JPH06226187A - 乾燥炉 - Google Patents
乾燥炉Info
- Publication number
- JPH06226187A JPH06226187A JP4059293A JP4059293A JPH06226187A JP H06226187 A JPH06226187 A JP H06226187A JP 4059293 A JP4059293 A JP 4059293A JP 4059293 A JP4059293 A JP 4059293A JP H06226187 A JPH06226187 A JP H06226187A
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- JP
- Japan
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- infrared
- hot air
- coating
- infrared rays
- dried
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
一液型ウレタン塗料を有効に乾燥する。
【目的】
【構成】 熱風により被乾燥物を加熱する熱風炉の入口
近くで1.2μm〜1.5μm付近に波長のピ−クを有する近赤
外線を金属からなる母材に、ブロック材を有する塗料を
塗布された被乾燥物に照射することを特徴とする乾燥
炉。
近くで1.2μm〜1.5μm付近に波長のピ−クを有する近赤
外線を金属からなる母材に、ブロック材を有する塗料を
塗布された被乾燥物に照射することを特徴とする乾燥
炉。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 この発明は、乾燥炉、詳細には
炉内初期に高温加熱させる乾燥炉にかかる。
炉内初期に高温加熱させる乾燥炉にかかる。
【０００２】
【従来の技術】 従来、塗料として、いわゆる一液型ウ
レタン塗料が知られている。同塗料では、一時的に約16
0℃まで加熱させてブロック材を破壊し、反応基を露出
させる必要があるとされる。
レタン塗料が知られている。同塗料では、一時的に約16
0℃まで加熱させてブロック材を破壊し、反応基を露出
させる必要があるとされる。
【０００３】他方、「近赤外線の液体、パウダ、コーテ
ィング、ストーブ」（実開平1ー151873）、「塗料焼付
炉専用の光板」（実開平2ー43217）、USP4,863,375「BA
KINGMETHOD FOR USE WITH LIQUID OR POWDER VARNISHIN
G FURNACE」（ベーキングメソッド フォー ユース
ウィズ リキッド オア パウダー ヴァーニシング
ファーニス）等が知られている。これら従来例には、
「一種近赤外線の液体、パウダ、コーティング、ストー
ブのベーキング方法」についての記載があり、「近赤外
線の快速高温と貫通力が強い特性を利用し、ストーブの
ベーキング物品の方法を改良して、ペイントを快速に乾
燥するとともにその付着力を増強する考案」、すなわち
「いわゆる液体、粉末液体の塗装どおりに、粉末液体状
態のパウダ、液体塗料、気体あるいは流体を運送媒介体
としてその物体表面に付着させて、しかるのち加熱熔融
をへて均等にコートの塗装法」についての記載がある。
ィング、ストーブ」（実開平1ー151873）、「塗料焼付
炉専用の光板」（実開平2ー43217）、USP4,863,375「BA
KINGMETHOD FOR USE WITH LIQUID OR POWDER VARNISHIN
G FURNACE」（ベーキングメソッド フォー ユース
ウィズ リキッド オア パウダー ヴァーニシング
ファーニス）等が知られている。これら従来例には、
「一種近赤外線の液体、パウダ、コーティング、ストー
ブのベーキング方法」についての記載があり、「近赤外
線の快速高温と貫通力が強い特性を利用し、ストーブの
ベーキング物品の方法を改良して、ペイントを快速に乾
燥するとともにその付着力を増強する考案」、すなわち
「いわゆる液体、粉末液体の塗装どおりに、粉末液体状
態のパウダ、液体塗料、気体あるいは流体を運送媒介体
としてその物体表面に付着させて、しかるのち加熱熔融
をへて均等にコートの塗装法」についての記載がある。
【０００４】あるいは、「近赤外線を使用した乾燥炉、
