JPH0624733U - 希釈装置の希釈部構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 希釈対象液および水道水を希釈室に供給して
希釈液を作成する希釈部を構成するに、水道水供給に起
因する泡立ちが発生しにくい状態に、かつ、給水路側に
希釈液が逆流しにくい状態に構成する。 【構成】 希釈室７の給水口１６を、希釈液の液面レベ
ルより高レベルに配置できるように、希釈室７の上壁部
７ｃに配置してある。希釈室７の室内底面７ｄと給水口
１６の間に水受け面３０を設けてあり、水受け面３０が
給水口１６からの水を希釈室７の内部希釈液に直接落下
しないように、受け止めてから静かに流下させる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、洗剤原液などの希釈対象液を水道水で希釈する希釈室を備えるとと もに、この希釈室に水道水圧によって給水するように構成してある希釈装置の希 釈部構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】

上記希釈装置において、従来、図５に示すように、希釈室７の給水口１６を希 釈室７の横側壁部７ｂに形成していた。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

この種希釈装置にあっては、使用時において、希釈室に水道水圧によって給水 することから、希釈室が給水ホースを介して水道水路に連通することになる。従 って、希釈室に供給される希釈対象液や、希釈室でできる希釈液が水道水路側に 逆流しないようにすることが好ましい。 従来、希釈液が給水路側に逆流することの防止を図るに当たり、図５に示すよ うに、希釈室７の給水口１６の下端が希釈室７の液面レベルに比して高いレベル に位置して、希釈液が給水口１６から流出しにくいようにする必要があることか ら、給水口１６の配置レベルを高レベルにする必要が生じ、この結果、希釈室に 滞留する希釈液量の割りには大である容積を希釈室に備えさせねばならず、希釈 室が大型化する問題があった。更には、給水口からの水が高レベル箇所から落下 することになり、たとえば洗剤原液を希釈する場合にあっては、給水の落下衝撃 に起因して希釈室の滞留希釈液に泡立ちが生じやすくなっていた。 本考案の目的は、希釈室の小型化を可能にしながら、かつ、給水の落下衝撃に よるトラブル発生が構造簡単に回避できるようにしながら、希釈液の給水路側へ の逆流が回避しやすいようにすることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】 本考案による希釈装置の希釈部構造にあっては、目的達成のために、冒頭に記 したものにおいて、 前記希釈室の内部底面が位置するレベルと前記給水口の配置レベルとの間に位 置して、前記給水口からの水を受け止めてから流下させる水受け面を、前記希釈 室に備えてあることを特徴とする。

【０００５】

【作用】

給水口が上壁部に位置することにより、横側壁部に位置する従来に比し、希釈 室全高を低くしながら、給水口の希釈液面からの高さを給水口への希釈液流入が 回避しやすい高さに形成できる。 更に、給水口を希釈液流入が回避しやすいように高レベルに配置し、高レベル から給水する割りには、供給水が水受け面で受け止められて希釈室に静かに流下 し、希釈水に落下衝撃が生じにくいようになる。

【０００６】

【考案の効果】

給水口を比較的高いレベルに配置できることにより、希釈液が給水口から水道 水路側に逆流しにくいようにしながら使用できるようになった。 その割りには、希釈室が高さの比較的低いコンパクトなものに形成して取扱が 容易にできるようにでき、更には、水受け面の作用によって泡立ちが発生しにく いなど、希釈液作成が有利にできるようにできた。

【０００７】

【実施例】

次に実施例を示す。 図３に示すように、前蓋１を揺動開閉自在に備えた希釈装置ケース２の内側の 上部に、一対の原液タンク３，４を備える原液貯留部を設け、前記原液タンク３ および４に給液路５又は６によって接続した希釈室７、この希釈室７の上部に接 続した給水路８、希釈室７の底部に接続した取り出し管９を備える希釈部を、前 記希釈装置ケース２の内側の下部に設け、前記給液路５および６に電磁給液弁Ｖ １又はＶ２を、かつ、前記給水路８に電磁給水弁Ｖ３をそれぞれ備えさせるとと もに、電磁給液弁Ｖ１，Ｖ２および電磁給水弁Ｖ３を自動制御する希釈制御機構 １０を、前記前蓋１の内側に付設して、希釈装置を構成してある。この希釈装置 は、壁、窓、床、家具などの洗浄を行うに際し、そのための洗剤原液を使用に適 した濃度に水道水で希釈した希釈液を得るためのものであり、詳しくは、次の如 く構成してある。 希釈装置ケース２を壁面に取り付けるなど、装置全体を吊下げ支持させて使用 するようにしてある。すなわち、吊下げ支持させることにより、原液貯留部から の洗剤原液の自然流下が可能になって希釈室７への原液供給が可能になる。又、 希釈室７での希釈液の自然流出が可能になって、希釈液の取り出しが可能になる 。

