JPH06244089A

JPH06244089A - 電子ビーム描画方法及び装置

Info

Publication number: JPH06244089A
Application number: JP5025143A
Authority: JP
Inventors: Tatsuo Chijimatsu; 達夫千々松
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1993-02-15
Filing date: 1993-02-15
Publication date: 1994-09-02
Anticipated expiration: 2017-02-18
Also published as: JP3258742B2

Abstract

(57)【要約】【目的】バッファメモリの容量を越えるようなデバイ
スパターンのデータを扱う場合にも、スループットを低
下させることなく、しかも図形パターンの離れや二重露
光データ等の発生を防ぎ、且つ近接効果の補正処理を正
しく行なうことの可能な電子ビーム描画方法及び装置を
提供することを目的とする。【構成】設計データ１から露光データを生成して、該
露光データを基に露光を行なう電子ビーム描画装置であ
って、設計データ１に対して所定の変換処理１１及び１
３を施した後に、電子ビーム描画装置の備えるバッファ
メモリ７の容量以下の複数個の露光データファイル５−
１〜５−ｎに分割して出力する出力手段１５を有して構
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子ビーム描画方法及び
装置に係り、特に、バッファメモリの容量を越えるよう
なデバイスパターンのデータを扱う場合にも、スループ
ットを低下させることなく、しかも図形パターンの離れ
や二重露光データ等の発生を防ぎ、且つ近接効果の補正
処理を正しく行なうことの可能な電子ビーム描画方法及
び装置に関する。

【０００２】電子デバイスの集積度は年々高まり、サブ
クォーターμｍのサイズのデバイスを露光する技術が要
請されている。電子ビーム露光技術は高解像性を有する
露光技術として知られているが、パターン数の増大に従
って露光時間が非常に大きくなり、温度変動の影響やビ
ームのドリフト等のためにパターンの位置精度をコント
ロールすることが益々困難となってきている。２５６
［Ｍビット］ＤＲＡＭのようなサブクォーターμｍの寸
法で、且つ膨大なパターン数を持つデバイスパターンに
対して、位置精度良く描画を行なうためには、露光時間
を抑えることが不可欠である。

【０００３】

【従来の技術】従来の電子ビーム描画装置におけるデバ
イスパターンを描画する際のパターンデータの流れを、
図６に示すフローチャートに従って説明する。

【０００４】ＣＡＤ（Computer Aided Design ）システ
ムで作成された設計データ１０１は、反転、拡大縮小、
及びシフト等の図形処理、並びに電子ビーム描画装置の
持つメインフィールド及びサブフィールドへの分割処理
を行なうプログラム２０１によって露光データ１０３に
変換され、必要によっては更に近接効果補正プログラム
２０３によって露光データ１０３が補正される。

【０００５】実際に露光を行なう場合には、電子ビーム
描画装置内のパターンデータを格納するディスク１０５
からバッファメモリ１０７に転送され、更にパターン発
生回路に送られて描画されることになる。ここで、バッ
ファメモリ１０７の容量は、通常１千万パターン程度で
ある。

【０００６】１６［Ｍビット］ＤＲＡＭや６４［Ｍビッ
ト］ＤＲＡＭのような高集積度デバイスを露光しようと
する場合、１チップ分の露光パターン数がバッファメモ
リ１０７の容量を越える場合が発生する。このような場
合、ディスク１０５からバッファメモリ１０７へのデー
タ転送はメインフィールド１個分のデータが単位とな
り、データ転送と露光が交互に行なわれる。

【０００７】この際、第ｉ番目（ｉ＝１〜Ｍ）のフィー
ルドをバッファメモリ１０７へ転送しようとする場合、
電子ビーム描画装置内のコンピュータは、露光しようと
する露光データ１０３の先頭から第ｉ番目のフィールド
データを検索してから行なう。

