JPH0623820A - スチレン系樹脂フィルムの製造方法 - Google Patents
スチレン系樹脂フィルムの製造方法Info
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- JPH0623820A JPH0623820A JP4182221A JP18222192A JPH0623820A JP H0623820 A JPH0623820 A JP H0623820A JP 4182221 A JP4182221 A JP 4182221A JP 18222192 A JP18222192 A JP 18222192A JP H0623820 A JPH0623820 A JP H0623820A
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- film
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- butyl
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Abstract
(57)【要約】
【目的】スチレン系重合体から、Ｔダイを用いてフィル
ムに成形するにあたり、特定のアクリレート化合物を配
合することにより、スチレン系樹脂フィルムの製造時の
安定化をはかる。 【構成】スチレンとブタジエンの重量比が６０：４０〜
９５：５であるスチレン−ブタジエンブロック共重合体
を単独で、あるいはこれと他の重合体、例えば汎用ポリ
スチレンおよび／または耐衝撃性ポリスチレンとのブレ
ンド物を用い、Ｔダイから押し出してフィルムに加工す
るにあたり、このフィルム加工を、２，４−ジ−ｔ−ア
ミル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒド
ロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレートの存
在下で行う。 【効果】フィルム加工時のフィッシュアイゲルの発生が
少なく、ブリード物の発生も少ないので、優れた品質の
スチレン系樹脂フィルムを得ることができる。
ムに成形するにあたり、特定のアクリレート化合物を配
合することにより、スチレン系樹脂フィルムの製造時の
安定化をはかる。 【構成】スチレンとブタジエンの重量比が６０：４０〜
９５：５であるスチレン−ブタジエンブロック共重合体
を単独で、あるいはこれと他の重合体、例えば汎用ポリ
スチレンおよび／または耐衝撃性ポリスチレンとのブレ
ンド物を用い、Ｔダイから押し出してフィルムに加工す
るにあたり、このフィルム加工を、２，４−ジ−ｔ−ア
ミル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒド
ロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレートの存
在下で行う。 【効果】フィルム加工時のフィッシュアイゲルの発生が
少なく、ブリード物の発生も少ないので、優れた品質の
スチレン系樹脂フィルムを得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スチレン系樹脂フィル
ムの製造方法に関する。さらに詳しくは、スチレンとブ
タジエンのブロック共重合体を含有する重合体をフィル
ム加工するにあたり、フィッシュアイゲルおよびブリー
ド物の発生を抑えて、スチレン系樹脂フィルムを製造す
る方法に関するものである。
ムの製造方法に関する。さらに詳しくは、スチレンとブ
タジエンのブロック共重合体を含有する重合体をフィル
ム加工するにあたり、フィッシュアイゲルおよびブリー
ド物の発生を抑えて、スチレン系樹脂フィルムを製造す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】スチレン−ブタジエンブロック共重合体
を含有する重合体から製造されるスチレン系樹脂フィル
ムは、瓶類などのラベルとして有用である。そして、原
料となる重合体としては、スチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体単独のほか、このスチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体に、汎用ポリスチレンおよび／または耐衝
撃性ポリスチレンをブレンドしたものなどが主として用
いられている。
を含有する重合体から製造されるスチレン系樹脂フィル
ムは、瓶類などのラベルとして有用である。そして、原
料となる重合体としては、スチレン−ブタジエンブロッ
ク共重合体単独のほか、このスチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体に、汎用ポリスチレンおよび／または耐衝
撃性ポリスチレンをブレンドしたものなどが主として用
いられている。
【０００３】従来、このようなスチレン系重合体を高温
でフィルム押出すると、フィッシュアイゲルが発生し、
印刷性などのフィルム物性が著しく低下するという問題
点があった。そこで、このフィッシュアイゲルの発生を
抑えるために、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フェニル アクリレートを添加する方法が提案されてい
る（特開昭 60-129241号公報、特開昭 61-61826 号公報
および特開昭 61-159442号公報）。
でフィルム押出すると、フィッシュアイゲルが発生し、
印刷性などのフィルム物性が著しく低下するという問題
点があった。そこで、このフィッシュアイゲルの発生を
抑えるために、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フェニル アクリレートを添加する方法が提案されてい
る（特開昭 60-129241号公報、特開昭 61-61826 号公報
および特開昭 61-159442号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】これらの公報で提案さ
れた方法は、それ以前の安定化技術に比べれば、高い耐
熱加工安定性、すなわちフィッシュアイゲル抑制効果を
示すものの、特に生産性の向上を狙って高温でフィルム
押出を行う場合には、その効果は必ずしも充分でなかっ
た。また、その効果を上げるために添加量を増量する
と、安定剤がフィルム表面にブリードして冷却ロールに
付着するなど、作業性の面で問題が発生するため、さら
なる改善が求められていた。
れた方法は、それ以前の安定化技術に比べれば、高い耐
熱加工安定性、すなわちフィッシュアイゲル抑制効果を
示すものの、特に生産性の向上を狙って高温でフィルム
押出を行う場合には、その効果は必ずしも充分でなかっ
