JPH06216249A - Icチップ自動レイアウト設計システム - Google Patents
Icチップ自動レイアウト設計システムInfo
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- JPH06216249A JPH06216249A JP5003723A JP372393A JPH06216249A JP H06216249 A JPH06216249 A JP H06216249A JP 5003723 A JP5003723 A JP 5003723A JP 372393 A JP372393 A JP 372393A JP H06216249 A JPH06216249 A JP H06216249A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来は考慮されていなかった配線層の段差によ
る配線経路の切断や、配線が細くなってしまう問題を、
100%防ぐ事が可能になりチップ製造時の歩留りの改
善やチップ信頼性の向上を図る。 【構成】従来の自動レイアウトシステムに加えてフラッ
ト機能6を持つ事を大き、特徴としている。フラット機
能6とは、自動配線機能で物理的な位置を決定された配
線レイアウト情報の各配線層毎の未配線空間をダミー図
形で埋める為の機能である。
る配線経路の切断や、配線が細くなってしまう問題を、
100%防ぐ事が可能になりチップ製造時の歩留りの改
善やチップ信頼性の向上を図る。 【構成】従来の自動レイアウトシステムに加えてフラッ
ト機能6を持つ事を大き、特徴としている。フラット機
能6とは、自動配線機能で物理的な位置を決定された配
線レイアウト情報の各配線層毎の未配線空間をダミー図
形で埋める為の機能である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、自動でLSI,ICの
レイアウト設計を行う自動レイアウト設計システムに関
する。
レイアウト設計を行う自動レイアウト設計システムに関
する。
【0002】
【従来の技術】一般に、LSI,ICの設計には、レイ
アウト設計の工程があり、この工程は、電気回路を実際
のシリコンチップ上に実現する為の原図であるマスク図
を作成する作業である。超LSIと呼ばれるような数十
万個のトランジスタからなる大規模なチップを製造する
場合には、人手でマスク図を作成する事は困難となる。
そこで、このレイアウト設計をコンピュータを使用して
自動レイアウト設計システム(以下自動レイアウトシス
テムという)が行われる。
アウト設計の工程があり、この工程は、電気回路を実際
のシリコンチップ上に実現する為の原図であるマスク図
を作成する作業である。超LSIと呼ばれるような数十
万個のトランジスタからなる大規模なチップを製造する
場合には、人手でマスク図を作成する事は困難となる。
そこで、このレイアウト設計をコンピュータを使用して
自動レイアウト設計システム(以下自動レイアウトシス
テムという)が行われる。
【0003】従来の自動レイアウトシステムの構成につ
いて図6を用いて説明する。この図は従来の一般的な自
動レイアウトシステムの構成を示している。この自動レ
イアウトシステムには、レイアウトライブラリ入力機能
1、ネットリスト入力機能2、自動配置機能3、自動配
線機能4、図形情報出力機能5の五つの大きな機能によ
り実現されている。
いて図6を用いて説明する。この図は従来の一般的な自
動レイアウトシステムの構成を示している。この自動レ
イアウトシステムには、レイアウトライブラリ入力機能
1、ネットリスト入力機能2、自動配置機能3、自動配
線機能4、図形情報出力機能5の五つの大きな機能によ
り実現されている。
【0004】レイアウトライブラリ入力機能1とは、L
SI,ICを作成する為に必要となるものに、セルライ
ブラリと呼ばれるAND,NAND,OR,NOR,E
XOR等の電子回路を示す図形情報がある。これらは、
LSI,ICを構成する最小の単位と考える事ができ、
またその最小単位の電子回路を複数組み合わせて一つの
セルライブラリとしたマクロライブラリなどがある。レ
イアウトライブラリデータ11とは、これらの様々なセ
ル、マクロライブラリのデータである。レイアウトライ
ブラリ入力機能1では、作成するレイアウトに必要なセ
ルライブラリ情報の抽出・選択をしてセルライブラリ情
報をデータベース13へ変換(入力)を行う事が主な機
能である。
SI,ICを作成する為に必要となるものに、セルライ
ブラリと呼ばれるAND,NAND,OR,NOR,E
