JPH06213833A - Ｘ線の反射率計測装置及びその計測方法 - Google Patents
Ｘ線の反射率計測装置及びその計測方法Info
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- JPH06213833A JPH06213833A JP5006320A JP632093A JPH06213833A JP H06213833 A JPH06213833 A JP H06213833A JP 5006320 A JP5006320 A JP 5006320A JP 632093 A JP632093 A JP 632093A JP H06213833 A JPH06213833 A JP H06213833A
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Abstract
(57)【要約】
Ｘ線の反射率計測精度を向上させ、更に計測時間をも短
縮させた計測装置及びその計測方法を提供することを目
的とする。該Ｘ線源からＸ線を受光し、被計測物に照射
する計測用の出射ビームとモニタ用の出射ビームの少な
くとも２本の平行光出射ビームとして出射する反射手段
が設けられている。モニタ用の出射ビームの光強度は、
被計測物に同時に照射された出射ビームの光強度に等し
いため、結局そのモニタ用の出射ビームの受光量と、該
反射手段より被計測物に出射されそこから反射した該計
測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求めら
れ、それらから該被計測物における反射率が直ちに計算
されることとなる。また、従来の計測装置においては必
須であった計測ごとの被計測物の除去という作業が不要
となり、計測時間及びその手間が極端に減少することと
なる。
縮させた計測装置及びその計測方法を提供することを目
的とする。該Ｘ線源からＸ線を受光し、被計測物に照射
する計測用の出射ビームとモニタ用の出射ビームの少な
くとも２本の平行光出射ビームとして出射する反射手段
が設けられている。モニタ用の出射ビームの光強度は、
被計測物に同時に照射された出射ビームの光強度に等し
いため、結局そのモニタ用の出射ビームの受光量と、該
反射手段より被計測物に出射されそこから反射した該計
測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求めら
れ、それらから該被計測物における反射率が直ちに計算
されることとなる。また、従来の計測装置においては必
須であった計測ごとの被計測物の除去という作業が不要
となり、計測時間及びその手間が極端に減少することと
なる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本願発明はＸ線の反射率計測装置
及びその計測方法に関する。
及びその計測方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線は、物体に照射されたときに、物体
の表面に対する入射線の角度（入射角度）が浅いと、物
体の表面から反射しやすいという性質を有している。そ
の場合におけるＸ線の入射量に対する出射量の割合（反
射率）は、照射される物体の種類及びその表面の状態に
より変化する。
の表面に対する入射線の角度（入射角度）が浅いと、物
体の表面から反射しやすいという性質を有している。そ
の場合におけるＸ線の入射量に対する出射量の割合（反
射率）は、照射される物体の種類及びその表面の状態に
より変化する。
【０００３】Ｘ線の反射率を物体ごとに計測し、Ｘ線の
入射角と反射率との関係を求めると、その物体固有の曲
線を描いて変化することが分かっている。Ｘ線技術の向
上には、様々な種類の物体について上記関係を求めるこ
とが不可欠である。この内、入射角については比較的容
易に測定が可能である。ところが反射率については、Ｘ
線の入射量と出射量とを正確に測定することは比較的困
難であるとされてきた。その理由を以下に述べる。
入射角と反射率との関係を求めると、その物体固有の曲
線を描いて変化することが分かっている。Ｘ線技術の向
上には、様々な種類の物体について上記関係を求めるこ
とが不可欠である。この内、入射角については比較的容
易に測定が可能である。ところが反射率については、Ｘ
線の入射量と出射量とを正確に測定することは比較的困
難であるとされてきた。その理由を以下に述べる。
【０００４】
【解決しようとする課題】Ｘ線反射率を正確に計測する
ためには、被計測物へのＸ線の入射量と反射量を同時に
求めなくてはならない。図３（Ａ）、図３（Ｂ）には、
Ｘ線の反射率を求めるためその入射量と出射量とを測定
する従来技術の一つの仕方が示されている。すなわち、
まず図３（Ａ）に記載したように、Ｘ線の入射ビームＡ
上に被計測物７を置き、被計測物７の表面から反射した
出射ビームＢをビーム強度測定手段４により測定し、出
射量を求める。次に図３（Ｂ）に記載したように、被計
測物７を入射ビームＡ上から取り除き、ビーム強度測定
手段４を入射ビームＡを受光可能な位置まで移動させ、
その状態で入射量を求めていた。
ためには、被計測物へのＸ線の入射量と反射量を同時に
求めなくてはならない。図３（Ａ）、図３（Ｂ）には、
Ｘ線の反射率を求めるためその入射量と出射量とを測定
する従来技術の一つの仕方が示されている。すなわち、
まず図３（Ａ）に記載したように、Ｘ線の入射ビームＡ
上に被計測物７を置き、被計測物７の表面から反射した
出射ビームＢをビーム強度測定手段４により測定し、出
