JPH06244478A - レーザガス混合装置 - Google Patents
レーザガス混合装置Info
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- JPH06244478A JPH06244478A JP2554893A JP2554893A JPH06244478A JP H06244478 A JPH06244478 A JP H06244478A JP 2554893 A JP2554893 A JP 2554893A JP 2554893 A JP2554893 A JP 2554893A JP H06244478 A JPH06244478 A JP H06244478A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 409
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 111
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 46
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 abstract description 23
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 abstract description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000001307 helium Substances 0.000 abstract description 14
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ発振器にレーザガスを供給するレーザ
ガス混合装置において、混合比率が時間とともに変動せ
ず、安定した組成比を持つレーザガスを供給するように
する。 【構成】 レーザガスを構成する単組成ガスである炭酸
ガス、ヘリウムガス及び窒素ガスは、ガスボンベ11a
等から送り出され、単組成ガス導入部20を経由してレ
ーザガス混合容器30a、30b内に注入される。その
際に、炭酸ガス等がそれぞれ所定のガス分圧と成るよう
に順次注入される。そのときのレーザガス混合容器30
a、30b内のガス圧力は、圧力センサ31a、31b
を用いて精度良く検出される。このため、これらの単組
成ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス混合容
器30a、30b内に所定のレーザガス組成比を持つ圧
縮レーザガスを精度良く生成することができる。したが
って、混合比率が時間とともに変動したりせず、安定し
た組成比を持つレーザガスを生成することができ、レー
ザ発振器側に供給することができる。
ガス混合装置において、混合比率が時間とともに変動せ
ず、安定した組成比を持つレーザガスを供給するように
する。 【構成】 レーザガスを構成する単組成ガスである炭酸
ガス、ヘリウムガス及び窒素ガスは、ガスボンベ11a
等から送り出され、単組成ガス導入部20を経由してレ
ーザガス混合容器30a、30b内に注入される。その
際に、炭酸ガス等がそれぞれ所定のガス分圧と成るよう
に順次注入される。そのときのレーザガス混合容器30
a、30b内のガス圧力は、圧力センサ31a、31b
を用いて精度良く検出される。このため、これらの単組
成ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス混合容
器30a、30b内に所定のレーザガス組成比を持つ圧
縮レーザガスを精度良く生成することができる。したが
って、混合比率が時間とともに変動したりせず、安定し
た組成比を持つレーザガスを生成することができ、レー
ザ発振器側に供給することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ発振器にレーザガ
スを供給するレーザガス混合装置に関し、特に2種類以
上の単組成ガスを混合してレーザガスを生成するレーザ
ガス混合装置に関する。
スを供給するレーザガス混合装置に関し、特に2種類以
上の単組成ガスを混合してレーザガスを生成するレーザ
ガス混合装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザガス混合装置を図4に示
す。図において、レーザガス混合装置101は炭酸ガス
レーザ用である。このレーザガス混合装置101には、
レーザガスを構成する単組成ガス、ここでは窒素ガス、
ヘリウムガス及び炭酸ガスの3種類についての3系統の
ガス流路101a、101b及び101cが設けられて
いる。
す。図において、レーザガス混合装置101は炭酸ガス
レーザ用である。このレーザガス混合装置101には、
レーザガスを構成する単組成ガス、ここでは窒素ガス、
ヘリウムガス及び炭酸ガスの3種類についての3系統の
ガス流路101a、101b及び101cが設けられて
いる。
【0003】窒素ガスはここでは図示されていないガス
ボンベから供給される。そのガスボンベのレギュレータ
でゲージ圧5kgf/cm2 に減圧された窒素ガスは、
ガス流路101aの入口ポート102aに流入し、ガス
フィルタ103aでゴミが取り除かれた後、質量ガス流
量計(マスフローメータ)105a及び電磁弁106a
を経由して出口ポート107に達する。一方、ヘリウム
ガス及び炭酸ガスについても、同様にガス流路101b
及び101cを通って出口ポート107に達する。これ
ら3種類の単組成ガスは、出口ポート107の手前で合
流して混合され、出口ポート107からレーザ発振器5
0に供給される。このとき、質量ガス制御装置108
は、質量ガス流量計105a、105b及び105cか
らの検出信号を受けて、それぞれのガス流量が所定の設
定流量に収まるように電磁弁106a、106b及び1
06cの弁開度を制御する。窒素ガス等の各設定流量
は、レーザガスの組成比により決められている。
ボンベから供給される。そのガスボンベのレギュレータ
でゲージ圧5kgf/cm2 に減圧された窒素ガスは、
ガス流路101aの入口ポート102aに流入し、ガス
フィルタ103aでゴミが取り除かれた後、質量ガス流
量計(マスフローメータ)105a及び電磁弁106a
を経由して出口ポート107に達する。一方、ヘリウム
ガス及び炭酸ガスについても、同様にガス流路101b
及び101cを通って出口ポート107に達する。これ
ら3種類の単組成ガスは、出口ポート107の手前で合
流して混合され、出口ポート107からレーザ発振器5
0に供給される。このとき、質量ガス制御装置108
は、質量ガス流量計105a、105b及び105cか
らの検出信号を受けて、それぞれのガス流量が所定の設
定流量に収まるように電磁弁106a、106b及び1
06cの弁開度を制御する。窒素ガス等の各設定流量
は、レーザガスの組成比により決められている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、質量ガス制御
装置108は質量ガス流量計と電磁弁との組合せでガス
流量を制御しているため、その流量制御は、例えばガス
導入開始時とその後の安定供給時との間で生じるガスボ
ンベからの単組成ガスの流量変動に直ちに追随すること
ができず、その流量変動による影響を受けてしまう。こ
のため、各単組成ガスの流量制御の精度が数%F.S.