【０００８】 原液タンク３および４は、図３に示すように、着脱式の蓋体３ａ又は４ａを有 する上向き開口から原液容器１１又は１２を倒立状態にして落とし込むことによ り、洗剤原液Ａ又はＢの貯留を行うように構成してある。 すなわち、原液容器１１又は１２を倒立状態で落とし込むと、原液タンク３又 は４のタンク内底部に備えてある支持台１４が原液容器１１又は１２の液出口１ １ａ又は１２ａに受止め作用するとともに、原液タンク３又は４の縦壁部が原液 容器１１又は１２の周壁部に受止め作用することにより、原液タンク３又は４が 原液容器１１又は１２を倒立状態で収容保持する。そして、この容器収容時、支 持台１４に備えてある蓋破り筒１３が原液容器１１の液出口１１ａ又は原液容器 １２の液出口１２ａの樹脂製蓋を突き破って原液容器１１又は１２の容器内に入 り込み、原液容器１１又は１２の容器内部が蓋破り筒１３の内部通路、支持台１ ４の内部通路１４ａを介して原液タンク３又は４の内部に連通し、原液容器１１ 又は１２の内部洗剤原液Ａ又はＢが自然流出により原液タンク３又は４のタンク 内底部に流出して滞留する。

【０００９】 希釈室７は、図１および図２の如き形状の底壁部７ａ、側壁部７ｂおよび上壁 部７ｃを備える容器によって形成してある。希釈室７の給水口１６を、前記給水 路８の端部によって上壁部７ｃに形成し、希釈室７の第１給液口１７を、前記給 液路５の端部によって上壁部７ｃに形成し、希釈室７の第２給液口１８を、前記 給液路６の端部によって上壁部７ｃに形成してある。電磁給液弁Ｖ１を開操作す ると、原液タンク３の内部洗剤原液Ａが供給液路５を通って希釈室７の第１給液 口１７に自然に流下し、かつ、電磁給液弁Ｖ２を開操作すると、原液タンク４の 内部洗剤原液Ｂが供給液路６を通って希釈室７の第２給液口１８に自然に流下す るように構成してある。給水路８の希釈室７とは反対側の端部にホース接手部８ ａを備えさせ、このホース接手部８ａに給水源１５からの給水ホース１５ａを接 続して、電磁給水弁Ｖ３を開操作すると、給水源１５からの水道水Ｗが水道水圧 によって給水路８に流入することにより、給水路８が給水源１５からの水道水Ｗ を水道水圧によって給水口１６に供給するように構成してある。給水路８に定流 量制御弁Ｖ４を備えさせて、給水時、水道水圧が定流量制御弁Ｖ４によって決ま る設定水圧以上であれば、水道水圧に変化が生じても、給水口１６への単位時間 当たりの給水量が定流量制御弁Ｖ４の作用でほぼ一定になるように構成してある ことにより、そして、給液弁Ｖ１又はＶ２を単位時間内に開操作する時間が決ま ると、第１給液口１７又は第２給液口１８に単位時間当たりに流下する洗剤原液 Ａ又はＢの量が決まることにより、電磁給液弁Ｖ１，Ｖ２および電磁給水弁Ｖ３ を適切に制御することで、洗剤原液Ａ，Ｂおよび水道水Ｗが所定量で希釈室７に 流入し、希釈室７が洗剤原液Ａ，Ｂを水道水Ｗでそれらの流入量によって決まる 濃度に希釈した希釈洗剤液を作成する。 取り出し管９は、希釈室７の底壁部７ａに付設してある。希釈室７の内部が上 壁部７ｃと底壁部７ａおよび側壁部７ｂとの隙間を介して大気に連通していて、 希釈室７の内部液が取り出し管９から自然に流出することにより、取り出し管９ に取り出しホース１９を接続し、この取り出しホース１９により、希釈洗剤液を 希釈室７から受入れ容器などに取り出し回収するのである。