射量を求める。次に図３（Ｂ）に記載したように、被計
測物７を入射ビームＡ上から取り除き、ビーム強度測定
手段４を入射ビームＡを受光可能な位置まで移動させ、
その状態で入射量を求めていた。
【０００５】この従来技術によりＸ線の反射率を求める
場合に問題となるのは、何れのＸ線源から出射されるＸ
線も、その強度が時間経過とともに変化してしまう性質
を有することである。明らかであるが、出射量を求めた
ときと入射量を求めたときのそれぞれのＸ線強度が異な
っていた場合、それらのデータから正確な反射率を求め
ることはできない。特に、出射量が入射量に近ければ近
いほど高い測定精度が必要とされる。したがって、正確
な反射率計測のため、リアルタイムで被計測物に照射さ
れるＸ線強度をモニタする必要が生じた。更に、従来技
術によればビーム強度測定手段４を正確に移動させなく
てはならないため、計測に長時間を要するという別な問
題も生じていた。
場合に問題となるのは、何れのＸ線源から出射されるＸ
線も、その強度が時間経過とともに変化してしまう性質
を有することである。明らかであるが、出射量を求めた
ときと入射量を求めたときのそれぞれのＸ線強度が異な
っていた場合、それらのデータから正確な反射率を求め
ることはできない。特に、出射量が入射量に近ければ近
いほど高い測定精度が必要とされる。したがって、正確
な反射率計測のため、リアルタイムで被計測物に照射さ
れるＸ線強度をモニタする必要が生じた。更に、従来技
術によればビーム強度測定手段４を正確に移動させなく
てはならないため、計測に長時間を要するという別な問
題も生じていた。
【０００６】図２は、可視光等である入射ビームＡの一
部のビームＢを透過させ残りのビームＣを反射させる従
来技術によるビームスプリッタ５（例えばハーフミラ
ー）の側面図である。この場合ビームＣの量を測定する
ことにより、リアルタイムで入射ビームＡの強度のモニ
タが可能となり、かつその計測時間も短い。しかしなが
ら、図２のビームスプリッタ５は、可視光のようにその
波長が長い場合にのみ使用できるものであり、波長の短
いＸ線の場合ほとんどが透過してしまい、ビームスプリ
ッタとしての役目を果たさない。本願発明は、Ｘ線の反
射率計測精度を向上させ、更に計測時間をも短縮させた
計測装置及びその計測方法を提供することを目的とす
る。
部のビームＢを透過させ残りのビームＣを反射させる従
来技術によるビームスプリッタ５（例えばハーフミラ
ー）の側面図である。この場合ビームＣの量を測定する
ことにより、リアルタイムで入射ビームＡの強度のモニ
タが可能となり、かつその計測時間も短い。しかしなが
ら、図２のビームスプリッタ５は、可視光のようにその
波長が長い場合にのみ使用できるものであり、波長の短
いＸ線の場合ほとんどが透過してしまい、ビームスプリ
ッタとしての役目を果たさない。本願発明は、Ｘ線の反
射率計測精度を向上させ、更に計測時間をも短縮させた
計測装置及びその計測方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的のために、本発
明では、入射したＸ線を、被計測物に照射される計測用
ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本の平行光束化
されたビームとして反射する反射手段と、前記被計測物
で反射された計測用ビームを受光してその受光量を測定
する測定手段と、前記モニタ用ビームを受光してその受
光量を測定するモニタ手段とでＸ線の反射率計測装置を
構成した（請求項１）。
明では、入射したＸ線を、被計測物に照射される計測用
ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本の平行光束化
されたビームとして反射する反射手段と、前記被計測物
で反射された計測用ビームを受光してその受光量を測定
する測定手段と、前記モニタ用ビームを受光してその受
光量を測定するモニタ手段とでＸ線の反射率計測装置を
構成した（請求項１）。
【０００８】そして、入射したＸ線を、被計測物に照射
される計測用ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本
の平行光束化されたビームとして反射させること、前記
被計測物で反射した計測用ビームを受光してその受光量
を測定すること、該計測用ビームの受光量の測定と同時
に前記モニタ用ビームを受光してその受光量を測定する
ことにより、これら測定された前記計測用ビームの受光
量とモニタ用ビームの受光量から前記被計測物のＸ線に
対する反射率を求めるようにした（請求項４）。
される計測用ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本
の平行光束化されたビームとして反射させること、前記
被計測物で反射した計測用ビームを受光してその受光量
を測定すること、該計測用ビームの受光量の測定と同時
に前記モニタ用ビームを受光してその受光量を測定する
ことにより、これら測定された前記計測用ビームの受光
量とモニタ用ビームの受光量から前記被計測物のＸ線に
対する反射率を求めるようにした（請求項４）。
【０００９】
【作用】本願発明のＸ線の反射率計測装置によれば、入
射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の出射ビーム
とモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の平行光出射
ビームとして出射する反射手段が設けられている。モニ
タ用の出射ビームの光強度は、被計測物に同時に照射さ