あるいは乾燥炉内に高温部と低温部とを順次形成して乾
燥する乾燥方法、あるいは近赤外線ランプの背後には陶
磁製反射板を設け、および陶磁製反射板の中にはヒータ
ーを設ける」旨の記載がある。
あるいは乾燥炉内に高温部と低温部とを順次形成して乾
燥する乾燥方法、あるいは近赤外線ランプの背後には陶
磁製反射板を設け、および陶磁製反射板の中にはヒータ
ーを設ける」旨の記載がある。
【０００５】又塗装技術増刊10月号には「中波長赤外線
ラジエーター」ついての記載がある（1990年10月20日株
式会社理工出版社刊211〜213頁）。すなわち、「塗膜に
到達した放射エネルギーは、その一部は吸収され、一部
は反射し、一部は透過する。このうち吸収されたエネル
ギーが熱に変り塗膜を加熱、乾燥させる。塗装の場合は
母材、ボディがあるため塗膜を透過した放射エネルギー
が母材を加熱し、熱伝導で塗膜を内側から加熱する。
ラジエーター」ついての記載がある（1990年10月20日株
式会社理工出版社刊211〜213頁）。すなわち、「塗膜に
到達した放射エネルギーは、その一部は吸収され、一部
は反射し、一部は透過する。このうち吸収されたエネル
ギーが熱に変り塗膜を加熱、乾燥させる。塗装の場合は
母材、ボディがあるため塗膜を透過した放射エネルギー
が母材を加熱し、熱伝導で塗膜を内側から加熱する。
【０００６】近赤外線：温度2000〜2200℃ 最大エネ
ルギー波長約1.2μm，エネルギー密度大、反射，透過エ
ネルギーが大きい，立上り速度が早い（1〜2秒），寿命
が約5000時間と短い。
ルギー波長約1.2μm，エネルギー密度大、反射，透過エ
ネルギーが大きい，立上り速度が早い（1〜2秒），寿命
が約5000時間と短い。
【０００７】中赤外線：温度850〜900℃ 最大エネル
ギー波長約2.5μm，エネルギー密度中，吸収．透過エネ
ルギーがバランスしてエネルギーが塗膜内に浸透，寿命
が長い。
ギー波長約2.5μm，エネルギー密度中，吸収．透過エネ
ルギーがバランスしてエネルギーが塗膜内に浸透，寿命
が長い。
【０００８】遠赤外線：温度500〜600℃，最大エネル
ギー波長約3.5μm，エネルギー密度小，良く吸収される
が塗膜表面で吸収，加熱となりがち，立上り時間が長い
（5〜15分），対流損失が大きい。」とされる。
ギー波長約3.5μm，エネルギー密度小，良く吸収される
が塗膜表面で吸収，加熱となりがち，立上り時間が長い
（5〜15分），対流損失が大きい。」とされる。
【０００９】さらに、「2．最大効率の中波長赤外線
「より早く乾燥し，より良い塗膜品質を得る」には，つ
まり最大効率で加熱，乾燥させるには，次の二つの条件
を同時に満足している必要がある。
「より早く乾燥し，より良い塗膜品質を得る」には，つ
まり最大効率で加熱，乾燥させるには，次の二つの条件
を同時に満足している必要がある。
【００１０】赤外線ラジェターの温度が高い放射エネ
ルギーはラジェターの絶対温度(T)の４乗に比例する。
ルギーはラジェターの絶対温度(T)の４乗に比例する。
【００１１】Eb∝T4
【００１２】温度が高いほど放射エネルギーは大きくな
る。
る。
【００１３】最大エネルギー波長が塗料のピーク吸収
率よりいくぶん短波長よりにあること
率よりいくぶん短波長よりにあること
【００１４】塗料の工業用赤外線加熱で利用できる最大
ピーク波長は例外なく3μm前後にある。よって2.5μm前
後に最大エネルギー波長を持つ赤外線ラジェターが吸収
も良く，透過し，母材も加熱し内部からも加熱できる。
ピーク波長は例外なく3μm前後にある。よって2.5μm前
後に最大エネルギー波長を持つ赤外線ラジェターが吸収
も良く，透過し，母材も加熱し内部からも加熱できる。
【００１５】上記の関連，赤外線ラジェターの温度
（Ｔ）と最大エネルギー波長（λm）の関係を表す，ウ
ィーンの変位則，
（Ｔ）と最大エネルギー波長（λm）の関係を表す，ウ
ィーンの変位則，
【００１６】λm＝2897/Tより
【００１７】T＝(t+273)＝2897/2.5
【００１８】t＝880℃
【００１９】中波長赤外線がこの条件を満足し有効エネ
ルギーが大きく最大効率となる。」とされる。
ルギーが大きく最大効率となる。」とされる。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、実開
平1ー151873、実開平2ー43217、USP4,863,375等には、