XOR等の電子回路を示す図形情報がある。これらは、
LSI,ICを構成する最小の単位と考える事ができ、
またその最小単位の電子回路を複数組み合わせて一つの
セルライブラリとしたマクロライブラリなどがある。レ
イアウトライブラリデータ11とは、これらの様々なセ
ル、マクロライブラリのデータである。レイアウトライ
ブラリ入力機能1では、作成するレイアウトに必要なセ
ルライブラリ情報の抽出・選択をしてセルライブラリ情
報をデータベース13へ変換(入力)を行う事が主な機
能である。
【0005】ネットリスト入力機能2とは、レイアウト
ライブラリ入力では、LSI,ICを作成する為の骨組
みとなる部品の入力を行うが、LSI,ICの作成材料
としてもう一つ必要な情報がある。それは「骨組みであ
るレイアウトライブラリをどう接続して組み立てるか
?」という情報であり、一般にネットリストと呼ばれ
る。先程説明したレイアウトライブラリである電子回路
には、外界と自分との情報交換(情報の入出力)を行う
為の「端子」と呼ばれる部分を持っている。
ライブラリ入力では、LSI,ICを作成する為の骨組
みとなる部品の入力を行うが、LSI,ICの作成材料
としてもう一つ必要な情報がある。それは「骨組みであ
るレイアウトライブラリをどう接続して組み立てるか
?」という情報であり、一般にネットリストと呼ばれ
る。先程説明したレイアウトライブラリである電子回路
には、外界と自分との情報交換(情報の入出力)を行う
為の「端子」と呼ばれる部分を持っている。
【0006】ネットリストデータ12とは、このライブ
ラリと他のライブラリ同士の端子同士の接続関係を表現
する情報であり、ネットリスト入力機能2では、作成す
るレイアウトに必要なセルライブラリ同士の端子の接続
関係である、ネットリストの情報をデータベース13へ
変換(入力)を行う事が主な機能である。
ラリと他のライブラリ同士の端子同士の接続関係を表現
する情報であり、ネットリスト入力機能2では、作成す
るレイアウトに必要なセルライブラリ同士の端子の接続
関係である、ネットリストの情報をデータベース13へ
変換(入力)を行う事が主な機能である。
【0007】自動配置機能3とは、入力された理論的な
情報であるレイアウトライブラリは、LSI,IC製品
とする為に物理的な座標位置が必要となる。このレイア
ウトライブラリには、「LSI,IC上のどの位置に配
置するのか?」という配置位置決定の問題があり、この
配置位置の善し悪しにより、レイアウト設計後のLS
I,ICの大きさ(面積)や性能に多大な影響を与えて
しまう。
情報であるレイアウトライブラリは、LSI,IC製品
とする為に物理的な座標位置が必要となる。このレイア
ウトライブラリには、「LSI,IC上のどの位置に配
置するのか?」という配置位置決定の問題があり、この
配置位置の善し悪しにより、レイアウト設計後のLS
I,ICの大きさ(面積)や性能に多大な影響を与えて
しまう。
【0008】自動配置機能3とは、レイアウトライブラ
リの大小関係のみならず、ネットリストの接続関係をも
考慮した最適なレイアウトライブラリの配置位置を決定
しデータベースへその情報を保存する事が主な機能であ
る。
リの大小関係のみならず、ネットリストの接続関係をも
考慮した最適なレイアウトライブラリの配置位置を決定
しデータベースへその情報を保存する事が主な機能であ
る。
【0009】自動配線機能4とは、自動配置機能によっ
て配置位置が決定されたレイアウトライブラリには、ネ
ットリストに従ったライブラリ同士の端子を配線で接続
する事が必要となってくる。この自動配線機能4では、
自動配置機能により配置されたライブラリ同士の間にあ
る空間、またはライブラリ上の空間を利用して、ライブ
ラリ同士の端子の接続配線経路(ネットリスト)の、そ
の経路の物理的な位置を決定し、データベースへその情
報(配線図形)を保存する事を主な機能としている。通
常の端子間接続を行う配線は、高さで異なる層を持って
おり、この層を複数使用すると、一本の配線経路(ネッ
トと呼ばれる)によって分断された空間を、層をずらす
事により通り抜け(横断)可能となる。従来の自動配線
機能は、このような配線層という基本概念を利用してそ
の機能を果たしている。
て配置位置が決定されたレイアウトライブラリには、ネ
ットリストに従ったライブラリ同士の端子を配線で接続
する事が必要となってくる。この自動配線機能4では、
自動配置機能により配置されたライブラリ同士の間にあ
る空間、またはライブラリ上の空間を利用して、ライブ
ラリ同士の端子の接続配線経路(ネットリスト)の、そ