れた出射ビームの光強度に等しいため、結局そのモニタ
用の出射ビームの受光量と、該反射手段より被計測物に
出射されそこから反射した該計測用の出射ビームの受光
量とがリアルタイムで求められ、それらから該被計測物
における反射率が直ちに計算されることとなる。また、
従来の計測装置においては必須であった計測ごとの被計
測物の除去という作業が不要となり、計測時間及びその
手間が極端に減少することとなる。
射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の出射ビーム
とモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の平行光出射
ビームとして出射する反射手段が設けられている。モニ
タ用の出射ビームの光強度は、被計測物に同時に照射さ
れた出射ビームの光強度に等しいため、結局そのモニタ
用の出射ビームの受光量と、該反射手段より被計測物に
出射されそこから反射した該計測用の出射ビームの受光
量とがリアルタイムで求められ、それらから該被計測物
における反射率が直ちに計算されることとなる。また、
従来の計測装置においては必須であった計測ごとの被計
測物の除去という作業が不要となり、計測時間及びその
手間が極端に減少することとなる。
【００１０】更に、本願発明のＸ線の反射率計測方法に
よれば、入射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の
出射ビームとモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の
平行光出射ビームとして出射するステップを有している
ため、上記と同様にそのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測方法において
成されていた被計測物の除去というステップが不要とな
り、計測時間及びその手間が極端に減少することとな
る。
よれば、入射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の
出射ビームとモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の
平行光出射ビームとして出射するステップを有している
ため、上記と同様にそのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測方法において
成されていた被計測物の除去というステップが不要とな
り、計測時間及びその手間が極端に減少することとな
る。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して本願発明の実施例につ
き以下に説明する。図１は、本願発明によるＸ線の反射
率計測装置の概念図である。図１の実施例においては、
Ｘ線源１は固定焦点電子線励起型Ｘ線発生装置である
が、Ｘ線を発生するものであれば、いかなるものもＸ線
源１となり得る。
き以下に説明する。図１は、本願発明によるＸ線の反射
率計測装置の概念図である。図１の実施例においては、
Ｘ線源１は固定焦点電子線励起型Ｘ線発生装置である
が、Ｘ線を発生するものであれば、いかなるものもＸ線
源１となり得る。
【００１２】点光源であるＸ線源１より照射されたＸ線
の一部Ｒは、コリメート鏡２の内側面（反射面）に入射
する。コリメート鏡２はテーパ状の略筒型形状を有し、
その内側面２ａは大きな曲率半径を有する凹面となって
いる。内側面２ａの曲率半径は、反射されたＸ線が平行
光となるように所定の値に設定されているものとし、本
実施例では前記凹面が回転放物面の一部を形成するよう
になっている。また本実施例においては、Ｘ線を反射し
易いように内側面２ａに単層膜のコーティングが成され
ているが、このコーティングは多層膜であっても良く、
また場合によってはコーティングしなくても良い。
の一部Ｒは、コリメート鏡２の内側面（反射面）に入射
する。コリメート鏡２はテーパ状の略筒型形状を有し、
その内側面２ａは大きな曲率半径を有する凹面となって
いる。内側面２ａの曲率半径は、反射されたＸ線が平行
光となるように所定の値に設定されているものとし、本
実施例では前記凹面が回転放物面の一部を形成するよう
になっている。また本実施例においては、Ｘ線を反射し
易いように内側面２ａに単層膜のコーティングが成され
ているが、このコーティングは多層膜であっても良く、
また場合によってはコーティングしなくても良い。
【００１３】コリメート鏡２の内側面２ａから反射され
た直後のＸ線Ｒは、平行ではあるが断面がリング状の出
射ビームとなっている。このリング状の出射ビームは、
コリメート鏡２に隣接配置された図示しないスリット板
を介して、計測用の出射ビームＡとモニタ用の出射ビー
ムＢとに分割される。本実施例ではコリメート鏡２とス
リット板とで反射手段を構成する。このようなコリメー
ト鏡を用いないで平行光を得るために、Ｘ線源を遠ざけ
るか市販のモノクロメータを用いるという方法もある
が、いずれも被計測物に到達する光強度が極端に低くな
るという問題を有し、またＸ線源を遠ざける方法は装置
が巨大化するという問題も有している。なお本実施例に
おいては反射されたＸ線は２本のビームに分割された
が、必要に応じて３本あるいはそれ以上のビームに分割
することができる。
た直後のＸ線Ｒは、平行ではあるが断面がリング状の出
射ビームとなっている。このリング状の出射ビームは、
コリメート鏡２に隣接配置された図示しないスリット板
を介して、計測用の出射ビームＡとモニタ用の出射ビー
