (ja) 光沢のある装備品を製造する方法
US6280792B1 (en) Surface-treating process using support member having plate-like elements
US5079101A (en) Composite film
TW374954B (en) Integrated CVD/PVD AL planarization using ultra-thin nucleation layers
US5558909A (en) Apparatus and method for vacuum-metallizing articles with significant deposition onto three-dimensional surfaces
JP2599176B2 (ja) 金色装飾品
EP0310656B1 (en) Surface treatment of polymers
KR970013215A (ko) 극 박막의 금속층 형성방법 및 이를 이용한 배선 형성방법
JPH0377874B2 (ja)
CN118184162A (zh) 一种玻璃制品的镀膜设备
KR100323991B1 (ko) 박막 제조 방법 및 제조 장치
Grantscharova et al. Formation of texture in vacuum-condensed tin on glass
Puri Adhesion enhancement of thin film deposits by chopping
CN1324161C (zh) 一种不导电的塑料表面金属膜层的制备方法
JP3489267B2 (ja) ガス遮断性に優れた包装材
JPH09143684A (ja) 金属膜被覆高分子物品及びその製造方法
JP4649789B2 (ja) バリア性積層体
US20030091738A1 (en) Vacuum deposition method, products thereof, and devices therefor
JPS6250551B2 (ja)
JPH0247277A (ja) フェライトへのチタニウム又はチタニウム合金被膜の形成方法及びその装置
JPS5881970A (ja) スパツタ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030422

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees