JPH06216104A - バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置 - Google Patents
バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】ウエハ表面を効果的に乾燥することができるバ
ッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置を提供する。 【構成】バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置
は、内部に加熱器３０を設けたことを特徴とする。ある
いは又、内部に乾燥用ガス導入部４０を設けたことを特
徴とする。
ッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置を提供する。 【構成】バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置
は、内部に加熱器３０を設けたことを特徴とする。ある
いは又、内部に乾燥用ガス導入部４０を設けたことを特
徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、バッチ式のウエハ処理
用回転式洗浄乾燥装置に関する。
用回転式洗浄乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置は、図９に模式的な断面図を示すように、例
えば、ローター組立体１０、ローター組立体１０を回転
させるモータ１２、ウエハの洗浄等のための各種液体を
供給する液体供給ノズル１４、液体排出部１６から成
る。
浄乾燥装置は、図９に模式的な断面図を示すように、例
えば、ローター組立体１０、ローター組立体１０を回転
させるモータ１２、ウエハの洗浄等のための各種液体を
供給する液体供給ノズル１４、液体排出部１６から成
る。
【０００３】例えばウエハ１８を洗浄、乾燥する場合、
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。洗
浄が完了した後、液体供給ノズル１４からの洗浄液の供
給を停止し、次いで、モータ１２によってローター組立
体１０を高速で回転させる。これによって、ウエハ１８
の表面に付着している洗浄液には遠心力がかかり、洗浄
液がウエハ表面から除去される。除去された洗浄液は液
体排出部１６から外部に排出される。
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。洗
浄が完了した後、液体供給ノズル１４からの洗浄液の供
給を停止し、次いで、モータ１２によってローター組立
体１０を高速で回転させる。これによって、ウエハ１８
の表面に付着している洗浄液には遠心力がかかり、洗浄
液がウエハ表面から除去される。除去された洗浄液は液
体排出部１６から外部に排出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のバッ
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置においては、遠
心力によってのみ洗浄液をウエハ表面から除去するの
で、ウエハ表面の乾燥が遅いという問題がある。
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置においては、遠
心力によってのみ洗浄液をウエハ表面から除去するの
で、ウエハ表面の乾燥が遅いという問題がある。
【０００５】従って、本発明の目的は、ウエハ表面を効
果的に乾燥することができるバッチ式のウエハ処理用回
転式洗浄乾燥装置を提供することにある。
果的に乾燥することができるバッチ式のウエハ処理用回
転式洗浄乾燥装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の第１の態様に係るバッチ式のウエハ処理用
回転式洗浄乾燥装置は、内部に加熱器を設けたことを特
徴とする。
めの本発明の第１の態様に係るバッチ式のウエハ処理用
回転式洗浄乾燥装置は、内部に加熱器を設けたことを特
徴とする。
【０００７】上記の目的を達成するための本発明の第２
の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装
置は、内部に乾燥用ガス導入部を設けたことを特徴とす
る。
の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装
置は、内部に乾燥用ガス導入部を設けたことを特徴とす
る。
【０００８】本発明の第２の態様に係るバッチ式のウエ
ハ処理用回転式洗浄乾燥装置においては、内部に配置さ
れた複数のウエハの上面に乾燥用ガスが吹き付けられる
ように乾燥用ガス導入部を配置することが望ましい。あ
るいは又、内部に配置された複数のウエハの下面に乾燥
用ガスが吹き付けられるように乾燥用ガス導入部を配置
することが望ましい。更には、内部に配置された複数の
ウエハの上面及び下面に乾燥用ガスが吹き付けられるよ
うに乾燥用ガス導入部を配置することが一層望ましい。
また、内部に加熱器を設けることもできる。
ハ処理用回転式洗浄乾燥装置においては、内部に配置さ
れた複数のウエハの上面に乾燥用ガスが吹き付けられる
ように乾燥用ガス導入部を配置することが望ましい。あ
るいは又、内部に配置された複数のウエハの下面に乾燥