ムＢとに分割される。本実施例ではコリメート鏡２とス
リット板とで反射手段を構成する。このようなコリメー
ト鏡を用いないで平行光を得るために、Ｘ線源を遠ざけ
るか市販のモノクロメータを用いるという方法もある
が、いずれも被計測物に到達する光強度が極端に低くな
るという問題を有し、またＸ線源を遠ざける方法は装置
が巨大化するという問題も有している。なお本実施例に
おいては反射されたＸ線は２本のビームに分割された
が、必要に応じて３本あるいはそれ以上のビームに分割
することができる。
【００１４】コリメート鏡２から出射された計測用の出
射ビームは、被計測物７に照射される。そこで一部が吸
収あるいは分散されるが、残りは被計測物７で反射され
て出射ビームＢとなり、測定手段である出射ビーム強度
測定装置４に入射する。出射ビーム強度測定装置４は、
入射した出射ビームＢの受光量を測定してその量に応じ
た信号を出力するようになっている。
射ビームは、被計測物７に照射される。そこで一部が吸
収あるいは分散されるが、残りは被計測物７で反射され
て出射ビームＢとなり、測定手段である出射ビーム強度
測定装置４に入射する。出射ビーム強度測定装置４は、
入射した出射ビームＢの受光量を測定してその量に応じ
た信号を出力するようになっている。
【００１５】コリメート鏡２から出射されたモニタ用の
出射ビームは、モニタ手段である入射ビーム強度測定装
置３に受光されその受光量が測定される。入射ビーム強
度測定装置３の測定した受光量は、被計測物へのリアル
タイムの入射量とは厳密に言えば異なるが、その差は無
視できるほど小さい。被計測物のＸ線反射率は、被計測
物からの出射量を被計測物への入射量で割算することに
よって得られるから、出射ビーム強度測定装置４で測定
した受光量を入射ビーム強度測定装置３の測定した受光
量で割ることにより、リアルタイムにその反射率が得ら
れることとなる。なお、出射及び入射ビーム強度測定装
置３、４についてはよく知られたものであるため、以下
に詳細は記載しない。
出射ビームは、モニタ手段である入射ビーム強度測定装
置３に受光されその受光量が測定される。入射ビーム強
度測定装置３の測定した受光量は、被計測物へのリアル
タイムの入射量とは厳密に言えば異なるが、その差は無
視できるほど小さい。被計測物のＸ線反射率は、被計測
物からの出射量を被計測物への入射量で割算することに
よって得られるから、出射ビーム強度測定装置４で測定
した受光量を入射ビーム強度測定装置３の測定した受光
量で割ることにより、リアルタイムにその反射率が得ら
れることとなる。なお、出射及び入射ビーム強度測定装
置３、４についてはよく知られたものであるため、以下
に詳細は記載しない。
【００１６】ところで、出射及び入射ビーム強度測定装
置３、４の間に若干の感度差が生じていることがある。
このような場合、予め同一強度のＸ線に対する出射及び
入射ビーム強度測定装置３、４のそれぞれの出力を測定
し、それら出力の比を補正係数として予め求めておけ
ば、実際の計測において補正係数を掛け合わせることに
より、より正確な反射率を求めることができる。
置３、４の間に若干の感度差が生じていることがある。
このような場合、予め同一強度のＸ線に対する出射及び
入射ビーム強度測定装置３、４のそれぞれの出力を測定
し、それら出力の比を補正係数として予め求めておけ
ば、実際の計測において補正係数を掛け合わせることに
より、より正確な反射率を求めることができる。
【００１７】Ｘ線源から照射されるＸ線強度は、時間経
過と共に変化することは既に述べており、また図１の実
施例はリアルタイムで測定するため、そのような変化を
考慮する必要がないこともまた既に述べた通りである。
しかしながら、計測においてＸ線の強度が一定であるほ
うが都合が良いことがある。以下に述べる第２実施例
は、Ｘ線源を制御して照射されるＸ線の強度をほぼ一定
にするものである。
過と共に変化することは既に述べており、また図１の実
施例はリアルタイムで測定するため、そのような変化を
考慮する必要がないこともまた既に述べた通りである。
しかしながら、計測においてＸ線の強度が一定であるほ
うが都合が良いことがある。以下に述べる第２実施例
は、Ｘ線源を制御して照射されるＸ線の強度をほぼ一定
にするものである。
【００１８】図４は、本願発明の第２実施例の概念図で
ある。図４において、図１の実施例と異なる点のみ説明
し、同じ点については同一符号を付してその説明を省略
する。図４の入射ビーム強度測定装置３は、制御手段で
ある比較制御装置６に接続され入射量をデータとして出
力するようになっている。比較制御装置６はまた、Ｘ線
源１へ駆動出力を印加するものである。比較制御装置６
に入力された入射量データは、予め記憶された目標値Ｔ
G と比較され、それらの差に基づいた量だけ、Ｘ線源１
への駆動出力を調整する。したがって、調整された駆動
出力に基づきＸ線源１は制御され、それによりほぼ一定
のＸ線を照射するようになる。
ある。図４において、図１の実施例と異なる点のみ説明
し、同じ点については同一符号を付してその説明を省略
する。図４の入射ビーム強度測定装置３は、制御手段で
ある比較制御装置６に接続され入射量をデータとして出
力するようになっている。比較制御装置６はまた、Ｘ線
源１へ駆動出力を印加するものである。比較制御装置６
に入力された入射量データは、予め記憶された目標値Ｔ
G と比較され、それらの差に基づいた量だけ、Ｘ線源１
への駆動出力を調整する。したがって、調整された駆動
出力に基づきＸ線源１は制御され、それによりほぼ一定
のＸ線を照射するようになる。
【００１９】