となる。この数%F.S.の流量制御の精度は、各単組
成ガスについて独立に生じ、最終的にレーザガスを構成
する各単組成ガスの混合比率が、比較的大きな幅で時間
とともに変動することになる。
装置108は質量ガス流量計と電磁弁との組合せでガス
流量を制御しているため、その流量制御は、例えばガス
導入開始時とその後の安定供給時との間で生じるガスボ
ンベからの単組成ガスの流量変動に直ちに追随すること
ができず、その流量変動による影響を受けてしまう。こ
のため、各単組成ガスの流量制御の精度が数%F.S.
となる。この数%F.S.の流量制御の精度は、各単組
成ガスについて独立に生じ、最終的にレーザガスを構成
する各単組成ガスの混合比率が、比較的大きな幅で時間
とともに変動することになる。
【0005】したがって、上記従来のレーザガス混合装
置101では、組成比が不安定なレーザガスをレーザ発
振器に供給してしまうという問題点を有していた。特に
高周波励起レーザ装置において組成比が不安定なレーザ
ガスが供給された場合、放電特性が不安定になりレーザ
出力の安定性が低下する。
置101では、組成比が不安定なレーザガスをレーザ発
振器に供給してしまうという問題点を有していた。特に
高周波励起レーザ装置において組成比が不安定なレーザ
ガスが供給された場合、放電特性が不安定になりレーザ
出力の安定性が低下する。
【0006】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、レーザガスの混合比率が時間とともに変動す
ることなく、組成比の安定したレーザガスを供給するこ
とができるレーザガス混合装置を提供することを目的と
する。
のであり、レーザガスの混合比率が時間とともに変動す
ることなく、組成比の安定したレーザガスを供給するこ
とができるレーザガス混合装置を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、単組成ガスを混合してレーザガスを生成
しレーザ発振器に供給するレーザガス混合装置におい
て、前記レーザガスを構成する各々の単組成ガスを送り
出す単組成ガス供給部と、前記単組成ガス供給部から送
り出された前記単組成ガスのオンオフを行なう単組成ガ
ス導入部と、前記単組成ガス導入部を経由して順次供給
された前記単組成ガスを収容し混合するレーザガス混合
部と、前記単組成ガスのガス分圧が生成レーザガスの全
圧力と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めた所定
の単組成ガス分圧に達するまで前記単組成ガス導入部を
オンして前記単組成ガスを前記レーザガス混合部内に順
次注入し、各単組成ガスのガス分圧の累積によって所定
レーザガス組成比のレーザガスを前記レーザガス混合部
内に生成しレーザ発振器に供給するレーザガス制御部
と、を有することを特徴とするレーザガス混合装置が、
提供される。
決するために、単組成ガスを混合してレーザガスを生成
しレーザ発振器に供給するレーザガス混合装置におい
て、前記レーザガスを構成する各々の単組成ガスを送り
出す単組成ガス供給部と、前記単組成ガス供給部から送
り出された前記単組成ガスのオンオフを行なう単組成ガ
ス導入部と、前記単組成ガス導入部を経由して順次供給
された前記単組成ガスを収容し混合するレーザガス混合
部と、前記単組成ガスのガス分圧が生成レーザガスの全
圧力と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めた所定
の単組成ガス分圧に達するまで前記単組成ガス導入部を
オンして前記単組成ガスを前記レーザガス混合部内に順
次注入し、各単組成ガスのガス分圧の累積によって所定
レーザガス組成比のレーザガスを前記レーザガス混合部
内に生成しレーザ発振器に供給するレーザガス制御部
と、を有することを特徴とするレーザガス混合装置が、
提供される。
【0008】
【作用】単組成ガス供給部は、レーザガスを構成する各
々の単組成ガスを送り出す。単組成ガス導入部は、その
単組成ガス供給部から送り出された単組成ガスのオンオ
フを行なう。レーザガス混合部は、単組成ガス導入部を
経由して順次供給された各単組成ガスを収容し混合す
る。
々の単組成ガスを送り出す。単組成ガス導入部は、その
単組成ガス供給部から送り出された単組成ガスのオンオ
フを行なう。レーザガス混合部は、単組成ガス導入部を
経由して順次供給された各単組成ガスを収容し混合す
る。
【0009】レーザガス制御部は、そのレーザガス混合
部内に供給される単組成ガスのガス分圧が所定の単組成
ガス分圧に達するまで、単組成ガス導入部をオンして単
組成ガスをレーザガス混合部内に順次注入する。なお、
この所定の単組成ガス分圧は、生成レーザガスの全圧力
と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めたガス分圧
である。レーザガス混合部内では、単組成ガスが注入さ
れて順次それぞれ所定の単組成ガス分圧に達する。その
単組成ガス分圧の累積によって所定レーザガス組成比の
レーザガスが生成し、レーザ発振器に供給される。
部内に供給される単組成ガスのガス分圧が所定の単組成
ガス分圧に達するまで、単組成ガス導入部をオンして単
組成ガスをレーザガス混合部内に順次注入する。なお、
この所定の単組成ガス分圧は、生成レーザガスの全圧力
と単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めたガス分圧
である。レーザガス混合部内では、単組成ガスが注入さ
れて順次それぞれ所定の単組成ガス分圧に達する。その
単組成ガス分圧の累積によって所定レーザガス組成比の
レーザガスが生成し、レーザ発振器に供給される。
【0010】このように、レーザガス混合部内に予め所
定レーザガス組成比のレーザガスを生成するようにした
ので、常時、組成比の安定したレーザガスをレーザ発振
器に供給することができる。
定レーザガス組成比のレーザガスを生成するようにした
ので、常時、組成比の安定したレーザガスをレーザ発振
器に供給することができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図2は本発明が適用されるガスレーザ装置の全