た。また、その効果を上げるために添加量を増量する
と、安定剤がフィルム表面にブリードして冷却ロールに
付着するなど、作業性の面で問題が発生するため、さら
なる改善が求められていた。
【０００５】本発明は、スチレン系重合体をフィルム押
出するにあたり、高温で押し出した場合でもフィッシュ
アイゲルの発生が少なく、かつ安定剤のブリードも少な
く、その結果優れた品質のスチレン系樹脂フィルムが製
造できる方法を提供しようとするものである。
出するにあたり、高温で押し出した場合でもフィッシュ
アイゲルの発生が少なく、かつ安定剤のブリードも少な
く、その結果優れた品質のスチレン系樹脂フィルムが製
造できる方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、スチ
レンとブタジエンとの重量比が６０：４０〜９５：５で
あるスチレン−ブタジエンブロック共重合体を含有する
重合体から、Ｔダイを用いてフィルム加工するにあた
り、このフィルム加工を、２，４−ジ−ｔ−アミル−６
−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフ
ェニル）エチル〕フェニル アクリレートの存在下で行
うことにより、スチレン系樹脂フィルムを製造する方法
を提供するものである。
レンとブタジエンとの重量比が６０：４０〜９５：５で
あるスチレン−ブタジエンブロック共重合体を含有する
重合体から、Ｔダイを用いてフィルム加工するにあた
り、このフィルム加工を、２，４−ジ−ｔ−アミル−６
−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフ
ェニル）エチル〕フェニル アクリレートの存在下で行
うことにより、スチレン系樹脂フィルムを製造する方法
を提供するものである。
【０００７】本発明で用いる重合体は、スチレンとブタ
ジエンの共重合体であって、スチレンとブタジエンとの
重量比が６０：４０〜９５：５であるもの（以下ＳＢＳ
という）を必須成分として含有する。このＳＢＳを単独
で用いることもできるし、また他の重合体とブレンドし
たものを用いることもできる。ＳＢＳにブレンドしうる
重合体は、例えば汎用ポリスチレン（以下ＧＰ−ＰＳと
いう）、スチレンの重合時にブタジエン系ポリマーなど
をグラフト重合させて得られるいわゆる耐衝撃性ポリス
チレン（以下ＨＩ−ＰＳという）などを包含する。一般
には、ＳＢＳ単独のほか、ＳＢＳとＧＰ−ＰＳとの混合
物、ＳＢＳとＧＰ−ＰＳとＨＩ−ＰＳとの混合物などが
好ましく用いられる。
ジエンの共重合体であって、スチレンとブタジエンとの
重量比が６０：４０〜９５：５であるもの（以下ＳＢＳ
という）を必須成分として含有する。このＳＢＳを単独
で用いることもできるし、また他の重合体とブレンドし
たものを用いることもできる。ＳＢＳにブレンドしうる
重合体は、例えば汎用ポリスチレン（以下ＧＰ−ＰＳと
いう）、スチレンの重合時にブタジエン系ポリマーなど
をグラフト重合させて得られるいわゆる耐衝撃性ポリス
チレン（以下ＨＩ−ＰＳという）などを包含する。一般
には、ＳＢＳ単独のほか、ＳＢＳとＧＰ−ＰＳとの混合
物、ＳＢＳとＧＰ−ＰＳとＨＩ−ＰＳとの混合物などが
好ましく用いられる。
【０００８】ＳＢＳとＧＰ−ＰＳの混合物を用いる場
合、両者の混合割合は、ＳＢＳを１〜５０重量部程度、
そしてＧＰ−ＰＳを９９〜５０重量部程度の範囲とする
のが好ましい。また、ＳＢＳ、ＧＰ−ＰＳおよびＨＩ−
ＰＳの混合物を用いる場合は、ＳＢＳとＨＩ−ＰＳの合
計を１〜５０重量部程度、 そしてＧＰ−ＰＳを９９〜
５０重量部程度の範囲とするのが好ましい。後者におけ
るＳＢＳとＨＩ−ＰＳの混合割合は、５０〜７５：５０
〜２５程度（重量比）が好ましい。
合、両者の混合割合は、ＳＢＳを１〜５０重量部程度、
そしてＧＰ−ＰＳを９９〜５０重量部程度の範囲とする
のが好ましい。また、ＳＢＳ、ＧＰ−ＰＳおよびＨＩ−
ＰＳの混合物を用いる場合は、ＳＢＳとＨＩ−ＰＳの合
計を１〜５０重量部程度、 そしてＧＰ−ＰＳを９９〜
５０重量部程度の範囲とするのが好ましい。後者におけ
るＳＢＳとＨＩ−ＰＳの混合割合は、５０〜７５：５０
〜２５程度（重量比）が好ましい。
【０００９】本発明では、このようなスチレン系重合体
をＴダイに通して押し出し、フィルムに加工する。そし
てこのフィルム加工にあたり、２，４−ジ−ｔ−アミル
−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキ
シフェニル）エチル〕フェニル アクリレート（以下単
にアクリレートということもある）を存在させる。この
アクリレートは、押出対象となるスチレン系重合体の合
計１００重量部に対して、0.０５〜２重量部程度の範囲
で用いるのが好ましい。その配合量が0.０５重量部未満
になると、フィルム押出加工時におけるフィッシュアイ
ゲルの生成を抑制する効果が充分でなく、また２重量部
を越えると、ブリードする可能性があるので、本発明で
目的とする効果が充分に達成しがたいことがある。
をＴダイに通して押し出し、フィルムに加工する。そし
てこのフィルム加工にあたり、２，４−ジ−ｔ−アミル
−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキ
シフェニル）エチル〕フェニル アクリレート（以下単
にアクリレートということもある）を存在させる。この
アクリレートは、押出対象となるスチレン系重合体の合
計１００重量部に対して、0.０５〜２重量部程度の範囲
で用いるのが好ましい。その配合量が0.０５重量部未満
になると、フィルム押出加工時におけるフィッシュアイ
ゲルの生成を抑制する効果が充分でなく、また２重量部
を越えると、ブリードする可能性があるので、本発明で
目的とする効果が充分に達成しがたいことがある。
【００１０】このアクリレートは、フィルム加工時にス
チレン系重合体と均一に混合された状態で存在していれ
ばよく、その配合時期に特別な制限はない。一般には、
フィルム押出に先立って、スチレン系重合体にアクリレ
ートをブレンドするが、それより前の段階、例えばＳＢ
Ｓの重合途中あるいは重合終了時に、アクリレートをブ
レンドしておいてもよい。スチレン系重合体としてＳＢ
Ｓと他の重合体との混合物を用いる場合は、重合体混合
物を予め調製しておき、それにアクリレートを配合して
もよいし、ＳＢＳ、ブレンドする他の重合体およびアク
リレートを一緒に混合してもよい。また場合によって
は、ＳＢＳに予めアクリレートを存在させておき、それ
に他の重合体を混合するとか、あるいはブレンドする他
の重合体に予めアクリレートを存在させておき、それに
ＳＢＳを混合するといった方法をとることもできる。
チレン系重合体と均一に混合された状態で存在していれ
ばよく、その配合時期に特別な制限はない。一般には、
フィルム押出に先立って、スチレン系重合体にアクリレ