【０００８】つまり、図７に示すように、コンピュータ
が露光命令を発すると、ディスク１０５内の露光データ
１０５における第ｉ番目のフィールドデータの検索を行
なって（ステップＳ２１２）、バッファメモリ１０５へ
の転送を行ない（ステップＳ２１３）、露光（ステップ
Ｓ２１４）後、更に第ｉ＋１番目のフィールドデータに
ついて検索、転送、及び露光を繰り返していく。このた
めｉの値が大きい程、転送が終了し露光し始めるまでの
間隔が大きいという現象が生じる。

【０００９】更に、電子ビーム描画装置の位置精度、即
ちメインフィールド及びサブフィールドつなぎ精度への
要求は、デバイス線幅が小さくなるにつれて益々厳しく
なり、フィールドサイズをメインフィールド及びサブフ
ィールド共に小さく設定せざるを得ない状況になってい
る。例えば、メインフィールドサイズ＝１［ｍｍ］以
下、サブフィールドサイズ＝５０［μｍ］以下等であ
る。尚、以前はメインフィールドサイズ＝５［ｍｍ］、
サブフィールドサイズ＝１００［μｍ］でも位置精度に
対する要求は満たされていた。

【００１０】逆に、デバイスが高集積化されてもチップ
サイズ自体は小さくならず、その結果、全メインフィー
ルド数Ｍは増加していく傾向にある。例えば、チップサ
イズが１０×２０［ｍｍ］のデバイスパターンをフィー
ルドサイズ１［ｍｍ］で直描する場合、フィールド数は
２００個となる。

【００１１】以上述べた現象を示す一例を図８に示す。
図８において、横軸はディスク１０５内のフィールドの
番号ｉ（ｉ＝１〜Ｍ）であり、縦軸は第（ｉ−１）番目
のフィールドのデータをディスク１０５からバッファメ
モリ１０７へ転送し終えるのに要する時間を示してい
る。この間、描画動作は全く行なっていない。つまり、
ディスク１０５内の露光データ１０３は、フィールド番
号順に格納され、読み出しもシーケンシャルに行なわれ
るので、フィールドの番号の数に比例して転送に要する
時間が増えていく。

【００１２】この問題のみに着目して、データ転送時間
も含めた全露光時間の増大を抑えるには、以下のような
手法が考えられる。つまり、図９に示すように、設計デ
ータ１０１を初めからバッファメモリ１０７の容量を越
えないように考慮して、予め複数個１０１’及び１０
１”に分割して、それぞれを図６の処理フローと同様に
データ変換を行なって露光データ１０３’及び１０３”
を取得して、露光を行なうという方法である。この手法
により、例えばバッファメモリ１０７の容量を越えたた
めに全露光時間として１８０［分］を要していた処理
が、２つに分割することによって１０［分］で収まるこ
とを確認している。

【００１３】しかしながら、本手法を用いることによっ
て次のような問題が発生する。つまり、前述のように、
データ変換処理において、寸法シフト等の図形処理（２
０１）や近接効果補正処理（２０３）が必要であり、そ
の際にはパターンの接続情報が重要である。

【００１４】バッファメモリ１０７の容量を越えるよう
なデバイスパターンの設計データ１０１を、図１０
（１）に示すように、２つの設計データ１０１’及び１
０１”に分割して変換処理２０１及び２０３を行なった
場合には、図形パターン３０１が分割された設計データ
１０１’及び１０１”の両方にまたがる図形であるとい
う情報は持たないので、最終的な露光データ１０３’及
び１０３”を合わせて見た場合に、図１０（２）のよう
に負の寸法シフト処理を施した結果、図形３０１’及び
３０１”が離れてしまったり、また、図１０（３）のよ
うに正の寸法シフトを施した結果、図形３０１’及び３
０１”が二重露光データとなってしまったりする。ま
た、近接効果補正処理（２０３）においても、接続情報
を持たないので正しい補正は行なわれない。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
電子ビーム描画方法及び装置では、バッファメモリの容
量を越えるようなデバイスパターンのデータを扱う場
合、処理時間を高速にするために設計データを複数個の
設計データに分割して図形処理や近接効果補正処理を行
なって露光データを生成しているが、この場合、最終的
な複数個の露光データを付き合わせて見た場合に、図形
パターンの離れや二重露光データが生成されるという問
題があった。また、近接効果補正処理においても接続情
報を持たないので正しい補正は行なわれないという問題
があった。