近赤外線を使用して塗膜乾燥をおこなう旨の記載はある
が、使用される近赤外線の性質については一般的に記載
されるに止どまり金属表面に塗布される塗膜と近赤外線
との関係による照射される赤外線の最適な範囲、選択に
ついては記載がない。
平1ー151873、実開平2ー43217、USP4,863,375等には、
近赤外線を使用して塗膜乾燥をおこなう旨の記載はある
が、使用される近赤外線の性質については一般的に記載
されるに止どまり金属表面に塗布される塗膜と近赤外線
との関係による照射される赤外線の最適な範囲、選択に
ついては記載がない。
【００２１】また、先の「塗装技術増刊10月号」の記載
には、赤外線と母材の吸収率との関係に基づくからする
赤外線の選択、あるいはピンホールの発生原因に基づく
赤外線の選択についての記載はなく、そして塗装乾燥に
おいては「2.5μm前後に最大エネルギー波長を持つ赤外
線ラジェターが吸収も良く，透過し，母材も加熱し内部
からも加熱できる。」と結論している。
には、赤外線と母材の吸収率との関係に基づくからする
赤外線の選択、あるいはピンホールの発生原因に基づく
赤外線の選択についての記載はなく、そして塗装乾燥に
おいては「2.5μm前後に最大エネルギー波長を持つ赤外
線ラジェターが吸収も良く，透過し，母材も加熱し内部
からも加熱できる。」と結論している。
【００２２】他方、従来のトンネル炉、あるいは山型炉
を使用して熱風を被乾燥物に吹き付けて乾燥させる熱風
乾燥では、表面から加熱されるため母材と塗膜の界面ま
で温度上昇させることは困難であった。そのため、必要
温度まで界面を上昇させるには長時間時間を要し、炉長
が長大化する課題を有した。
を使用して熱風を被乾燥物に吹き付けて乾燥させる熱風
乾燥では、表面から加熱されるため母材と塗膜の界面ま
で温度上昇させることは困難であった。そのため、必要
温度まで界面を上昇させるには長時間時間を要し、炉長
が長大化する課題を有した。
【００２３】また、短時間で温度上昇させるために、急
激に高温をかけると黄変（こげ）を生ずる課題を有し
た。黄変をさけるためには、ブロック材をはずす温度以
上に加熱された高温の熱風炉と反応基の反応を進めるに
必要な温度からなる低温の熱風炉の２つを設ける必要が
あった。
激に高温をかけると黄変（こげ）を生ずる課題を有し
た。黄変をさけるためには、ブロック材をはずす温度以
上に加熱された高温の熱風炉と反応基の反応を進めるに
必要な温度からなる低温の熱風炉の２つを設ける必要が
あった。
【００２４】遠赤外線を使用して加熱した場合は、加熱
効率が悪く乾燥に長時間を要する課題を有する。
効率が悪く乾燥に長時間を要する課題を有する。
【００２５】他方、波長のピ−クを1.2μm〜1.5μmに有
するいわゆる近赤外線は、プラスチック薄膜に対して赤
外線透過率が高く、金属の吸収率が高いことが知られて
いる。
するいわゆる近赤外線は、プラスチック薄膜に対して赤
外線透過率が高く、金属の吸収率が高いことが知られて
いる。
【００２６】
【課題を解決するための手段】 この発明は、
【００２７】熱風により被乾燥物を加熱する熱風炉の入
口近くで1.2μm 1.5μm付近に波長のピ−クを有する近
赤外線を金属からなる母材に、ブロック材を有する塗料
を塗布された被乾燥物に照射することを特徴とする乾燥
炉、
口近くで1.2μm 1.5μm付近に波長のピ−クを有する近
赤外線を金属からなる母材に、ブロック材を有する塗料
を塗布された被乾燥物に照射することを特徴とする乾燥
炉、
【００２８】を提供する。
【００２９】
【作用】 金属表面にブロック材を含有する塗料を塗布
された被乾燥物を熱風炉に導入する。次いで、入口付近
で塗膜上から近赤外線を照射する。近赤外線は、薄膜に
対して赤外線透過率が高く、金属の吸収率が高いため、
金属表面を直接加熱し金属表面側から塗膜を加熱し、急
激に界面の温度が上昇しブロック材は破壊され反応基は
露出する。
された被乾燥物を熱風炉に導入する。次いで、入口付近
で塗膜上から近赤外線を照射する。近赤外線は、薄膜に
対して赤外線透過率が高く、金属の吸収率が高いため、
金属表面を直接加熱し金属表面側から塗膜を加熱し、急
激に界面の温度が上昇しブロック材は破壊され反応基は
露出する。
【００３０】次いで、被乾燥物は、近赤外線の照射領域
をはなれると熱風による乾燥で、反応基は順次反応を進