ートをブレンドするが、それより前の段階、例えばＳＢ
Ｓの重合途中あるいは重合終了時に、アクリレートをブ
レンドしておいてもよい。スチレン系重合体としてＳＢ
Ｓと他の重合体との混合物を用いる場合は、重合体混合
物を予め調製しておき、それにアクリレートを配合して
もよいし、ＳＢＳ、ブレンドする他の重合体およびアク
リレートを一緒に混合してもよい。また場合によって
は、ＳＢＳに予めアクリレートを存在させておき、それ
に他の重合体を混合するとか、あるいはブレンドする他
の重合体に予めアクリレートを存在させておき、それに
ＳＢＳを混合するといった方法をとることもできる。
【００１１】スチレン系重合体とアクリレートの混合
は、均質な混合物を得るのに適したあらゆる方法によ
り、実施することができる。例えばオープンロール、イ
ンテンシブミキサー、インターナルミキサー、ニーダ
ー、二軸ローダー付の連続混練機、押出機のような一般
的混和機を用いた溶融混練方法、各成分を溶剤に溶解ま
たは分散させて混合したあと溶剤を除去する方法などが
用いられる。スチレン系重合体として、ＳＢＳと他の重
合体、例えばＧＰ−ＰＳおよび／またはＨＩ−ＰＳとの
混合物を用いる場合も同様である。
は、均質な混合物を得るのに適したあらゆる方法によ
り、実施することができる。例えばオープンロール、イ
ンテンシブミキサー、インターナルミキサー、ニーダ
ー、二軸ローダー付の連続混練機、押出機のような一般
的混和機を用いた溶融混練方法、各成分を溶剤に溶解ま
たは分散させて混合したあと溶剤を除去する方法などが
用いられる。スチレン系重合体として、ＳＢＳと他の重
合体、例えばＧＰ−ＰＳおよび／またはＨＩ−ＰＳとの
混合物を用いる場合も同様である。
【００１２】フィルム加工にあたっては、スチレン系重
合体にアクリレートを配合した組成物を、１７０〜２７
０℃程度の温度で、Ｔダイからフラット状に押出成形す
る。これによって、通常厚さ１００μ以下のフィルムが
得られる。特に本発明によれば、２４０〜２７０℃程度
の高温で押し出した場合でも、ブリード物の発生が少な
く、フィッシュアイゲルの発生も抑えられるので、優れ
た品質のフィルムを作業性よく製造することができる。
また、Ｔダイから押し出されるフィルムの厚さが５０μ
以下になっても、良好な品質が保たれる。
合体にアクリレートを配合した組成物を、１７０〜２７
０℃程度の温度で、Ｔダイからフラット状に押出成形す
る。これによって、通常厚さ１００μ以下のフィルムが
得られる。特に本発明によれば、２４０〜２７０℃程度
の高温で押し出した場合でも、ブリード物の発生が少な
く、フィッシュアイゲルの発生も抑えられるので、優れ
た品質のフィルムを作業性よく製造することができる。
また、Ｔダイから押し出されるフィルムの厚さが５０μ
以下になっても、良好な品質が保たれる。
【００１３】得られたフィルムは、通常の方法に従って
さらに一軸または二軸延伸することもできる。一軸延伸
する場合は例えば、カレンダーロール等でフィルム押出
方向に、あるいはテンター等でフィルム押出方向と直交
する方向に延伸する。また、二軸延伸する場合は例え
ば、押出フィルムを金属ロール等で縦方向に延伸したあ
と、テンター等で横方向に延伸する。
さらに一軸または二軸延伸することもできる。一軸延伸
する場合は例えば、カレンダーロール等でフィルム押出
方向に、あるいはテンター等でフィルム押出方向と直交
する方向に延伸する。また、二軸延伸する場合は例え
ば、押出フィルムを金属ロール等で縦方向に延伸したあ
と、テンター等で横方向に延伸する。
【００１４】本発明においては、必要に応じてさらに他
の添加剤、例えば他のフェノール系酸化防止剤、イオウ
系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒン
ダードアミン系光安定剤、滑剤、顔料、難燃剤、発泡
剤、補強剤、無機充填剤などをスチレン系重合体に配合
することもできる。これらは、前記アクリレートと一緒
に配合してもよいし、またそれとは異なる段階で配合し
てもよい。これら任意に用いることができる添加剤の具
体例を以下に示す。
の添加剤、例えば他のフェノール系酸化防止剤、イオウ
系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒン
ダードアミン系光安定剤、滑剤、顔料、難燃剤、発泡
剤、補強剤、無機充填剤などをスチレン系重合体に配合
することもできる。これらは、前記アクリレートと一緒
に配合してもよいし、またそれとは異なる段階で配合し
てもよい。これら任意に用いることができる添加剤の具
体例を以下に示す。
【００１５】必須成分である前記アクリレート以外のフ
ェノール系酸化防止剤としては、例えば次のようなもの
が挙げられる。
ェノール系酸化防止剤としては、例えば次のようなもの
が挙げられる。
【００１６】２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−
２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフ
ェニル アクリレート、ｎ−オクタデシル ３−(３,５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、ペンタエリスリチル テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、トリエチレングリコール ビス〔３−（３
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
プロピオネート〕、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル） イソシアヌレート、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、１，６−ヘキサンジオール ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピネート〕、２，２′−チオジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピネート〕、３，９−ビス〔２−｛３−（３−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピ
オニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル〕−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ〔５・５〕ウンデカン、
２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール）。