の経路の物理的な位置を決定し、データベースへその情
報(配線図形)を保存する事を主な機能としている。通
常の端子間接続を行う配線は、高さで異なる層を持って
おり、この層を複数使用すると、一本の配線経路(ネッ
トと呼ばれる)によって分断された空間を、層をずらす
事により通り抜け(横断)可能となる。従来の自動配線
機能は、このような配線層という基本概念を利用してそ
の機能を果たしている。
【0010】また、配線はデザインルールと言われる配
線ルールに従って作成されなければならない。このデザ
インルールの情報には、「配線グリッド」「各層の配線
幅種類」「各層の配線を結ぶコンタクト」「同一層の同
一ネット間の必要間隔」「同一層の異なるネット間の必
要間隔」「異層の同一ネット間の必要間隔」「異層の異
なるネット間の必要間隔」など様々な情報がある。自動
配線機能4は、これらのルールを満足した配線結果を作
成できるように、複雑なアルゴリズムでその機能を構成
されている。
線ルールに従って作成されなければならない。このデザ
インルールの情報には、「配線グリッド」「各層の配線
幅種類」「各層の配線を結ぶコンタクト」「同一層の同
一ネット間の必要間隔」「同一層の異なるネット間の必
要間隔」「異層の同一ネット間の必要間隔」「異層の異
なるネット間の必要間隔」など様々な情報がある。自動
配線機能4は、これらのルールを満足した配線結果を作
成できるように、複雑なアルゴリズムでその機能を構成
されている。
【0011】図形情報出力機能5とは、自動配置機能4
とこの自動配線機能4で作成された、LSI,ICの原
図となるレイアウト情報(データベース)は、次の製造
工程に引き渡す為、インターフェイスとなる情報に変換
する必要がある。図形情報出力機能5では、その変換出
力を行いレイアウトデータ14を作成する事を主な機能
としている。
とこの自動配線機能4で作成された、LSI,ICの原
図となるレイアウト情報(データベース)は、次の製造
工程に引き渡す為、インターフェイスとなる情報に変換
する必要がある。図形情報出力機能5では、その変換出
力を行いレイアウトデータ14を作成する事を主な機能
としている。
【0012】最近は、LSI,IC製造技術の向上で、
接続配線(ネットリスト)を多数の層に分割して配線す
る配線層の多層化が進んできた。この多層化による自動
レイアウトシステムで設計したLSI,ICチップの断
面図の一例を、図7に示す。この断面レイアウト図は、
1ALと2ALと3ALと三層の配線層21,22,2
3を使用して設計されている。1AL配線21は配線層
の最も下の層を示し、2AL配線22は配線層の中間の
層を示し、3AL配線23は配線層の最も上の層を示し
ている。また、1AL配線層21と2AL配線層22と
の間にある空間や2AL配線層22と3AL配線層23
との間にある空間は、上下配線の電気的なショートを防
ぐ為の絶縁層である。
接続配線(ネットリスト)を多数の層に分割して配線す
る配線層の多層化が進んできた。この多層化による自動
レイアウトシステムで設計したLSI,ICチップの断
面図の一例を、図7に示す。この断面レイアウト図は、
1ALと2ALと3ALと三層の配線層21,22,2
3を使用して設計されている。1AL配線21は配線層
の最も下の層を示し、2AL配線22は配線層の中間の
層を示し、3AL配線23は配線層の最も上の層を示し
ている。また、1AL配線層21と2AL配線層22と
の間にある空間や2AL配線層22と3AL配線層23
との間にある空間は、上下配線の電気的なショートを防
ぐ為の絶縁層である。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の自動レ
イアウトシステムで作成したチップにおいて、配線層の
多層化のために上層配線である3AL配線23は、下層
配線である1AL配線21や2AL配線22の影響によ
り大きな段差を生じている。そのため本来なら接続して
なければならない3AL配線23が、配線の切断点25
の個所で切断されてしまっている。そのため本来のLS
I,ICの持つ機能を満たす事が出来なくなり、LS
I,ICチップ製造時の歩留りが悪くなり、チップの電
気的信頼性までも悪くなってしまう。
イアウトシステムで作成したチップにおいて、配線層の
多層化のために上層配線である3AL配線23は、下層
配線である1AL配線21や2AL配線22の影響によ
り大きな段差を生じている。そのため本来なら接続して
なければならない3AL配線23が、配線の切断点25
の個所で切断されてしまっている。そのため本来のLS