める。
をはなれると熱風による乾燥で、反応基は順次反応を進
める。
【００３１】
【実施例】 被加熱物Ｗの母材として使用する金属とし
ては、鉄、アルミニウム、銅、真ちゅう、金、ベリリウ
ム、モリブデン、ニッケル、鉛、ロジウム、銀、タンケ
ル、アンチモン、カドミウム、クロム、イリジウム、コ
バルト、マグネシウム、タングステンそのほかの金属か
らなるが、とりわけ銅、アルミニウム、鉄が望ましい。
ては、鉄、アルミニウム、銅、真ちゅう、金、ベリリウ
ム、モリブデン、ニッケル、鉛、ロジウム、銀、タンケ
ル、アンチモン、カドミウム、クロム、イリジウム、コ
バルト、マグネシウム、タングステンそのほかの金属か
らなるが、とりわけ銅、アルミニウム、鉄が望ましい。
【００３２】図７〜図１０に、各金属の各波長における
反射率を示す（AMERICAN INSTITUTEOF PHYSICS HANDBOO
K、アメリカン インスティテュート オブ フィジッ
クスハンドブック6ー120）。反射率の高いほど吸収率は
低く、反射率の低いほど吸収率は高くなる。
反射率を示す（AMERICAN INSTITUTEOF PHYSICS HANDBOO
K、アメリカン インスティテュート オブ フィジッ
クスハンドブック6ー120）。反射率の高いほど吸収率は
低く、反射率の低いほど吸収率は高くなる。
【００３３】図１は、ブチル化尿素ーブチル化メラミン
樹脂の赤外吸収曲線である。図２は、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂の赤外吸収曲線である。図３は、ＭＭＡ
ホモポリマー（アクリル系）の赤外吸収曲線である。図
４はＥＭＡホモポリマー（アクリル系）赤外吸収曲線で
ある。図５は、不飽和ポリエステル樹脂の赤外吸収曲線
である。図６は、この実施例に使用される近赤外線ラン
プの特性曲線および比較例に使用される遠赤外線ランプ
の特性曲線を表す。近赤外線ランプのピーク波長は1.4
μｍ、遠赤外線ランプのピーク波長は3.5μｍである。
樹脂の赤外吸収曲線である。図２は、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂の赤外吸収曲線である。図３は、ＭＭＡ
ホモポリマー（アクリル系）の赤外吸収曲線である。図
４はＥＭＡホモポリマー（アクリル系）赤外吸収曲線で
ある。図５は、不飽和ポリエステル樹脂の赤外吸収曲線
である。図６は、この実施例に使用される近赤外線ラン
プの特性曲線および比較例に使用される遠赤外線ランプ
の特性曲線を表す。近赤外線ランプのピーク波長は1.4
μｍ、遠赤外線ランプのピーク波長は3.5μｍである。
【００３４】被乾燥物Ｗの母材として、鉄、アルミニウ
ム、銅、真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデン、ニッ
ケル、鉛、ロジウム、銀、タンケル、アンチモン、カド
ミウム、クロム、イリジウム、コバルト、マグネシウ
ム、タングステンからなる金属製丸パイプを使用し、被
膜としていわゆるブロック材を含有する一液型ウレタン
塗料を使用する場合は、波長のピークが３μｍ以下の赤
外線ランプ、波長のピークが２．５μの中赤外線ランプ
も有効であるが、望ましくは１．２μｍ〜１．５μｍ
の、当該プラスチックス薄膜１２に対して赤外線透過率
が高く、金属１１の吸収率の高い領域の赤外線からなる
いわゆる近赤外線ランプを使用するのが望ましい。
ム、銅、真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデン、ニッ
ケル、鉛、ロジウム、銀、タンケル、アンチモン、カド
ミウム、クロム、イリジウム、コバルト、マグネシウ
ム、タングステンからなる金属製丸パイプを使用し、被
膜としていわゆるブロック材を含有する一液型ウレタン
塗料を使用する場合は、波長のピークが３μｍ以下の赤
外線ランプ、波長のピークが２．５μの中赤外線ランプ
も有効であるが、望ましくは１．２μｍ〜１．５μｍ
の、当該プラスチックス薄膜１２に対して赤外線透過率
が高く、金属１１の吸収率の高い領域の赤外線からなる
いわゆる近赤外線ランプを使用するのが望ましい。
【００３５】図１１において、２１は、赤外線発生装置
であり、この実施例では赤外線ランプからなる。３１は
赤外線発生装置２１の設置された山型炉である。赤外線