２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフ
ェニル アクリレート、ｎ−オクタデシル ３−(３,５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、ペンタエリスリチル テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕、トリエチレングリコール ビス〔３−（３
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
プロピオネート〕、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル） イソシアヌレート、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、１，６−ヘキサンジオール ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピネート〕、２，２′−チオジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピネート〕、３，９−ビス〔２−｛３−（３−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピ
オニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル〕−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ〔５・５〕ウンデカン、
２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール）。
【００１７】イオウ系酸化防止剤としては、例えば次の
ようなものが挙げられる。
ようなものが挙げられる。
【００１８】ジラウリル ３，３′−チオジプロピオネ
ート、ジミリスチル ３，３′−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル ３，３′−チオジプロピオネート、
ラウリル ステアリル ３，３′−チオジプロピオネー
ト。
ート、ジミリスチル ３，３′−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル ３，３′−チオジプロピオネート、
ラウリル ステアリル ３，３′−チオジプロピオネー
ト。
【００１９】リン系酸化防止剤としては、例えば次のよ
うなものが挙げられる。
うなものが挙げられる。
【００２０】トリス（ノニルフェニル） フォスファイ
ト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジフォスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
フォスファイト、テトラトリデシル ４，４′−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル） ジ
フォスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル） ペンタエリスリトール ジフォスファイト、テト
ラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ４，４′
−ビフェニレンジフォスフォナイト、ビス（２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル） ペンタエリスリ
トール ジフォスファイト、ビス（２，４，６−トリ−
ｔ−ブチルフェニル） ペンタエリスリトール ジフォ
スファイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル） オクチル フォスファイト、２，
２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル） フルオロフォスフォナイト。
ト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジフォスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
フォスファイト、テトラトリデシル ４，４′−ブチリ
デンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル） ジ
フォスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル） ペンタエリスリトール ジフォスファイト、テト
ラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ４，４′
−ビフェニレンジフォスフォナイト、ビス（２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル） ペンタエリスリ
トール ジフォスファイト、ビス（２，４，６−トリ−
ｔ−ブチルフェニル） ペンタエリスリトール ジフォ
スファイト、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ
−ブチルフェニル） オクチル フォスファイト、２，
２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル） フルオロフォスフォナイト。
【００２１】紫外線吸収剤としては、例えば次のような
ものが挙げられる。
ものが挙げられる。
【００２２】２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−
メトキシフェニル）メタン、２，２′，４，４′−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、
ノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェ
ノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−
メトキシフェニル）メタン、２，２′，４，４′−テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、
【００２３】２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−
（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−（３
−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヒドロキシ−３,５−ビス（α,α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、
