JPH06215941A - Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film - Google Patents

Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film

Info

Publication number
JPH06215941A
JPH06215941A JP2202293A JP2202293A JPH06215941A JP H06215941 A JPH06215941 A JP H06215941A JP 2202293 A JP2202293 A JP 2202293A JP 2202293 A JP2202293 A JP 2202293A JP H06215941 A JPH06215941 A JP H06215941A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
magnetic recording
mixed
sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2202293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Sagawa
眞人 佐川
Ryutaro Motoki
龍太郎 元木
Atsushi Funakoshi
淳 船越
Takashi Nishi
隆 西
Isao Endo
功 遠藤
Yoshinobu Okumura
善信 奥村
Kouha You
興波 楊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Intermetallics Co Ltd
Kubota Corp
Original Assignee
Intermetallics Co Ltd
Kubota Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Intermetallics Co Ltd, Kubota Corp filed Critical Intermetallics Co Ltd
Priority to JP2202293A priority Critical patent/JPH06215941A/en
Publication of JPH06215941A publication Critical patent/JPH06215941A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気記録媒体の記録密度を高めるための磁性
膜のノイズ特性、保磁力の向上 【構成】 磁気記録膜として、Nd2 Fe14B型結晶構
造を有する硬磁性化合物の微細結晶粒が、Coを主成分
をする軟磁性化合物からなるマトリツクス中に緻密に分
散してなる微細混相組織の磁性膜体を形成する。 その磁性膜は、 T100-u-v u v 〔T:鉄族遷移金属元素(Co,Ni、またはFe)、
R:希土類元素、X:B、C 、u:0.5〜9%、
v:5〜25%、Tは、Coを必須元素とし、T全体に
対するCo量は50%以上、Rは、Pr,Nd,Tb,
Dyの1種ないし2種以上を必須元素とし、R全体に占
めるR1 量は30%以上、Xは、Bを必須元素とし、X
全体に占めるB量は5%以上〕の化学組成を有するター
ゲツトをスパツタリングし、蒸着膜を結晶化することに
より形成される。
(57) [Abstract] [Objective] Improvement of noise characteristics and coercive force of magnetic film for increasing recording density of magnetic recording medium [Structure] Hard magnetic compound having Nd 2 Fe 14 B type crystal structure as a magnetic recording film To form a magnetic film body having a fine mixed phase structure in which the fine crystal grains are densely dispersed in a matrix made of a soft magnetic compound containing Co as a main component. Its magnetic film, T 100-uv R u X v [T: iron group transition metal elements (Co, Ni or Fe,),
R: rare earth element, X: B, C, u: 0.5-9%,
v: 5 to 25%, T is Co as an essential element, the Co content is 50% or more with respect to the entire T, and R is Pr, Nd, Tb,
One or two or more kinds of Dy are essential elements, the amount of R 1 in the whole R is 30% or more, and X is B as an essential element, and X
It is formed by spattering a target having a chemical composition of B occupying 5% or more of the whole] and crystallizing the deposited film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録を可能とす
る改良されたノイズ特性、高保磁力を有する磁気記録媒
体、およびその磁気記録膜を形成するためのスパツタリ
ング用ターゲツト、並びに磁気記録膜の形成方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium having improved noise characteristics and high coercive force capable of high density recording, a sputtering target for forming the magnetic recording film, and a magnetic recording film. And a method of forming the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気デイスク、磁気ドラム、磁気シー
ト、磁気テープ等の磁気記録媒体は、高密度記録の要請
から、その磁気記録膜(磁性膜)を、CoCr、CoN
i、CoCrNi等のCo系強磁性合金で形成した金属
薄膜型磁気記録媒体が主流となつている。磁気記録分野
における高密度記録の要請は増大の一途にあり、このた
めには磁気記録膜の特性、特にノイズ特性(S/N特
性)、保磁力を更に高めることが必要である。その要請
に対し、磁性膜の結晶粒の微細化、粒界偏析による磁区
の孤立化、および高保磁力化等の工夫がなされ、例え
ば、Co系合金にPtを添加したCoCrPt合金で磁
性膜を形成することとしたもの(特開平1−28380
3号公報)、Taを添加したCoCrTa合金を磁性膜
合金とするもの(特開平2−306419号公報)、ま
たはBを添加したCoNiCrB合金を磁性膜合金とす
るもの(特開平3−49021号)等、あるいは磁性膜
のスパツタリング成膜におけるプロセス条件の制御等に
ついて数多くの提案がなされている。しかしながら、P
t、Ta、B等の合金元素を添加する磁性膜合金組成の
工夫や、その成膜条件の制御等では、ノイズ特性、保磁
力の改善効果に限度があり、記録密度の大幅な向上は期
待し難い。しかも、Pt等の高価な元素を使用すること
による製造コストの増大の不利を免れず、また磁性膜の
スパツタリング成膜におけるプロセス条件の制御も、そ
れだけ成膜工程の著しい複雑煩瑣化を余儀なくされるこ
ととなる。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium such as a magnetic disk, a magnetic drum, a magnetic sheet, a magnetic tape, etc., the magnetic recording film (magnetic film) is made of CoCr, CoN or the like in order to achieve high density recording.
i, a metal thin film magnetic recording medium formed of a Co-based ferromagnetic alloy such as CoCrNi is predominant. There is an ever-increasing demand for high-density recording in the magnetic recording field, and for this purpose, it is necessary to further improve the characteristics of the magnetic recording film, particularly the noise characteristics (S / N characteristics) and the coercive force. In response to the request, measures such as miniaturization of crystal grains of the magnetic film, isolation of magnetic domains by grain boundary segregation, and increase of coercive force have been made. For example, the magnetic film is formed of CoCrPt alloy in which Pt is added to Co-based alloy. What is decided to do (Japanese Patent Laid-Open No. 1-28380
No. 3), a CoCrTa alloy with Ta added as a magnetic film alloy (JP-A-2-306419), or a CoNiCrB alloy with B added as a magnetic film alloy (JP-A-3-49021). Etc., or a number of proposals have been made regarding control of process conditions in sputtering film formation of magnetic films. However, P
There is a limit to the effect of improving the noise characteristics and coercive force by devising the composition of the magnetic film alloy to which alloy elements such as t, Ta, B, etc. are added, and controlling the film forming conditions therefor. It's hard to do. Moreover, the disadvantage of the increase in manufacturing cost due to the use of expensive elements such as Pt is inevitable, and the control of the process conditions in the sputtering film formation of the magnetic film inevitably complicates the film formation process. It will be.