用ガスが吹き付けられるように乾燥用ガス導入部を配置
することが望ましい。更には、内部に配置された複数の
ウエハの上面及び下面に乾燥用ガスが吹き付けられるよ
うに乾燥用ガス導入部を配置することが一層望ましい。
また、内部に加熱器を設けることもできる。
【０００９】本発明におけるバッチ式のウエハ処理用回
転式洗浄乾燥装置には、洗浄液を用いてウエハの洗浄・
乾燥を行う装置のみならず、例えば、ウエハ上のレジス
ト剥離及び洗浄やウェットエッチング等の各種薬液処理
を用いたウエハ処理装置等各種の装置も包含される。ま
た、ウエハ表面とは、ウエハそれ自体の表面だけでな
く、ウエハに形成された半導体素子表面やウエハに形成
された各種薄膜表面をも意味する。
転式洗浄乾燥装置には、洗浄液を用いてウエハの洗浄・
乾燥を行う装置のみならず、例えば、ウエハ上のレジス
ト剥離及び洗浄やウェットエッチング等の各種薬液処理
を用いたウエハ処理装置等各種の装置も包含される。ま
た、ウエハ表面とは、ウエハそれ自体の表面だけでな
く、ウエハに形成された半導体素子表面やウエハに形成
された各種薄膜表面をも意味する。
【００１０】
【作用】本発明のバッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾
燥装置においては、内部に加熱器あるいは乾燥用ガス導
入部が設けられているので、ウエハ表面を効果的に速や
かに乾燥することができる。
燥装置においては、内部に加熱器あるいは乾燥用ガス導
入部が設けられているので、ウエハ表面を効果的に速や
かに乾燥することができる。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明のバッチ式の
ウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置を実施例に基づき説明
する。尚、図面において、同様の構成部品には同一の参
照番号を付す。
ウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置を実施例に基づき説明
する。尚、図面において、同様の構成部品には同一の参
照番号を付す。
【００１２】（実施例−１）実施例−１の装置は、本発
明の第１の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置に関する。この装置の特徴は、装置の内部に
加熱器３０が設けられている点にある。
明の第１の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置に関する。この装置の特徴は、装置の内部に
加熱器３０が設けられている点にある。
【００１３】実施例−１の装置は、図１に模式的な断面
図を示すように、ローター組立体１０、ローター組立体
１０を回転させるためのモータ１２、ウエハの洗浄等の
ための各種液体を供給するための液体供給ノズル１４、
液体排出部１６から成る。ウエハの乾燥時、加熱器３０
は装置内部の上方に配設され得る。加熱器３０は、赤外
線ランプ、赤外線を照射するレーザ発振器、抵抗ヒータ
等から構成することができる。加熱器３０には熱線反射
鏡（図示せず）を設けることができる。加熱器３０は、
１つ又は複数配設し得る。加熱器３０を、図示しない昇
降装置によって昇降させることが望ましい。
図を示すように、ローター組立体１０、ローター組立体
１０を回転させるためのモータ１２、ウエハの洗浄等の
ための各種液体を供給するための液体供給ノズル１４、
液体排出部１６から成る。ウエハの乾燥時、加熱器３０
は装置内部の上方に配設され得る。加熱器３０は、赤外
線ランプ、赤外線を照射するレーザ発振器、抵抗ヒータ
等から構成することができる。加熱器３０には熱線反射
鏡（図示せず）を設けることができる。加熱器３０は、
１つ又は複数配設し得る。加熱器３０を、図示しない昇
降装置によって昇降させることが望ましい。
【００１４】例えばウエハ１８を洗浄、乾燥する場合、
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。ウ
エハの洗浄時、加熱器３０には洗浄液が懸からないよう
に、加熱器３０を上昇位置に保持しておくことが望まし
い。
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。ウ
エハの洗浄時、加熱器３０には洗浄液が懸からないよう
に、加熱器３０を上昇位置に保持しておくことが望まし
い。
【００１５】ウエハの洗浄が完了した後、液体供給ノズ
ル１４からの洗浄液の供給を停止し、次いで、加熱器３
０を昇降装置によって下降させる。その後、加熱器３０
に電力を供給してウエハ表面を加熱しつつ、モータ１２
によってローター組立体１０を高速で回転させる。これ
によって、ウエハ１８の表面に付着している洗浄液には
遠心力が働き洗浄液がウエハ表面から除去されると同時
に、加熱器３０からの熱によって洗浄液がウエハ表面
（特に、上面）から蒸発させられる。こうして、効果的
に速やかにウエハ表面を乾燥させることができる。除去
された洗浄液は液体排出部１６から外部に排出される。
ル１４からの洗浄液の供給を停止し、次いで、加熱器３
０を昇降装置によって下降させる。その後、加熱器３０
に電力を供給してウエハ表面を加熱しつつ、モータ１２
によってローター組立体１０を高速で回転させる。これ
によって、ウエハ１８の表面に付着している洗浄液には