【００１０】 希釈制御機構１０に、図４の如き押しボタン式の操作スイッチ２１〜２６を備 えさせ、操作スイッチ２１〜２６の押し操作により、所定種の洗剤希釈液を所定 量取り出すように構成してある。 すなわち、操作スイッチ２１〜２６のうちの２１〜２３は、取り出し希釈洗剤 液の種類を選択するもので、洗剤原液Ａのみを希釈した希釈洗剤液、洗剤原液Ｂ のみを希釈した希釈洗剤液、洗剤原液ＡとＢのいずれもを希釈した希釈洗剤液の いずれを取り出すかを選択するものである。操作スイッチ２１〜２６のうちの２ ４〜２６は、取り出し希釈洗剤液の量を選択するもので、４００ｍｌ，２０００ ｍｌ，５０００ｍｌのいずれの量を取り出すかを選択するものである。 つまり、操作スイッチ２１〜２３のうちの一つと、２４〜２６のうちの一つを 入り操作する。すると、希釈制御機構１０が自動的に、操作スイッチ２１ないし ２６からの情報に基いて洗剤原液ＡとＢの一方又は両方を希釈対象原液として設 定し、４００ｍｌ，２０００ｍｌ，５０００ｍｌのいずれかを取り出し量として 設定するとともに、電磁給液弁Ｖ１，Ｖ２および電磁給水弁Ｖ３を開に操作すべ き開制御目標時間を設定し、所定量の洗剤原液Ａ，Ｂおよび水道水が希釈室７に 流入するとともに、設定取り出し量の希釈液が希釈室７から流出するように、電 磁給液弁Ｖ１，Ｖ２および電磁給水弁Ｖ３の開閉制御を行うのである。 尚、図４に示すスイッチ２７は電源スイッチであり、ランプ２８は電源ランプ である。

【００１１】 希釈室７に水受け台２９を設け、この水受け台２９の上板部によって給水口１ ６からの供給水に対する水受け面３０を形成することにより、希釈液が給水路８ に逆流することを防止しながら、かつ、希釈室７の内部希釈液に泡立ちが出るこ とを回避しながら希釈液の取り出しができるように構成してある。 すなわち、給水路８による希釈室７への給水量と、希釈室７の取り出し管９に よる流出量との差に起因して希釈室７に希釈液が滞留するが、滞留希釈液が給水 口１６から給水路８に入り込みにくいように、給水口１６を希釈室７の室内底面 ７ｄから比較的離れた高い箇所に配置してある。 水受け面３０は、室内底面７ｄが位置するレベルと給水口１６の配置レベルと の間に配置してある。これにより、滞留希釈液の液面が水受け面３０より低レベ ル箇所にあっても、水受け面３０が給水口１６からの水を滞留希釈液に直接に落 下しないように受け止めてから滞留希釈液に流下させる。この結果、給水口１６ からの供給水が希釈室７の滞留希釈液に衝撃が生じにくように極力静かに落下す る。 前記水受け台２９は、水受け面３０を形成する上板部と、希釈室７の室内底面 ７ｄで支持される一対の脚板部２９ａ，２９ａとからなり、希釈室７に滞留する 希釈液が脚板部２９ａの間を通って取り出し管９に流出することを可能にするよ うに構成してある。この形状の水受け台２９に替え、希釈室７の側壁部７ｂに渡 って架設するように構成した水受け台を採用したり、希釈室７の上壁部７ｃから 吊り下げるように構成した水受け台を採用して実施してもよい。

【００１２】 〔別実施例〕 ３種類以上の洗剤原液や単一種の洗剤原液を水道水によって希釈するように希 釈装置を構成したり、洗剤原液の他に肥料原液を希釈して液体肥料を作成するよ うに希釈装置を構成する場合にも本発明は適用できる。従って、これら希釈すべ き原液を単に希釈対象液Ａ，Ｂと称する。

【００１３】 尚、実用新案登録請求の範囲の項に図面との対照を便利にするために符号を記 すが、該記入により本考案は添付図面の構成に限定されるものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】希釈室の断面図

【図２】希釈室の断面図

【図３】希釈装置の蓋開放状態の正面図

【図４】希釈装置の操作スイッチ配設部の正面図

【図５】従来の希釈室の断面図

【符号の説明】

７ 希釈室 ７ｃ 上壁部 ７ｄ 室内底面 １６ 給水口 ３０ 水受け面

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 希釈対象液（Ａ），（Ｂ）を水道水
   （Ｗ）で希釈する希釈室（７）を備えるとともに、この
   希釈室（７）に水道水圧によって給水するように構成し
   てある希釈装置の希釈部構造であって、 前記希釈室（７）の給水口（１６）を前記希釈室（７）
   の上壁部（７ｃ）に配置し、 前記希釈室（７）の内部底面（７ｄ）が位置するレベル
   と前記給水口（１６）の配置レベルとの間に位置して、
   前記給水口（７）からの水を受け止めてから流下させる
   水受け面（３０）を、前記希釈室（７）に備えてある希
   釈装置の希釈部構造。