【0003】磁気記録膜の保磁力を改善する他の手段と
して、磁気異方性の高い希土類元素を適用することが考
えられる。永久磁石の分野では、SmCo5 磁石や、N
2Fe14B磁石等の希土類系磁石の開発により、高保
磁力化にめざましい成功をおさめている。しかし、希土
類元素は極めて酸化し易い元素であるため、これを多量
に含むSmCo5 (希土類元素の含有量:33重量%)
や、Nd2 Fe14B(同含有量:27重量%)をそのま
ま磁気記録膜に適用することはできない。磁性膜表面に
酸化膜が生成したのでは、磁気記録膜としての機能を確
保し得なくなるからである(永久磁石では、その表面を
膜厚約10μm以上のニツケルめつき膜で保護している
が、磁気記録膜では、記録再生時の膜面と磁気ヘツドと
の実効距離の確保の点から、そのような厚い保護膜を形
成することはできない。)。
As another means for improving the coercive force of the magnetic recording film, it is possible to apply a rare earth element having high magnetic anisotropy. In the field of permanent magnets, SmCo 5 magnets and N
By developing rare earth magnets such as d 2 Fe 14 B magnets, we have achieved remarkable success in achieving high coercive force. However, since the rare earth element is an element that is very easily oxidized, SmCo 5 containing a large amount of this (content of the rare earth element: 33% by weight)
Alternatively, Nd 2 Fe 14 B (the same content: 27% by weight) cannot be directly applied to the magnetic recording film. This is because if an oxide film is formed on the surface of the magnetic film, the function as a magnetic recording film cannot be ensured (in a permanent magnet, the surface is protected by a nickel plated film having a film thickness of about 10 μm or more. , In the magnetic recording film, such a thick protective film cannot be formed from the viewpoint of ensuring an effective distance between the film surface and the magnetic head during recording and reproduction.).

【0004】希土類元素の使用による保磁力改善の別法
として、CoCr等の公知の磁性膜合金であるCo系合
金に、希土類元素を合金化してその磁気異方性を高める
ことも考えられるが、そのためには、希土類元素を均一
に固溶させなければならない。しかるに、希土類元素は
Coには殆ど固溶せず、それ故に希土類元素の合金化に
よる保磁力の向上も期待し得ない。
As another method of improving the coercive force by using a rare earth element, it is possible to alloy a rare earth element with a Co type alloy which is a known magnetic film alloy such as CoCr to increase its magnetic anisotropy. For that purpose, the rare earth element must be uniformly solid-dissolved. However, rare earth elements hardly dissolve in Co, and therefore improvement of coercive force due to alloying of rare earth elements cannot be expected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高い磁気異
方性を持つ希土類元素を磁性膜構成元素とし、その希土
類元素の使用に付随する問題、特に磁性膜面の酸化劣損
の抑制防止に必要な耐食性を確保しながら、S/N特
性、保磁力を飛躍的に高めることにより、従来の磁気記
録膜を凌ぐ高密度記録を可能とする新たな磁気記録媒体
を実現しようとするものである。これまで、磁気記録媒
体の磁性膜の改良について検討されてきた膜材料は、C
oCr等のCo系合金をはじめ、その何れも硬磁性相の
みの膜材である。これは、硬磁性相と軟磁性相とが分散
混在した混相構造では、磁化曲線の角形性が悪く、磁気
記録媒体として必要な機能を確保することが困難となる
からであり、磁気記録膜は硬磁性相のみでなければなら
ない、というのが従来の通念であつた。しかるに、本発
明者等は、最近永久磁石の分野で発展しつつある、Exch
ange-spring Magnetモデル(IEEE TRANSACTIONS ON MAG
NETICS VOL.27 NO.4 JULY 1991 P.3588〜3600「 The E
xchange-Spring Magnet A NEW MATERIAL PRINCIPLE FOR
PERMANENT MAGNETS」)を磁気記録媒体に適用し、軟磁
性物質中に硬磁性物質を極微細緻密に分散させた微細混
相組織とすることにより、磁気記録媒体として必要な磁
化曲線の良好な角形性が確保されると共に、比較的少量
の希土類元素の添加により形成される硬磁性化合物の微
細分散効果として、高度に改良されたノイズ特性および
保磁力が獲得され、また軟磁性相については、これに良
好な耐食性を付与しておけば、酸化し易い希土類元素を
主成分とする硬磁性相を分散させた混相組織であつて
も、磁性膜面の酸化劣損を効果的に抑制防止し、磁気記
録膜として改良された機能を保持することができる、と
の知見を得るに到った。本発明はかかる知見に基づいて
完成されたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention uses a rare earth element having a high magnetic anisotropy as a constituent element of a magnetic film, and prevents problems associated with the use of the rare earth element, in particular, suppression of oxidative deterioration of the magnetic film surface. It is intended to realize a new magnetic recording medium capable of high density recording surpassing conventional magnetic recording films by dramatically improving S / N characteristics and coercive force while ensuring the corrosion resistance required for is there. Up to now, the film material which has been studied for the improvement of the magnetic film of the magnetic recording medium is C
Including Co-based alloys such as oCr, all of them are film materials having only a hard magnetic phase. This is because in the mixed phase structure in which the hard magnetic phase and the soft magnetic phase are dispersed and mixed, the squareness of the magnetization curve is poor, and it becomes difficult to secure the necessary function as a magnetic recording medium. The conventional wisdom was that only the hard magnetic phase should be used. However, the present inventors have recently been developing in the field of permanent magnets, Exch
ange-spring Magnet model (IEEE TRANSACTIONS ON MAG
NETICS VOL.27 NO.4 JULY 1991 P.3588-3600 "The E
xchange-Spring Magnet A NEW MATERIAL PRINCIPLE FOR
PERMANENT MAGNETS ”) is applied to a magnetic recording medium to form a fine multi-phase structure in which a hard magnetic substance is dispersed in a soft magnetic substance in an extremely fine and dense manner to obtain a good squareness of the magnetization curve required for the magnetic recording medium. In addition to being secured, highly improved noise characteristics and coercive force are obtained as a fine dispersion effect of the hard magnetic compound formed by the addition of a relatively small amount of rare earth element, and it is good for the soft magnetic phase. If corrosion resistance is imparted, even with a multiphase structure in which a hard magnetic phase containing a rare earth element that is easily oxidized is dispersed, the oxidation deterioration of the magnetic film surface can be effectively prevented and prevented, and magnetic recording can be performed. The inventors have come to the finding that they can retain the improved function as a membrane. The present invention has been completed based on such findings.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、磁気記録膜として、Nd2 Fe14B型結晶構造を有
する硬磁性化合物の微細粒が、Coを主成分とする軟磁
性化合物からなるマトリツクス中に緻密に分散している
微細混相組織の磁性膜体を有していることを特徴として
いる。磁気記録媒体の磁性膜のスパツタリング成膜に使
用される本発明のターゲツトは、下記〔I〕式で示され
る化学組成を有している。 T100-u-v u v …〔I〕 式中、Tは、鉄族遷移金属元素、Rは、希土類元素、X
は、BまたはCを表し、原子組成比を示すuは、0.5
〜9%、vは、5〜25%であり、鉄族遷移金属元素T
は、Coを必須元素とし、これにNiおよび/またはF
eの混在が許容され、Niおよび/またはFeが混在す
る場合のT全体に対するCoの割合は50%以上を占
め、希土類元素Rは、Pr,Nd,Tb,またはDy
(以下、「R1 元素」)から選ばれる1種ないし2種以
上の元素を必須元素とし、これにLa,Ce,Y,Sm
およびその他の希土類元素の1種ないし2種以上の混在
が許容され、これらの元素が混在する場合のR全体に対
するR1 元素の割合は30%以上であり、元素Xは、B
を必須元素とし、これにCが混在する場合のX全体に対
するBの割合は5%以上である。
In the magnetic recording medium of the present invention, as a magnetic recording film, fine particles of a hard magnetic compound having an Nd 2 Fe 14 B type crystal structure are made of a soft magnetic compound containing Co as a main component. It is characterized by having a magnetic film body having a fine mixed phase structure which is densely dispersed in the matrix. The target of the present invention used for the sputtering film formation of the magnetic film of the magnetic recording medium has a chemical composition represented by the following formula [I]. T 100-uv R u X v [I] In the formula, T is an iron group transition metal element, R is a rare earth element, and X is
Represents B or C, and u representing the atomic composition ratio is 0.5
~ 9%, v is 5 to 25%, iron group transition metal element T
Contains Co as an essential element, and contains Ni and / or F
When e is allowed to be mixed, and when Ni and / or Fe are mixed, the ratio of Co to the whole T occupies 50% or more, and the rare earth element R is Pr, Nd, Tb, or Dy.
(Hereinafter, “R 1 element”), one or more elements selected from the group consisting of La, Ce, Y, Sm
And, one or more kinds of other rare earth elements are allowed to be mixed, and when these elements are mixed, the ratio of R 1 element to the whole R is 30% or more, and the element X is B
Is an essential element, and when C is mixed in this, the ratio of B to the entire X is 5% or more.