【００１６】本発明は、上記問題点を解決するもので、
バッファメモリの容量を越えるようなデバイスパターン
のデータを扱う場合にも、スループットを低下させるこ
となく、しかも図形パターンの離れや二重露光データの
発生を防ぎ、且つ近接効果補正処理を正しく行なうこと
の可能な電子ビーム描画方法及び装置を提供することを
目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の特徴の電子ビーム描画方法及び装置
は、図１に示す如く、設計データ１から露光データを生
成して、該露光データを基に露光を行なう電子ビーム描
画装置であって、前記設計データ１に対して所定の変換
処理１１及び１３を施した後に、当該電子ビーム描画装
置の備えるバッファメモリ７の容量以下の複数個の露光
データファイル５−１〜５−ｎ（ｎは任意の正整数）に
分割して出力する出力手段１５を有して構成する。

【００１８】また、本発明の第２の特徴の電子ビーム描
画方法は、設計データ１から露光データを生成して、該
露光データを基に露光を行なう電子ビーム描画方法であ
って、前記設計データ１に対して所定の変換処理を施す
ステップ１１及び１３と、前記変換処理後のデータを、
電子ビーム描画装置の備えるバッファメモリ７の容量以
下の複数個の露光データファイル５−１〜５−ｎに分割
して出力する出力ステップ１５とを有して処理する。

【００１９】また、本発明の第３の特徴の電子ビーム描
画装置または方法は、請求項１または２に記載の電子ビ
ーム描画装置または方法において、前記出力手段または
前記出力ステップ１５における露光データの分割処理
は、該露光データのメインフィールドを単位として行な
われる。

【００２０】また、本発明の第４の特徴の電子ビーム描
画装置または方法は、請求項１、２、または３に記載の
電子ビーム描画装置または方法において、前記出力手段
または前記出力ステップ１５における露光データの分割
処理は、該露光データのサブフィールドを単位として行
なわれる。

【００２１】また、本発明の第５の特徴の電子ビーム描
画装置または方法は、請求項３または４に記載の電子ビ
ーム描画装置または方法において、前記出力手段または
前記出力ステップ１５における露光データの分割処理
は、該露光データのメインフィールド数が所定の値を越
えた場合にのみ行なわれる。

【００２２】更に、本発明の第６の特徴の電子ビーム描
画装置または方法は、請求項３または４に記載の電子ビ
ーム描画装置または方法において、前記出力手段または
前記出力ステップ１５における露光データの分割処理
は、該露光データのメインフィールド数が所定の値以下
の場合に、予め与えられるメインフィールド個数毎に分
割される。

【００２３】

【作用】本発明の第１、第２、及び第３の特徴の電子ビ
ーム描画方法及び装置では、図１に示す如く、設計デー
タ１に対して所定の変換処理（例えば図形処理１１や近
接効果補正処理１３等）を施した後に、出力手段（出力
ステップ）１５により当該電子ビーム描画装置の備える
バッファメモリ７の容量以下の複数個の露光データファ
イル５−１〜５−ｎに分割して出力し、該露光データを
基に露光を行なうようにしている。

【００２４】特に、本発明の第３の特徴の電子ビーム描
画方法及び装置では、出力手段（出力ステップ）１５に
おいて、露光データの分割処理を露光データのメインフ
ィールドを単位として行なうようにしている。つまり、
露光データ３の持つメインフィールドを単位としたパタ
ーン情報を基に、メインフィールド内のパターン数を第
１番目のメインフィールドから順次加算していき、第ｉ
番目のメインフィールドまでのパターンデータから算出
されるデータの容量がバッファメモリ７の容量を越える
場合、第ｉ−１番目までのメインフィールドのパターン
データを１つの露光データファイル５−１として出力す
る。これを第Ｍ番目（Ｍは全メインフィールド数）のメ
インフィールドまで繰り返して、露光データファイル５
−２、…、５−ｎを出力する。