【発明の効果】以上、詳細に述べてきた本願発明のＸ線
の反射率計測装置によれば、入射したＸ線を、被計測物
に照射する計測用の出射ビームとモニタ用の出射ビーム
の少なくとも２本の平行光出射ビームとして出射する反
射手段が設けられている。モニタ用の出射ビームの光強
度は、被計測物に同時に照射された出射ビームの光強度
に等しいため、結局そのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測装置において
は必須であった計測ごとの被計測物の除去という作業が
不要となり、計測時間及びその手間が極端に減少するこ
ととなる。
の反射率計測装置によれば、入射したＸ線を、被計測物
に照射する計測用の出射ビームとモニタ用の出射ビーム
の少なくとも２本の平行光出射ビームとして出射する反
射手段が設けられている。モニタ用の出射ビームの光強
度は、被計測物に同時に照射された出射ビームの光強度
に等しいため、結局そのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測装置において
は必須であった計測ごとの被計測物の除去という作業が
不要となり、計測時間及びその手間が極端に減少するこ
ととなる。
【００２０】更に、本願発明のＸ線の反射率計測方法に
よれば、入射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の
出射ビームとモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の
平行光出射ビームとして出射するステップを有している
ため、上記と同様にそのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測方法において
成されていた被計測物の除去というステップが不要とな
り、計測時間及びその手間が極端に減少することとな
る。
よれば、入射したＸ線を、被計測物に照射する計測用の
出射ビームとモニタ用の出射ビームの少なくとも２本の
平行光出射ビームとして出射するステップを有している
ため、上記と同様にそのモニタ用の出射ビームの受光量
と、該反射手段より被計測物に出射されそこから反射し
た該計測用の出射ビームの受光量とがリアルタイムで求
められ、それらから該被計測物における反射率が直ちに
計算されることとなる。また、従来の計測方法において
成されていた被計測物の除去というステップが不要とな
り、計測時間及びその手間が極端に減少することとな
る。
【図１】本願発明によるＸ線の反射率計測装置の概念
図。
図。
【図２】従来技術によるビームスプリッタの側面図。
【図３】（Ａ）Ｘ線の反射率を求めるためその入射量と
出射量とを測定する従来技術の一つの仕方を示した図。 （Ｂ）Ｘ線の反射率を求めるためその入射量と出射量と
を測定する従来技術の一つの仕方を示した図。
出射量とを測定する従来技術の一つの仕方を示した図。 （Ｂ）Ｘ線の反射率を求めるためその入射量と出射量と
を測定する従来技術の一つの仕方を示した図。
【図４】本願発明による第２の実施例であるＸ線の反射
率計測装置の概念図。
率計測装置の概念図。
１ Ｘ線源 ２ コリメート鏡 ３ 入射ビーム強度測定装置 ４ 出射ビーム強度測定装置 ６ 比較制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 降幡 惠司 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (5)
- 【請求項１】 入射したＸ線を、被計測物に照射される
計測用ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本の平行
光束化されたビームとして反射する反射手段と、 前記被計測物で反射された計測用ビームを受光してその
受光量を測定する測定手段と、 前記モニタ用ビームを受光してその受光量を測定するモ
ニタ手段とを有することを特徴とするＸ線の反射率計測
装置。 - 【請求項２】 前記反射手段がコリメート鏡であること
を特徴とする請求項１記載のＸ線の反射率計測装置。 - 【請求項３】 入力信号に比例した強度のＸ線を出射す
るＸ線源と、前記モニタ手段が測定した受光量に基づい
て前記Ｘ線源への入力信号を制御する制御手段とを更に
有することを特徴とする請求項１記載のＸ線の反射率計
測装置。 - 【請求項４】 入射したＸ線を、被計測物に照射される
計測用ビームとモニタ用ビームの少なくとも２本の平行
光束化されたビームとして反射させること、 前記被計測物で反射した計測用ビームを受光してその受
光量を測定すること、 該計測用ビームの受光量の測定と同時に前記モニタ用ビ
ームを受光してその受光量を測定すること、および測定
された前記計測用ビームの受光量とモニタ用ビームの受
光量から前記被計測物のＸ線に対する反射率を求めるこ
と、からなるＸ線の反射率計測方法。 - 【請求項５】 請求項４記載のＸ線の反射率計測方法に
おいて、 前記測定されたモニタ用ビームの受光量に基づいて前記
入射するＸ線の強度を制御することを特徴とするＸ線の