I,ICの持つ機能を満たす事が出来なくなり、LS
I,ICチップ製造時の歩留りが悪くなり、チップの電
気的信頼性までも悪くなってしまう。
【0014】本発明の目的は、このような自動レイアウ
トシステム使用によって上層配線が切断されたり細くな
ったりすることを防ぐ事により、チップ製造時の歩留り
の改善とチップの電気的信頼性の向上を図ったICの自
動レイアウト設計システムを提供することにある。
トシステム使用によって上層配線が切断されたり細くな
ったりすることを防ぐ事により、チップ製造時の歩留り
の改善とチップの電気的信頼性の向上を図ったICの自
動レイアウト設計システムを提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明のIC自動レイア
ウト設計システムの構成は、デザインルール情報、デー
タベースを入力し、これらから各配線層の配線図形情報
を作成し、前記各配線層の未配線部分にダミー図形を作
成し、このダミー図形により前記未配線部分の穴埋めを
行うフラット機能を有する事を特徴とする。
ウト設計システムの構成は、デザインルール情報、デー
タベースを入力し、これらから各配線層の配線図形情報
を作成し、前記各配線層の未配線部分にダミー図形を作
成し、このダミー図形により前記未配線部分の穴埋めを
行うフラット機能を有する事を特徴とする。
【0016】
【実施例】図1は本発明のフラット機能を持つ自動レイ
アウトシステムの構成を示すブロック図である。この自
動レイアウトシステムは、従来の自動レイアウトシステ
ムに加えてフラット機能6が付加された事を大きな特徴
としている。
アウトシステムの構成を示すブロック図である。この自
動レイアウトシステムは、従来の自動レイアウトシステ
ムに加えてフラット機能6が付加された事を大きな特徴
としている。
【0017】このフラット機能6とは、自動配線機能で
物理的な位置を決定された配線レイアウト情報の各配線
層毎の未配線空間をダミー図形で埋める機能である。こ
のフラット機能6は、自動配置機能、自動配線機能の処
理終了後に実行される。
物理的な位置を決定された配線レイアウト情報の各配線
層毎の未配線空間をダミー図形で埋める機能である。こ
のフラット機能6は、自動配置機能、自動配線機能の処
理終了後に実行される。
【0018】次に、フラット機能6の処理の流れを、図
2のフロー図を用いて説明する。
2のフロー図を用いて説明する。
【0019】(1)デザインルール情報の入力処理(S
1) フラット処理を行うレイアウトのルール情報を入力す
る。これは配線間にダミー図形を作成する時に、配線図
形との間隔や大きさを考慮する為に必要となる情報の入
力処理である。
1) フラット処理を行うレイアウトのルール情報を入力す
る。これは配線間にダミー図形を作成する時に、配線図
形との間隔や大きさを考慮する為に必要となる情報の入
力処理である。
【0020】(2)データベースの入力処理(S2) 配線図形をデータベースから全て入力する。ここで入力
する情報は、配線図形の他に、ダミー図形を発生させる
為の必要情報(ライブラリやネットリストの配線図形な
ど)も入力する。
する情報は、配線図形の他に、ダミー図形を発生させる
為の必要情報(ライブラリやネットリストの配線図形な
ど)も入力する。
【0021】(3)層毎の繰り返し処理(S3) ここでは使用されている配線層の数を判断して、ダミー
図形を発生する配線層があるか確認する。配線層のある
・なしの確認の判断は、デザインルール情報などからも
入力する事が出来る。配線層があれば、それぞれ一つの
層毎に、次の配線図形情報の論理演算構造展開処理4、
図形論理演算処理5、ダミー図形発生処理6を行うため
“続き”の方へ処理が流れる。反対に配線層が無ければ
“終り”の方へ処理が流れる事となる。
図形を発生する配線層があるか確認する。配線層のある
・なしの確認の判断は、デザインルール情報などからも
入力する事が出来る。配線層があれば、それぞれ一つの
層毎に、次の配線図形情報の論理演算構造展開処理4、
図形論理演算処理5、ダミー図形発生処理6を行うため
“続き”の方へ処理が流れる。反対に配線層が無ければ
“終り”の方へ処理が流れる事となる。
【0022】(4)配線図形情報の論理演算構造展開処
理(S4) ダミー図形を発生させる配線層にある配線図形を、図形
論理演算ができるように論理演算構造に展開する。
理(S4) ダミー図形を発生させる配線層にある配線図形を、図形
論理演算ができるように論理演算構造に展開する。
【0023】(5)図形論理演算処理(S5) 配線図形の図形論理演算を行う。図形論理演算には、A