遠心力が働き洗浄液がウエハ表面から除去されると同時
に、加熱器３０からの熱によって洗浄液がウエハ表面
（特に、上面）から蒸発させられる。こうして、効果的
に速やかにウエハ表面を乾燥させることができる。除去
された洗浄液は液体排出部１６から外部に排出される。
【００１６】（実施例−２）実施例−１で説明したバッ
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置の変形である実
施例−２を、図２に模式的な断面図にて示す。実施例−
１の装置との相違点は、ウエハの乾燥時、加熱器３０が
装置内部の下方に配設され得る点にある。また、ロータ
ー組立体１０の半径方向外側に液体跳返り防止用の羽根
３２が複数設けられており、液体排出部１６が羽根３２
の外側に設けられている。ウエハの乾燥時、ローター組
立体１０を高速で回転させると、ウエハ１８の表面に付
着している洗浄液には遠心力が働き、洗浄液がウエハ表
面から除去され、羽根３２と羽根３２の間に形成された
隙間を通って液体排出部１６へと流れ出る。羽根３２を
設けることによって、装置の側壁等から跳ね返る液滴に
よってウエハ表面が汚染されることを防止することがで
きる。その他の構成は、図１に示した装置と同様であ
る。また、実施例−２の装置の操作も、ウエハ表面（特
に、下面）から洗浄液が蒸発され易い点を除き、実施例
−１の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置の変形である実
施例−２を、図２に模式的な断面図にて示す。実施例−
１の装置との相違点は、ウエハの乾燥時、加熱器３０が
装置内部の下方に配設され得る点にある。また、ロータ
ー組立体１０の半径方向外側に液体跳返り防止用の羽根
３２が複数設けられており、液体排出部１６が羽根３２
の外側に設けられている。ウエハの乾燥時、ローター組
立体１０を高速で回転させると、ウエハ１８の表面に付
着している洗浄液には遠心力が働き、洗浄液がウエハ表
面から除去され、羽根３２と羽根３２の間に形成された
隙間を通って液体排出部１６へと流れ出る。羽根３２を
設けることによって、装置の側壁等から跳ね返る液滴に
よってウエハ表面が汚染されることを防止することがで
きる。その他の構成は、図１に示した装置と同様であ
る。また、実施例−２の装置の操作も、ウエハ表面（特
に、下面）から洗浄液が蒸発され易い点を除き、実施例
−１の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
【００１７】実施例−１で説明したバッチ式のウエハ処
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図３に模式的な断面図
にて示す。図１に示した装置との相違点は、ウエハの乾
燥時、加熱器３０が装置内部の上方及び下方に配設され
得る点にある。その他の構成は、図１に示した装置と同
様である。また、この装置の操作も、ウエハの上面及び
下面から一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除き、実
施例−１の装置と同様であり、その詳細な説明は省略す
る。
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図３に模式的な断面図
にて示す。図１に示した装置との相違点は、ウエハの乾
燥時、加熱器３０が装置内部の上方及び下方に配設され
得る点にある。その他の構成は、図１に示した装置と同
様である。また、この装置の操作も、ウエハの上面及び
下面から一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除き、実
施例−１の装置と同様であり、その詳細な説明は省略す
る。
【００１８】（実施例−３）実施例−３の装置は、本発
明の第２の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置に関する。この装置の特徴は、装置の内部に
乾燥用ガス導入部４０が設けられている点にある。
明の第２の態様に係るバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置に関する。この装置の特徴は、装置の内部に
乾燥用ガス導入部４０が設けられている点にある。
【００１９】実施例−３の装置は、基本的には図１に示
した実施例−１の装置と同様である。実施例−１の装置
との相違点は、図４に模式的な断面図を示すように、ウ
エハの乾燥時、加熱器の代わりに、乾燥用ガス導入部４
０が装置内部の上方に配設され得る点にある。装置外部
に設けた乾燥用ガス供給源（図示せず）から、必要に応
じて加熱された窒素ガスや空気などをウエハ表面に供給
する。乾燥用ガス導入部４０は、１つ又は複数配設し得
る。乾燥用ガス導入部４０は、図示しない昇降装置によ
って昇降されることが望ましい。また、乾燥用ガス導入
部４０のガス吹き出し部には整流板を取り付けることが
望ましいが、必須ではない。
した実施例−１の装置と同様である。実施例−１の装置
との相違点は、図４に模式的な断面図を示すように、ウ
エハの乾燥時、加熱器の代わりに、乾燥用ガス導入部４
０が装置内部の上方に配設され得る点にある。装置外部
に設けた乾燥用ガス供給源（図示せず）から、必要に応
じて加熱された窒素ガスや空気などをウエハ表面に供給
する。乾燥用ガス導入部４０は、１つ又は複数配設し得