【００２５】従って、本発明では複数個の露光データフ
ァイル５−１〜５−ｎに分割して露光を行なうので、露
光の処理時間を速くすることができ、しかも、設計デー
タ１に対するデータ変換処理、即ち寸法シフト等の図形
処理１１や近接効果補正処理１３を施した露光データ３
に対して分割処理を行なうので、図形処理１１や近接効
果補正処理１３の際に重要となるパターンの接続情報は
保存されており、従来のようにパターン離れや二重露光
データを発生することなく、また、近接効果補正処理１
３においても、正しい補正を行なうことができる。

【００２６】また、本発明の第４の特徴の電子ビーム描
画方法及び装置では、出力手段または出力ステップ１５
における露光データの分割処理を、該露光データのサブ
フィールドを単位として行なうようにしている。つま
り、第３の特徴の電子ビーム描画方法及び装置における
出力手段（出力ステップ）１５の処理において、第ｉ番
目のメインフィールドまでのパターンデータから算出さ
れるデータの容量がバッファメモリ７の容量を越える場
合には、更に、第ｉ番目のメインフィールドにおいて、
サブフィールドを単位としたパターン情報を基に、サブ
フィールド内のパターン数を第１番目のサブフィールド
から順次、第ｉ−１番目のメインフィールドまでのパタ
ーン数の合計に加算していき、この合計を基に算出した
データの容量がバッファメモリ７の容量を越える場合
に、第ｉ−１番目までのメインフィールド及び第ｉ番目
のメインフィールドにおける第ｊ−１番目までのサブフ
ィールドのパターンデータを１つの露光データファイル
５−１として出力する。これを第Ｍ番目のメインフィー
ルドまで繰り返して、露光データファイル５−２，…，
５−ｎを出力するようにしている。

【００２７】従って、本実施例の処理方法によると、メ
インフィールド分の露光データだけでバッファメモリ７
の容量を越えてしまうであろう将来の超高密度デバイス
に対しても容易に対応できるという効果がある。

【００２８】更に、本発明の第５の特徴の電子ビーム描
画装置及び方法では、第３及び第４の特徴の電子ビーム
描画装置及び方法において、出力手段または出力ステッ
プ１５における露光データの分割処理を、該露光データ
のメインフィールド数が所定の値を越えた場合にのみ行
なうようにし、また、第６の特徴の電子ビーム描画装置
及び方法では、出力手段または出力ステップ１５におけ
る露光データの分割処理を、該露光データのメインフィ
ールド数が所定の値以下の場合には予め与えられるメイ
ンフィールド個数毎に分割するようにしている。

【００２９】従来の技術で説明したように、全露光時間
の長大化はフィールド数が大きい時に顕著になるのであ
って、全フィールド数が極端に大きくない場合には、バ
ッファメモリ７の容量を考慮した分割を行なう必要はな
い。

【００３０】

【実施例】次に、本発明に係る実施例を図面に基づいて
説明する。第１実施例図１は、本発明の第１実施例に係る電子ビーム描画装置
におけるパターンデータの流れを説明する図である。

【００３１】ＣＡＤシステム２００で作成された設計デ
ータ１は、反転、拡大縮小、及びシフト等の図形処理、
並びに電子ビーム描画装置の持つメインフィールド及び
サブフィールドへの分割処理を行なう図形処理プログラ
ム１１によって露光データ３に変換され、必要によって
は更に近接効果補正プログラム１３によって露光データ
３が補正される。

【００３２】次に、露光データ出力ルーチン１５によっ
て、得られた露光データ３を、電子ビーム描画装置の備
えるバッファメモリ７の容量以下の複数個の露光データ
ファイル５−１〜５−ｎに分割して出力する。