ND,OR,EXOR等多数の演算方法があるが、ここ
ではそれらの演算により配線図形の使用されている位置
を求める事が目的である。
ND,OR,EXOR等多数の演算方法があるが、ここ
ではそれらの演算により配線図形の使用されている位置
を求める事が目的である。
【0024】(6)ダミー図形発生処理(S6) 図形論理演算処理で得られた配線図形の位置から、配線
図形として利用されていない空間を探しだし、それらを
ダミー図形として発生させる。この場合、デザインルー
ルによる配線図形との間隔や大きさ等の考慮も行ってい
る。
図形として利用されていない空間を探しだし、それらを
ダミー図形として発生させる。この場合、デザインルー
ルによる配線図形との間隔や大きさ等の考慮も行ってい
る。
【0025】(7)データベースの出力処理(S7) ダミー図形として発生した情報を全てデータベースへ出
力する。これらの一連の処理の流れにより、フラット機
能を実現する事が可能となる。
力する。これらの一連の処理の流れにより、フラット機
能を実現する事が可能となる。
【0026】このフラット機能6を使用した場合に作成
されるチップのレイアウト図形は、図3で示すような断
面図となり、従来技術の問題であった図7の3AL配線
21〜23の切断点(配線の切断点)25が、ダミー図
形24を挿入した事で取り除く事が出来る。
されるチップのレイアウト図形は、図3で示すような断
面図となり、従来技術の問題であった図7の3AL配線
21〜23の切断点(配線の切断点)25が、ダミー図
形24を挿入した事で取り除く事が出来る。
【0027】図4(a)〜(d)は、この自動レイアウ
トシステムにより2層配線で設計されたチップの一部の
平面図を示している。図4(A)は、従来の自動レイア
ウトシステムにより、1AL層21、2AL層22を使
用した2層ルールで設計されたレイアウト図を示し、1
AL配線21は、下層の層に配線されている図形情報で
あり2AL配線22は、上層の層に配線されている図形
情報である。配線されて無い部分は、従来の自動レイア
ウトシステムでは、何の図形情報も存在していない。
トシステムにより2層配線で設計されたチップの一部の
平面図を示している。図4(A)は、従来の自動レイア
ウトシステムにより、1AL層21、2AL層22を使
用した2層ルールで設計されたレイアウト図を示し、1
AL配線21は、下層の層に配線されている図形情報で
あり2AL配線22は、上層の層に配線されている図形
情報である。配線されて無い部分は、従来の自動レイア
ウトシステムでは、何の図形情報も存在していない。
【0028】図4(B)は、本実施例のフラット機能を
使用して設計した同じ個所のレイアウト図である。この
図では、フラット機能6により作成されたダミー図形2
4のパターンが理解しにくいので、1AL配線層21と
2AL配線層22毎に分割した図4(C),(D)で説
明をする。
使用して設計した同じ個所のレイアウト図である。この
図では、フラット機能6により作成されたダミー図形2
4のパターンが理解しにくいので、1AL配線層21と
2AL配線層22毎に分割した図4(C),(D)で説
明をする。
【0029】図4(C)は、このフラット機能を使用し
て配線した場合の1AL配線層21のみの図形情報を示
している。1AL配線21は、従来の自動レイアウトシ
ステムで作成されている配線図形であり、ダミー図形2
4は、このフラット機能6で作成された、未配線部分を
埋めるためのダミー図形である。
て配線した場合の1AL配線層21のみの図形情報を示
している。1AL配線21は、従来の自動レイアウトシ
ステムで作成されている配線図形であり、ダミー図形2
4は、このフラット機能6で作成された、未配線部分を
埋めるためのダミー図形である。
【0030】図4(D)も同様に2AL配線層22のみ
の図形情報を示した図であり、2AL配線22とダミー
図形24が生成されている。1AL配線21とダミー図
形24の関、または2AL配線22とダミー図形24と
の間には、多少の空間が存在しているが、これは、配線
とダミー図形が接触する事による、電気的なショートを
避けるためであり、フラット機能処理の説明した、入力
するデザインルール情報に間隔の大きさが設定してある
為である。
の図形情報を示した図であり、2AL配線22とダミー
図形24が生成されている。1AL配線21とダミー図
形24の関、または2AL配線22とダミー図形24と
の間には、多少の空間が存在しているが、これは、配線
とダミー図形が接触する事による、電気的なショートを