体構成を示す図である。図において、ガスレーザ装置
は、レーザ発振器(放電管)50、制御装置60、レー
ザガス混合装置100及びレーザガス排気装置120か
ら構成される。放電管50の電極52には、励起用電源
51からの高周波電圧が印加され、レーザ発振器50内
のレーザガスは、その高周波電圧によって励起されてレ
ーザ光として外部に出力される。
明する。図2は本発明が適用されるガスレーザ装置の全
体構成を示す図である。図において、ガスレーザ装置
は、レーザ発振器(放電管)50、制御装置60、レー
ザガス混合装置100及びレーザガス排気装置120か
ら構成される。放電管50の電極52には、励起用電源
51からの高周波電圧が印加され、レーザ発振器50内
のレーザガスは、その高周波電圧によって励起されてレ
ーザ光として外部に出力される。
【0012】レーザ発振器50内のレーザガスは、レー
ザガス混合装置100及び圧力制御ユニット110から
供給される。レーザガス混合装置100は、詳細は後述
するように、所定レーザガス組成比のレーザガスを生成
し、そのレーザガスは圧力制御ユニット110で供給圧
力が一定となるように制御されてレーザ発振器50に送
られる。レーザ発振器50内のレーザガスは、ここでは
図示されていない循環経路内を循環し、放電によって劣
化したレーザガスはレーザガス排気装置120から排気
される。
ザガス混合装置100及び圧力制御ユニット110から
供給される。レーザガス混合装置100は、詳細は後述
するように、所定レーザガス組成比のレーザガスを生成
し、そのレーザガスは圧力制御ユニット110で供給圧
力が一定となるように制御されてレーザ発振器50に送
られる。レーザ発振器50内のレーザガスは、ここでは
図示されていない循環経路内を循環し、放電によって劣
化したレーザガスはレーザガス排気装置120から排気
される。
【0013】制御装置60は、ガスレーザ装置全体の動
作を制御する。例えば、励起用電源51の出力電圧を制
御すると共に、圧力センサ53によって検出されたレー
ザ発振器50内のレーザガス圧力が一定となるように、
圧力制御ユニット110及びレーザガス排気装置120
を制御する。また、レーザガス混合装置100内の生成
レーザガスが所定圧力以下になると、その検出信号をレ
ーザガス混合装置100内に設けた圧力センサ31から
受けてレーザガス生成の指令をレーザガス混合装置10
0に送る。
作を制御する。例えば、励起用電源51の出力電圧を制
御すると共に、圧力センサ53によって検出されたレー
ザ発振器50内のレーザガス圧力が一定となるように、
圧力制御ユニット110及びレーザガス排気装置120
を制御する。また、レーザガス混合装置100内の生成
レーザガスが所定圧力以下になると、その検出信号をレ
ーザガス混合装置100内に設けた圧力センサ31から
受けてレーザガス生成の指令をレーザガス混合装置10
0に送る。
【0014】図3は本発明に係るレーザガス生成方法を
概念的に示す図である。図において、レーザガス混合容
器300内に、複数の単組成ガス、ここでは炭酸ガス、
ヘリウムガス及び窒素ガスの3種類から成るレーザガス
が生成される場合を想定する。その3種類の単組成ガス
の目標組成比をa:b:cとする。例えば、体積比で、
炭酸ガスの目標組成比aは5±0.25%、ヘリウムガ
スの目標組成比bは40±2.00%、窒素ガスの目標
組成比cは55±2.75%である。また、レーザガス
全体の目標圧力をTkgf/cm2 とする。
概念的に示す図である。図において、レーザガス混合容
器300内に、複数の単組成ガス、ここでは炭酸ガス、
ヘリウムガス及び窒素ガスの3種類から成るレーザガス
が生成される場合を想定する。その3種類の単組成ガス
の目標組成比をa:b:cとする。例えば、体積比で、
炭酸ガスの目標組成比aは5±0.25%、ヘリウムガ
スの目標組成比bは40±2.00%、窒素ガスの目標
組成比cは55±2.75%である。また、レーザガス
全体の目標圧力をTkgf/cm2 とする。
【0015】先ず、組成比がaの炭酸ガスをレーザガス
混合容器300に入れる。このとき、炭酸ガスのガス分
圧Xを計算するとX=a×T/(a+b+c)であるの
で、レーザガス混合容器300内のガス圧力がこのガス
分圧Xになるまで注入する。次に組成比がbのヘリウム
ガスをレーザガス混合容器300に入れる。このとき、
ヘリウムガスのガス分圧を計算するとb×T/(a+b
+c)であり、炭酸ガスとヘリウムガスの各ガス分圧を
累積したときのガス圧力YはY=(a+b)×T/(a
+b+c)となるので、レーザガス混合容器300内の
ガス圧力がこのガス圧力Yになるまでヘリウムガスを注
入する。最後に組成比がcの窒素ガスをレーザガス混合
容器300に入れる。このとき、窒素ガスのガス分圧を
計算するとc×T/(a+b+c)であり、炭酸ガスと
ヘリウムガスと窒素ガスの各ガス分圧を累積したときの
ガス圧力ZはZ=(a+b+c)×T/(a+b+
c)、すなわちレーザガス全体の目標圧力Tとなるの
で、レーザガス混合容器300内のガス圧力がこのガス
圧力Tになるまで窒素ガスを注入する。
混合容器300に入れる。このとき、炭酸ガスのガス分
圧Xを計算するとX=a×T/(a+b+c)であるの
で、レーザガス混合容器300内のガス圧力がこのガス
分圧Xになるまで注入する。次に組成比がbのヘリウム
ガスをレーザガス混合容器300に入れる。このとき、
ヘリウムガスのガス分圧を計算するとb×T/(a+b
+c)であり、炭酸ガスとヘリウムガスの各ガス分圧を
累積したときのガス圧力YはY=(a+b)×T/(a
+b+c)となるので、レーザガス混合容器300内の
ガス圧力がこのガス圧力Yになるまでヘリウムガスを注
入する。最後に組成比がcの窒素ガスをレーザガス混合
容器300に入れる。このとき、窒素ガスのガス分圧を
計算するとc×T/(a+b+c)であり、炭酸ガスと
ヘリウムガスと窒素ガスの各ガス分圧を累積したときの
ガス圧力ZはZ=(a+b+c)×T/(a+b+
c)、すなわちレーザガス全体の目標圧力Tとなるの
で、レーザガス混合容器300内のガス圧力がこのガス
圧力Tになるまで窒素ガスを注入する。
【0016】このように、炭酸ガス等の単組成ガスが上
記の所定ガス分圧に成るように単組成ガスを順次注入