【００３３】この露光データ出力ルーチン１５は、図２
に示すフローチャートに従って処理される。尚、電子ビ
ーム描画装置はＭ個のメインフィールドを持つとしてい
る。即ち、露光データ３を取り込み（ステップＳ３
１）、パラメータを初期化（ステップＳ３２）した後、
露光データ３の持つメインフィールドを単位としたパタ
ーン情報を基に、メインフィールド内のパターン数を第
１番目のメインフィールドから順次加算していき（ステ
ップＳ３４）、第ｉ番目のメインフィールドまでのパタ
ーンデータから算出されるデータの容量がバッファメモ
リ７の容量を越える場合（ステップＳ３５）、第ｉ−１
番目までのメインフィールドのパターンデータを１つの
露光データファイル５−１として出力する（ステップＳ
３６）。これを第Ｍ番目のメインフィールドまで繰り返
して（ステップＳ３３で判断）、露光データファイル５
−２，…，５−ｎを出力する（ステップＳ３６及びＳ３
９）。例えば、２つの露光データファイル５−１及び５
−２に分割される場合には、図３に示すようになる。

【００３４】以上の処理は、一般に大型のコンピュータ
を用いて処理され、実際に露光を行なう場合には、例え
ば磁気テープ等に保持された露光データファイル５−１
〜５−ｎは、電子ビーム描画装置内のバッファメモリ７
に転送され、更にパターン発生回路に送られて描画され
ることになる。一般に、電子ビーム描画装置に備えられ
ているコンピュータは中小型であり、バッファメモリ７
の容量としては１千万パターン程度のパターンデータが
扱える大きさである。

【００３５】露光に際しては、露光データファイル５−
１〜５−ｎからバッファメモリ７へのデータ転送は、例
えばメインフィールド１個分のデータが単位となり、デ
ータ転送と露光が交互に行なわれる。

【００３６】以上のように、本実施例では複数個の露光
データファイル５−１〜５−ｎに分割して露光を行なう
ので、露光の処理時間を速くすることができる。しか
も、設計データ１に対するデータ変換処理、即ち寸法シ
フト等の図形処理１１や近接効果補正処理１３を施した
露光データ３に対して分割処理を行なうので、図形処理
１１や近接効果補正処理１３の際に重要となるパターン
の接続情報は保存されており、従来のようにパターン離
れや二重露光データを発生することなく、また、近接効
果補正処理１３においても、正しい補正を行なうことが
できる。第２実施例本実施例においても、第１の実施例と同様に、図１に示
すようなパターンデータの流れを持つ。本実施例が第１
実施例と異なる点は、露光データ出力ルーチン１５にお
ける処理である。

【００３７】図４に第２実施例に係る電子ビーム描画装
置における露光データ出力ルーチンのフローチャートを
示す。尚、電子ビーム描画装置はＭ個のメインフィール
ド、及びＰ個のサブフィールドを持つとしている。

【００３８】第１実施例と同様に、露光データ３を取り
込み（ステップＳ５１）、パラメータを初期化（ステッ
プＳ５２）した後、露光データ３の持つメインフィール
ドを単位としたパターン情報を基に、メインフィールド
内のパターン数を第１番目のメインフィールドから順次
加算していく（ステップＳ５４）。

【００３９】第ｉ番目のメインフィールドまでのパター
ンデータから算出されるデータの容量がバッファメモリ
７の容量を越える場合には（ステップＳ５５）、更に、
第ｉ番目のメインフィールドにおいて、サブフィールド
を単位としたパターン情報を基に、サブフィールド内の
パターン数を第１番目のサブフィールドから順次、第ｉ
−１番目のメインフィールドまでのパターン数の合計
（Ｓh-1 ）に加算していく（ステップＳ５７）。

【００４０】これらの合計（Ｓg ）を基に算出したデー
タの容量がバッファメモリ７の容量を越える場合（ステ
ップＳ５８）、第ｉ−１番目までのメインフィールド及
び第ｉ番目のメインフィールドにおける第ｊ−１番目ま
でのサブフィールドのパターンデータを１つの露光デー
タファイル５−１として出力する（ステップＳ６０）。
これを第Ｍ番目のメインフィールドまで繰り返して（ス
テップＳ５３で判断）、露光データファイル５−２，
…，５−ｎを出力する（ステップＳ６０及びＳ６３）。