山型炉３１は、傾斜され炉内に被加熱物２１を搬入させ
る搬入路３３、加熱された金属製丸パイプ１１を炉外に
搬出させる傾斜された搬出路３４と、搬入路３３と搬出
路３４との間の高位置に水平状に設けられる加熱有効部
３２とからなる。赤外線発生装置１１は加熱有効部３２
の入口付近に設ける。気体吐出口１３、気体吸入口１４
とはそれぞれ加熱有効部３２の両側面、あるいは天井面
と床面に設置される。加熱された雰囲気温度は上昇する
が、加熱有効部３２は炉の最上部に位置するため、熱は
他に逃げず、加熱有効部３２内が熱的に外部と遮断され
た有効加熱雰囲気を形成する。３５は、コンベアであ
る。この実施例では乾燥炉は山型炉からなるがトンネル
炉からなってもよい。
であり、この実施例では赤外線ランプからなる。３１は
赤外線発生装置２１の設置された山型炉である。赤外線
山型炉３１は、傾斜され炉内に被加熱物２１を搬入させ
る搬入路３３、加熱された金属製丸パイプ１１を炉外に
搬出させる傾斜された搬出路３４と、搬入路３３と搬出
路３４との間の高位置に水平状に設けられる加熱有効部
３２とからなる。赤外線発生装置１１は加熱有効部３２
の入口付近に設ける。気体吐出口１３、気体吸入口１４
とはそれぞれ加熱有効部３２の両側面、あるいは天井面
と床面に設置される。加熱された雰囲気温度は上昇する
が、加熱有効部３２は炉の最上部に位置するため、熱は
他に逃げず、加熱有効部３２内が熱的に外部と遮断され
た有効加熱雰囲気を形成する。３５は、コンベアであ
る。この実施例では乾燥炉は山型炉からなるがトンネル
炉からなってもよい。
【００３６】赤外線発生装置である赤外線ランプ２１
は、被加熱物Ｗの金属として、鉄、アルミニウム、銅、
真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデン、ニッケル、
鉛、ロジウム、銀、タンタル、アンチモン、カドミウ
ム、クロム、イリジウム、コバルト、マグネシウム、タ
ングステンからなる金属板を使用し、薄膜として一液型
ウレタン系樹脂塗膜を使用する場合は、波長のピークが
３μｍ以下の赤外線ランプ、望ましくは1.2μｍ〜1.5μ
ｍのいわゆる近赤外線ランプからなるが、波長のピーク
が２．５μの中赤外線ランプであっても有効である。赤
外線ランプ２１表面からワークである被加熱物１１表面
までは約２５０〜３００ｍｍに設置した。赤外線ランプ
２１は、水平方向に複数本設置される。複数本の赤外線
ランプ２１からなるバンクは、被加熱物１１の搬送方向
を挟んだ両側に被加熱物１１を挟んで山型炉３１の内側
面にそれぞれ対向させて設置される。山型炉３１は、両
出入口以外は密閉される。Ａは、ワーク搬入口、Ｂはワ
ーク搬出口である。
は、被加熱物Ｗの金属として、鉄、アルミニウム、銅、
真ちゅう、金、ベリリウム、モリブデン、ニッケル、
鉛、ロジウム、銀、タンタル、アンチモン、カドミウ
ム、クロム、イリジウム、コバルト、マグネシウム、タ
ングステンからなる金属板を使用し、薄膜として一液型
ウレタン系樹脂塗膜を使用する場合は、波長のピークが
３μｍ以下の赤外線ランプ、望ましくは1.2μｍ〜1.5μ
ｍのいわゆる近赤外線ランプからなるが、波長のピーク
が２．５μの中赤外線ランプであっても有効である。赤
外線ランプ２１表面からワークである被加熱物１１表面
までは約２５０〜３００ｍｍに設置した。赤外線ランプ
２１は、水平方向に複数本設置される。複数本の赤外線
ランプ２１からなるバンクは、被加熱物１１の搬送方向
を挟んだ両側に被加熱物１１を挟んで山型炉３１の内側
面にそれぞれ対向させて設置される。山型炉３１は、両
出入口以外は密閉される。Ａは、ワーク搬入口、Ｂはワ
ーク搬出口である。
【００３７】２３は気体吐出口、２４は気体吸入口であ
る。加熱された気体を気体吐出口２３、から山型炉３１
内に吐出させ気体吸入口２４で吸入し循環させること
で、山型炉内を加熱させる。
る。加熱された気体を気体吐出口２３、から山型炉３１
内に吐出させ気体吸入口２４で吸入し循環させること
で、山型炉内を加熱させる。
【００３８】赤外線照射と熱風吹付は同時にされる。
【００３９】そこで、ウレタン薄膜が設置された金属を
山型炉３１内に搬入する。すると、炉内で、ウレタン薄
膜上から近赤外線が照射される。近赤外線は、ウレタン
薄膜に対して赤外線透過率が高く、金属の吸収率が高い
ため、金属表面を直接加熱し金属表面側からウレタン塗