し、そのときの各ガス圧力を正確に管理することによ
り、レーザガス混合容器300内には、所定のレーザガ
ス組成比を持つレーザガスが精度よく生成される。次
に、上記レーザガス生成方法に基づいて構成した本発明
のレーザガス混合装置について説明する。
記の所定ガス分圧に成るように単組成ガスを順次注入
し、そのときの各ガス圧力を正確に管理することによ
り、レーザガス混合容器300内には、所定のレーザガ
ス組成比を持つレーザガスが精度よく生成される。次
に、上記レーザガス生成方法に基づいて構成した本発明
のレーザガス混合装置について説明する。
【0017】図1は本発明のレーザガス混合装置の全体
構成を示す図である。図において、レーザガス混合装置
100は炭酸ガスレーザ用であり、単組成ガス供給部1
0、単組成ガス導入部20及びレーザガス混合部30か
ら構成される。単組成ガス供給部10及び単組成ガス導
入部20は、レーザガスを構成している炭酸ガス、ヘリ
ウムガス及び窒素ガスの3種類の単組成ガスに対応して
3系統のガス流路100a、100b及び100cが設
けられている。次に、この3系統のガス流路100a、
100b及び100cの内、ガス流路100aの構成に
ついて説明する。
構成を示す図である。図において、レーザガス混合装置
100は炭酸ガスレーザ用であり、単組成ガス供給部1
0、単組成ガス導入部20及びレーザガス混合部30か
ら構成される。単組成ガス供給部10及び単組成ガス導
入部20は、レーザガスを構成している炭酸ガス、ヘリ
ウムガス及び窒素ガスの3種類の単組成ガスに対応して
3系統のガス流路100a、100b及び100cが設
けられている。次に、この3系統のガス流路100a、
100b及び100cの内、ガス流路100aの構成に
ついて説明する。
【0018】ガス流路100aにおいて、その単組成ガ
ス供給部10は、ガスボンベ11a及び入口ポート12
aから成る。ガスボンベ11aには、レーザガスを構成
する単組成ガスとしての炭酸ガスが充填されている。ガ
スボンベ11aは、炭酸ガスをレギュレータバルブ11
0aでゲージ圧9.5kgf/cm2 に減圧して入口ポ
ート12aに送り出す。その入口ポート12aの後段に
は、単組成ガス導入部20のガスフィルタ22aが設け
られている。
ス供給部10は、ガスボンベ11a及び入口ポート12
aから成る。ガスボンベ11aには、レーザガスを構成
する単組成ガスとしての炭酸ガスが充填されている。ガ
スボンベ11aは、炭酸ガスをレギュレータバルブ11
0aでゲージ圧9.5kgf/cm2 に減圧して入口ポ
ート12aに送り出す。その入口ポート12aの後段に
は、単組成ガス導入部20のガスフィルタ22aが設け
られている。
【0019】単組成ガス導入部20は、ドレインバルブ
21a、ガスフィルタ22a、荒注入バルブ(粗調整用
バルブ)23a、流量調整用バルブ24a及び微流量用
バルブ(微調整用バルブ)25aから構成される。ドレ
インバルブ21aは、入口ポート12aとガスフィルタ
22aとの間で枝分かれして設けられ、ドレインバルブ
21aの電磁弁を開にすることによりガス流路100a
が大気に直結するようになっている。
21a、ガスフィルタ22a、荒注入バルブ(粗調整用
バルブ)23a、流量調整用バルブ24a及び微流量用
バルブ(微調整用バルブ)25aから構成される。ドレ
インバルブ21aは、入口ポート12aとガスフィルタ
22aとの間で枝分かれして設けられ、ドレインバルブ
21aの電磁弁を開にすることによりガス流路100a
が大気に直結するようになっている。
【0020】荒注入バルブ23aは、ガスフィルタ22
aの後段に直列に設けられる。また、その荒注入バルブ
23aと並列に流量調整用バルブ24と微流量用バルブ
25aが設けられる。微流量用バルブ25aは流量調整
用バルブ24の後段に直列に設けられている。
aの後段に直列に設けられる。また、その荒注入バルブ
23aと並列に流量調整用バルブ24と微流量用バルブ
25aが設けられる。微流量用バルブ25aは流量調整
用バルブ24の後段に直列に設けられている。
【0021】上記構成のガス流路100aは、他のガス
流路100b及び100cと出口側で互いに結合して一
本化しており、その後段にはレーザガス混合部30が設
けられている。
流路100b及び100cと出口側で互いに結合して一
本化しており、その後段にはレーザガス混合部30が設
けられている。
【0022】なお、ガス流路100b及び100cは、
上記ガス流路100aと同様に構成されているので、ガ
ス流路100aの各構成要素に付した符号aを符号bま
たはcに書き換えるのみとし、ここではその説明を省略
する。
上記ガス流路100aと同様に構成されているので、ガ
ス流路100aの各構成要素に付した符号aを符号bま
たはcに書き換えるのみとし、ここではその説明を省略
する。
【0023】レーザガス混合部30は、レーザガス生成
経路100d及び100e、並びに排気経路100fの
3経路から構成される。排気経路100fは、レーザガ
ス生成経路100dとレーザガス生成経路100eとの
間に設けられ、大気開放用三方バルブ33、真空ポンプ
切り換え用三方バルブ34及び真空ポンプ36が直列に
接続されて構成されている。また、真空ポンプ切り換え
用三方バルブ34の3ポートの内1ポートには真空ポン
プ用フィルタ35が設けられている。
経路100d及び100e、並びに排気経路100fの
3経路から構成される。排気経路100fは、レーザガ
ス生成経路100dとレーザガス生成経路100eとの
間に設けられ、大気開放用三方バルブ33、真空ポンプ
切り換え用三方バルブ34及び真空ポンプ36が直列に
接続されて構成されている。また、真空ポンプ切り換え
用三方バルブ34の3ポートの内1ポートには真空ポン
プ用フィルタ35が設けられている。
【0024】レーザガス生成経路100dには、容器流
入切り換え用バルブ32a、レーザガス混合容器30a
及び容器流出切り換え用バルブ39aが直列に設けられ
ている。また、レーザガス混合容器30aの側壁の一部
には、直列に接続された安全弁38aと容器ドレインバ
ルブ37aが設けられている。さらに、レーザガス混合
容器30aには、圧力センサ31aが設けられ、レーザ