【００４１】尚、ステップＳ６０において、第ｊ−１番
目までのサブフィールドを第ｉ番目のメインフィールド
として露光データファイル５−１に出力するが、残りの
第ｊ番目から第Ｐ番目までのサブフィールドは次の露光
データファイル５−２の第１番目のメインフィールドと
して出力される。つまり、本実施例の処理方法では、露
光データファイル５−１の第ｉ番目のメインフィールド
と、露光データファイル５−２の第１番目のメインフィ
ールドがオーバラップする形になる。

【００４２】本実施例の処理方法によると、将来の６４
［Ｍビット］ＤＲＡＭ以降の超高密度デバイスのよう
に、メインフィールド分の露光データだけでバッファメ
モリ７の容量を越えてしまう可能性のある場合にも容易
に対応できるという効果も奏する。つまり、従来の電子
ビーム描画装置では、このような場合にはディスク１０
５からバッファメモリ１０７へデータを転送できず、フ
ィールドサイズを縮小して再度データを変換仕直す必要
があるが、本実施例では自動的にメインフィールドを更
に分割して処理することとなる。第３実施例本実施例においても、第１の実施例と同様に、図１に示
すようなパターンデータの流れを持つ。本実施例が第１
実施例と異なる点は、露光データ出力ルーチン１５にお
ける処理である。

【００４３】図５に第３実施例に係る電子ビーム描画装
置における露光データ出力ルーチンのフローチャートを
示す。第１実施例と同様に、露光データ３を取り込み
（ステップＳ３１）、パラメータを初期化（ステップＳ
３２）するが、次に、メインフィールド数Ｍが所定の値
αよりも小さい場合には（ステップＳ７１で判断）、第
１実施例における分割処理（ステップＳ３２〜Ｓ３９）
を行なわずに、出力の処理（ステップＳ７２）を行な
う。

【００４４】つまり、従来の技術（図８参照）で説明し
たように、全露光時間の長大化はフィールド数が大きい
時に顕著になるのであって、例えば全フィールド数が数
個の場合には、従来と同様に描画を行なっても極端に描
画時間が増大するわけではない。そこで、第１実施例の
露光データ出力ルーチン１５のフローチャートにおい
て、ステップＳ３１とステップＳ３２の間にステップＳ
７１及びＳ７２の処理を追加したのが本実施例である。

【００４５】ステップＳ７２の出力処理としては、一括
して１つの露光データファイル５−１に出力するか、ま
たは、全フィールド数が極端に大きくない場合（例えば
１０個程度）には、数個分（例えば２個ないしは４個
分）のメインフィールドを１つの露光データファイルと
して出力するようにする。この場合、各露光データファ
イルの容量はバッファメモリ７の容量を越えても構わな
い。

【００４６】尚、ステップＳ７１及びＳ７２の追加は、
第２実施例に対して行なってもよく、図４のフローチャ
ートにおいてステップＳ５１とステップＳ５２の間に挿
入することも考えられる。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
設計データに対して所定の変換処理（例えば図形処理や
近接効果補正処理等）を施した後に、出力手段（出力ス
テップ）により当該電子ビーム描画装置の備えるバッフ
ァメモリの容量以下の複数個の露光データファイルに分
割して出力し、該露光データを基に露光を行なうことと
したので、複数個の露光データファイルに分割して露光
を行なうことにより露光の処理時間を速くすることがで
き、しかも、設計データに対するデータ変換処理、即ち
寸法シフト等の図形処理や近接効果補正処理を施した露
光データに対して分割処理を行なうので、図形処理や近
接効果補正処理の際に重要となるパターンの接続情報は
保存されており、パターン離れや二重露光データを発生
することなく、また、近接効果補正処理においても、正
しい補正を行なうことの可能な電子ビーム描画方法及び
装置を提供することができる。