【0007】[0007]

【作用】本発明の磁気記録膜は、その硬磁性相と軟磁性
相の2相混相組織が微細構造であることによるExchange
-spring Magnet効果として、磁化曲線の良好な角形性を
有している。その混相組織中の硬磁性相であるNd2
14B型化合物は、極めて高い磁気異方性を有し、その
微細結晶粒が軟磁性相中に緻密に分散している効果とし
て、従来のCoCr合金磁性膜等を凌ぐ極めて良好なノ
イズ特性、高保磁力が確保される。硬磁性相であるNd
2 Fe14B型結晶構造を有する化合物(本発明では、そ
の鉄族遷移金属元素Tは主としてCoである)は、鉄族
遷移金属元素TがFeである硬磁性化合物に比べ、酸化
傾向が小さい。一方、混相組織のマトリツクスを構成す
る、Coを主成分とする軟磁性相(Co3 B化合物で代
表される)は、磁化が大きく、かつ高いキュリー温度を
有し、磁気記録膜として大きな信号を取り出すことを可
能とし、またこれに上記硬磁性相が微細粒子として分散
混在していることにより高S/N比を実現することがで
きる。しかも、この軟磁性相は良好な耐食性を備えてい
る。また、本発明の磁性膜の保磁力を高めるための希土
類元素は、その大部分が硬磁性相の形成に関与して膜体
中に局在し、磁性膜全体に占める希土類元素の含有量
は、SmCo5 磁石等に比べて極く少量であり、それだ
け膜体の酸化傾向は小さく、しかもその希土類元素を含
む硬磁性相は、耐食性の良い軟磁性相に包まれて微細に
分散混在しているので、軟磁性相による被包保護効果と
して磁性膜の酸化劣損は効果的に抑制防止され、磁気記
録媒体に必要な機能を安定に保持することを可能にす
る。
The magnetic recording film of the present invention has a fine structure in the two-phase mixed phase structure of the hard magnetic phase and the soft magnetic phase.
-As a spring magnet effect, it has a good squareness of the magnetization curve. Nd 2 F which is a hard magnetic phase in the mixed phase structure
The e 14 B type compound has extremely high magnetic anisotropy, and its fine crystal grains are densely dispersed in the soft magnetic phase, which is an extremely good noise characteristic over conventional CoCr alloy magnetic films. , High coercive force is secured. Nd which is a hard magnetic phase
A compound having a 2 Fe 14 B type crystal structure (in the present invention, the iron group transition metal element T is mainly Co) has a smaller oxidation tendency than a hard magnetic compound in which the iron group transition metal element T is Fe. . On the other hand, the soft magnetic phase containing Co as a main component (represented by a Co 3 B compound), which constitutes the matrix of a mixed phase structure, has a large magnetization and a high Curie temperature, and thus gives a large signal as a magnetic recording film. It is possible to take out, and a high S / N ratio can be realized because the hard magnetic phase is dispersed and mixed as fine particles therein. Moreover, this soft magnetic phase has good corrosion resistance. Further, the rare earth element for increasing the coercive force of the magnetic film of the present invention is mostly involved in the formation of the hard magnetic phase and is localized in the film body, and the content of the rare earth element in the entire magnetic film is , SmCo 5 magnets, etc., the amount is extremely small, the oxidation tendency of the film body is small accordingly, and the hard magnetic phase containing the rare earth element is finely dispersed and mixed in the soft magnetic phase having good corrosion resistance. Therefore, as the encapsulating protection effect by the soft magnetic phase, the oxidation deterioration of the magnetic film is effectively suppressed and prevented, and the functions required for the magnetic recording medium can be stably maintained.

【0008】以下、本発明について詳しく説明する。軟
磁性相のマトリツクスに硬磁性相を分散させた2相混相
組織を有する本発明の磁気記録膜は、Exchange-spring
Magnet効果により、磁化曲線の良好な角形性と共に、高
度の高保磁力、およびノイズ特性が確保されるように、
硬磁性相が微細かつ緻密に分散した組織であることを要
する。その硬磁性相の結晶粒サイズは、好ましくは約5
0nm以下、更に好ましくは30nm以下であり、粒子
間距離は約70nm以下、更に好ましくは50nm以下
である。また、硬磁性相の混相組織に占める割合は、高
保磁力を十分に発現させるために、約3容積%以上であ
るのが望ましく、更に望ましくは5容積%以上である。
しかし、その量があまり多くなると、膜体の酸化傾向が
増大するので、約40容積%を上限とするのがよく、よ
り好ましくは25容積%以下である。
The present invention will be described in detail below. The magnetic recording film of the present invention having a two-phase mixed phase structure in which the hard magnetic phase is dispersed in the matrix of the soft magnetic phase is Exchange-spring.
Due to the Magnet effect, a high degree of coercive force and noise characteristics are secured along with good squareness of the magnetization curve.
It is necessary that the hard magnetic phase has a fine and minutely dispersed structure. The crystal grain size of the hard magnetic phase is preferably about 5
It is 0 nm or less, more preferably 30 nm or less, and the distance between particles is about 70 nm or less, more preferably 50 nm or less. Further, the proportion of the hard magnetic phase in the mixed phase structure is preferably about 3% by volume or more, and more preferably 5% by volume or more, in order to sufficiently exhibit the high coercive force.
However, if the amount is too large, the oxidation tendency of the membrane increases, so the upper limit is preferably about 40% by volume, and more preferably 25% by volume or less.