避けるためであり、フラット機能処理の説明した、入力
するデザインルール情報に間隔の大きさが設定してある
為である。
【0031】次にフラット機能で実現できる、特殊な使
用方法の例を図5により説明する。第1の実施例では、
配線以外の空間をダミー図形24の生成で埋めつくす例
を説明したが、本実施例は、ダミー図形の生成できない
禁止領域26を考慮してダミー図形を生成するフラット
機能の例を説明する。図5(A),(B)は第1の実施
例で説明したレイアウト図と同一箇所の図である。
用方法の例を図5により説明する。第1の実施例では、
配線以外の空間をダミー図形24の生成で埋めつくす例
を説明したが、本実施例は、ダミー図形の生成できない
禁止領域26を考慮してダミー図形を生成するフラット
機能の例を説明する。図5(A),(B)は第1の実施
例で説明したレイアウト図と同一箇所の図である。
【0032】本実施例の特殊な機能とは、図5(A)の
ダミー図形禁止領域26で示す領域を、デザインルール
情報に予め設定して置く事で、フラット機能の“デザイ
ンルール情報の入力処理”で、その情報を入力する事が
出来る。
ダミー図形禁止領域26で示す領域を、デザインルール
情報に予め設定して置く事で、フラット機能の“デザイ
ンルール情報の入力処理”で、その情報を入力する事が
出来る。
【0033】入力されたダミー図形禁止領域は、“ダミ
ー図形発生処理S6”において、図5(B)で示す1A
L配線層21のみのレイアウト図のダミー図形を、指定
された禁止領域には発生させない事が出来る。この例で
は、1AL配線層21のダミー図形禁止領域26のみを
指定している所を説明しているが、この機能は、1AL
配線層のみではなく、2AL配線層や3AL配線相当の
多層ルールで設計されるチップの全ての配線層で、個々
にダミー図形禁止領域を指定する事が可能である。
ー図形発生処理S6”において、図5(B)で示す1A
L配線層21のみのレイアウト図のダミー図形を、指定
された禁止領域には発生させない事が出来る。この例で
は、1AL配線層21のダミー図形禁止領域26のみを
指定している所を説明しているが、この機能は、1AL
配線層のみではなく、2AL配線層や3AL配線相当の
多層ルールで設計されるチップの全ての配線層で、個々
にダミー図形禁止領域を指定する事が可能である。
【0034】このような機能は、自動レイアウトシステ
ムを使用して設計したレイアウト図に、意図的に配線図
形の手修正をしたい場合などに有効である。予め、手修
正する層や場所に禁止領域を指定しておけばダミー図形
を削除する手間が省けるという利点がある。
ムを使用して設計したレイアウト図に、意図的に配線図
形の手修正をしたい場合などに有効である。予め、手修
正する層や場所に禁止領域を指定しておけばダミー図形
を削除する手間が省けるという利点がある。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来の自動レイアウトシステムでは考慮されていなかっ
た配線層の段差による配線経路の切断や、配線が細くな
ってしまう問題を、100%防ぐ事が可能になり、チッ
プ製造時の歩留りの改善や、チップ信頼性の向上が図ら
れるという効果がある。
従来の自動レイアウトシステムでは考慮されていなかっ
た配線層の段差による配線経路の切断や、配線が細くな
ってしまう問題を、100%防ぐ事が可能になり、チッ
プ製造時の歩留りの改善や、チップ信頼性の向上が図ら
れるという効果がある。
【図1】本発明の一実施例の構成を示すブロック図。
【図2】図1のフラット機能の処理を説明する流れ図。
【図3】図1のシステムで設計したチップの一例の断面
図。
図。
【図4】図1のシステムで設計したチップのレイアウト
図。
図。
【図5】図1のシステムで設計したチップの他の例の平
面図。
面図。
【図6】従来の自動レイアウトシステムの構成を示すブ
ロック図。
ロック図。
【図7】図6のシステムで設計したチップの断面図。
1 レイアウトライブラリ入力機能 2 ネットリスト入力機能 3 自動配置機能 4 移動配線機能 5 図形情報出力機能 6 フラット機能 11 レイアウトライブラリデータ 12 ネットリストデータ 13 データベース 14 レイアウトデータ 21 1AL配線 22 2AL配線 23 3AL配線 24 ダミー図形 25 配線の切断点 26 ダミー図形禁止領域 S1 デザインルール情報の入力処理 S2 データベースの入力処理 S3 層毎の繰り返し処理 S4 配線図形情報の論理演算構造展開処理 S5 図形論理演算処理 S6 ダミー図形発生処理 S7 データベースの出力処理