ガス混合容器30a内のガス圧力を検出している。
入切り換え用バルブ32a、レーザガス混合容器30a
及び容器流出切り換え用バルブ39aが直列に設けられ
ている。また、レーザガス混合容器30aの側壁の一部
には、直列に接続された安全弁38aと容器ドレインバ
ルブ37aが設けられている。さらに、レーザガス混合
容器30aには、圧力センサ31aが設けられ、レーザ
ガス混合容器30a内のガス圧力を検出している。
【0025】上記構成のレーザガス生成経路100d
は、もう1つのレーザガス生成経路100eと出口側で
結合して一本化しており、その後段には減圧弁40が設
けられ、その減圧弁40の後段にはさらにレーザガス供
給ポート42が設けられている。また、その減圧弁40
と並列に外部真空ポンプ切り換え用バルブ41が設けら
れている。
は、もう1つのレーザガス生成経路100eと出口側で
結合して一本化しており、その後段には減圧弁40が設
けられ、その減圧弁40の後段にはさらにレーザガス供
給ポート42が設けられている。また、その減圧弁40
と並列に外部真空ポンプ切り換え用バルブ41が設けら
れている。
【0026】なお、レーザガス生成経路100eは、上
記レーザガス生成経路100dと同様に構成されている
ので、レーザガス生成経路100dの各構成要素に付し
た符号dを符号eに書き換えるのみとし、ここではその
説明を省略する。
記レーザガス生成経路100dと同様に構成されている
ので、レーザガス生成経路100dの各構成要素に付し
た符号dを符号eに書き換えるのみとし、ここではその
説明を省略する。
【0027】上記レーザガス混合装置100において、
ドレインバルブ21a、21b、21c、荒注入バルブ
23a、23b、23c、微流量用バルブ25a、25
b、25c、容器流入切り換え用バルブ32a、32
b、容器流出切り換え用バルブ39a、39b、及び外
部真空ポンプ切り換え用バルブ41には、それぞれ電磁
弁が設けられ、その電磁弁の開度は前述したガスレーザ
装置の制御装置60によって制御されている。
ドレインバルブ21a、21b、21c、荒注入バルブ
23a、23b、23c、微流量用バルブ25a、25
b、25c、容器流入切り換え用バルブ32a、32
b、容器流出切り換え用バルブ39a、39b、及び外
部真空ポンプ切り換え用バルブ41には、それぞれ電磁
弁が設けられ、その電磁弁の開度は前述したガスレーザ
装置の制御装置60によって制御されている。
【0028】次に、上記構成のレーザガス混合装置10
0の動作手順を順を追って説明する。 (1)設置及び初期状態 荒注入バルブ23a等のすべてのバルブが閉まった状態
において、入口ポート12a、12b及び12cにレギ
ュレータ110a、110b及び110cにより減圧し
た各単組成ガス用のガスボンベ11a、11b及び11
cを接続する。そしてドレインバルブ21a、21b及
び21cを開き、入口ポート12a等と荒注入バルブ2
3a等間もしくは入口ポート12a等と流量調整用バル
ブ24a等間に入った空気を排出する。 (2)ガス生成準備(状態1) すべてのバルブが閉まった状態から、容器流入切り換え
用バルブ32a及び32bを開き、真空ポンプ切り換え
三方バルブ34及び大気開放用三方バルブ33をオンに
し、その状態で真空ポンプ36を作動させる。この真空
ポンプ36の作動によって、荒注入バルブ23a、23
b、23cから容器流出切り換え用バルブ39a、39
b間、並びに流量調整用バルブ24a、24b、24c
から容器流出切り換え用バルブ39a、39b間が真空
に引かれる。その間のガス圧力を圧力センサ31a及び
31bで検出し、所定の真空度に達したかを確認する。
一定時間内に所定の真空度に達しない場合は、アラーム
とする。
0の動作手順を順を追って説明する。 (1)設置及び初期状態 荒注入バルブ23a等のすべてのバルブが閉まった状態
において、入口ポート12a、12b及び12cにレギ
ュレータ110a、110b及び110cにより減圧し
た各単組成ガス用のガスボンベ11a、11b及び11
cを接続する。そしてドレインバルブ21a、21b及
び21cを開き、入口ポート12a等と荒注入バルブ2
3a等間もしくは入口ポート12a等と流量調整用バル
ブ24a等間に入った空気を排出する。 (2)ガス生成準備(状態1) すべてのバルブが閉まった状態から、容器流入切り換え
用バルブ32a及び32bを開き、真空ポンプ切り換え
三方バルブ34及び大気開放用三方バルブ33をオンに
し、その状態で真空ポンプ36を作動させる。この真空
ポンプ36の作動によって、荒注入バルブ23a、23
b、23cから容器流出切り換え用バルブ39a、39
b間、並びに流量調整用バルブ24a、24b、24c
から容器流出切り換え用バルブ39a、39b間が真空
に引かれる。その間のガス圧力を圧力センサ31a及び
31bで検出し、所定の真空度に達したかを確認する。
一定時間内に所定の真空度に達しない場合は、アラーム
とする。
【0029】真空引きが終了した時点で、真空ポンプ切
り換え三方バルブ34をオフにし、真空ポンプ用フィル
タ35経由で真空ポンプ36に外気を入れ、その状態で
真空ポンプ36を停止する。この動作により真空ポンプ
36からポンプ用油が真空系に逆流することを防止す
る。 (3)ガス生成(状態1) 次に、単組成ガスを順番に注入する。ここでは、炭酸ガ
ス、ヘリウムガス、窒素ガスの順に注入する。まず、荒
注入バルブ23aと容器流入切り換え用バルブ32aの
みを開き、他のバルブを閉じて、炭酸ガスをレーザガス
混合容器30a内に導入する。レーザガス混合容器30
a内のガス圧力を圧力センサ31aで検出し、レーザガ
ス混合容器30a内のガス圧力が所定のガス分圧より低
く設定したガス圧力に達するまで炭酸ガスを注入する。
ガス圧力がその低く設定したガス圧力に達すると、荒注
入バルブ23aを閉じ、流量調整用バルブ24aにより
調整された炭酸ガスを微流量用バルブ25aを開くこと
により、レーザガス混合容器30aにさらに注入する。
このとき、レーザガス混合容器30a内のガス圧力はゆ
っくり上昇し、圧力センサ31aによってその所定のガ
ス分圧が検出されたとき、炭酸ガスの導入を停止する。
り換え三方バルブ34をオフにし、真空ポンプ用フィル
タ35経由で真空ポンプ36に外気を入れ、その状態で