【0009】本発明の磁気記録媒体の磁性膜の成分構成
は、そのスパツタリング用ターゲツトについて示した前
記式〔I〕で示される組成比を有している。希土類元素
Rの原子組成比uを、0.5〜9%としているのは、
0.5%に満たない量では、硬磁性相(Nd2 Fe14
型化合物)の分散効果として発現する保磁力改善効果が
不足するからであり、他方9%を上限としているのは、
それを超えると、硬磁性相の過剰生成により、Exchange
-spring Magnet効果を奏するための微細緻密な混相組織
を形成することが困難となり、ノイズ特性および保磁力
の顕著な改善効果を十分に発現させ難く、また磁性膜の
酸化劣損傾向が増大する等の不利を招くからである。好
ましくは、0.7〜7%であり、更に好ましくは0.8
〜5%である。また元素Xについて、その原子組成比v
を、5〜25%としたのは、5%より少ない量では、軟
磁性相マトリツクス中の硬磁性化合物粒子の分散が過疎
化し、粒子間隔が増大するため、Exchange-spring Magn
et効果を奏するための微細混相組織の確保が困難となる
からであり、他方25%を上限としたのは、それを超え
たのでは、軟磁性相中にNd2 Fe14B型化合物以外の
相が析出し、磁気特性に悪影響をもたらす原因となるか
らである。好ましくは、9〜20%である。
The composition of components of the magnetic film of the magnetic recording medium of the present invention has the composition ratio represented by the above formula [I] for the sputtering target. The atomic composition ratio u of the rare earth element R is 0.5 to 9%
If the amount is less than 0.5%, the hard magnetic phase (Nd 2 Fe 14 B
This is because the effect of improving the coercive force, which is manifested as a dispersion effect of the (type compound), is insufficient, while the upper limit is 9%.
Beyond that, due to the overproduction of the hard magnetic phase, Exchange
-It becomes difficult to form a fine and dense multiphase structure for exerting the spring magnet effect, and it is difficult to sufficiently exert the effect of significantly improving noise characteristics and coercive force, and the tendency of the magnetic film to deteriorate due to oxidation increases. This is because it causes the disadvantage of. It is preferably 0.7 to 7%, more preferably 0.8.
~ 5%. For the element X, its atomic composition ratio v
Was set to 5 to 25% because when the amount is less than 5%, the dispersion of the hard magnetic compound particles in the matrix of the soft magnetic phase becomes depopulated and the particle spacing increases.
This is because it is difficult to secure a fine mixed-phase structure for achieving the et effect. On the other hand, the upper limit of 25% is that if it exceeds that, the Nd 2 Fe 14 B type compound other than the Nd 2 Fe 14 B-type compound is contained in the soft magnetic phase. This is because the phase precipitates, which causes the magnetic properties to be adversely affected. Preferably, it is 9 to 20%.

【0010】更に、鉄属遷移金属元素T(Co、Ni、
Fe)について、Coを必須元素としたのは、混相組織
のマトリツクスとして、大きい磁化と高いキュリー点を
有し、かつ耐食性の良好な、Coを主成分とする軟磁性
化合物(Co3 Bで代表される)を形成せしめると共
に、そのマトリツクス中に分散する硬磁性相であるNd
2 Fe14B型結晶構造の化合物として、その鉄族遷移金
属が主としてCoである化合物(以下、「R2 o14
化合物」とも称する)を形成させるためである。そのN
2 Fe14B型化合物であるR2 o14 B化合物は、鉄
族遷移金属元素がFeである化合物に比べて、磁気異方
性が高く、しかも耐食性にも優れている点で有利であ
る。かかる観点より、鉄属遷移金属(T)の全体に対し
Coの占める割合は、少なくとも50%であるのが好ま
しい。更に好ましいのは70%以上、最も望ましいのは
80%以上である。
Further, an iron group transition metal element T (Co, Ni,
Regarding Fe), Co is an essential element because it is a soft magnetic compound containing Co as a main component (Co 3 B, which has a large magnetization and a high Curie point and has good corrosion resistance as a matrix of a mixed phase structure). Which is a hard magnetic phase dispersed in the matrix.
As a compound having a 2 Fe 14 B-type crystal structure, a compound whose iron group transition metal is mainly Co (hereinafter, referred to as “R 2 Co 14 B
Is also referred to as a “compound”). That N
The R 2 Co 14 B compound, which is a d 2 Fe 14 B type compound, is advantageous in that it has high magnetic anisotropy and excellent corrosion resistance as compared with a compound in which the iron group transition metal element is Fe. . From this point of view, the proportion of Co in the entire iron group transition metal (T) is preferably at least 50%. More preferred is 70% or more, and most preferred is 80% or more.

【0011】Nd2 Fe14B型結晶構造を有するR2
o14 B化合物は、そのCoの一部がFe、Niで置換さ
れたものであつでよい。Coの一部をFeで置換するこ
とにより、磁性膜の磁化が増大し、他方Coの一部をN
iで置き換えることにより、軟磁性相および硬磁性相の
両相に対しその耐食性を高める効果が得られる。しか
し、Feについては、その量が多くなると磁気異方性の
低下をきたし、また硬磁性相の酸化抵抗性が低下する原
因となるので、鉄属遷移金属(T)の全体に対するFe
量は、50%以下とするのがよく、より好ましくは30
%以下、更に好ましくは20%以下である。Niについ
ては、その量が多くなると共に、軟磁性相および硬磁性
相の両相の磁化およびキュリー温度の低下と、硬磁性相
の磁気異方性の低下をきたすので、その量は鉄属遷移金
属(T)の全体の30%を上限とするのがよく、より好
ましくは20%以下である。
R 2 C having Nd 2 Fe 14 B type crystal structure
The o14 B compound may be a compound in which a part of Co is replaced by Fe and Ni. By substituting a part of Co with Fe, the magnetization of the magnetic film is increased, while a part of Co is replaced with N.
By substituting i for the soft magnetic phase and the hard magnetic phase, the effect of enhancing the corrosion resistance can be obtained. However, with respect to Fe, when the amount thereof is large, it causes a decrease in magnetic anisotropy and causes a decrease in the oxidation resistance of the hard magnetic phase. Therefore, Fe with respect to the entire iron group transition metal (T) is
The amount is preferably 50% or less, more preferably 30
% Or less, more preferably 20% or less. As the amount of Ni increases, the magnetization and Curie temperature of both the soft magnetic phase and the hard magnetic phase decrease, and the magnetic anisotropy of the hard magnetic phase decreases. The upper limit is preferably 30% of the total amount of metal (T), and more preferably 20% or less.

【0012】希土類元素Rは、R1 元素であるPr、N
d、Tb、Dyの元素群から選ばれる1種ないし2種以
上の元素を必須元素とする。R1 元素以外の希土類元素
であるLa、Ce、ないしはYの各元素(以下「R2
素」)、およびSm、その他の元素(以下「R3
素」)は必ずしも必要とせず、R1 元素と共に混在が許
容される元素である。R1 元素を必須元素とするのは、
硬磁性相として、特に磁気異方性の高いNd2 Fe14
型結晶構造の化合物を確保するためである。すなわち、
Nd2 Fe14B型結晶相のNdの位置をR1 元素で置換
したとき高い一軸磁気異方性が得られるからであり、こ
のためR1 元素はR元素の全体に対し30%以上である
のが好ましい。より好ましくは50%以上であり、更に
好ましくは60%以上である。また、R1 元素の中で
も、殊にPrは高保磁力化に著効を奏する元素であり、
高保磁力を最大限に発揮させる点から、PrがR元素全
体の30%以上であるのが望ましく、更に望ましいの
は、50%以上である。R2 元素およびR3 元素は、そ
の混在量があまり多くなると、Nd2 Fe14B型化合物
の磁気異方性が低下する原因となるので、R2 元素は、
好ましくはR元素全体の50%以下、更に好ましくは3
0%以下であり、Sm等のR3 元素の混在量は、好まし
くは30%以下、より好ましくは20%以下である。
The rare earth element R is Pr, N which is an R 1 element.
One or more elements selected from the group of elements d, Tb, and Dy are essential elements. La, Ce, or Y elements (hereinafter “R 2 element”) that are rare earth elements other than the R 1 element, Sm, and other elements (hereinafter “R 3 element”) are not always required, and R 1 element It is an element that can be mixed together. Making the R 1 element an essential element is
As a hard magnetic phase, Nd 2 Fe 14 B having a particularly high magnetic anisotropy
This is to secure a compound having a type crystal structure. That is,
This is because a high uniaxial magnetic anisotropy can be obtained when the Nd position of the Nd 2 Fe 14 B type crystal phase is replaced with the R 1 element, and therefore the R 1 element is 30% or more of the entire R element. Is preferred. It is more preferably at least 50% and even more preferably at least 60%. Further, among the R 1 elements, Pr is an element that is particularly effective in increasing the coercive force,
From the viewpoint of maximizing the high coercive force, Pr is preferably 30% or more of the entire R element, and more preferably 50% or more. R 2 element and R 3 element, if the mixed amount is too much, since the magnetic anisotropy of the Nd 2 Fe 14 B type compound causes a decrease, R 2 element,
It is preferably 50% or less of the total R element, more preferably 3
The content of R 3 elements such as Sm is preferably 30% or less, more preferably 20% or less.