ル）ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−
（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−（３
−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミ
ル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヒドロキシ−３,５−ビス（α,α−ジメチルベ
ンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、
【００２４】２，２′−メチレンビス〔６−（２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）フェノール〕、ポリ（３〜１
１）（エチレングリコール）と メチル ３−〔３−
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネートとの縮
合物、２−エチルヘキシル ３−〔３−ｔ−ブチル−５
−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、オク
チル ３−〔３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフ
ェニル〕プロピオネート、メチル ３−〔３−ｔ−ブチ
ル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、
３−〔３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニ
ル〕プロピオン酸、２，２′−メチレンビス〔４−ｔ−
ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）
フェノール〕。
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）フェノール〕、ポリ（３〜１
１）（エチレングリコール）と メチル ３−〔３−
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネートとの縮
合物、２−エチルヘキシル ３−〔３−ｔ−ブチル−５
−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、オク
チル ３−〔３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフ
ェニル〕プロピオネート、メチル ３−〔３−ｔ−ブチ
ル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネート、
３−〔３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニ
ル〕プロピオン酸、２，２′−メチレンビス〔４−ｔ−
ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）
フェノール〕。
【００２５】ヒンダードアミン系光安定剤としては、例
えば次のようなものが挙げられる。
えば次のようなものが挙げられる。
【００２６】ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル） セバケート、ジメチル サクシネート
と １−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合
物、ポリ〔(６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン
−２，４−ジイル)｛（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ｝〕、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル） ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、４−
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシ〕−１−〔２−｛３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オニルオキシ｝エチル〕−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル） デカンジオエート、テトラキス
(２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、
−ピペリジル） セバケート、ジメチル サクシネート
と １−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合
物、ポリ〔(６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン
−２，４−ジイル)｛（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミ
ノ｝〕、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル） ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、４−
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシ〕−１−〔２−｛３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オニルオキシ｝エチル〕−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル） デカンジオエート、テトラキス
(２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
〔｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝
｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、
【００２７】１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸
と １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化
物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と ２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび
１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，
３，４−ブタンテトラカルボン酸と １，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−
ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５・５〕ウン
デカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタン
テトラカルボン酸と ２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ〔５・５〕ウンデカンとの混合エステ
ル化物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと １，
２−ジブロモエタンとの重縮合物、
と １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化
物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と ２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび
１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，
３，４−ブタンテトラカルボン酸と １，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−
ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５・５〕ウン
デカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタン
テトラカルボン酸と ２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキ
シ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テ
トラオキサスピロ〔５・５〕ウンデカンとの混合エステ
ル化物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと １，
２−ジブロモエタンとの重縮合物、
【００２８】２−メチル−２−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンア
ミド、Ｎ，Ｎ′，４，７−テトラキス〔４，６−ビス
｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）アミノ｝−１，３，５−トリアジン−
２−イル〕−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′，４−トリス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）アミノ｝−１,３,５−トリアジン−２−イル〕−
４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ビス（１
−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）２,２−ビス(３,５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル)マロネート、Ｎ，Ｎ′，４，７
−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−
ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ′，４−ト
リス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ｝−
１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジアザ
デカン−１，１０−ジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル） サクシネート、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル メタクリ
レート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル メタクリレート、テトラキス(１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル) １，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート。
ラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンア
ミド、Ｎ，Ｎ′，４，７−テトラキス〔４，６−ビス
｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）アミノ｝−１，３，５−トリアジン−
２−イル〕−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′，４−トリス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル
−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）アミノ｝−１,３,５−トリアジン−２−イル〕−
４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ビス（１
−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）２,２−ビス(３,５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル)マロネート、Ｎ，Ｎ′，４，７
−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−
ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ′，４−ト
リス〔４，６−ビス｛Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ｝−
１，３，５−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジアザ
デカン−１，１０−ジアミン、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル） サクシネート、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル メタクリ