膜を加熱し、表面に塗布されたウレタン塗膜は加熱初期
に急減に母材界面側から加熱され、約１６０℃近くまで
加熱されるため、ブロック材は破壊され反応基がむき出
しとなる。次いで、反応基が熱風加熱のみにより加熱さ
れ反応する。熱風温度は、赤外線加熱よりも低温とされ
るため、反応基の反応が進行し、黄変は生じない。
山型炉３１内に搬入する。すると、炉内で、ウレタン薄
膜上から近赤外線が照射される。近赤外線は、ウレタン
薄膜に対して赤外線透過率が高く、金属の吸収率が高い
ため、金属表面を直接加熱し金属表面側からウレタン塗
膜を加熱し、表面に塗布されたウレタン塗膜は加熱初期
に急減に母材界面側から加熱され、約１６０℃近くまで
加熱されるため、ブロック材は破壊され反応基がむき出
しとなる。次いで、反応基が熱風加熱のみにより加熱さ
れ反応する。熱風温度は、赤外線加熱よりも低温とされ
るため、反応基の反応が進行し、黄変は生じない。
【００４０】一液性ポリウレタン塗料としては、（骨格
樹脂）ポリオール（ポリエーテルジオール、ポリオキシ
プロピレン等）および、ジイソシアネート（ジフェニル
メタン・ジイソシアネート、ビス（４ーイソシアネート
・シクロヘキシル）メタン等）、ブロック剤としてブタ
ノンオキシム、ウレタン化反応触媒としてジブチル・ス
ズ・ジラウレート、その他、ポリメタクリル酸エチル、
スチレンアクリロニトリル共重合体、アセチルブチルセ
ルロースを含有する塗料が知られている。
樹脂）ポリオール（ポリエーテルジオール、ポリオキシ
プロピレン等）および、ジイソシアネート（ジフェニル
メタン・ジイソシアネート、ビス（４ーイソシアネート
・シクロヘキシル）メタン等）、ブロック剤としてブタ
ノンオキシム、ウレタン化反応触媒としてジブチル・ス
ズ・ジラウレート、その他、ポリメタクリル酸エチル、
スチレンアクリロニトリル共重合体、アセチルブチルセ
ルロースを含有する塗料が知られている。
【００４１】ブロック剤は熱風炉中では約１４０℃では
ずれる。
ずれる。
【００４２】これら一液性ポリウレタン塗料の溶剤とし
ては、エステル系溶剤として酢酸エチル、ケトン系溶剤
としてＭＥＫ、シクロヘキサノン、エーテル系溶剤とし
てテトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤としてホワイト
スピリット、トルエン、グリコールエーテルアセテート
系溶剤としてブチルオキシトールアセテートを混合して
使用する。
ては、エステル系溶剤として酢酸エチル、ケトン系溶剤
としてＭＥＫ、シクロヘキサノン、エーテル系溶剤とし
てテトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤としてホワイト
スピリット、トルエン、グリコールエーテルアセテート
系溶剤としてブチルオキシトールアセテートを混合して
使用する。
【００４３】これら一液性ポリウレタン塗料を塗布され
た被乾燥物は、１６０℃に加熱された熱風炉中で２０分
間乾燥させると、鉛等硬度４Ｈを得る。１３０℃下で２
０分加熱すると硬度Ｂを得る。１３０℃下で３０分加熱
でも同様となる。
た被乾燥物は、１６０℃に加熱された熱風炉中で２０分
間乾燥させると、鉛等硬度４Ｈを得る。１３０℃下で２
０分加熱すると硬度Ｂを得る。１３０℃下で３０分加熱
でも同様となる。
【００４４】1.2μｍ〜1.5μｍ付近に波長のピークを有
するいわゆる近赤外線を熱風炉の入口近くで１０秒照射
後、１３０℃熱風炉中で２０分間加熱すると硬度４Ｈを
得る。２０秒照射でも同様である。ただし、１０秒未満
の照射では硬度低下を見る。雰囲気温度を１４０℃とす
ると乾燥時間を短縮することが可能となる。
するいわゆる近赤外線を熱風炉の入口近くで１０秒照射
後、１３０℃熱風炉中で２０分間加熱すると硬度４Ｈを
得る。２０秒照射でも同様である。ただし、１０秒未満
の照射では硬度低下を見る。雰囲気温度を１４０℃とす
ると乾燥時間を短縮することが可能となる。
【００４５】１３０℃熱風炉で２０分間加熱の中間で近
赤外線を１０秒照射したところ、硬度２Ｈを得た。
赤外線を１０秒照射したところ、硬度２Ｈを得た。
【００４６】同熱風炉２０分間加熱の出口で近赤外線を
１０秒照射したところ硬度Ｂを得た。
１０秒照射したところ硬度Ｂを得た。
【００４７】熱風炉で塗膜を乾燥させる場合、塗料をウ
レタン系から、メラミン系等へと変化させると、加熱温