【0013】元素X(B、C)は、Bを必須元素とする
が、その大部分はCで置換してもよい。しかし、Bの全
量をCで置換し、Bを全く含まない組成としたのでは、
217化合物が生成し、硬磁性相として必要なNd2
Fe14B型化合物(この場合は、R2 14C化合物)の
形成が極めて困難となる。このため、B量は、X元素の
全量の少なくとも5%とするのがよい。好ましくは10
%以上、より好ましくは20%以上である。
The element X (B, C) has B as an essential element, but most of it may be replaced with C. However, if the total amount of B is replaced with C and the composition is such that B is not contained at all,
R 2 T 17 compound is produced, and Nd 2 required as a hard magnetic phase is formed.
Formation of the Fe 14 B type compound (in this case, the R 2 T 14 C compound) becomes extremely difficult. Therefore, the amount of B is preferably at least 5% of the total amount of X element. Preferably 10
% Or more, more preferably 20% or more.

【0014】本発明の磁気記録媒体の磁性膜は、所望に
より、上記諸元素と共に、Nを含有する組成が与えられ
る。Nは、磁性膜の磁気特性の改善に直接寄与するもの
ではないが、スパツタリングにより基板に蒸着形成され
る磁性膜を、上記の2相混相結晶構造とするための結晶
化を促進させる効果を奏する。すなわち、前記ターゲツ
トをスパツタリングして基板に形成される蒸着膜は、そ
のままでは2相の混相結晶構造を形成せず、膜体全体に
亘り一様な化学組成を呈する非晶質体であるので、これ
を軟磁性相と硬磁性相とからなる所定の混相構造を有す
る膜体に構造変換(結晶化)するための熱処理が必要で
ある。Nを適量含有することにより、その結晶化が容易
になり、比較的低い熱処理温度で、所定の結晶化を首尾
よく達成することが可能となる。そのためのNの含有量
(原子比)は、磁性膜の全体に対し、好ましくは約0.
05%以上、より好ましくは0.1以上である。しか
し、その量をあまり多くすると、硬磁性相であるNd2
Fe14B型化合物の生成が阻害され、磁性膜の高保磁力
の発現効果を減じるので、3%以下とするのが好まし
い。より好ましくは1%以下である。
If desired, the magnetic film of the magnetic recording medium of the present invention is provided with a composition containing N in addition to the above elements. N does not directly contribute to the improvement of the magnetic properties of the magnetic film, but N has an effect of promoting crystallization for making the magnetic film formed by vapor deposition on the substrate by sputtering to have the above-described two-phase mixed phase crystal structure. . That is, the deposited film formed on the substrate by sputtering the target is an amorphous body that does not form a two-phase mixed phase crystal structure as it is and has a uniform chemical composition over the entire film body. It is necessary to perform a heat treatment for structurally converting (crystallizing) this into a film body having a predetermined mixed phase structure composed of a soft magnetic phase and a hard magnetic phase. By containing an appropriate amount of N, crystallization thereof is facilitated, and it becomes possible to successfully achieve a predetermined crystallization at a relatively low heat treatment temperature. Therefore, the N content (atomic ratio) is preferably about 0.
It is at least 05%, more preferably at least 0.1. However, if the amount is too large, the hard magnetic phase Nd 2
Since the production of the Fe 14 B type compound is hindered and the effect of exhibiting the high coercive force of the magnetic film is reduced, it is preferably 3% or less. It is more preferably 1% or less.

【0015】更に、本発明の磁気記録媒体の磁性膜は、
その磁気特性・電気特性、耐食性、耐候性、耐摩耗性等
の改善を目的として、所望により、Al,Si,Cu,
Ga,Ag,Au、P等の元素群から選ばれる1種ない
し2種以上の元素(その合計量(原子比)は、約3%以
下でよい)、またTc,V,Cr,Mn,Zr,Hf,
Mo,W等の元素群から選ばれる1種ないし2種以上の
元素(その合計量(原子比)は、約2%以下でよい)を
含有する成分構成とすることもでき、その成分設計は、
本発明の趣旨を損なわい範囲内で所望の特性の改善を目
的とした種々の態様が可能である。
Further, the magnetic film of the magnetic recording medium of the present invention comprises:
For the purpose of improving its magnetic properties / electrical properties, corrosion resistance, weather resistance, wear resistance, etc., Al, Si, Cu,
One or more elements selected from the group of elements such as Ga, Ag, Au, P (the total amount (atomic ratio) may be about 3% or less), Tc, V, Cr, Mn, Zr. , Hf,
It is also possible to have a component structure containing one or more elements selected from the group of elements such as Mo and W (the total amount (atomic ratio) may be about 2% or less), and the component design is ,
Various modes are possible for the purpose of improving desired characteristics within a range that does not impair the gist of the present invention.

【0016】次に、微細混相構造を有する上記磁性膜を
形成するためのターゲツトおよびスパツタリング成膜に
ついて説明する。前記〔I〕式で示される化学組成を有
するターゲツト(所望により、Al,Si,Cu,G
a,Ag,Au,P,Tc,V,Cr,Mn,Zr,H
f,Mo,W等の1種ないし2種以上の元素を含有する
成分構成が与えられる)は、所定の成分組成に調整され
た合金溶湯の鋳造材(インゴツト)として、または合金
溶湯をアトマイズ噴霧法等で粉化した粉末を原料とし、
熱間静水圧加圧焼結法等による焼結合金として製造する
ことができる。そのターゲツト材は、所望により、熱間
加工(熱間圧延、熱間鍛造等)が加えられ、組成や密度
の均質性を高めた塑性加工品としてスパツタリングに供
されること等も、従来のターゲツトと特に異ならない。
なお、本発明に使用されるターゲツトは、必ずしも構成
元素の全てを所望の通りに含有する一の合金として製作
されたものに限定されず、その構成元素をいくつかのブ
ロツクに分け、それらを所定の化学組成となるように組
合せて製作されるものも包含される。例えば鉄属遷移金
属元素TとX元素とからなる合金の板状ブロツクの板面
に、別途用意した希土類元素のブロツクを嵌め込み、全
体として所定の化学組成となるように組合せたものであ
つてもよい。このように複数のブロツクの組合せとして
製作したターゲツトをスパツタリングに供することは、
例えば、元素の種類によりスパツタ蒸発速度が異なるタ
ーゲツトの構成元素を所定の組成比に維持しながら、効
率よくスパツタリング成膜を遂行するための一法として
有効である。
Next, the target and sputtering film formation for forming the magnetic film having the fine mixed phase structure will be described. A target having a chemical composition represented by the above formula [I] (Al, Si, Cu, G, if desired)
a, Ag, Au, P, Tc, V, Cr, Mn, Zr, H
f, Mo, W, etc.) is provided as a component composition containing one or more elements such as f), Mo, W) as a casting material (ingot) of the alloy melt adjusted to a predetermined component composition, or atomizing the alloy melt. Using powder that has been pulverized by the method etc. as a raw material,
It can be manufactured as a sintered alloy by a hot isostatic pressing method or the like. If desired, the target material may be subjected to hot working (hot rolling, hot forging, etc.) to be subjected to spattering as a plastically processed product with enhanced homogeneity of composition and density. Is not particularly different.
The target used in the present invention is not necessarily limited to one manufactured as an alloy containing all of the constituent elements as desired, and the constituent elements are divided into several blocks and those Also included are those produced by combining them so as to have the chemical composition of. For example, even if a block of a rare earth element prepared separately is fitted into the plate surface of a plate-shaped block of an alloy composed of an iron group transition metal element T and an X element, and combined so as to have a predetermined chemical composition as a whole. Good. Providing a target manufactured as a combination of multiple blocks in this way for spattering is
For example, it is effective as a method for efficiently performing the sputtering film formation while maintaining the constituent elements of the target having different sputtering evaporation rates depending on the kind of the elements at a predetermined composition ratio.