真空ポンプ36を停止する。この動作により真空ポンプ
36からポンプ用油が真空系に逆流することを防止す
る。 (3)ガス生成(状態1) 次に、単組成ガスを順番に注入する。ここでは、炭酸ガ
ス、ヘリウムガス、窒素ガスの順に注入する。まず、荒
注入バルブ23aと容器流入切り換え用バルブ32aの
みを開き、他のバルブを閉じて、炭酸ガスをレーザガス
混合容器30a内に導入する。レーザガス混合容器30
a内のガス圧力を圧力センサ31aで検出し、レーザガ
ス混合容器30a内のガス圧力が所定のガス分圧より低
く設定したガス圧力に達するまで炭酸ガスを注入する。
ガス圧力がその低く設定したガス圧力に達すると、荒注
入バルブ23aを閉じ、流量調整用バルブ24aにより
調整された炭酸ガスを微流量用バルブ25aを開くこと
により、レーザガス混合容器30aにさらに注入する。
このとき、レーザガス混合容器30a内のガス圧力はゆ
っくり上昇し、圧力センサ31aによってその所定のガ
ス分圧が検出されたとき、炭酸ガスの導入を停止する。
【0030】このように、ガス導入時には荒注入バルブ
23aを用いることにより、短時間でレーザガス混合容
器30a内に炭酸ガスを導入することができる。また、
その後は微流量用バルブ25aを用いるので、炭酸ガス
を所定のガス分圧まで精度よく注入することができる。
23aを用いることにより、短時間でレーザガス混合容
器30a内に炭酸ガスを導入することができる。また、
その後は微流量用バルブ25aを用いるので、炭酸ガス
を所定のガス分圧まで精度よく注入することができる。
【0031】続いて、ヘリウムガス及び窒素ガスについ
ても、上記と同様の操作を行ない、操作が完了した時点
で、容器流入切り換え用バルブ32aを閉じる。このと
き、レーザガス混合容器30a内には、目標とする組成
比を持つレーザガスが生成されている。
ても、上記と同様の操作を行ない、操作が完了した時点
で、容器流入切り換え用バルブ32aを閉じる。このと
き、レーザガス混合容器30a内には、目標とする組成
比を持つレーザガスが生成されている。
【0032】レーザガス混合容器30bについても同様
の操作を行なうことで、レーザガス混合容器30b内に
目標とする組成比を持つレーザガスが生成される。 (4)ガス供給(状態2) 次に、レーザガス混合容器30aに生成されたレーザガ
スを放出する。容器流出切り換え用バルブ39aを開い
てレーザガスを減圧弁40に導入し、減圧弁40でレー
ザ発振器50の仕様圧力に減圧した後、レーザガス供給
ポート42からレーザ発振器50に供給する。このレー
ザガス放出時に、圧力センサ31aによってレーザガス
混合容器30a内のガス圧力を計測し、レーザガス混合
容器30a内のガス圧力がレーザ発振器50の仕様圧力
以下になった場合には、容器流出切り換え用バルブ39
aを閉じ、容器流出切り換え用バルブ39bを開き、レ
ーザガス混合容器30bに切り換える。
の操作を行なうことで、レーザガス混合容器30b内に
目標とする組成比を持つレーザガスが生成される。 (4)ガス供給(状態2) 次に、レーザガス混合容器30aに生成されたレーザガ
スを放出する。容器流出切り換え用バルブ39aを開い
てレーザガスを減圧弁40に導入し、減圧弁40でレー
ザ発振器50の仕様圧力に減圧した後、レーザガス供給
ポート42からレーザ発振器50に供給する。このレー
ザガス放出時に、圧力センサ31aによってレーザガス
混合容器30a内のガス圧力を計測し、レーザガス混合
容器30a内のガス圧力がレーザ発振器50の仕様圧力
以下になった場合には、容器流出切り換え用バルブ39
aを閉じ、容器流出切り換え用バルブ39bを開き、レ
ーザガス混合容器30bに切り換える。
【0033】このように、2つのレーザガス混合容器3
0a、30bを交互に切り換えて使用するようにしたの
で、レーザ発振器50にレーザガスを連続的に供給する
ことができる。 (5)ガス生成(状態2) (4)においてレーザ発振器50の仕様圧力以下になっ
たレーザガス混合容器30a内にレーザガスを生成す
る。先ず、容器流入切り換え用バルブ32aを開く。大
気開放用三方バルブ33を開き、内部圧力を大気に開放
する。次にこの大気開放用三方バルブ33を閉じる。そ
の後、(2)、(3)の動作を行い、目標とする組成比
を持つレーザガスを生成する。レーザガス混合容器30
b内のガス圧力がレーザ発振器50の仕様圧力以下にな
ったときも、同様の手順でレーザガスを生成する。 (6)レ−ザ発振器立ち上げ時 レーザ発振器50の立ち上げ時、外部真空ポンプ切り換
え用バルブ41を開き、レーザ発振器50側の真空ポン
プにより、本レーザガス混合装置100とレーザ発振器
50間の配管内の真空引きを行う。これは、レーザガス
混合装置100とレーザ発振器50間の配管の不備によ
る微小リークの影響を小さくするために行う。 (7)レーザガス混合容器移動時 レーザガス混合容器30a、30bを移動させる必要が
生じたときは、容器ドレインバルブ37a、37bを開
け、レーザガス混合容器30a、30b内の高圧ガスを
外部に放出させた後に移動を行うようにする。 (8)異常時 一定時間内にレーザガス混合容器30a、30b内のガ
ス圧力が設定圧力に到達しない場合には、アラームとす
る。また、バルブと圧力センサ31a、31bの故障が
重なり、レーザガス混合容器30a、30b内のガス圧
力が設定圧力を超えた場合には、安全弁38a、38b
によりレーザガス混合容器30a、30b内圧力が開放
される。
0a、30bを交互に切り換えて使用するようにしたの
で、レーザ発振器50にレーザガスを連続的に供給する
ことができる。 (5)ガス生成(状態2) (4)においてレーザ発振器50の仕様圧力以下になっ
たレーザガス混合容器30a内にレーザガスを生成す
る。先ず、容器流入切り換え用バルブ32aを開く。大
気開放用三方バルブ33を開き、内部圧力を大気に開放
する。次にこの大気開放用三方バルブ33を閉じる。そ
の後、(2)、(3)の動作を行い、目標とする組成比
を持つレーザガスを生成する。レーザガス混合容器30
b内のガス圧力がレーザ発振器50の仕様圧力以下にな
ったときも、同様の手順でレーザガスを生成する。 (6)レ−ザ発振器立ち上げ時 レーザ発振器50の立ち上げ時、外部真空ポンプ切り換