度を１６０℃から１４０℃へ下げる必要があるが、炉全
体の温度を下げるには時間がかかる。硬度温度が塗料に
より異なるためである。
レタン系から、メラミン系等へと変化させると、加熱温
度を１６０℃から１４０℃へ下げる必要があるが、炉全
体の温度を下げるには時間がかかる。硬度温度が塗料に
より異なるためである。
【００４８】この発明では、赤外線発生装置をオン状態
とオフ状態を選択させることで、簡単に、乾燥する塗膜
に対応させることが可能となる。そのため、塗膜の種類
の異なる被乾燥物を連続して乾燥することが可能とな
る。
とオフ状態を選択させることで、簡単に、乾燥する塗膜
に対応させることが可能となる。そのため、塗膜の種類
の異なる被乾燥物を連続して乾燥することが可能とな
る。
【００４９】
【発明の効果】 したがって、この発明では効率良く、
一液型ウレタン塗膜を乾燥することが可能となる。
一液型ウレタン塗膜を乾燥することが可能となる。
【図１】各樹脂の赤外線吸収曲線図
【図２】各樹脂の赤外線吸収曲線図
【図３】各樹脂の赤外線吸収曲線図
【図４】各樹脂の赤外線吸収曲線図
【図５】各樹脂の赤外線吸収曲線図
【図６】赤外線ランプの特性曲線図
【図７】金属の各波長における反射率
【図８】金属の各波長における反射率
【図９】金属の各波長における反射率
【図１０】金属の各波長における反射率
【図１１】金属とプラスチックス薄膜の山型炉に於ける
加熱状態の中央断面図
加熱状態の中央断面図
２１ 赤外線発生装置 ３１ 熱風炉
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年８月１２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
Claims (1)
- 【請求項１】 熱風により被乾燥物を加熱する熱風炉の
入口近くで1.2μm〜1.5μm付近に波長のピ−クを有する
近赤外線を金属からなる母材に、ブロック材を有する塗
料を塗布された被乾燥物に照射することを特徴とする乾
燥炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4059293A JPH06226187A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 乾燥炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4059293A JPH06226187A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 乾燥炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06226187A true JPH06226187A (ja) | 1994-08-16 |
Family
ID=12584785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4059293A Pending JPH06226187A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 乾燥炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06226187A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006123567A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Trinity Industrial Corporation | 紫外線照射型硬化装置 |
-
1993
- 1993-02-04 JP JP4059293A patent/JPH06226187A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006123567A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Trinity Industrial Corporation | 紫外線照射型硬化装置 |
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