【0017】上記ターゲツトのスパツタリングによる磁
性膜の形成は、通常のそれと同様に、アルゴンガスの減
圧雰囲気中で行うことができるが、基板に形成されるス
パツタ蒸着膜の結晶化を促進させるための手段として、
その蒸着膜に適量のN(約0.05〜3%)を含有させ
ることを望む場合には、そのスパツタ雰囲気中に少量の
窒素ガスを添加してスパツタリングを行うとよい。その
スパツタ雰囲気の窒素ガス濃度は、約100ppm〜5
%が適当であり、基板に形成される蒸着膜のNの含有量
は、スパツタ雰囲気中の窒素ガス濃度の調整により、容
易かつ適確に制御することができる。
The formation of the magnetic film by the sputtering of the target can be carried out in a reduced pressure atmosphere of argon gas in the same manner as usual, but a means for promoting the crystallization of the sputtering film formed on the substrate. As
When it is desired to contain an appropriate amount of N (about 0.05 to 3%) in the deposited film, it is advisable to add a small amount of nitrogen gas to the sputtering atmosphere to perform sputtering. The nitrogen gas concentration of the spatula atmosphere is about 100 ppm to 5
% Is appropriate, and the N content of the vapor deposition film formed on the substrate can be easily and accurately controlled by adjusting the nitrogen gas concentration in the sputter atmosphere.

【0018】スパツタリングにより基板に形成される蒸
着膜の結晶化は、(i)基板を加熱保持して蒸着膜を形
成する、(ii)基板を加熱保持し、もしくは加熱保持
することなく、スパツタリングを行つて蒸着膜を形成し
た後、蒸着膜を加熱処理する、等の方法を適用して達成
することができる。基板を加熱保持して蒸着膜を形成す
るスパツタリングにおいては、基板の加熱効果として蒸
着膜の原子の拡散移動が促進されることにより、スパツ
タ蒸着の進行と共に、蒸着膜の結晶化が生起し、軟磁性
相と微細な硬磁性相とからなる微細混相結晶構造を有す
る磁性膜が形成される。その基板の加熱温度は、約20
0℃以上を必要とし、好ましくは300℃以上、より好
ましくは350℃以上である。加熱温度を高くする程、
結晶化が促進される反面、加熱温度をあまり高くする
と、硬磁性相の結晶粒の粗大化に伴う粒子間隙の増大に
より、Exchage-spring Magnet 効果を減じ、高保磁力の
確保が困難となるほか、ノイズ特性改善効果を減じ、か
つ磁化曲線の角形性の悪化をきたす。このため、約60
0℃を上限とするのが好ましい。より好ましくは約55
0℃以下である。
Crystallization of a vapor deposition film formed on a substrate by sputtering is performed by (i) heating and holding the substrate to form a vapor deposition film, (ii) heating and holding the substrate, or sputtering without heating. This can be achieved by applying a method such as heating the vapor-deposited film after forming the vapor-deposited film. In spattering in which a substrate is heated and held to form a vapor deposition film, the diffusion effect of atoms in the vapor deposition film is promoted as a heating effect of the substrate, and as the sputtering of the sputtering progresses, crystallization of the vapor deposition film occurs and softening occurs. A magnetic film having a fine mixed phase crystal structure composed of a magnetic phase and a fine hard magnetic phase is formed. The heating temperature of the substrate is about 20.
It is required to be 0 ° C or higher, preferably 300 ° C or higher, and more preferably 350 ° C or higher. The higher the heating temperature,
While crystallization is promoted, if the heating temperature is too high, the Exchage-spring Magnet effect is reduced and it becomes difficult to secure a high coercive force due to the increase in the particle gap due to the coarsening of the crystal grains of the hard magnetic phase. The noise characteristic improving effect is reduced and the squareness of the magnetization curve is deteriorated. Therefore, about 60
It is preferable that the upper limit is 0 ° C. More preferably about 55
It is 0 ° C or lower.

【0019】一方、基板を加熱保持することなくスパツ
タリングを行つて蒸着膜(非晶質膜体)を形成し、これ
に熱処理を施す場合は、その加熱処理において非晶質膜
体中に軟磁性相(Co3 B相)が生成し、ついでその軟
磁性相中に、Nd2 Fe14B型結晶構造をもつ硬磁性相
の微細結晶が析出して2相の微細混相構造が形成され
る。この結晶生成のための加熱温度は、約350℃以上
であり、好ましくは450℃以上、より好ましくは50
0℃以上である。しかし、過度の高温を採用すること
は、上記したとおり硬磁性相粒子の凝集粗大化に伴つて
高保磁力、ノイズ特性、および磁化曲線の良好な角形性
の確保が困難となり、また基板の材種により、その熱変
形等の不具合を招く原因となる。このため、約800℃
を上限とするのがよく、好ましくは約700℃以下とす
る。
On the other hand, when a vapor deposition film (amorphous film body) is formed by performing sputtering on the substrate without heating and holding it, and heat treatment is applied to the film, a soft magnetic property is formed in the amorphous film body during the heat treatment. A phase (Co 3 B phase) is generated, and then fine crystals of a hard magnetic phase having an Nd 2 Fe 14 B type crystal structure are precipitated in the soft magnetic phase to form a fine mixed phase structure of two phases. The heating temperature for this crystal formation is about 350 ° C. or higher, preferably 450 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher.
It is 0 ° C or higher. However, adopting an excessively high temperature makes it difficult to secure high coercive force, noise characteristics, and good squareness of the magnetization curve as the hard magnetic phase particles aggregate and grow, as described above. This causes a problem such as thermal deformation. Therefore, about 800 ℃
Is preferably the upper limit, and is preferably about 700 ° C. or lower.