レート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル メタクリレート、テトラキス(１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル) １，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート。
【００２９】
【実施例】以下に実施例を示して、本発明をさらに詳細
に説明するが、これらの実施例は好ましい具体例を示す
ものであり、本発明の範囲をなんら限定するものでな
い。なお例中の％および部は、特にことわらないかぎり
重量基準である。
に説明するが、これらの実施例は好ましい具体例を示す
ものであり、本発明の範囲をなんら限定するものでな
い。なお例中の％および部は、特にことわらないかぎり
重量基準である。
【００３０】また、例中で用いた重合体および安定剤は
次表のとおりである。
次表のとおりである。
【００３１】
【表１】重合体 SBS : K-RESIN KR-05 (Phillips 66 Co., Ltd.製のス
チレン−ブタジエンブロック共重合体；スチレン含量約
７５％、１９０℃におけるメルトフローレート8.０ｇ／
１０分） GP-PS: スミブライト E 183（住友化学工業（株）製の
汎用ポリスチレン；２００℃におけるメルトフローレー
ト3.０ｇ／１０分） HI-PS: スミブライト E 580（住友化学工業（株）製の
耐衝撃性ポリスチレン；２００℃におけるメルトフロー
レート3.０ｇ／１０分、アイゾット衝撃強度9.５kg・cm
／cm）安定剤 Ｉ : ２，４−ジ−ｔ−アミル−６−〔１−（３，５
−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル〕
フェニル アクリレート ＡＯ : ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−
ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニ
ル アクリレート
チレン−ブタジエンブロック共重合体；スチレン含量約
７５％、１９０℃におけるメルトフローレート8.０ｇ／
１０分） GP-PS: スミブライト E 183（住友化学工業（株）製の
汎用ポリスチレン；２００℃におけるメルトフローレー
ト3.０ｇ／１０分） HI-PS: スミブライト E 580（住友化学工業（株）製の
耐衝撃性ポリスチレン；２００℃におけるメルトフロー
レート3.０ｇ／１０分、アイゾット衝撃強度9.５kg・cm
／cm）安定剤 Ｉ : ２，４−ジ−ｔ−アミル−６−〔１−（３，５
−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル〕
フェニル アクリレート ＡＯ : ２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−
ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニ
ル アクリレート
【００３２】実施例１ ＳＢＳ１００部に対し、安定剤を表２に示した配合量で
ドライブレンドしたあと、口径３０mmのＴダイフィルム
押出機により２５０℃で押し出し、厚さ５０μのフィル
ムを得た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とした。そし
て、以下の性能について評価し、結果を表２に示した。
ドライブレンドしたあと、口径３０mmのＴダイフィルム
押出機により２５０℃で押し出し、厚さ５０μのフィル
ムを得た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とした。そし
て、以下の性能について評価し、結果を表２に示した。
【００３３】耐ブリード性：２kgの樹脂をフィルム押出
したあと、冷却ロール上の付着物をテトラヒドロフラン
で抽出し、液体クロマトグラフィー法にて、ブリードし
た安定剤の量を定量した。
したあと、冷却ロール上の付着物をテトラヒドロフラン
で抽出し、液体クロマトグラフィー法にて、ブリードし
た安定剤の量を定量した。
【００３４】加工安定性：１５分間連続運転して定常状
態になったあと、１分間で得られたフィルム（６ｍ×２
５cm）について、フィッシュアイゲルの数を数えた。フ
ッシュアイゲルの数が少ないほど、加工安定性に優れる
ことを意味する。
態になったあと、１分間で得られたフィルム（６ｍ×２
５cm）について、フィッシュアイゲルの数を数えた。フ
ッシュアイゲルの数が少ないほど、加工安定性に優れる
ことを意味する。
【００３５】
【表２】
【００３６】実施例２ ＳＢＳ４０部およびＧＰ−ＰＳ６０部（合計１００部）
に対し、さらに安定剤を表３に示した配合量でドライブ
レンドしたあと、口径３０mmのＴダイフィルム押出機に
より２５０℃で押し出し、厚さ５０μのフィルムを得
た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とした。そして、実施
例１と同様の方法で耐ブリード性および加工安定性を評
価し、その結果を表３に示した。
に対し、さらに安定剤を表３に示した配合量でドライブ
レンドしたあと、口径３０mmのＴダイフィルム押出機に
より２５０℃で押し出し、厚さ５０μのフィルムを得
た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とした。そして、実施
例１と同様の方法で耐ブリード性および加工安定性を評
価し、その結果を表３に示した。
【００３７】
【表３】
【００３８】実施例３ ＳＢＳ１５部、ＧＰ−ＰＳ８０部およびＨＩ−ＰＳ５部
（合計１００部）に対し、さらに安定剤を表４に示した
配合量でドライブレンドしたあと、口径３０mmのＴダイ
フィルム押出機により２５０℃で押し出し、厚さ５０μ
のフィルムを得た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とし
た。そして、実施例１と同様の方法で耐ブリード性およ
び加工安定性を評価し、その結果を表４に示した。
（合計１００部）に対し、さらに安定剤を表４に示した
配合量でドライブレンドしたあと、口径３０mmのＴダイ
フィルム押出機により２５０℃で押し出し、厚さ５０μ
のフィルムを得た。フィルム捲取速度は６ｍ／分とし
た。そして、実施例１と同様の方法で耐ブリード性およ
び加工安定性を評価し、その結果を表４に示した。
【００３９】
【表４】
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、スチレン系重合体から