Claims (1)
- 【請求項1】 デザインルール情報、データベースを入
力し、これらから各配線層の配線図形情報を作成し、前
記各配線層の未配線部分にダミー図形を作成し、このダ
ミー図形により前記未配線部分の穴埋めを行うフラット
機能を有する事を特徴とするIC自動レイアウト設計シ
ステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003723A JPH06216249A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | Icチップ自動レイアウト設計システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003723A JPH06216249A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | Icチップ自動レイアウト設計システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06216249A true JPH06216249A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=11565215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5003723A Withdrawn JPH06216249A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | Icチップ自動レイアウト設計システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06216249A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5926733A (en) * | 1996-04-26 | 1999-07-20 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Metal layer patterns of a semiconductor device and a method for forming the same |
| US6823496B2 (en) | 2002-04-23 | 2004-11-23 | International Business Machines Corporation | Physical design characterization system |
| US11145590B2 (en) | 2019-08-06 | 2021-10-12 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
-
1993
- 1993-01-13 JP JP5003723A patent/JPH06216249A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5926733A (en) * | 1996-04-26 | 1999-07-20 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Metal layer patterns of a semiconductor device and a method for forming the same |
| US6823496B2 (en) | 2002-04-23 | 2004-11-23 | International Business Machines Corporation | Physical design characterization system |
| US7584077B2 (en) | 2002-04-23 | 2009-09-01 | International Business Machines Corporation | Physical design characterization system |
| US11145590B2 (en) | 2019-08-06 | 2021-10-12 | Kioxia Corporation | Semiconductor memory device and method of manufacturing the same |
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