【0020】スパツタ蒸着膜を結晶化するための上記ス
パツタリング過程における基板の加熱保持と、スパツタ
リング後の蒸着膜の加熱処理とは、必要に応じ併合実施
される。この2段階の加熱処理の実施は、磁性膜の結晶
化の適切な制御の達成を容易にする。磁性膜に微細混相
結晶構造を付与するための加熱処理の最適温度は、その
成分構成(およびN含有量)等により一様ではないが、
適切な結晶化によりに、磁性膜のノイズ特性および保磁
力改善効果は最大限に発現される。その保磁力は、従来
のそれをはるかに凌ぎ、約3〜4KOeないしそれ以上
にも達する。また、磁性膜の微細混相結晶構造の結晶化
度(硬磁性相の体積率、その粒径および粒子間距離等)
は、上記加熱処理温度により制御することができ、磁性
膜はその結晶化度に相応した保磁力を発現する。従つ
て、その磁気記録媒体は、磁性膜体を結晶化する熱処理
条件により、実機での使用条件(例えば、対応する磁気
ヘツドの磁界の強さ等)に応じた高低任意の保磁力を帯
有させることができる。
The heating and holding of the substrate in the above-mentioned sputtering process for crystallizing the sputtered vapor deposition film and the heat treatment of the vapor deposition film after the sputtering are combined as required. Implementation of this two-step heat treatment facilitates the achievement of appropriate control of crystallization of the magnetic film. Although the optimum temperature of the heat treatment for imparting the fine mixed phase crystal structure to the magnetic film is not uniform due to its component constitution (and N content) and the like,
By proper crystallization, the noise characteristics and coercive force improving effect of the magnetic film are maximized. Its coercive force far exceeds that of the conventional one, reaching about 3 to 4 KOe or more. In addition, the crystallinity of the fine mixed-phase crystal structure of the magnetic film (volume ratio of hard magnetic phase, its particle size, distance between particles, etc.)
Can be controlled by the heat treatment temperature, and the magnetic film exhibits a coercive force corresponding to its crystallinity. Therefore, the magnetic recording medium has an arbitrary coercive force depending on the usage conditions in an actual machine (for example, the strength of the magnetic field of the corresponding magnetic head) by the heat treatment conditions for crystallizing the magnetic film body. Can be made.

【0021】本発明の磁性記録媒体を製造するためのス
パツタリングは、前記のようにスパツタ蒸着膜を結晶化
するための手当てが加えられる点を除き、特別の条件や
制限はなく、常法に従つて行うことができる。その磁性
膜の膜厚は、例えば200〜1000Åと、通常のCo
Cr合金磁性膜等のそれと同程度のものであつてよい。
スパツタリング成膜を行う非磁性基板は、例えばガラス
板(非晶質ガラス、結晶化ガラス等)、アルミ合金板、
カーボン板、チタン板等の公知の材種を適宜選択使用す
ればよいが、本発明では前記のように磁性膜の結晶生成
のための加熱処理を必要とするので、基板の耐熱性の点
から、アルミ合金板に比し、ガラス板(殊に結晶化ガラ
ス)、カーボン板、チタン板等が有利に使用される。そ
の基板への磁性膜のスパツタリング成膜に際しては、必
要に応じ、各種の皮膜処理、例えば非磁性を付与するた
めの膜面の形成、あるいは磁性膜の面内磁化ないしは垂
直磁化の磁気記録方式に応じた下地膜のスパツタリン成
膜等が施され、また磁性膜の膜面保護のために、例えば
磁気ヘツドの接触に対する潤滑保護膜(グラファイト等
の炭素質膜、酸化けい素や窒化けい素等のセラミツクス
膜、おび液体潤滑膜等)が適宜積層形成されることも、
従来一般の磁気記録媒体のそれと特に異ならない。
The sputtering method for producing the magnetic recording medium of the present invention has no special condition or limitation except that the treatment for crystallizing the sputtering film is added as described above, and the sputtering method is in accordance with a conventional method. Can be done. The film thickness of the magnetic film is, for example, 200 to 1000 Å
It may be the same as that of a Cr alloy magnetic film or the like.
The non-magnetic substrate on which the sputtering film is formed is, for example, a glass plate (amorphous glass, crystallized glass, etc.), an aluminum alloy plate,
Known materials such as carbon plate and titanium plate may be appropriately selected and used. However, in the present invention, since heat treatment for crystal formation of the magnetic film is required as described above, from the viewpoint of heat resistance of the substrate. Glass plates (particularly crystallized glass), carbon plates, titanium plates, etc. are advantageously used as compared with aluminum alloy plates. When performing sputtering film formation of the magnetic film on the substrate, if necessary, various film treatments, for example, formation of a film surface for imparting non-magnetism, or in-plane magnetization of the magnetic film or a magnetic recording method of perpendicular magnetization. In order to protect the surface of the magnetic film, for example, a lubricating protective film against contact with the magnetic head (such as a carbonaceous film such as graphite, silicon oxide or silicon nitride, etc. (Ceramics film, liquid lubrication film, etc.) may be appropriately laminated.
It is not particularly different from that of the conventional general magnetic recording medium.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、Co系合金、その他の
強磁性合金膜材を磁気記録膜とする従来の磁気記録媒体
を遙かに凌ぐ高度のノイズ特性、高い保磁力を有する磁
気記録媒体を得ることができる。その保磁力は、例えば
2KOeを超え、3〜4KOeないしはそれ以上にも達
する。しかも、その高保磁力は、Pt等の高価な元素を
使用するこなく獲得することができ、コスト面でも有利
である。また、本発明の磁気記録媒体の保磁力は、その
磁性膜の結晶化熱処理条件により高低任意に制御でき、
実機使用条件に応じた適正な保磁力を思いのままに帯有
させることができ、その工業的価値は極めて大である。
According to the present invention, magnetic recording having a high noise characteristic and a high coercive force far surpassing those of a conventional magnetic recording medium using a Co-based alloy or other ferromagnetic alloy film material as a magnetic recording film. The medium can be obtained. The coercive force exceeds, for example, 2 KOe and reaches 3 to 4 KOe or more. Moreover, the high coercive force can be obtained without using an expensive element such as Pt, which is advantageous in terms of cost. Further, the coercive force of the magnetic recording medium of the present invention can be controlled to be high or low by the crystallization heat treatment conditions of the magnetic film,
The coercive force that suits the actual conditions of use can be provided at will, and its industrial value is extremely large.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船越 淳 兵庫県尼崎市西向島町64番地 株式会社ク ボタ尼崎工場内 (72)発明者 西 隆 兵庫県尼崎市西向島町64番地 株式会社ク ボタ尼崎工場内 (72)発明者 遠藤 功 大阪市浪速区敷津東一丁目2番47号 株式 会社クボタ内 (72)発明者 奥村 善信 大阪市浪速区敷津東一丁目2番47号 株式 会社クボタ内 (72)発明者 楊 興波 大阪市浪速区敷津東一丁目2番47号 株式 会社クボタ内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Jun Funakoshi 64 Nishimukojima-cho, Amagasaki City, Hyogo Prefecture Kubota Amagasaki Plant Co., Ltd. (72) Takashi Nishi Nishi 64, Nishimukaijima-cho Amagasaki City, Hyogo Prefecture (72) Inventor Isao Endo 1-47 Shikazu Higashi 1-47, Naniwa-ku, Osaka City Kubota Inc. (72) Inventor Yoshinobu Okumura 1-2-47 Shikitsu Higashi, Naniwa-ku, Osaka City Kubota Inc. ( 72) Inventor Yang Xingha 1-47 Shikitsuhigashi, Naniwa-ku, Osaka City Kubota Corporation