る。乾燥用ガス導入部４０は、図示しない昇降装置によ
って昇降されることが望ましい。また、乾燥用ガス導入
部４０のガス吹き出し部には整流板を取り付けることが
望ましいが、必須ではない。
【００２０】例えばウエハ１８を洗浄、乾燥する場合、
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。ウ
エハの洗浄時、乾燥用ガス導入部４０には洗浄液が懸か
らないように、乾燥用ガス導入部４０を上昇位置に保持
しておくことが望ましい。
複数のウエハ１８を入れたウエハカセット２０をウエハ
ローター組立体１０のウエハカセット載置部１０Ａに載
置する。そして、純水等の洗浄液を、液体供給ノズル１
４からウエハ１８に供給し、ウエハ１８を洗浄する。ウ
エハの洗浄時、乾燥用ガス導入部４０には洗浄液が懸か
らないように、乾燥用ガス導入部４０を上昇位置に保持
しておくことが望ましい。
【００２１】ウエハの洗浄が完了した後、液体供給ノズ
ル１４からの洗浄液の供給を停止し、次いで、乾燥用ガ
ス導入部４０を昇降装置によって下降させる。その後、
乾燥用ガス導入部４０からウエハ表面に乾燥用ガスを供
給しつつ、モータ１２によってローター組立体１０を高
速で回転させる。これによって、ウエハ１８の表面に付
着している洗浄液には遠心力が働き洗浄液がウエハ表面
から除去されると同時に、乾燥用ガス導入部４０からの
乾燥用ガスによって洗浄液がウエハ表面（特に、上面）
から蒸発させられる。こうして、効果的に速やかにウエ
ハ表面を乾燥させることができる。除去された洗浄液は
液体排出部１６から外部に排出される。
ル１４からの洗浄液の供給を停止し、次いで、乾燥用ガ
ス導入部４０を昇降装置によって下降させる。その後、
乾燥用ガス導入部４０からウエハ表面に乾燥用ガスを供
給しつつ、モータ１２によってローター組立体１０を高
速で回転させる。これによって、ウエハ１８の表面に付
着している洗浄液には遠心力が働き洗浄液がウエハ表面
から除去されると同時に、乾燥用ガス導入部４０からの
乾燥用ガスによって洗浄液がウエハ表面（特に、上面）
から蒸発させられる。こうして、効果的に速やかにウエ
ハ表面を乾燥させることができる。除去された洗浄液は
液体排出部１６から外部に排出される。
【００２２】（実施例−４）実施例−３で説明したバッ
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置の変形である実
施例−４を図５に模式的な断面図にて示す。実施例−３
の装置との相違点は、ウエハの乾燥時、乾燥用ガス導入
部４０が装置内部の下方に配設され得る点にある。ま
た、実施例−２と同様に、ローター組立体１０の半径方
向外側に液体跳返り防止用の羽根３２が複数設けられて
おり、液体排出部１６が羽根３２の外側に設けられてい
る。その他の構成は、図４に示した装置と同様である。
また、実施例−４の装置の操作も、ウエハ表面（特に、
下面）から洗浄液が蒸発され易い点を除き、実施例−３
の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
チ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置の変形である実
施例−４を図５に模式的な断面図にて示す。実施例−３
の装置との相違点は、ウエハの乾燥時、乾燥用ガス導入
部４０が装置内部の下方に配設され得る点にある。ま
た、実施例−２と同様に、ローター組立体１０の半径方
向外側に液体跳返り防止用の羽根３２が複数設けられて
おり、液体排出部１６が羽根３２の外側に設けられてい
る。その他の構成は、図４に示した装置と同様である。
また、実施例−４の装置の操作も、ウエハ表面（特に、
下面）から洗浄液が蒸発され易い点を除き、実施例−３
の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
【００２３】（実施例−５）実施例−５のバッチ式のウ
エハ処理用回転式洗浄乾燥装置は、実施例−３の装置の
変形である。図６に模式的な断面図にて示した実施例−
５の装置内部には、ウエハの乾燥時、乾燥用ガス導入部
４０及び加熱器３０が装置内部の上方及び下方に配設さ
れ得る。その他の構成は、図４に示した装置と同様であ
る。また、この装置の操作も、ウエハの上面及び下面か
ら一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除き、実施例−
３の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
尚、乾燥用ガス導入部４０及び加熱器３０の位置は適宜
変更することができる。
エハ処理用回転式洗浄乾燥装置は、実施例−３の装置の
変形である。図６に模式的な断面図にて示した実施例−
５の装置内部には、ウエハの乾燥時、乾燥用ガス導入部
４０及び加熱器３０が装置内部の上方及び下方に配設さ
れ得る。その他の構成は、図４に示した装置と同様であ
る。また、この装置の操作も、ウエハの上面及び下面か
ら一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除き、実施例−
３の装置と同様であり、その詳細な説明は省略する。
尚、乾燥用ガス導入部４０及び加熱器３０の位置は適宜
変更することができる。
【００２４】実施例−３で説明したバッチ式のウエハ処