Ｔダイを用いてフィルムに押出加工するにあたり、特定
のアクリレートを存在させたことで、フィルム加工時の
フィッシュアイゲルの発生が抑えられ、またブリード物
の発生も抑えられるので、優れた品質のスチレン系樹脂
フィルムを製造することができる。また、フィルム加工
時の作業性も改善される。
Ｔダイを用いてフィルムに押出加工するにあたり、特定
のアクリレートを存在させたことで、フィルム加工時の
フィッシュアイゲルの発生が抑えられ、またブリード物
の発生も抑えられるので、優れた品質のスチレン系樹脂
フィルムを製造することができる。また、フィルム加工
時の作業性も改善される。
Claims (5)
- 【請求項１】スチレンとブタジエンとの重量比が６０：
４０〜９５：５であるスチレン−ブタジエンブロック共
重合体を含有する重合体から、Ｔダイを用いてフィルム
加工するにあたり、該フィルム加工を、２，４−ジ−ｔ
−アミル−６−〔１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−
ヒドロキシフェニル）エチル〕フェニル アクリレート
の存在下で行うことを特徴とするスチレン系樹脂フィル
ムの製造方法。 - 【請求項２】該重合体が、該スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体単独である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】該重合体が、該スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体と他の重合体との混合物である請求項１記
載の方法。 - 【請求項４】該重合体が、該スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体とポリスチレンとのブレンドである請求項
３記載の方法。 - 【請求項５】該重合体が、該スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体、汎用ポリスチレンおよび耐衝撃性ポリス
チレンのブレンドである請求項３記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18222192A JP3367053B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | スチレン系樹脂フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18222192A JP3367053B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | スチレン系樹脂フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0623820A true JPH0623820A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3367053B2 JP3367053B2 (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=16114465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18222192A Expired - Lifetime JP3367053B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | スチレン系樹脂フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3367053B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0775752A1 (en) | 1995-11-27 | 1997-05-28 | Kawasaki Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method of manufacturing the same |
| WO2004033541A1 (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 熱収縮性フィルム |
| US6821635B2 (en) | 2000-10-11 | 2004-11-23 | Dow Global Technologoies Inc. | Rubber modified monovinylidene aromatic polymer blends with improved transparency |
| JP2012141595A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 光学部材用積層表面保護フィルム |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP18222192A patent/JP3367053B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0775752A1 (en) | 1995-11-27 | 1997-05-28 | Kawasaki Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and method of manufacturing the same |
| US6821635B2 (en) | 2000-10-11 | 2004-11-23 | Dow Global Technologoies Inc. | Rubber modified monovinylidene aromatic polymer blends with improved transparency |
| WO2004033541A1 (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 熱収縮性フィルム |
| JPWO2004033541A1 (ja) * | 2002-10-08 | 2006-02-09 | 電気化学工業株式会社 | 熱収縮性フィルム |
| JP2012141595A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 光学部材用積層表面保護フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3367053B2 (ja) | 2003-01-14 |
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