【００４８】また、本発明によれば、出力手段または出
力ステップにおける露光データの分割処理を、該露光デ
ータのメインフィールド及びまたはサブフィールドを単
位として行なうこととしたので、メインフィールド分の
露光データだけでバッファメモリ７の容量を越えてしま
うであろう将来の超高密度デバイスに対しても容易に対
応しうる電子ビーム描画方法及び装置を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る電子ビーム描画装置
におけるパターンデータの流れを説明する図である。

【図２】第１実施例における露光データ出力ルーチンの
フローチャートである。

【図３】露光データを２つの露光データファイルに分割
した場合の説明図であり、図３（１）は露光データの内
容、図３（２）は露光データファイルの内容である。

【図４】第２実施例における露光データ出力ルーチンの
フローチャートである。

【図５】第３実施例における露光データ出力ルーチンの
フローチャートである。

【図６】従来の電子ビーム描画装置におけるパターンデ
ータの流れを説明する図である。

【図７】従来の電子ビーム描画装置における露光処理の
フローチャートである。

【図８】ディスク内の第ｉ（ｉ＝１〜Ｍ）番目のフィー
ルドデータを転送するに要する時間を説明する特性図で
ある。

【図９】従来の設計データの分割を行なう電子ビーム描
画装置におけるパターンデータの流れを説明する図であ
る。

【図１０】従来の設計データの分割を行なう電子ビーム
描画装置におけるパターンデータの説明図であり、図１
０（１）は設計データの分割、図１０（２）は負の寸法
シフトを施した露光データ、図１０（３）は正の寸法シ
フトを施した露光データである。

【符号の説明】

１，１０１…設計データ１０１’，１０１”…分割された設計データ３，１０３…露光データ１０３’，１０３”…分割された露光データ５−１〜５−ｎ…露光データファイル１０５，１０５’，１０５”…ディスク７，１０７…バッファメモリ１１，２０１…図形処理プログラム１３，２０３…近接効果補正プログラム１５…出力手段，露光データ出力ルーチン（出力ステッ
プ）１７，２０５…露光処理プログラム２００…ＣＡＤシステム３０１…図形パターン３０１’，３０１”…分割された図形パターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】設計データ（１）から露光データを生成
して、該露光データを基に露光を行なう電子ビーム描画
装置であって、前記設計データ（１）に対して所定の変換処理（１１及
び１３）を施した後に、当該電子ビーム描画装置の備え
るバッファメモリ（７）の容量以下の複数個の露光デー
タファイル（５−１〜５−ｎ；ｎは任意の正整数）に分
割して出力する出力手段（１５）を有することを特徴と
する電子ビーム描画装置。
【請求項２】設計データ（１）から露光データを生成
して、該露光データを基に露光を行なう電子ビーム描画
方法であって、前記設計データ（１）に対して所定の変換処理を施すス
テップ（１１及び１３）と、前記変換処理後のデータを、電子ビーム描画装置の備え
るバッファメモリ（７）の容量以下の複数個の露光デー
タファイル（５−１〜５−ｎ）に分割して出力する出力
ステップ（１５）とを有することを特徴とする電子ビー
ム描画方法。
【請求項３】前記出力手段または前記出力ステップ
（１５）における露光データの分割処理は、該露光デー
タのメインフィールドを単位として行なわれることを特
徴とする請求項１または２に記載の電子ビーム描画装置
または方法。
【請求項４】前記出力手段または前記出力ステップ
（１５）における露光データの分割処理は、該露光デー
タのサブフィールドを単位として行なわれることを特徴
とする請求項１、２、または３に記載の電子ビーム描画
装置または方法。
【請求項５】前記出力手段または前記出力ステップ
（１５）における露光データの分割処理は、該露光デー
タのメインフィールド数が所定の値を越えた場合にのみ
行なわれることを特徴とする請求項３または４に記載の
電子ビーム描画装置または方法。
【請求項６】前記出力手段または前記出力ステップ
（１５）における露光データの分割処理は、該露光デー
タのメインフィールド数が所定の値以下の場合に、予め
与えられるメインフィールド個数毎に分割されることを
特徴とする請求項３または４に記載の電子ビーム描画装
置または方法。