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図７に模式的な断面図
にて示す。この図７に示した変形例の装置が図４に示し
た実施例−３の装置と相違する点は、ウエハの乾燥時、
乾燥用ガス導入部４０が装置内部の上方及び下方に配設
され得る点にある。その他の構成は、図４に示した装置
と同様である。また、この装置の操作も、ウエハの上面
及び下面から一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除
き、実施例−３の装置と同様であり、その詳細な説明は
省略する。
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図７に模式的な断面図
にて示す。この図７に示した変形例の装置が図４に示し
た実施例−３の装置と相違する点は、ウエハの乾燥時、
乾燥用ガス導入部４０が装置内部の上方及び下方に配設
され得る点にある。その他の構成は、図４に示した装置
と同様である。また、この装置の操作も、ウエハの上面
及び下面から一層効果的に洗浄液が蒸発される点を除
き、実施例−３の装置と同様であり、その詳細な説明は
省略する。
【００２５】実施例−３で説明したバッチ式のウエハ処
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図８に模式的な断面図
にて示す。この図８に示した変形例の装置が実施例−３
の装置と相違する点は、ウエハカセット２０に格納され
たウエハ１８とウエハ１８の間に乾燥用ガスを確実に流
入させるために、ウエハ１８とウエハ１８の間隔に概ね
相当した間隔で整流板４２が乾燥用ガス導入部４０に設
けられていることにある。これによって、更に一層効果
的に洗浄液を蒸発することができる。整流板４２は、図
示しないモータ等によって、上下に首振り運動をさせる
ことができる。
理用回転式洗浄乾燥装置の変形を図８に模式的な断面図
にて示す。この図８に示した変形例の装置が実施例−３
の装置と相違する点は、ウエハカセット２０に格納され
たウエハ１８とウエハ１８の間に乾燥用ガスを確実に流
入させるために、ウエハ１８とウエハ１８の間隔に概ね
相当した間隔で整流板４２が乾燥用ガス導入部４０に設
けられていることにある。これによって、更に一層効果
的に洗浄液を蒸発することができる。整流板４２は、図
示しないモータ等によって、上下に首振り運動をさせる
ことができる。
【００２６】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。各実施例においては洗浄液を用いたが、その
他、ウエハ上のレジスト剥離及び洗浄やウェットエッチ
ング等の各種薬液処理を用いることができる。また、バ
ッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置は如何なる形
式とすることもできる。例えば、ウエハカセット内にウ
エハを縦に入れた場合（即ち、図１に示したウエハの位
置を９０度回転させてウエハカセットに入れた場合）、
加熱器及び／又は乾燥用ガス導入部をウエハカセットの
上方に配設すればよい。
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。各実施例においては洗浄液を用いたが、その
他、ウエハ上のレジスト剥離及び洗浄やウェットエッチ
ング等の各種薬液処理を用いることができる。また、バ
ッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置は如何なる形
式とすることもできる。例えば、ウエハカセット内にウ
エハを縦に入れた場合（即ち、図１に示したウエハの位
置を９０度回転させてウエハカセットに入れた場合）、
加熱器及び／又は乾燥用ガス導入部をウエハカセットの
上方に配設すればよい。
【００２７】
【発明の効果】本発明のバッチ式のウエハ処理用回転式
洗浄乾燥装置には、加熱器及び／又は乾燥用ガス導入部
が備えられているので、ウエハを極めて効率よく乾燥す
ることができる。
洗浄乾燥装置には、加熱器及び／又は乾燥用ガス導入部
が備えられているので、ウエハを極めて効率よく乾燥す
ることができる。
【図１】実施例−１のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
【図２】実施例−２のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
【図３】実施例−１のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
【図４】実施例−３のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
【図５】実施例−４のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
【図６】実施例−５のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
浄乾燥装置の模式的な断面図である。
【図７】実施例−３のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
【図８】実施例−３のバッチ式のウエハ処理用回転式洗
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