え用バルブ41を開き、レーザ発振器50側の真空ポン
プにより、本レーザガス混合装置100とレーザ発振器
50間の配管内の真空引きを行う。これは、レーザガス
混合装置100とレーザ発振器50間の配管の不備によ
る微小リークの影響を小さくするために行う。 (7)レーザガス混合容器移動時 レーザガス混合容器30a、30bを移動させる必要が
生じたときは、容器ドレインバルブ37a、37bを開
け、レーザガス混合容器30a、30b内の高圧ガスを
外部に放出させた後に移動を行うようにする。 (8)異常時 一定時間内にレーザガス混合容器30a、30b内のガ
ス圧力が設定圧力に到達しない場合には、アラームとす
る。また、バルブと圧力センサ31a、31bの故障が
重なり、レーザガス混合容器30a、30b内のガス圧
力が設定圧力を超えた場合には、安全弁38a、38b
によりレーザガス混合容器30a、30b内圧力が開放
される。
【0034】なお、上記の状態1とは、レーザガス混合
装置100の始動時を表し、状態2とは、レーザガス混
合装置100の連続運転時を表す。このように、本実施
例では、レーザガスを構成する単組成ガスである炭酸ガ
ス、ヘリウムガス及び窒素ガスがそれぞれ所定のガス分
圧と成るようにレーザガス混合容器30a、30b内に
順次注入するようにした。そのときのレーザガス混合容
器30a、30b内のガス圧力は、圧力センサ31a、
31bを用いて精度良く検出される。このため、これら
の単組成ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス
混合容器30a、30b内に所定のレーザガス組成比を
持つ圧縮レーザガスを精度良く生成することができる。
したがって、混合比率が時間とともに変動したりせず、
安定した組成比を持つレーザガスをレーザ発振器50に
供給することができる。その結果、レーザ発振器50の
安定した放電特性を得ることができ、また、レーザビー
ムの品質も向上させることができる。
装置100の始動時を表し、状態2とは、レーザガス混
合装置100の連続運転時を表す。このように、本実施
例では、レーザガスを構成する単組成ガスである炭酸ガ
ス、ヘリウムガス及び窒素ガスがそれぞれ所定のガス分
圧と成るようにレーザガス混合容器30a、30b内に
順次注入するようにした。そのときのレーザガス混合容
器30a、30b内のガス圧力は、圧力センサ31a、
31bを用いて精度良く検出される。このため、これら
の単組成ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス
混合容器30a、30b内に所定のレーザガス組成比を
持つ圧縮レーザガスを精度良く生成することができる。
したがって、混合比率が時間とともに変動したりせず、
安定した組成比を持つレーザガスをレーザ発振器50に
供給することができる。その結果、レーザ発振器50の
安定した放電特性を得ることができ、また、レーザビー
ムの品質も向上させることができる。
【0035】上記の説明では、制御装置を用いて自動的
にレーザガスを生成するようにしたが、制御装置が行な
う手順をオペレータが手動で行なうように構成すること
もできる。
にレーザガスを生成するようにしたが、制御装置が行な
う手順をオペレータが手動で行なうように構成すること
もできる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、レーザ
ガスを構成する複数の単組成ガスがそれぞれ所定のガス
分圧と成るようにその単組成ガスをレーザガス混合部内
に順次注入する構成とした。このため、これらの単組成
ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス混合部内
に所定のレーザガス組成比を持つレーザガスを精度良く
生成することができる。
ガスを構成する複数の単組成ガスがそれぞれ所定のガス
分圧と成るようにその単組成ガスをレーザガス混合部内
に順次注入する構成とした。このため、これらの単組成
ガスのガス分圧の累積和によって、レーザガス混合部内
に所定のレーザガス組成比を持つレーザガスを精度良く
生成することができる。
【0037】したがって、混合比率が時間とともに変動
したりせず、安定した組成比を持つレーザガスをレーザ
発振器側に供給することができる。その結果、レーザ発
振器の安定した放電特性を得ることができ、また、レー
ザ出力の安定性も向上させることができる。
したりせず、安定した組成比を持つレーザガスをレーザ
発振器側に供給することができる。その結果、レーザ発
振器の安定した放電特性を得ることができ、また、レー
ザ出力の安定性も向上させることができる。
【図1】本発明のレーザガス混合装置の全体構成を示す
図である。
図である。
【図2】本発明が適用されるガスレーザ装置の全体構成
を示す図である。
を示す図である。
【図3】本発明に係るレーザガス生成方法を概念的に示
す図である。
す図である。
【図4】従来のレーザガス混合装置を示す図である。
10 単組成ガス供給部 11a,11b,11c ガスボンベ 20 単組成ガス導入部 23a,23b,23c 荒注入バルブ 24a,24b,24c 流量調整用バルブ 25a,25b,25b 微流量用バルブ 30 レーザガス混合部 30a,30b レーザガス混合容器 31a,31b 圧力センサ 100 レーザガス混合装置 100a,100b,100c ガス流路 100d,100e レーザガス生成経路 100f 排気経路
Claims (7)
- 【請求項1】 単組成ガスを混合してレーザガスを生成
しレーザ発振器に供給するレーザガス混合装置におい
て、 前記レーザガスを構成する各々の単組成ガスを送り出す
単組成ガス供給部と、 前記単組成ガス供給部から送り出された各単組成ガスの
オンオフを行なう単組成ガス導入部と、 前記単組成ガス導入部を経由して順次供給された前記単
組成ガスを収容し混合するレーザガス混合部と、 前記単組成ガスのガス分圧が生成レーザガスの全圧力と
単組成ガスのレーザガス組成比の積で求めた所定の単組
成ガス分圧に達するまで前記単組成ガス導入部をオンし
て前記単組成ガスを前記レーザガス混合部内に順次注入
し、各単組成ガスのガス分圧の累積によって所定レーザ