反射率計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5006320A JPH06213833A (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Ｘ線の反射率計測装置及びその計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5006320A JPH06213833A (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Ｘ線の反射率計測装置及びその計測方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06213833A true JPH06213833A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=11635076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5006320A Withdrawn JPH06213833A (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Ｘ線の反射率計測装置及びその計測方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06213833A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508683A (ja) * | 2009-10-14 | 2013-03-07 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 多重配置ｘ線光学装置 |
| JP2023542674A (ja) * | 2020-09-17 | 2023-10-11 | シグレイ、インコーポレイテッド | Ｘ線を用いた深さ分解計測および分析のためのシステムおよび方法 |
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| US12181423B1 (en) | 2023-09-07 | 2024-12-31 | Sigray, Inc. | Secondary image removal using high resolution x-ray transmission sources |
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| US12429437B2 (en) | 2023-11-07 | 2025-09-30 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using spectral information from two orthogonal planes |
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-
1993
- 1993-01-19 JP JP5006320A patent/JPH06213833A/ja not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508683A (ja) * | 2009-10-14 | 2013-03-07 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 多重配置ｘ線光学装置 |
| JP2016028239A (ja) * | 2009-10-14 | 2016-02-25 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 多重配置ｘ線光学装置 |
| JP2023542674A (ja) * | 2020-09-17 | 2023-10-11 | シグレイ、インコーポレイテッド | Ｘ線を用いた深さ分解計測および分析のためのシステムおよび方法 |
| US12153001B2 (en) | 2020-12-07 | 2024-11-26 | Sigray, Inc. | High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
| US12480892B2 (en) | 2020-12-07 | 2025-11-25 | Sigray, Inc. | High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
| US12360067B2 (en) | 2022-03-02 | 2025-07-15 | Sigray, Inc. | X-ray fluorescence system and x-ray source with electrically insulative target material |
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| US12429436B2 (en) | 2024-01-08 | 2025-09-30 | Sigray, Inc. | X-ray analysis system with focused x-ray beam and non-x-ray microscope |
| US12510677B2 (en) | 2024-01-18 | 2025-12-30 | Sigray, Inc. | Sequential array of x-ray imaging detectors |
| US12431256B2 (en) | 2024-02-15 | 2025-09-30 | Sigray, Inc. | System and method for generating a focused x-ray beam |
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