浄乾燥装置の変形を示す模式的な断面図である。
【図９】従来のバッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥
装置の模式的な断面図である。
装置の模式的な断面図である。
１０ ローター組立体 １０Ａ ウエハカセット載置部 １２ モータ １４ 液体供給ノズル １６ 液体排出部 １８ ウエハ ２０ ウエハカセット ３０ 加熱器 ３２ 液体跳返り防止用の羽根 ４０ 乾燥用ガス導入部 ４２ 整流板
Claims (5)
- 【請求項１】内部に加熱器を設けたことを特徴とするバ
ッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置。 - 【請求項２】内部に乾燥用ガス導入部を設けたことを特
徴とするバッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置。 - 【請求項３】内部に配置された複数のウエハの上面に乾
燥用ガスが吹き付けられるように乾燥用ガス導入部を配
置したことを特徴とする請求項２に記載のバッチ式のウ
エハ処理用回転式洗浄乾燥装置。 - 【請求項４】内部に配置された複数のウエハの下面に乾
燥用ガスが吹き付けられるように乾燥用ガス導入部を配
置したことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の
バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置。 - 【請求項５】内部に加熱器を設けたことを特徴とする請
求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載のバッチ式の
ウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2350993A JPH06216104A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2350993A JPH06216104A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06216104A true JPH06216104A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=12112428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2350993A Pending JPH06216104A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | バッチ式のウエハ処理用回転式洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06216104A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100414469B1 (ko) * | 2001-01-31 | 2004-01-07 | 박웅기 | 전자부품의 열처리장치 |
| US7166184B2 (en) | 2003-02-20 | 2007-01-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Multi-stage type processing apparatus |
| CN1828206B (zh) | 2005-03-01 | 2010-06-09 | 恩益禧电子股份有限公司 | 离心干燥装置 |
| WO2017130329A1 (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 日本たばこ産業株式会社 | 葉たばこ乾燥装置 |
| CN107062848A (zh) * | 2017-06-08 | 2017-08-18 | 福建省将乐县长兴电子有限公司 | 一种用于晶振生产的烘干装置 |
-
1993
- 1993-01-20 JP JP2350993A patent/JPH06216104A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100414469B1 (ko) * | 2001-01-31 | 2004-01-07 | 박웅기 | 전자부품의 열처리장치 |
| US7166184B2 (en) | 2003-02-20 | 2007-01-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Multi-stage type processing apparatus |
| CN1828206B (zh) | 2005-03-01 | 2010-06-09 | 恩益禧电子股份有限公司 | 离心干燥装置 |
| WO2017130329A1 (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 日本たばこ産業株式会社 | 葉たばこ乾燥装置 |
| CN107062848A (zh) * | 2017-06-08 | 2017-08-18 | 福建省将乐县长兴电子有限公司 | 一种用于晶振生产的烘干装置 |
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