ガス組成比のレーザガスを前記レーザガス混合部内に生
成しレーザ発振器に供給するレーザガス制御部と、 を有することを特徴とするレーザガス混合装置。 - 【請求項2】 前記レーザガス制御部は、前記レーザガ
ス混合部に設けられたレーザガス圧力検出部からの検出
信号に基づいて前記レーザガス導入部のオンオフ制御を
行ない、前記単組成ガスが前記所定の単組成ガス分圧に
達するまでの注入を順次行なうことを特徴とする請求項
1記載のレーザガス混合装置。 - 【請求項3】 前記レーザガス混合部は切り換え弁によ
って切り換え可能な2以上のレーザガス混合容器から成
り、一方のレーザガス混合容器において生成したレーザ
ガスのレーザ発振器への供給により前記一方のレーザガ
ス混合容器内の圧力が所定の圧力以下になった場合に、
前記切り換え弁により他方のレーザガス混合容器に切り
換えて前記レーザ発振器へのレーザガス供給を継続する
ことを特徴とする請求項1記載のレーザガス混合装置。 - 【請求項4】 前記切り換え弁による他方のレーザガス
混合容器への切り換え後に、前記一方のレーザガス混合
容器における前記レーザガス生成を開始することを特徴
とする請求項3記載のレーザガス混合装置。 - 【請求項5】 前記レーザガス導入部は粗調整用バルブ
と微調整用バルブとを備え、目標とする前記単組成ガス
分圧と前記レーザガス混合部内のレーザガス圧力との差
に応じて前記粗調整用バルブと前記微調整用バルブを切
り換えて前記単組成ガスの流量を調整することを特徴と
する請求項1記載のレーザガス混合装置。 - 【請求項6】 前記レーザガス制御部は、前記レーザ発
振器用コントローラ内に設けられることを特徴とする請
求項1記載のレーザガス混合装置。 - 【請求項7】 前記レーザガス制御部の制御動作を手動
で行なうように構成したことを特徴とする請求項1記載
のレーザガス混合装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2554893A JPH06244478A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | レーザガス混合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2554893A JPH06244478A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | レーザガス混合装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06244478A true JPH06244478A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12169026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2554893A Pending JPH06244478A (ja) | 1993-02-15 | 1993-02-15 | レーザガス混合装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06244478A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015004038A1 (de) | 2014-04-03 | 2015-10-08 | Fanuc Corporation | Kohlendioxid-Gaslaseroszillator, der das Zusammensetzungsverhältnis von Lasergas schätzen kann |
| CN110327830A (zh) * | 2019-08-07 | 2019-10-15 | 国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 | C4f7n/co2/o2三元混合气体分压配气装置、配气方法 |
| JP2022000323A (ja) * | 2020-02-25 | 2022-01-04 | 株式会社ペイントサービス | 塗膜除去用エア回転工具およびエア回転工具使用方法 |
-
1993
- 1993-02-15 JP JP2554893A patent/JPH06244478A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015004038A1 (de) | 2014-04-03 | 2015-10-08 | Fanuc Corporation | Kohlendioxid-Gaslaseroszillator, der das Zusammensetzungsverhältnis von Lasergas schätzen kann |
| CN104979743A (zh) * | 2014-04-03 | 2015-10-14 | 发那科株式会社 | 激光气体估计装置 |
| US9337604B2 (en) | 2014-04-03 | 2016-05-10 | Fanuc Corporation | Carbon dioxide gas laser oscillator which can estimate composition ratio of laser gas |
| CN110327830A (zh) * | 2019-08-07 | 2019-10-15 | 国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 | C4f7n/co2/o2三元混合气体分压配气装置、配气方法 |
| CN110327830B (zh) * | 2019-08-07 | 2024-04-05 | 国网安徽省电力有限公司电力科学研究院 | C4f7n/co2/o2三元混合气体分压配气装置、配气方法 |
| JP2022000323A (ja) * | 2020-02-25 | 2022-01-04 | 株式会社ペイントサービス | 塗膜除去用エア回転工具およびエア回転工具使用方法 |
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