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気記録膜として、Nd2 Fe14B型結
晶構造を有する硬磁性化合物の微細粒が、Coを主成分
とする軟磁性化合物からなるマトリツクス中に緻密に分
散してなる微細混相組織の磁性膜体を有することを特徴
とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording film comprising a fine mixed phase in which fine particles of a hard magnetic compound having a Nd 2 Fe 14 B type crystal structure are densely dispersed in a matrix made of a soft magnetic compound containing Co as a main component. A magnetic recording medium having a magnetic film body of tissue.
【請求項2】 式: T100-u-v u v 〔式中、 Tは、鉄族遷移金属元素、Rは、希土類元素、Xは、B
またはC、を表し、 原子組成比を示すuは、0.5〜9%、vは、5〜25
%であり、 鉄族遷移金属元素Tは、Coを必須元素とし、Niおよ
び/またはFeの混在が許容され、Niおよび/または
Feが混在する場合のT全体に対するCoの割合は50
%以上を占め、 希土類元素Rは、Pr,Nd,Tb,またはDy(以
下、「R1 元素」)から選ばれる1種ないし2種以上を
必須元素とし、これにLa,Ce,Y、Smおよびその
他の希土類元素の1種以上の元素の混在が許容され、こ
れらの元素が混在する場合のR全体に対するR1 元素の
割合は30%以上であり、 元素Xは、Bを必須元素とし、これにCが混在する場合
のX全体に対するBの割合は5%以上である。〕で示さ
れる化学組成を有することを特徴とする磁気記録膜形成
用スパツタリングターゲツト。
2. The formula: T 100-uv R u X v , wherein T is an iron group transition metal element, R is a rare earth element, and X is B.
Or C, which represents the atomic composition ratio, u is 0.5 to 9%, and v is 5 to 25%.
%, The iron group transition metal element T has Co as an essential element, Ni and / or Fe can be mixed, and when Ni and / or Fe are mixed, the ratio of Co to the entire T is 50.
%, And the rare earth element R is one or more selected from Pr, Nd, Tb, or Dy (hereinafter, “R 1 element”) as an essential element, and La, Ce, Y, Sm And one or more elements of other rare earth elements are allowed to be mixed, and when these elements are mixed, the ratio of the R 1 element to the entire R is 30% or more, and the element X has B as an essential element, When C is mixed in this, the ratio of B to the entire X is 5% or more. ] The sputtering target for magnetic recording film formation characterized by having a chemical composition shown by these.
【請求項3】 ターゲツトをスパツタリングして非磁性
基板に、磁気記録膜を形成する方法において、請求項2
に記載のターゲツトを使用し、 (i)基板を、温度200℃以上に加熱保持して、基板
にスパツタ蒸着膜を形成し、または (ii)基板を、温度200℃以上に加熱保持し、もし
くは加熱保持することなく、基板にスパツタ蒸着膜を形
成した後、その膜体を350℃以上の温度で加熱処理す
る、ことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の
磁気記録膜の形成方法。
3. A method for forming a magnetic recording film on a non-magnetic substrate by sputtering a target as claimed in claim 2.
(I) the substrate is heated and maintained at a temperature of 200 ° C. or higher to form a sputtering film on the substrate, or (ii) the substrate is heated and maintained at a temperature of 200 ° C. or higher, or The magnetic recording film for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the sputtering film is formed on the substrate without heating and holding, and then the film is heat-treated at a temperature of 350 ° C. or higher. Method.
【請求項4】 窒素ガス100ppm〜5%(容積比)
を含む雰囲気中で、スパツタリングを行うことを特徴と
する請求項3に記載の磁気記録媒体の磁気記録膜の形成
方法。
4. Nitrogen gas 100 ppm to 5% (volume ratio)
4. The method of forming a magnetic recording film of a magnetic recording medium according to claim 3, wherein the sputtering is performed in an atmosphere containing
JP2202293A 1993-01-14 1993-01-14 Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film Pending JPH06215941A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2202293A JPH06215941A (en) 1993-01-14 1993-01-14 Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2202293A JPH06215941A (en) 1993-01-14 1993-01-14 Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06215941A true JPH06215941A (en) 1994-08-05

Family

ID=12071365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2202293A Pending JPH06215941A (en) 1993-01-14 1993-01-14 Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06215941A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003017258A1 (en) * 2001-08-17 2003-02-27 Showa Denko K.K. Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic recording/reproducing apparatus
US6723458B2 (en) 2001-08-17 2004-04-20 Showa Denko K.K. Magnetic recording medium, method of manufacture therefor, and magnetic read/write apparatus
JP2021127490A (en) * 2020-02-13 2021-09-02 山陽特殊製鋼株式会社 Sputtering target material and its manufacturing method
CN114566342A (en) * 2022-03-14 2022-05-31 北京工业大学 Of special construction (Nd, Tb)2Fe14Preparation method of B/Co composite magnetic material

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003017258A1 (en) * 2001-08-17 2003-02-27 Showa Denko K.K. Magnetic recording medium, its manufacturing method, and magnetic recording/reproducing apparatus
US6723458B2 (en) 2001-08-17 2004-04-20 Showa Denko K.K. Magnetic recording medium, method of manufacture therefor, and magnetic read/write apparatus
JP2021127490A (en) * 2020-02-13 2021-09-02 山陽特殊製鋼株式会社 Sputtering target material and its manufacturing method
CN114566342A (en) * 2022-03-14 2022-05-31 北京工业大学 Of special construction (Nd, Tb)2Fe14Preparation method of B/Co composite magnetic material

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103221999B (en) The inculating crystal layer alloy of magnetic recording media and sputtering target material
US4918555A (en) Magnetic head containing an Fe-base soft magnetic alloy layer
JPH06104870B2 (en) Method for producing amorphous thin film
EP1783748A1 (en) Deposition of enhanced seed layer using tantalum alloy based sputter target
JP2001026860A (en) Co-Pt-B BASE TARGET AND ITS PRODUCTION
JPH06215941A (en) Magnetic recording medium, target for forming magnetic recording film, and method for forming magnetic recording film
JPH07116563B2 (en) Fe-based soft magnetic alloy
JPH0321626B2 (en)
JP2554444B2 (en) Uniaxial magnetic anisotropic thin film
JP2950917B2 (en) Soft magnetic thin film
JP2710440B2 (en) Soft magnetic alloy film
KR900007666B1 (en) Amorphous Alloy for Magnetic Heads
JP2704157B2 (en) Magnetic parts
JP2710453B2 (en) Soft magnetic alloy film
JP3233289B2 (en) Ultra-microcrystalline alloy ribbon and powder and magnetic core using the same
JPH03263306A (en) Magnetic film and magnetic head
JP2675178B2 (en) Soft magnetic alloy film
JP2554445B2 (en) Magnetic thin film and method of manufacturing the same
JP2771674B2 (en) Soft magnetic alloy film
JPH05263197A (en) High saturation magnetic flux density Fe-based soft magnetic alloy
JP3121933B2 (en) Soft magnetic thin film
JP3167808B2 (en) Soft magnetic thin film
JP2774702B2 (en) Soft magnetic thin film and thin film magnetic head using the same
JP3238216B2 (en) Soft magnetic thin film
JP2774708B2 (en) Soft magnetic thin film and thin film magnetic head using the same